WO2020111138A1 - ポリエーテル基含有化合物 - Google Patents

ポリエーテル基含有化合物 Download PDF

Info

Publication number
WO2020111138A1
WO2020111138A1 PCT/JP2019/046418 JP2019046418W WO2020111138A1 WO 2020111138 A1 WO2020111138 A1 WO 2020111138A1 JP 2019046418 W JP2019046418 W JP 2019046418W WO 2020111138 A1 WO2020111138 A1 WO 2020111138A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
occurrence
independently
integer
formula
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/046418
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
恒雄 山下
孝史 野村
香織 小澤
尚志 三橋
Original Assignee
ダイキン工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ダイキン工業株式会社 filed Critical ダイキン工業株式会社
Priority to KR1020217015751A priority Critical patent/KR102557828B1/ko
Priority to EP19890177.9A priority patent/EP3889205A4/en
Priority to CN201980078603.4A priority patent/CN113166394A/zh
Publication of WO2020111138A1 publication Critical patent/WO2020111138A1/ja
Priority to US17/331,096 priority patent/US20210284798A1/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
    • C08G65/33379—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing nitro group
    • C08G65/33393—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing nitro group heterocyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/40—Nitrogen atoms
    • C07D251/48—Two nitrogen atoms
    • C07D251/52—Two nitrogen atoms with an oxygen or sulfur atom attached to the third ring carbon atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/40—Nitrogen atoms
    • C07D251/42—One nitrogen atom
    • C07D251/46—One nitrogen atom with oxygen or sulfur atoms attached to the two other ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/22—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/223—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
    • C08G65/33303—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group
    • C08G65/33317—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group heterocyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/334—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur
    • C08G65/3348—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur containing nitrogen in addition to sulfur
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
    • C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
    • C09D5/1637—Macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
    • C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
    • C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers

Definitions

  • the present disclosure relates to polyether group-containing compounds.
  • a layer obtained from a surface-treating agent containing a fluorine-containing silane compound (hereinafter, also referred to as “surface-treating layer”) is a so-called functional thin film and is applied to various base materials such as glass, plastics, fibers and construction materials. ing.
  • a perfluoropolyether group-containing silane compound having a perfluoropolyether group in the molecular main chain and a hydrolyzable group bonded to a Si atom at the molecular end or at the end is known. (See Patent Documents 1 and 2).
  • the object of the present disclosure is to provide a compound having a new structure that can be used for the surface treatment of a substrate.
  • X f1 is represented by (X f11 ) z ;
  • X f11 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom;
  • z is 0 or 1 independently at each occurrence;
  • X f2 is represented by (O) y or (NH) y ;
  • y is 0 or 1 independently at each occurrence.
  • Is a group represented by X 1 is, independently at each occurrence, a single bond, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, —NH—, —SO 2 NH—, —SO 2 —, or a divalent to 10-valent organic group;
  • the group represented by R Si — is independently the following formulas (A1) to (A4) at each occurrence: Is any of groups represented by R a is each independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence;
  • R b independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms at each occurrence;
  • m1 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3;
  • X a1 , X a3 , X a4 , and X a5 are each independently a single bond, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, —NH—, —SO 2 NH—, —SO 2
  • R f1 independently represents R 41 r1 R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 — in each occurrence;
  • Z 1 each independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence;
  • R 41 each independently represents R f1′ at each occurrence;
  • R f1′ has the same meaning as R f1 ;
  • the maximum number of Si linked linearly via the Z 1 group is 5;
  • R 42 each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence;
  • R 43 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group at each occurrence;
  • r1 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence;
  • r2 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3;
  • r3 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3;
  • R f2 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence
  • R f3 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group at each occurrence
  • p1 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3
  • p2 is an integer from 0 to 3 independently at each occurrence
  • p3 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • the sum of p1, p2 and p3 is 3, and in the formula (A3), at least two Si atoms bonded to a hydroxyl group or a hydrolyzable group are present.
  • R g1 independently represents R 51 s1 R 52 s2 R 53 s3 C—Z 2 — at each occurrence;
  • Z 2 independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence;
  • R 51 independently represents R g1′ at each occurrence;
  • R g1′ has the same meaning as R g1 ;
  • R 52 independently represents R a m1 R b 3-m1 Si—Z 3 — at each occurrence;
  • Z 3 each independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence;
  • R 53 independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group in each occurrence;
  • s1 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3;
  • s2 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3;
  • s3 is an integer of 0 to 3 independently at each occurrence;
  • R g2 independently represents R a m1 R b 3-m1 Si—Z 4 — at each occurrence; Z 4 each independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence; R g3 independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group at each occurrence; q1 is, independently at each occurrence, an integer from 0 to 3; q2 is an integer of 0 to 3 independently at each occurrence; q3 is an integer of 0 to 3 independently at each occurrence; However, in each R g3 q3 R g2 q2 R g1 q1 C ⁇ , the sum of q1, q2 and q3 is 3, and in the formula (A4), m 1 is 1 to 3 R a m1 R b 3-m1 Si -There are at least two.
  • a polyether group-containing compound represented by. [2] X 1 are each independently at each occurrence, (- (R 11) n16 -) 2 N- (R 12) n17 -, - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 - Or a polyether group-containing compound according to [1], which is —R 13 —.
  • R 74 is each independently at each occurrence a C 1-6 alkylene group; n25 is each independently an integer of 1 to 5 at each occurrence; R 75 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group in each occurrence; n26 is independently an integer of 1 to 100 at each occurrence; R 3 is, independently at each occurrence, a hydrogen atom, a phenyl group or an alkyl group having 1 to 6 carbon
  • PE is one of the following formulas (a) to (c): -(OC 3 F 6 ) d- (a) [In the formula, d is an integer of 1 to 200.
  • c and d are each independently an integer of 0 or more and 30 or less; e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less; The sum of c, d, e and f is an integer of 10 or more and 200 or less; The order of existence of each repeating unit in parentheses with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula.
  • R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 ;
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 , or 2 or 3 selected from these groups.
  • a combination of groups; g is an integer of 2 to 100.
  • [15] The surface treatment agent according to [13] or [14], which is used as an antifouling coating agent or a waterproof coating agent.
  • a compound having a new structure that can be used for surface treatment of a substrate is provided.
  • the “hydrocarbon group” means a group containing carbon and hydrogen, in which one hydrogen atom has been removed from hydrocarbon.
  • the hydrocarbon group is not particularly limited, but is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be substituted with one or more substituents, for example, an aliphatic hydrocarbon group, Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups.
  • the "aliphatic hydrocarbon group” may be linear, branched or cyclic, and may be saturated or unsaturated.
  • the hydrocarbon group may also contain one or more ring structures.
  • such a hydrocarbon group may have one or more N, O, S, Si, amide, sulfonyl, siloxane, carbonyl, carbonyloxy and the like at its terminal or in the molecular chain.
  • the substituent of the “hydrocarbon group” is not particularly limited, but is, for example, a halogen atom; C 1-6 alkyl optionally substituted by one or more halogen atoms.
  • organic group means a group containing carbon.
  • the organic group is not particularly limited, but may be a hydrocarbon group.
  • the “divalent to 10-valent organic group” means a 2- to 10-valent group containing carbon.
  • the divalent to 10-valent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a 2- to 10-valent group obtained by removing 1 to 9 hydrogen atoms from a hydrocarbon group.
  • the divalent organic group is not particularly limited, and examples thereof include a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from a hydrocarbon group.
  • hydrolyzable group means a group capable of undergoing a hydrolysis reaction, that is, a group capable of leaving from the main skeleton of a compound by the hydrolysis reaction.
  • R a1 examples include unsubstituted alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group and isobutyl group; and substituted alkyl groups such as chloromethyl group.
  • an alkyl group, particularly an unsubstituted alkyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • PE polyether group
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure has a triazine ring in the molecular structure as in the above formula (I).
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure has a ring structure with a high electron density, and has the smallest ring structure among the organic compounds forming a 6-membered ring, so that a nucleophilic substitution reaction of an anion compound hardly occurs. , It can exist stably even under alkaline conditions. Further, when the carbon-hydrogen bond of the triazine ring is replaced with an ether bond or an ester bond, it is less susceptible to hydrolysis in the presence of acid or alkali. Furthermore, since the triazine ring has good heat resistance and durability against ultraviolet (UV), the polyether group-containing compound of the present disclosure can have good heat resistance and UV durability.
  • UV ultraviolet
  • R- is independently of each occurrence, a group represented by (Rf-X f1- PE-X f2 ) ⁇ - X 1- or a group represented by R Si-. Is.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure is a surface-treated layer having water repellency, oil repellency, antifouling property, chemical resistance, UV durability, etc. Can contribute to the formation of a surface-treated layer having a good binding ability.
  • 1 or 2 of R is a group represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -, and 1 or 2 of R is a group represented by R Si -. is there.
  • the total number of the groups represented by (Rf-X f1- PE-X f2 ) ⁇ - X 1- and the number of the groups represented by R Si- is 3.
  • 1 of R is a group represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -
  • 2 of R is a group represented by R Si -. is there.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure can contribute to the formation of a surface treatment layer having water repellency, oil repellency, antifouling property, chemical resistance, UV durability and the like.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure can form an intermolecular bond, and further the binding ability of the formed surface treatment layer to the substrate can be improved.
  • 2 of R are groups represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -, and 1 of R is a group represented by R Si -. is there.
  • the content of the polyether chain per molecule of the polyether group-containing compound becomes high, so that the polyether group-containing compound of the present disclosure has high water repellency, oil repellency, antifouling property, and anti-fouling property. It can contribute to the formation of a surface-treated layer having chemical properties, UV durability, and the like, and having a good binding ability to a substrate.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure has a group represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -.
  • the water repellency, oil repellency and chemical resistance for example, salt water, acid or basic aqueous solution, acetone, oleic acid or Durability to hexane), UV durability, etc. can be improved.
  • Rf independently represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, which may be substituted with one or more fluorine atoms in each occurrence.
  • alkyl group having 1 to 16 carbon atoms in the alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted by one or more fluorine atoms may be a straight chain or a branched chain. It may be present, preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, particularly 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Is.
  • Rf is preferably an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, which is substituted with one or more fluorine atoms, more preferably a CF 2 H—C 1-15 fluoroalkylene group, and further Preferred is a perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms.
  • the perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms may be linear or branched and is preferably linear or branched and has 1 to 6 carbon atoms, particularly carbon atoms.
  • PE is a divalent organic group, and at each occurrence, independently, the formula: - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 X 10 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - Is a group represented by.
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1.
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f attached is arbitrary in the formula.
  • X 10 is, independently at each occurrence, a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom, preferably a hydrogen atom or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom.
  • the group described as PE is bonded to X f1 on the left and to X f2 on the right.
  • repeating units may be linear or branched, but are preferably linear.
  • -(OC 6 F 12 )- means -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )- , -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))- and the like, but -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )- is preferable.
  • -(OC 5 F 10 )- means -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 ).
  • -(OC 4 F 8 )- means -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-.
  • -(OC 3 F 6 )- (that is, X 10 is a fluorine atom in the above formula) means -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )- and -( It may be any of OCF 2 CF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-.
  • -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or -(OCF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 )-. is there.
  • the PE is -(OC 3 F 6 ) d- (in the formula, d is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less). ..
  • the PE is -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d- (in the formula, d is an integer of 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less) or- (OCF(CF 3 )CF 2 ) d ⁇ (wherein d is an integer of 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less). More preferably, the PE is -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) d- (wherein d is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less). is there.
  • the PE is preferably -(OC 3 F 6 ) d- , d is an integer of 10 or more and 100 or less, more preferably d is an integer of 15 or more and 50 or less, further preferably d is 25. It is an integer not less than 35 and not more than 35.
  • PE is, - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f -
  • c and d are each independently Is an integer of 0 or more and 30 or less
  • e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less
  • c, d, e and The sum of f is at least 5 or more, preferably 10 or more, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with subscript c, d, e or f is arbitrary in the formula).
  • PE is, - (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2) c - (OCF 2 CF 2 CF 2) d - (OCF 2 CF 2) e - (OCF 2) f - a.
  • PE is, - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - ( wherein, e and f are 1 to 200 independently, preferably 5 to 200, more preferably Is an integer of 10 or more and 200 or less, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a subscript e or f is arbitrary in the formula).
  • PE is a group represented by -(R 6 -R 7 ) g- .
  • R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or is independently selected from these groups. It is a combination of two or three groups.
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups. And more preferably a group selected from OC 3 F 6 and OC 4 F 8 .
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, and examples thereof include -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC. 2 F 4 OC 4 F 8 -, -OC 3 F 6 OC 2 F 4 -, -OC 3 F 6 OC 3 F 6 -, -OC 3 F 6 OC 4 F 8 -, -OC 4 F 8 OC 4 F 8 -, - OC 4 F 8 OC 3 F 6 -, - OC 4 F 8 OC 2 F 4 -, - OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, - OC 2 F 4 OC 2 F 4 OC 4 F 8 ⁇ , ⁇ OC 2 F 4 OC 3 F 6 OC 2 F 4 ⁇ , ⁇ OC 2 F 4 OC 3 F 6 ⁇ , ⁇ OC 2 F 4 OC 3 F 6 ⁇ , ⁇ OC 2 F 4 OC 4 F 8 OC 2 F
  • the g is an integer of 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and 100 or less, preferably 50 or less.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 may be linear or branched, and are preferably linear.
  • PE is preferably -(OC 2 F 4 -OC 3 F 6 ) g- or -(OC 2 F 4 -OC 4 F 8 ) g- .
  • PE is -(OC 6 F 12 ) a- (OC 5 F 10 ) b- (OC 4 F 8 ) c- (OC 3 F 6 ) d- (OC 2 F 4 ) e-. It is a group represented by (OCF 2 ) f ⁇ .
  • e is an integer of 1 or more and 200 or less
  • a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less
  • the sum of f is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f attached is arbitrary in the formula.
  • e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • PE is -(OC 6 F 12 ) a- (OC 5 F 10 ) b- (OC 4 F 8 ) c- (OC 3 F 6 ) d- (OC 2 F 4 ) e-. It is a group represented by (OCF 2 ) f ⁇ .
  • f is an integer of 1 or more and 200 or less
  • a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less
  • the sum of f is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f attached is arbitrary in the formula.
  • f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • the ratio of e to f (hereinafter referred to as “e/f ratio”) is 0.1 or more and 10 or less, preferably 0.2 or more and 5 or less, and more preferably 0.2 or more and 2 or less. And more preferably 0.2 or more and 1.5 or less, and even more preferably 0.2 or more and 0.85 or less.
  • e/f ratio the slipperiness, friction durability and chemical resistance (for example, durability against artificial sweat) of the surface-treated layer obtained from this compound are further improved.
  • the smaller the e/f ratio the more improved the slipperiness and friction durability of the surface-treated layer.
  • the e/f ratio is 0.1 or more, the stability of the compound can be further enhanced. The higher the e/f ratio, the more stable the compound.
  • the e/f ratio is 0.2 or more and 0.95 or less, and more preferably 0.2 or more and 0.9 or less.
  • the e/f ratio is less than 0.9, preferably 0.8 or less, 0.7 or less, and may be 0.65 or less.
  • the e/f ratio is, for example, 0.2 or more, 0.3 or more, 0.4 or more, 0.5 or more, 0.55 or more.
  • the e/f ratio can be, for example, 0.2 or more and less than 0.9, specifically 0.4 or more and 0.8 or less, and more specifically 0.5 or more and 0.8 or less.
  • the e/f ratio may be 0.4 or more and 0.7 or less, may be 0.5 or more and 0.7 or less, and may be 0.55 or more and 0.7 or less. It may be 0.55 or more and 0.65 or less.
  • the above e/f ratio is preferably 1.0 or more, and more preferably 1.0 or more and 2.0 or less, from the viewpoint of heat resistance.
  • PE is independently at each occurrence, - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - And has at least one branched structure in the polyether group. That is, in this embodiment, the PE has at least one CF 3 terminal (specifically, —CF 3 , —C 2 F 5, etc., more specifically —CF 3 ). In the above PE, the oxygen atom at the left end of the above formula is bonded to the Rf group.
  • the ultraviolet durability of a layer (for example, a surface treatment layer) formed using a polyether group-containing compound (or a surface treatment agent containing a polyether group-containing compound), Water repellency, oil repellency, antifouling property (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), chemical resistance, hydrolysis resistance, slippery effect, high friction durability, heat resistance, moisture resistance, etc. Can be good.
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1.
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is 5 or more, more preferably 10 or more.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is 200 or less, more preferably 100 or less, for example 10 or more and 200 or less, and more specifically 10 or more and 100 or less.
  • the order of existence of each repeating unit in parentheses with a, b, c, d, e, or f attached is arbitrary in the formula.
  • the group represented by PE it is preferable that the group has at least 5 branched structures, more preferably 10 groups, and particularly preferably 20 groups.
  • the number of repeating units having a branched structure is 40 or more with respect to 100 as the total number of repeating units (for example, the sum of a, b, c, d, e and f above). Is preferable, 60 or more is more preferable, and 80 or more is particularly preferable. In the structure of the group represented by PE, the number of repeating units having a branched structure may be 100 or less, for example 90 or less, with respect to 100 as the total number of repeating units.
  • the number of repeating units having a branched structure is preferably in the range of 40 to 100, and more preferably in the range of 60 to 100 with respect to the total number of repeating units of 100. Is more preferable, and the range of 80 to 100 is particularly preferable.
  • the branched in the branch structure may include, for example CF 3.
  • Examples of the repeating unit having a branched structure include -(OC 6 F 12 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, and -(OCF 2 CF(CF 3 )CF. 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))- and the like can be mentioned.
  • -(OC 5 F 10 )- includes -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF). (CF 3 )CF 2 ) ⁇ , —(OCF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 ))— and the like can be mentioned.
  • -(OC 4 F 8 )- includes -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3 )CF 2 )-, and -(OCF 2 CF 2 CF(CF 3 ).
  • the PE may include a linear repeating unit as well as a repeating unit having a branched structure.
  • the linear repeating unit include -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, and -(OCF 2 CF 2 )-.
  • the repeating units -(OC 6 F 12 )-, -(OC 5 F 10 )-, -(OC 4 F 8 )-, and -(OC 3 F 6 )- has a branched structure.
  • the PE is composed of repeating units OC 6 F 12 , OC 5 F 10 , OC 4 F 8 and OC 3 F 6 .
  • the PE is —(OC 3 F 6 ) d — (wherein d is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less).
  • PE has at least one branched structure.
  • the group represented by PE may further contain a linear repeating unit —(OCF 2 CF 2 CF 2 )—.
  • the PE is composed of a repeating unit OC 3 F 6 having a branched structure. More preferably, the PE is represented by the formula: -(OCF 2 CF(CF 3 )) d . In the above formula, d is 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less.
  • PE is, - (OC 4 F 8) c - (OC 3 F 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f - (wherein, c and d are each independently Is an integer of 0 or more and 30 or less, and e and f are each independently an integer of 1 or more and 200 or less, preferably 5 or more and 200 or less, more preferably 10 or more and 200 or less, and c, d, e and The sum of f is at least 5 or more, preferably 10 or more, and the order of existence of the repeating units enclosed in parentheses with subscripts c, d, e or f is arbitrary in the formula), It has at least one branched structure in the group represented by PE.
  • PE is a group represented by —(R 6 —R 7 ) j — and has at least one branched structure in the group represented by PE.
  • R 6 is OCF 2 or OC 2 F 4 , preferably OC 2 F 4 .
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 or is independently selected from these groups. It is a combination of two or three groups.
  • R 7 is a group selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 , or from OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 It is a group selected or a combination of 2 or 3 groups independently selected from these groups.
  • the combination of 2 or 3 groups independently selected from OC 2 F 4 , OC 3 F 6 and OC 4 F 8 is not particularly limited, and examples thereof include -OC 2 F 4 OC 3 F 6 -, -OC.
  • the above j is 2 or more, preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and is an integer of 100 or less, preferably 50 or less.
  • OC 2 F 4 , OC 3 F 6 , OC 4 F 8 , OC 5 F 10 and OC 6 F 12 have a branched structure.
  • PE is composed of the repeating units OC 6 F 12 , OC 5 F 10 , OC 4 F 8 and OC 3 F 6 .
  • PE is -(OC 6 F 12 ) a- (OC 5 F 10 ) b- (OC 4 F 8 ) c- (OC 3 F 6 ) d- (OC 2 F 4 ) e-. It is a group represented by (OCF 2 ) f ⁇ and has at least one branched structure in the group represented by PE.
  • e is an integer of 1 or more and 200 or less, and a, b, c, d and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and a, b, c, d, e and The sum of f is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f attached is arbitrary in the formula.
  • e is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • PE is -(OC 6 F 12 ) a- (OC 5 F 10 ) b- (OC 4 F 8 ) c- (OC 3 F 6 ) d- (OC 2 F 4 ) e-. It is a group represented by (OCF 2 ) f ⁇ and has at least one branched structure in the group represented by PE.
  • f is an integer of 1 or more and 200 or less
  • a, b, c, d and e are each independently an integer of 0 or more and 200 or less
  • a, b, c, d, e and The sum of f is at least 1, and the order of existence of each repeating unit enclosed in parentheses with a, b, c, d, e or f attached is arbitrary in the formula.
  • f is preferably an integer of 1 or more and 100 or less, more preferably 5 or more and 100 or less.
  • the sum of a, b, c, d, e and f is preferably 5 or more, more preferably 10 or more, for example 10 or more and 100 or less.
  • the number average molecular weight of the -PE- moiety is not particularly limited, but is, for example, 500 to 30,000, preferably 1,500 to 30,000, more preferably 2,000. ⁇ 10,000.
  • the number average molecular weight is a value measured by 19 F-NMR.
  • the number average molecular weight of the -PE- moiety is 500 to 30,000, preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 15,000, even more preferably 2,000 to. It can be 10,000, for example 3,000 to 6,000.
  • the number average molecular weight of the -PE- moiety can be 4,000 to 30,000, preferably 5,000 to 10,000, more preferably 6,000 to 10,000.
  • ⁇ is an integer of 1 to 9. ⁇ can change depending on the valence of X 1 . For example, when X 1 is a 10-valent organic group, ⁇ is 9. ⁇ is 1 when X 1 is a single bond.
  • X 1 is understood to be a linker that connects a fluorine-containing polyether portion (polyether group portion represented by PE) mainly providing water repellency and surface slipperiness and the triazine ring. Therefore, the X 1 may be a single bond or any organic group as long as the compound represented by the formula (I) can exist stably.
  • X f1 is a group represented by (X f11 ) z .
  • the group described as X f1 is bonded to the group represented by Rf on the left side and the group represented by PE on the right side.
  • X f11 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 3 alkylene groups, more preferably 1 to 2 alkylene groups, for example, a methylene group.
  • a hydrogen atom contained in the alkylene group may be replaced by a fluorine atom.
  • X f11 is preferably an alkylene group in which a hydrogen atom contained in the alkylene group is replaced by a fluorine atom, and more preferably a perfluoroalkylene group.
  • X f11 may be linear or may have a branched chain. Preferably X f11 is linear.
  • X f11 include, for example, —CF 2 —, —C 2 F 4 —, —C 3 F 6 —, —C 4 F 8 —, —C 5 F 10 — or —C 6 F 12 —.
  • a perfluoroalkylene group; —CHF—, and a fluoroalkylene group in which some hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms can be mentioned.
  • —C 6 F 12 — is —CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF.
  • —C 5 F 10 — is —CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF(CF 3 )CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF 2 CF(CF 3 )CF 2 CF 2 —, — It may be CF 2 CF 2 CF(CF 3 )CF 2 ⁇ , —CF 2 CF 2 CF 2 CF(CF 3 )— or the like, but is preferably —CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 —. .
  • —C 4 F 8 — is —CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF(CF 3 )CF 2 CF 2 —, —CF 2 CF(CF 3 )CF 2 —, —CF 2 CF 2 CF( CF 3 )-, -C(CF 3 ) 2 CF 2 -, -CF 2 C(CF 3 ) 2- , -CF(CF 3 )CF(CF 3 )-, -CF(C 2 F 5 )CF 2 It may be either — or —CF 2 CF(C 2 F 5 )—, but —CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 — is preferred.
  • —C 3 F 6 — may be any of —CF 2 CF 2 CF 2 —, —CF(CF 3 )CF 2 — and —CF 2 CF(CF 3 )—, but preferably —CF 2 CF 2 CF 2 ⁇ .
  • —C 2 F 4 — may be either —CF 2 CF 2 — or —CF(CF 3 )—.
  • X f1 is more preferably, -CF 2 -, - CF 2 CF 2 -, or -CF (CF 3) - and is, more preferably, -CF 2 -, or -CF 2 CF 2 - a and, Particularly preferably, it is —CF 2 —.
  • X f2 is a group represented by (O) y or (NH) y , and preferably a group represented by (O) y .
  • z is 0 or 1 independently at each occurrence, and y is 0 or 1 independently at each occurrence. Specifically, z is 0 and y is 0; z is 0 and y is 1; z is 1 and y is 0; z is 1 and y is 1. Preferably, the sum of z and y is 0 or 1.
  • y is 0, the group represented by X f2 is a single bond; when z is 0, the group represented by X f1 is a single bond.
  • X 1 is independently a single bond, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, —NH—, —SO 2 NH—, —SO 2 — or a divalent to 10-valent organic group in each occurrence.
  • X 1 is a nitrogen atom.
  • the group represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 - is represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) 2 -N-.
  • X 1 is a divalent to 10-valent organic group.
  • X 1 is preferably an organic group having a valence of 2 to 7, more preferably a valence of 2 to 4, and further preferably a valence of 2 to 3.
  • X 1 can be a tri- to divalent organic group and ⁇ is 2-9.
  • X 1 is a divalent organic group and ⁇ is 1.
  • X 1 is each independently a divalent organic group at each occurrence, wherein the divalent organic group is —CONH—, —NHCO—, —NHCONH—, —OCONH—, or -NHCOO-.
  • X 1 is independently at each occurrence, (- (R 11) n16 -) 2 N- (R 12) n17 -, - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 -, or -R 13 - is a trivalent or divalent organic group represented by.
  • X 1 is, when represented by, (Rf-X f1 -PE- X f2) ⁇ -X 1 - - (- (R 11) n16 -) 2 N- (R 12) n17 is expressed by groups, (Rf-X f1 -PE- X f2 - (R 11) n16) 2 N- (R 12) n17 - is represented by; X 1 is - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 - when represented by, (Rf-X f1 -PE- X f2) ⁇ -X 1 - group represented by, Rf-X f1 -PE-X f2 - (R 11) n16 -X 11 - When R 1 is represented by (R 12 ) n17 ⁇ ; when X 1 is represented by —R 13 —, the group represented by (Rf—X f1 —PE—X f2 ) ⁇
  • X 1 is preferably (- (R 11) n16 - ) 2 N- (R 12) n17 -, or - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 - with a group represented, more preferably - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 - is a group represented by.
  • R 11 is a group or a bond bonded to the side of the polyether group (group represented by PE).
  • group represented by PE group represented by PE
  • the left side of the structure described as R 11 is attached to ⁇ and is bonded to a group enclosed in parentheses.
  • R 11 represents, independently at each occurrence, —(CH 2 ) n11 — which may be substituted with one or more fluorine atoms, or an o-, m- or p-phenylene group, and preferably one or more Of -(CH 2 ) n11- , which may be substituted by a fluorine atom, and more preferably -(CH 2 ) n11-, which is not substituted by a fluorine atom.
  • n11 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and further preferably 1 or 2.
  • R 12 is a group or a bond bonded to the triazine ring. The right side of the structure described herein as R 12 is attached to the triazine ring.
  • R 12's each independently in each occurrence represent —(CH 2 ) n12 — optionally substituted by one or more fluorine atoms, or o-, m- or p-phenylene group, and preferably one or more.
  • n12 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1.
  • N16 is 0 or 1 independently at each occurrence, and n17 is 0 or 1 independently at each occurrence.
  • the sum of n16 and n17 is preferably 1 or more.
  • n16 is 0 and n17 is 1, or n16 is 1 and n17 is 0, and more preferably n16 is 1 and n17 is 0.
  • X 11 is preferably a group represented by —O—, —S—, —C( ⁇ O)NR 3 —, —NR 3 C( ⁇ O)O—, —NR 3 —, and more preferably Is a group represented by —O— or —NR 3 — (eg, —NH—).
  • the left side of the structure described as X 11 is bonded to the group represented by R 11
  • the right side is bonded to the group represented by R 12 .
  • R 3 is independently a hydrogen atom, a phenyl group or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a methyl group) in each occurrence, preferably a hydrogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom. is there.
  • R 61 is, independently at each occurrence, a C 1-6 alkylene group, preferably a C 1-3 alkylene group.
  • R 62 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group in each occurrence, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, more preferably a methyl group.
  • Is. n14 is, independently at each occurrence, an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1.
  • n15 is, independently at each occurrence, an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20.
  • the hydrogen atom of X 11 may be substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group.
  • R 13 is preferably, independently at each occurrence, —(CH 2 ) n13 —.
  • n13 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, and more preferably an integer of 1 to 3.
  • X 1 is, - (R 11) n16 -X 11 - (R 12) n17 - with a group represented, n16 is 1, n17 is 0.
  • X 11 is preferably —O— or —NH—
  • R 11 is preferably —(CH 2 ) n11 —
  • n11 is an integer of 1 to 3. More preferably, n11 is 1 or 2.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure has a group represented by R Si- .
  • the group represented by R Si — is, at each occurrence, independently of any of the groups represented by formulas (A1) to (A4) having a hydroxyl group or a Si atom bonded to a hydrolyzable group at the terminal. is there.
  • the compound of the present disclosure can contribute to the formation of a surface-treated layer having a good ability to bind to a substrate by having the group as described above.
  • ⁇ 1 is an integer of 1 to 9. ⁇ 1 can change depending on the valence of X a1 . For example, when X a1 is a 10-valent organic group, ⁇ 1 is 9. ⁇ 1 is 1 when X a1 is a single bond.
  • X a1 represents a single bond, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, —NH—, —SO 2 NH—, —SO 2 —, or a divalent to 10-valent organic group.
  • X a1 is preferably a divalent to 7-valent organic group, more preferably a divalent to tetravalent organic group, still more preferably a divalent or trivalent organic group, and may be a divalent organic group.
  • the right side of the structure described as X a1 is bonded to the triazine ring.
  • X a1 is a divalent organic group, and the divalent organic group is —CONH—, —NHCO—, —NHCONH—, —OCONH—, or —NHCOO—.
  • X a1 is ( ⁇ (R 71 ) n21 ⁇ ) 2 N—(R 72 ) n22 ⁇ , ⁇ (R 71 ) n21 ⁇ X 3 ⁇ (R 72 ) n22 ⁇ , ⁇ R 73 ⁇ , or ⁇ . It is a trivalent or divalent organic group represented by YO-.
  • R 71 is a group parenthesized with ⁇ 1 in formula (A1).
  • R 72 connects the nitrogen atom contained in X a1 to the triazine ring in formula (I).
  • R 71 is represented by the group parenthesized with ⁇ 1 in the formula (A1) and X 3 .
  • R 72 connects the group represented by X 3 and the group represented by X 3 and the triazine ring in formula (I).
  • X a1 is represented by —R 73 —
  • R 73 connects the group parenthesized with ⁇ 1 in formula (A1) and the triazine ring in formula (I).
  • O connects Y to the triazine ring.
  • X a1 is preferably a group represented by (—(R 71 ) n21 ⁇ ) 2 N—(R 72 ) n22 ⁇ , or —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 ⁇ . , And more preferably a group represented by —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 —.
  • R 71 represents, independently at each occurrence, —(CH 2 ) n23 — which may be substituted with one or more fluorine atoms, or o-, m- or p-phenylene group, and preferably one or more Is -(CH 2 ) n23- which may be substituted by a fluorine atom, and more preferably -(CH 2 ) n23- which is not substituted by a fluorine atom.
  • n23 is, independently at each occurrence, an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2. is there.
  • the left side of the structure described as R 71 is attached to ⁇ 1 and is bonded to a group enclosed in parentheses.
  • R 72 is a group or a bond bonded to the triazine ring. The right side of the structure described herein as R 72 is attached to the triazine ring.
  • R 72 represents, independently at each occurrence, —(CH 2 ) n24 — which may be substituted with one or more fluorine atoms, or an o-, m- or p-phenylene group, and preferably one or more Of -(CH 2 ) n24- , which may be substituted by a fluorine atom, and more preferably -(CH 2 ) n24-, which is not substituted by a fluorine atom.
  • n24 is, independently at each occurrence, an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • N21 is 0 or 1, and n22 is 0 or 1.
  • the sum of n21 and n22 is preferably 1 or more.
  • n21 is 0 and n22 is 1, or n21 is 1 and n22 is 0, more preferably n21 is 1 and n22 is 0.
  • X 3 is preferably a group represented by —O—, —S—, —NHC( ⁇ O)O—, —O(C ⁇ O)NH—, or —NR 3 —, and more preferably , —O—, or —NR 3 — (eg, —NH—).
  • the left side of the structure described as X 3 is bonded to the group represented by R 71
  • the right side is bonded to the group represented by R 72 .
  • R 3 is a hydrogen atom, a phenyl group or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (preferably a methyl group), preferably a hydrogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • R 74 is, independently at each occurrence, a C 1-6 alkylene group, preferably a C 1-3 alkylene group.
  • R 75 each independently represents a phenyl group, a C 1-6 alkyl group or a C 1-6 alkoxy group in each occurrence, preferably a phenyl group or a C 1-6 alkyl group, more preferably a methyl group.
  • Is. n25 in each occurrence is independently an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 3, and more preferably 1.
  • n26 is, independently at each occurrence, an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 20.
  • the hydrogen atom of X 3 may be substituted with one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-3 alkyl group and a C 1-3 fluoroalkyl group.
  • R 73 is preferably, independently at each occurrence, —(CH 2 ) n27 —.
  • n27 is an integer of 1 to 20, preferably an integer of 1 to 6, and more preferably an integer of 1 to 3.
  • Y is a divalent to hexavalent, preferably divalent to tetravalent, more preferably divalent organic group that bonds an oxygen atom and a Si atom, and may have a silicon atom and/or a siloxane bond.
  • Y has a silicon atom and/or a siloxane bond.
  • an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms such as ethylene group, propylene group (trimethylene group, methylethylene group), butylene group (tetramethylene group, methylpropylene group), hexamethylene group
  • An alkylene group having 2 to 8 carbon atoms including an arylene group having 6 to 8 carbon atoms such as a phenylene group (eg, an alkylene/arylene group having 8 to 16 carbon atoms), a dimethylsilylene group, a diethylsilylene group, etc.
  • An alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, including a diorganosilylene group, and an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms are mutually bonded via a silalkylene structure having 1 to 4 carbon atoms or a silarylene structure having 6 to 10 carbon atoms
  • alkylene groups 2 to 10 silicon atoms, preferably 2 to 5 linear, branched or cyclic divalent to hexavalent organopolysiloxane residues having 2 to 10 carbon atoms in the bond.
  • a divalent to hexavalent group having an alkylene group bonded thereto is preferable, and an alkylene group having 3 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms including a phenylene group, and a dimethylsilylene group are preferable.
  • An alkylene group having 2 to 6 carbon atoms and an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms are bonded to each other through a silalkylene structure having 1 to 4 carbon atoms or a silarylene structure having 6 to 10 carbon atoms 2 Valent group, linear divalent organopolysiloxane residue having 2 to 10 silicon atoms, alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, linear or silicon atom having 2 to 10 silicon atoms
  • Examples of the specific structure of Y include the following structures.
  • the left side of the structure described as Y is bonded to the “O” atom contained in the group represented by —YO—;
  • at least one bond is bonded to the group enclosed in parentheses with ⁇ 1, and at least one bond is bonded to the “O” atom contained in the group represented by —YO— Join.
  • X a1 is, independently at each occurrence, preferably a group represented by —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 — or —R 73 —, and more preferably — It is a group represented by (R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 —.
  • n21 is 1, n22 is 0,
  • R 71 is —(CH 2 ) n23 —(n23 is an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2).
  • X 3 is —O—, or —NR 3 — (eg, —NH—), and R 73 is —(CH 2 ) n27 — (n27 is an integer of 1 to 6, preferably 1). It is preferably an integer of ⁇ 3).
  • X a2 represents a single bond or a divalent organic group.
  • X a2 is preferably an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably —(CH 2 ) u — (wherein u is an integer of 0 to 2).
  • Each t is independently an integer of 2 to 10. In a preferred embodiment, t is an integer of 2-6.
  • R 31 independently represents a hydrogen atom or a halogen atom.
  • the halogen atom is preferably an iodine atom, a chlorine atom or a fluorine atom, and more preferably a fluorine atom.
  • R 32 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a carbon atom. It is an alkyl group of the numbers 1 to 6 (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • R 32 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg methyl group, ethyl group, propyl group).
  • R a is independently a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • the hydrolyzable group has the same meaning as described above.
  • R b independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in each occurrence, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
  • m1 is an integer of 0 to 3 independently for each (R a m1 R b 3-m1 Si-) unit. However, in the formula (A1), at least one R a m1 R b 3-m1 Si— in which m1 is 1 to 3 is present. That is, not all m1s become 0 at the same time.
  • At least two m1's are preferably 1 or more.
  • R a m1 R b 3-m1 Si- there is at least one R a m1 R b 3-m1 Si- in which m1 is preferably 2 or 3, and more preferably m1 is 3.
  • m1 is an integer of 1 to 3, and more preferably 2 or 3.
  • m1 is 3.
  • the group represented by R a m1 R b 3-m1 Si— is represented by R a 3 Si—.
  • ⁇ 2 is an integer of 1 to 9. ⁇ 2 can change depending on the valence of X a3 . For example, when X a3 is a 10-valent organic group, ⁇ 2 is 9. ⁇ 2 is 1 when X a3 is a single bond.
  • X a3 represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group, preferably 2 to 7 valent, more preferably 2 to 4 valent, and further preferably a divalent or trivalent organic group, It may be an organic group.
  • the right side of the structure described as X a2 is bonded to the triazine ring.
  • X a3 is not particularly limited, and examples thereof include the same ones as those described for X a1 .
  • “formula (A1)” is replaced with “formula (A2)” and “ ⁇ 1” is replaced with “ ⁇ 2”.
  • Particularly preferable X a3 includes a group represented by —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 — or —R 73 —, and more preferably —(R 71 ) n21. It is a group represented by —X 3 —(R 72 ) n22 —. n21 is 1, n22 is 0, R 71 is —(CH 2 ) n23 — (n23 is an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2).
  • X 3 is —O—, or —NR 3 — (eg, —NH—), and R 73 is —(CH 2 ) n27 — (n27 is an integer of 1 to 6, preferably an integer of 1 to 3). Preferably there is.
  • m1 is an integer of 0 to 3 independently for each (R a m1 R b 3-m1 Si-) unit. However, in the formula (A2), at least one R a m1 R b 3-m1 Si— in which m1 is 1 to 3 is present.
  • m1 is preferably 1 to 3, and more preferably 2 or 3.
  • m1 is 3.
  • R a m1 R b 3-m1 Si— is represented by R a 3 Si—.
  • ⁇ 3 is an integer of 1 to 9. ⁇ 3 can change depending on the valence of X a4 . For example, when X a4 is a 10-valent organic group, ⁇ 3 is 9. When X a4 is a single bond, ⁇ 3 is 1.
  • X a4 represents a single bond or a divalent to divalent organic group, preferably a divalent to 7 valent, more preferably a divalent to tetravalent, and still more preferably a divalent or trivalent organic group. It may be an organic group.
  • the right side of the structure described as X a4 is bonded to the triazine ring.
  • X a4 is not particularly limited, and examples thereof include the same ones as those described for X a1 .
  • “formula (A1)” is replaced with “formula (A3)” and “ ⁇ 1” is replaced with “ ⁇ 3”.
  • Particularly preferred X a4 includes a group represented by —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 — or —R 73 —, and more preferably —(R 71 ) n21. It is a group represented by —X 3 —(R 72 ) n22 —. n21 is 1, n22 is 0, R 71 is —(CH 2 ) n23 — (n23 is an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2).
  • X 3 is —O—, or —NR 3 — (eg, —NH—), and R 73 is —(CH 2 ) n27 — (n27 is an integer of 1 to 6, preferably an integer of 1 to 3). Preferably there is.
  • R f1 independently represents R 41 r1 R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 — in each occurrence.
  • Z 1 independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence.
  • the left side of the structure is described as Z 1 is, R 41 r1 R 42 r2 R 43 r3 Si-Z 1 - binds to "Si" atoms contained in the group represented by.
  • Z 1 is preferably a divalent organic group, and does not include a group which forms a siloxane bond with the Si atom at the end of the molecular main chain in formula (A3) (Si atom to which R f1 is bonded). .
  • Z 1 is preferably, C 1-6 alkylene group, - (CH 2) l11 -O- (CH 2) l12 - (wherein, l11 is 0 to 6 integer, for example 1 to 6 integer And l12 is an integer of 0 to 6, such as an integer of 1 to 6) or -phenylene- (CH 2 ) l13- (in the formula, l13 is an integer of 0 to 6), and Preferably, it is a C 1-3 alkylene group. These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • Z 1 can be a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) 13- . If Z 1 is a radical as described above, it may be more light-resistant, in particular UV-resistant. In the formula, l3 is an integer of 0 to 6.
  • Z 1 is a C 1-6 alkylene group, and more preferably a C 1-3 alkylene group.
  • R 41 independently represents R f1′ at each occurrence.
  • R f1′ has the same meaning as R f1 .
  • the number of Si linearly linked via the Z 1 group is 5 at the maximum. That is, in the R f1, if R 41 is present at least one, but Si atom to be linked via Z 1 group in R f1 linearized there are two or more, via such Z 1 group
  • the maximum number of linearly linked Si atoms is 5.
  • the "number of Si atoms linearly linked via a Z 1 group in R f1 ' is equal to the repetition number of -Z 1 -Si- being linearly linked in a R f1 Become.
  • the following shows an example in which Si atoms in R f1 are linked via a Z 1 group.
  • * means a site bonded to Si in the main chain, and... means that a predetermined group other than Z 1 Si is bonded, that is, all three bonds of Si atom are... In the case of, it means the end point of the repetition of Z 1 Si.
  • the number on the right side of Si means the number of appearances of Si linearly linked via the Z 1 group counted from *. That is, a chain in which Z 1 Si repetition is completed in Si 2 has “the number of Si atoms linearly linked through the Z 1 group in R a ”and similarly Si 3 , Si 4 and Si 5 have Z 1 Si repeating ends terminated with “number of Si atoms linearly linked through the Z 1 group in R a ”respectively 3, 4, and 5 It is an individual.
  • a plurality of Z 1 Si chains are present in R a , but it is not necessary that they all have the same length, and each may have an arbitrary length.
  • the number of Si atoms linearly linked via the Z 1 group in R f1 means 1 (left formula) or 2 (in left chain) in all chains. Right formula).
  • the number of Si atoms linearly linked via the Z 1 group in R f1 is 1 or 2, preferably 1.
  • R 42 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • R 42 is a hydrolyzable group, more preferably —OR a1 (wherein R a1 represents a substituted or unsubstituted C 1-3 alkyl group, more preferably a methyl group). Is.
  • R 43 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a carbon atom. It is an alkyl group of 1 to 6 (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • R 43 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg methyl group, ethyl group, propyl group).
  • r1 is independently an integer of 0 to 3 in each occurrence
  • r2 is an integer of 0 to 3 in each occurrence
  • r3 is 0 in each occurrence. It is an integer of ⁇ 3.
  • the sum of r1, r2 and r3 is 3 for each R 41 r1 R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 ⁇ .
  • end of the R f1 in R f1 in the above r2 is preferably 2 or 3, more preferably 3.
  • R f2 independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence.
  • R f3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group in each occurrence, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a carbon atom number. 1 to 6 alkyl groups (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • R f3 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • p1 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • p2 is an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • p3 is 0 at each occurrence. It is an integer of ⁇ 3.
  • the sum of p1, p2 and p3 is 3 for each R 41 r1 R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 ⁇ .
  • At least one of the terminal ends of the group represented by formula (A3) is R 42 r2′ R 43 r3′ (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 —) 2 Si— (wherein The total value of r2 and r3 is 3, the total value of r2′ and r3′ is 1), or (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 ⁇ ) 3 Si— (where the total value of r2 and r3 is 3), and preferably (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 —) 3 Si— (where the total value of r2 and r3 is 3).
  • r2 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3.
  • the unit of (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1 —) is preferably (R 42 3 Si—Z 1 —).
  • all the terminal ends of the group represented by formula (A3) are (R 42 r2 R 43 r3 Si-Z 1 ) 3- Si-, more preferably (R 42 3 Si-Z 1 ) 3. It may be -Si-.
  • p1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 2 or 3, and particularly preferably 3.
  • r2 is preferably 1 to 3, more preferably 2 or 3, and even more preferably 3.
  • p1 is an integer from 1 to 3 and r2 is preferably 2 or 3, p1 is 2 or 3 and r2 is 2 or 3. Is more preferable, p1 is 3 and r2 is more preferably 2 or 3.
  • p1 is an integer of 1 to 3, and r2 is preferably 3, p1 is 2 or 3, and r2 is more preferably 3. More preferably, p1 is 3 and r2 is 3.
  • p1 is an integer from 1 to 3 and Z 1 is a divalent organic group.
  • Z 1 does not include one that forms a siloxane bond with the Si atom at the end of the molecular main chain in formula (A3) (Si atom to which R f1 is bonded).
  • the Z 1 is preferably, C 1-6 alkylene group, - (CH 2) l11 -O- (CH 2) l12 - ( wherein, is l11, an integer of 1 ⁇ 6, l12 Is an integer of 1 to 6) or -phenylene- (CH 2 ) l13- (in the formula, l13 is an integer of 0 to 6), and more preferably a C 1-3 alkylene group. .
  • ⁇ 4 is an integer of 1 to 9. ⁇ 4 may change depending on the valence of X a5 . For example, when X a5 is a 10-valent organic group, ⁇ 4 is 9. ⁇ 4 is 1 when X a5 is a single bond.
  • X a5 represents a single bond or a divalent to 10-valent organic group, preferably 2 to 7 valent, more preferably 2 to 4 valent, and still more preferably a divalent or trivalent organic group. It may be an organic group.
  • the right side of the structure described as X a5 is bonded to the triazine ring.
  • X a5 is not particularly limited, and examples thereof include the same ones as those described for X a1 .
  • “formula (A1)” is replaced with “formula (A4)” and “ ⁇ 1” is replaced with “ ⁇ 4”.
  • Particularly preferable X a5 includes a group represented by —(R 71 ) n21 —X 3 —(R 72 ) n22 — or —R 73 —, and more preferably —(R 71 ) n21. It is a group represented by —X 3 —(R 72 ) n22 —.
  • n21 is 1, n22 is 0, R 71 is —(CH 2 ) n23 —(n23 is an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • X 3 is —O—, or —NR 3 — (eg, —NH—), and R 73 is —(CH 2 ) n27 — (n27 is an integer of 1 to 6, preferably 1 to 3). Integer).
  • R g1 independently represents R 51 s1 R 52 s2 R 53 s3 C—Z 2 — at each occurrence.
  • Z 2 independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence.
  • Z left structure is described as 2
  • R 51 s1 R 52 s2 R 53 s3 C-Z 2 - binds to "C" atoms contained in the group represented by.
  • Z 2 is preferably a divalent organic group and does not include a group which forms a siloxane bond with the Si atom at the end of the molecular main chain in formula (A4) (Si atom to which R g1 is bonded). ..
  • Z 2 is preferably a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) l21 —O—(CH 2 ) 122 — (wherein l21 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6). And L22 is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6) or -phenylene- (CH 2 ) l23- (in the formula, L23 is an integer of 0 to 6), and Preferred is a C 1-3 alkylene group. These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • R 51 independently represents R g1′ at each occurrence.
  • R g1′ has the same meaning as R g1 .
  • the number of Cs linearly linked via the Z 2 group is 5 at the maximum. That is, in the R g1, if R 51 is present at least one, but C atoms to be linked via Z 2 group in R g1 linearized there are two or more, via such Z 2 group The maximum number of linearly linked C atoms is 5. Note that "through Z 2 group in R g1 number of C atoms linearly linked", equal to the number of repetitions of -Z 2 -C- being linearly linked in a R g1 become.
  • the number of C atoms linearly linked via the Z 2 group in R g1 means 1 (left formula) or 2 (in the left chain) in all chains. Right formula).
  • the number of C atoms linearly linked via the Z 2 group of R g1 is 1 or 2, preferably 1.
  • R 52 independently represents R a m1 R b 3-m1 Si—Z 3 — in each occurrence.
  • R a and R b are as defined above.
  • m1 is an integer of 0 to 3 independently for each (R a m1 R b 3-m1 Si-) unit. However, in the formula (A4), at least two R a m1 R b 3-m1 Si- in which m1 is 1 to 3 are present.
  • Z 3 independently represents an oxygen atom or a divalent organic group at each occurrence.
  • the left side of the group represented by Z 3 is bonded to the “Si” atom contained in R 52 .
  • Z 3 is an oxygen atom.
  • Z 3 is a divalent organic group.
  • Z 3 is a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) l31 —O—(CH 2 ) l32 — (wherein l31 is an integer of 0 to 6, for example an integer of 1 to 6). And l32 is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6) or -phenylene- (CH 2 ) l33- (in the formula, l33 is an integer of 0 to 6).
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • Z 3 can be a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) 133- .
  • Z 3 is a group as described above, it may be more light-resistant, especially UV-resistant.
  • 133 is an integer of 0 to 6.
  • Z 3 is a C 1-6 alkylene group, and more preferably a C 2-3 alkylene group.
  • R 53 independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or It is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • R 53 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group).
  • s1 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • s2 is an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • s3 is 0 at each occurrence. It is an integer of ⁇ 3.
  • the sum of s1, s2, and s3 is 3 for each R 51 s1 R 52 s2 R 53 s3 CZ 2 ⁇ .
  • R g2 independently represents R a m1 R b 3-m1 Si—Z 4 — in each occurrence.
  • the left side of the group represented by Z 4 is bonded to the “Si” atom contained in R g2 .
  • R a and R b are as defined above.
  • Z 4 is an oxygen atom.
  • Z 4 is a divalent organic group.
  • Z 4 is a C 1-6 alkylene group, —(CH 2 ) l31′ —O—(CH 2 ) l32′ — (wherein l31′ is an integer of 0 to 6, for example 1 to 6). And l32' is an integer of 0 to 6, for example, an integer of 1 to 6) or -phenylene- (CH 2 ) l33' -(wherein l33' is an integer of 0 to 6). Yes).
  • These groups may be substituted with, for example, one or more substituents selected from a fluorine atom, a C 1-6 alkyl group, a C 2-6 alkenyl group, and a C 2-6 alkynyl group. .
  • Z 4 can be a C 1-6 alkylene group or -phenylene- (CH 2 ) 133'- .
  • Z 4 is a group as described above, it may be more light-resistant, especially UV-resistant.
  • 133′ is an integer of 0 to 6.
  • Z 4 is a C 1-6 alkylene group, more preferably a C 2-3 alkylene group.
  • R g3 each independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group in each occurrence, preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group or a monovalent organic group, and more preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group or It is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group).
  • q1 is independently an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • q2 is an integer of 0 to 3 at each occurrence
  • q3 is 0 at each occurrence. It is an integer of ⁇ 3.
  • the sum of q1, q2, and q3 is 3 for each R g3 q3 R g2 q2 R g1 q1 C ⁇ .
  • q1 of at least 1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, and more preferably 3.
  • q1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, and more preferably 3.
  • q2 is 2 or 3, preferably 3.
  • At least two Si atoms bonded to the hydroxyl group or the hydrolyzable group be present. That is, in the formula (A4), at least two R 52 (provided that m1 is an integer of 1 to 3 in R 52 ) or R g2 (provided that m1 is an integer of 1 to 3 in R g2 ) are present. Preferably. In other words, in the formula (A4), at least two m1's are preferably 1 or more. m1 is more preferably 2 or 3, and further preferably 3.
  • the polyether group-containing compound has better ultraviolet durability, water repellency, oil repellency, antifouling property (for example, preventing adhesion of dirt such as soil or fingerprints), heat resistance, It is possible to form a surface-treated layer having high friction durability, hydrolysis resistance, chemical resistance, moisture resistance, antifogging property, and the like, particularly good ultraviolet durability, high friction durability, chemical resistance and the like.
  • a group represented by R g3 (R a m1 R b 3-m1 Si-) 2 -C- or (R a m1 R b 3-m1 Si-) 3 -C- is preferable. It is present, and more preferably, a group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si—) 3 —C— is present.
  • m1 is an integer of 1 to 3, preferably 2 or 3, and more preferably 3.
  • m1 is preferably 1 to 3, and more preferably 3.
  • the unit of (R a m1 R b 3-m1 Si-) is R a 2 R b Si- or R a 3 Si-, preferably R a 3 Si-. Is.
  • q2 is preferably an integer of 1 to 3 and m1 is an integer of 1 to 3.
  • q2 is an integer of 1 to 3
  • m1 is 2 or 3
  • more preferably q2 is an integer of 1 to 3 and m1 is 3.
  • q2 is 2 or 3
  • m1 is an integer of 1 to 3
  • more preferably q2 is 3 and m1 is an integer of 1 to 3
  • Q2 is 3 and m1 is 3.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure is 1 of R is a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and 2 of R is a group represented by R Si —;
  • the group represented by R Si — is independently the group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si) 3 —X a3 — in each occurrence, and the group represented by (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1- ) 3 -Si-X a4 -, or a group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si-Z 4 -) 3 -C-X a5- .
  • Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • X f1 is a group represented by (X f11 ) z
  • X f11 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom
  • z is 0
  • PE has the formula: - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 X 10 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f -
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1, the order of existence of each repeating unit in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the
  • R 42 each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence;
  • R 43 is, independently at each occurrence, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group);
  • r2 is 2 or 3, and the total value of r2 and r3 is 3, preferably r2 is 3.
  • the groups represented by R Si- have the same structure.
  • the group represented by R Si— is a group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si—Z 4 —) 3 —C—X a5 —.
  • the polyether group-containing compound of the present disclosure is 2 of R are groups represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and 1 of R is a group represented by R Si —;
  • the group represented by R Si — is independently the group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si) 3 —X a3 — in each occurrence, and the group represented by (R 42 r2 R 43 r3 Si—Z 1- ) 3 -Si-X a4 -, or a group represented by (R a m1 R b 3-m1 Si-Z 4 -) 3 -C-X a5- .
  • Rf represents a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms
  • X f1 is a group represented by (X f11 ) z
  • X f11 is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom
  • z is 0
  • PE has the formula: - (OC 6 F 12) a - (OC 5 F 10) b - (OC 4 F 8) c - (OC 3 X 10 6) d - (OC 2 F 4) e - (OCF 2) f -
  • a, b, c, d, e and f are each independently an integer of 0 or more and 200 or less, and the sum of a, b, c, d, e and f is at least 1, the order of existence of each repeating unit in parentheses with a, b, c, d, e or f is arbitrary in the
  • R 42 each independently represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group at each occurrence;
  • R 43 is, independently at each occurrence, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group);
  • r2 is 2 or 3, and the total value of r2 and r3 is 3, preferably r2 is 3.
  • composition containing the polyether group-containing compound of the present disclosure is a solvent, a fluorine-containing oil, a silicone oil, a catalyst, a surfactant, a polymerization inhibitor, a sensitizer, a sol-gel, a hydrocarbon polymer, a fluorine-containing polymer, It may include a radical scavenger, an inorganic porous material, a dehydrating agent, a dehalogenating compound, or the like.
  • solvent examples include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, and mineral spirits; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha.
  • aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, and mineral spirits
  • aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, naphthalene, and solvent naphtha.
  • a composition comprising a polyether group-containing compound of the present disclosure further comprises hexafluorobenzene, m-hexafluoroxylene, perfluorobutylethyl ether, perfluorohexyl methyl ether, Zeorora H, perfluorohexylmethyl. It may contain at least one selected from the group consisting of ether, perfluorohexane, acetone, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, and water.
  • the (non-reactive) fluoropolyether compound preferably a perfluoro(poly)ether compound (hereinafter referred to as “fluorine-containing oil”), which can be understood as a fluorinated oil, is not particularly limited, For example, a compound represented by the following general formula (3) (perfluoro(poly)ether compound) may be mentioned.
  • Rf 5 represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms which may be substituted by one or more fluorine atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group)
  • Rf 6 represents Represents an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms (preferably a C 1-16 perfluoroalkyl group) optionally substituted by one or more fluorine atoms, a fluorine atom or a hydrogen atom
  • Rf 5 and Rf 6 are , And more preferably each independently a C 1-3 perfluoroalkyl group.
  • a', b', c'and d' represent the number of four types of repeating units of perfluoro(poly)ether constituting the main skeleton of the polymer, each independently being an integer of 0 or more and 300 or less, , A′, b′, c′ and d′ is at least 1, preferably 1 to 300, more preferably 20 to 300.
  • the order of existence of the repeating units enclosed in parentheses with subscripts a′, b′, c′ or d′ is arbitrary in the formula.
  • -(OC 4 F 8 )- is -(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 CF 2 )-, -(OCF 2 CF(CF 3) CF 2) -, - (OCF 2 CF 2 CF (CF 3)) -, - (OC (CF 3) 2 CF 2) -, - (OCF 2 C (CF 3) 2) -, - (OCF It may be any of (CF 3 )CF(CF 3 ))-, -(OCF(C 2 F 5 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(C 2 F 5 ))-, but preferably- (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) ⁇ .
  • -(OC 3 F 6 )- may be any of -(OCF 2 CF 2 CF 2 )-, -(OCF(CF 3 )CF 2 )- and (OCF 2 CF(CF 3 ))-.
  • -(OC 2 F 4 )- may be either -(OCF 2 CF 2 )- or (OCF(CF 3 ))-, but is preferably -(OCF 2 CF 2 )-.
  • Examples of the perfluoro(poly)ether compound represented by the above general formula (3) include compounds represented by any of the following general formulas (3a) and (3b) (one kind or a mixture of two or more kinds. May be included).
  • Rf 5 -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) b′′ -Rf 6 (3a) Rf 5 -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) a" -(OCF 2 CF 2 CF 2 ) b" -(OCF 2 CF 2 ) c" -(OCF 2 ) d" -Rf 6 ...(3b )
  • Rf 5 and Rf 6 are as described above; in the formula (3a), b′′ is an integer of 1 or more and 100 or less; in the formula (3b), a′′ and b′′ are each independently Is an integer of 0 or more and 30 or less, and c′′ and d′′ are each independently an integer of 1 or more and 300 or less.
  • the fluorinated oil may be a compound represented by the general formula Rf 3 —F (wherein Rf 3 is a C 5-16 perfluoroalkyl group). It may also be a chlorotrifluoroethylene oligomer.
  • the above fluorinated oil may have an average molecular weight of 500 to 10,000.
  • the molecular weight of the fluorinated oil can be measured using GPC.
  • the fluorinated oil may be contained in the composition of the present disclosure in an amount of, for example, 0 to 50% by mass, preferably 0 to 30% by mass, more preferably 0 to 5% by mass.
  • the compositions of the present disclosure are substantially free of fluorinated oils.
  • substantially free of fluorine-containing oil means that it may contain no fluorine-containing oil or may contain a very small amount of fluorine-containing oil.
  • Fluorine-containing oil contributes to improve the surface slipperiness of the layer formed by the composition of the present disclosure.
  • the average molecular weight of the fluorine-containing oil may be larger than the average molecular weight of the polyether group-containing compound. With such an average molecular weight, more excellent friction durability and surface slipperiness can be obtained. This aspect is particularly advantageous when the surface treatment layer is formed by a vacuum vapor deposition method.
  • the average molecular weight of the fluorinated oil may be smaller than the average molecular weight of the polyether group-containing compound.
  • the composition of the present disclosure is a cured product having high friction durability and high surface slipperiness while suppressing a decrease in transparency of a cured product formed using the composition. Can form things.
  • the silicone oil for example, a linear or cyclic silicone oil having a siloxane bond of 2,000 or less can be used.
  • the linear silicone oil may be so-called straight silicone oil and modified silicone oil.
  • the straight silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil and methylhydrogen silicone oil.
  • the modified silicone oil include straight silicone oil modified with alkyl, aralkyl, polyether, higher fatty acid ester, fluoroalkyl, amino, epoxy, carboxyl, alcohol and the like.
  • Examples of the cyclic silicone oil include cyclic dimethyl siloxane oil.
  • the silicone oil is added to 100 parts by mass of the total amount of the polyether group-containing compound of the present disclosure (in the case of two or more kinds, the total thereof, the same applies below). On the other hand, it may be contained in an amount of, for example, 0 to 300 parts by mass, preferably 50 to 200 parts by mass.
  • Silicone oil contributes to improve the surface slipperiness of the surface treatment layer.
  • the catalyst examples include acids (eg acetic acid, trifluoroacetic acid etc.), bases (eg ammonia, triethylamine, diethylamine etc.), transition metals (eg Ti, Ni, Sn etc.) and the like.
  • acids eg acetic acid, trifluoroacetic acid etc.
  • bases eg ammonia, triethylamine, diethylamine etc.
  • transition metals eg Ti, Ni, Sn etc.
  • the catalyst promotes hydrolysis and dehydration condensation of the polyether group-containing compound of the present disclosure, and promotes formation of a layer formed by the composition (eg, surface treatment agent) of the present disclosure.
  • Other components include, for example, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and methyltriacetoxysilane, in addition to the above.
  • composition containing the polyether group-containing compound of the present disclosure further includes at least R Si′ in the compound represented by the following formula or a compound having a group represented by R Si′ among the compounds represented by the following formulas.
  • a compound formed by hydrosilylating a part of the group represented by The composition of the present disclosure comprises, for example, 1 ppm by mass to 1% by mass of a compound represented by the following formula, or a compound formed by hydrosilylating the compound represented by the following formula, in the composition of the present disclosure: It may be contained in an amount of 10 mass ppm to 0.1 mass %.
  • R PE is a group represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -; Each symbol in the group represented by R PE has the same meaning as above;
  • R Si′ is independently a monovalent organic group having —CH ⁇ CH 2 at the terminal at each occurrence, and is preferably a group which becomes a group represented by R Si by hydrosilylation.
  • the composition of the present disclosure further comprises a metal, metal oxide or metal salt comprising Pt, Pd, Rh, Na, K, Ca, Mg, Zn, Fe, Cu, Al, etc.; Si. It may include compounds, oxides or salts.
  • the composition of the present disclosure may include a metal, a metal oxide or a salt thereof in the composition of the present disclosure, for example, 10 mass ppb to 1 mass %, or 100 mass ppb to 0.1 mass %.
  • compositions of the present disclosure may further comprise an organic amine, or its hydrochloride salt.
  • the composition of the present disclosure may include, for example, 1 wt ppm to 1 wt %, or 10 wt ppm to 0.1 wt% of an organic amine, or a salt thereof.
  • the method for producing an exemplary polyether group-containing compound of the present disclosure includes the following steps.
  • the method for producing a polyether group-containing compound of the present disclosure may further include the following steps before step (I).
  • the step (1) includes the formula (II): The compound represented by formula (I): is reacted with HSiM 2 3 and optionally a compound represented by R a k1 L′ and/or a compound represented by the formula: R b k2 L′′. Is a step of obtaining a compound represented by.
  • R′ 1 or 2 of R'- is a group represented by Rf-X f1 -PE-X f2 -X 1 -, and 1 of R'- Or 2 is a group represented by CH 2 ⁇ CH—X′—;
  • 1 may be a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 — and 2 may be a group represented by CH 2 ⁇ CH—X′—.
  • 2 may be a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —
  • 1 may be a group represented by CH 2 ⁇ CH—X′—.
  • Rf, X f1 , PE, X f2 and X 1 are as defined above.
  • X'become a part of the linker portion connecting the triazine ring and the Si atom.
  • the group represented by R Si — is the group represented by the formula (A2)
  • the structure represented by —CH 2 CH 2 X′— is represented by X a3.
  • R a and R b are as defined above.
  • L′ independently represents a group capable of binding to R a at each occurrence.
  • k1 is an integer of 1 to 3 independently at each occurrence.
  • L′′ independently represents a group capable of binding to R b at each occurrence.
  • k2 is an integer of 1 to 3 independently at each occurrence.
  • the compound represented by the formula (II) may be the compound obtained in the step (2) described later.
  • the compound represented by formula (II), by reacting with HSIM 2 3, a group represented by CH 2 CH-X'- is represented by SiM 2 3 -CH 2 CH 2 -X'- Is converted to a base.
  • M 2 is, independently at each occurrence, a halogen atom (ie I, Br, Cl, F) or a C 1-6 alkoxy group, preferably Cl.
  • the compound is commercially available or can be prepared from a commercially available compound using a conventional technique in the art.
  • the amount of HSiM 2 3 is 1 mol with respect to 1 mol of the terminal CH 2 ⁇ CH— group of the compound represented by the above formula (II) (the total when two or more compounds are used, the same applies below). It may be more than or equal to mol, but is preferably 2 mol.
  • the amount thereof can be changed depending on the amount of the R a group to be introduced, and such amount can be determined by those skilled in the art. Can be appropriately determined.
  • the amount thereof can be changed depending on the amount of the R b group to be introduced, and such amount can be determined by those skilled in the art. Can be appropriately determined.
  • step (1) first, the terminal CH 2 ⁇ CH— group of the compound represented by the above formula (II) reacts with HSiM 2 3 to terminate the terminal with SiM 2 3 —CH 2 CH 2 —. Converted to the base. Then, the terminal SiM 2 3 —CH 2 CH 2 — group is reacted with the compound represented by R a k1 L′ and/or the compound represented by R b k2 L′′, and M 2 is R a or Substituted by R b The compound represented by R a k1 L′ and the compound represented by R b k2 L′′ may be reacted simultaneously or separately.
  • HSiM 2 3 R a k1 compound represented by L ', and a compound represented by R b k2 L ", HSi ( R a k1) (R b k2) (In this case, k1+k2 is 3.)
  • the compound represented by HSi(R a k1 )(R b k2 ) can be usually used by those skilled in the art in the art. Can be manufactured by using the above-mentioned technique.
  • the total amount of the compound represented by R a k1 L′ and/or the compound represented by R b k2 L′′ in the step (1) is the compound represented by the above formula (II).
  • the terminal CH 2 CH- group 1 mol per 3 moles or more according to this aspect, step (1) terminal SiM 2 3 -CH 2 occurring in the reaction of CH 2 -.
  • the total amount of the compound represented by R a k1 L′ and/or the compound represented by R b k2 L′′ in step (1) is represented by the above formula (II).
  • the terminal CH 2 ⁇ CH— group of the compound is 0 mol or more and less than 3 mol per 1 mol of the terminal SiM 2 3 —CH 2 CH 2 — of M 2 produced in the reaction of the step (1). All or some may be left without being replaced by R a or R b .
  • step (1) can be carried out in the presence of a suitable catalyst in a suitable solvent.
  • Suitable catalysts include, but are not limited to, Pt, Pd, Rh and the like. Such catalyst may be in any form, for example in the form of a complex.
  • the suitable solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and examples thereof include hexafluorobenzene, m-hexafluoroxylene, perfluorobutylethyl ether, perfluorohexyl methyl ether, Zeolola H. , Perfluorohexyl methyl ether, perfluorohexane and the like.
  • the reaction temperature in this reaction is not particularly limited, but is usually 0 to 100° C., preferably room temperature to 80° C., and the reaction time is not particularly limited, but is usually 60 to 600 minutes, preferably 120 to 300 minutes.
  • the reaction pressure is not particularly limited, but is ⁇ 0.2 to 1 MPa (gauge pressure), and is conveniently atmospheric pressure.
  • room temperature refers to, for example, 0 to 40°C.
  • R has the same meaning as above. However, the number of groups represented by (Rf-X f1 -PE-X f2 ) ⁇ -X 1 -in formula (I) and the number of groups represented by R Si- are respectively the same as those represented by formula (II ) Corresponds to the number of groups represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 — and the number of groups represented by CH 2 ⁇ CH—X′—.
  • M 1 is independently a halogen atom (ie, I, Br, Cl, F, preferably Cl) at each occurrence; R'is as described in step (1).
  • Rf, X f1 , PE, X 1 , X f2 and X′ are as defined above; G is independently a hydroxyl group or NH 2 — at each occurrence; G′ is independently NH 2 —, a hydroxyl group, or SH— at each occurrence.
  • the amount of the compound represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —G and the compound represented by CH 2 ⁇ CH—X′-G′ to be used should be introduced.
  • Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 — and the amount of the group represented by CH 2 ⁇ CH—X′— can be varied, and such amount can be Those skilled in the art can make an appropriate decision.
  • the step (2) includes 1 mol of the compound represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —G, and 2 mol of the compound represented by the formula (III). Of CH 2 ⁇ CH—X′-G′ is reacted to obtain a compound represented by the formula (II).
  • one of R′- is a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and two are CH 2 ⁇ CH. Suitable for synthesizing a compound which is a group represented by —X′—.
  • the step (2) includes 2 mol of the compound represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —G, and 1 mol of the compound represented by the formula (III). Of CH 2 ⁇ CH—X′-G′ is reacted to obtain a compound represented by the formula (II).
  • two R′- are groups represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and one is CH 2 ⁇ CH. Suitable for synthesizing a compound which is a group represented by —X′—.
  • the step (2) reaction is preferably carried out in the presence of a suitable catalyst in a suitable solvent.
  • a suitable catalyst it is preferable to use a basic compound, and examples thereof include amine-based catalysts such as tertiary amines and heterocyclic compounds having an amino group; salts such as potassium, sodium and cesium. Specific examples thereof include diisopropylethylamine, triethylamine, DBU (diazabicycloundecene), pyridine, 2,6-lutidine, potassium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium hydrogencarbonate and potassium hydrogencarbonate.
  • amine-based catalysts such as tertiary amines and heterocyclic compounds having an amino group
  • salts such as potassium, sodium and cesium.
  • Specific examples thereof include diisopropylethylamine, triethylamine, DBU (diazabicycloundecene), pyridine, 2,6-lutidine, potassium carbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium hydrogencarbonate and potassium hydrogencarbonate.
  • the catalyst is a tertiary amine.
  • the suitable solvent is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and for example, a hydrocarbon solvent, a fluorine-containing solvent or the like can be used, and specifically, hexafluorobenzene, m-hexafluoroxylene, perfluorobutyl ethyl ether, perfluorohexyl methyl ether, Zeorora H, perfluorohexyl methyl ether, perfluorohexane, acetone, N,N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone , Water, etc. can be used.
  • a hydrocarbon solvent, a fluorine-containing solvent or the like can be used, and specifically, hexafluorobenzene, m-hexafluoroxylene, perfluorobutyl ethyl ether, perfluorohexyl methyl ether, Zeorora H, perfluorohexy
  • the reaction temperature in this reaction is not particularly limited, but is usually 0 to 100° C., preferably room temperature to 80° C., and the reaction time is not particularly limited, but is usually 60 to 600 minutes, preferably 120 to 300 minutes.
  • the reaction pressure is not particularly limited, but is ⁇ 0.2 to 1 MPa (gauge pressure), and is conveniently atmospheric pressure.
  • Step (2) is preferably carried out as follows.
  • Step (2-1): The following formula (III): The compound represented by Rf-X f1 -PE-X f2 -X 1 -G is reacted with the compound represented by R 1 and the group represented by M 1 is Rf-X f1 -PE-X f2- X 1 A step of converting to a group represented by -; and step (2-2): reacting the compound obtained in step (2-1) with a compound represented by CH 2 CH-X'-G' , A step of converting the group represented by M 1 into a group represented by CH 2 ⁇ CH—X′—.
  • step (2-1) 1 or 2 of the group represented by M′ is converted into a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —
  • step (2-2 ) 1 or 2 of the group represented by M′ is converted to a group represented by CH 2 ⁇ CH—X′—.
  • the number of groups represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 — and the number of groups represented by CH 2 ⁇ CH—X′— are 2 or 3.
  • step (2-1) can be carried out in a suitable solvent in the presence of a suitable catalyst.
  • a suitable catalyst for example, the catalyst and solvent described in step (2) can be used.
  • the reaction temperature in the above step (2-1) is not particularly limited, but usually 0 to 100° C., for example room temperature (specifically 10 to 30° C.), and the reaction time is not particularly limited,
  • the reaction pressure is not particularly limited, but may be ⁇ 0.2 to 1 MPa (gauge pressure), and is conveniently atmospheric pressure.
  • step (2-2) can be carried out in the presence of a suitable catalyst in a suitable solvent.
  • a suitable catalyst for example, the catalyst and solvent described in step (2) can be used.
  • the reaction temperature in the above step (2-2) is not particularly limited, but can be usually 0 to 100° C., for example, room temperature to 80° C., and the reaction time is not particularly limited, but is usually 60 to 600 minutes.
  • the pressure is not particularly limited, but is ⁇ 0.2 to 1 MPa (gauge pressure), and is conveniently atmospheric pressure.
  • step (2-1) 1 mol of the compound represented by formula (III) is reacted with 1 mol of the compound represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —G
  • one of R′- is a group represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and two are CH 2 ⁇ CH.
  • Suitable for synthesizing a compound which is a group represented by —X′— is, for example, 2 mol, 2 to 3 mol, or 2 to 10 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (III). Mole can be added.
  • step (2-1) 2 mol of the compound represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —G is reacted with 1 mol of the compound represented by formula (III),
  • two R′- are groups represented by Rf—X f1 —PE—X f2 —X 1 —, and one is CH 2 ⁇ CH.
  • Suitable for synthesizing a compound which is a group represented by —X′— is, for example, 1 mol, 1 to 2 mol, or 1 to 10 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (III). Mole can be added.
  • a step of concentrating the reaction solution, a washing step, etc. can be performed.
  • the method for producing the polyether group-containing compound of the present disclosure has been described.
  • the method for producing the polyether group-containing compound of the present disclosure is not limited to the above-exemplified production method.
  • composition of the present disclosure can be used as a surface treating agent for treating the surface of a substrate.
  • composition of the present disclosure (for example, a surface treatment agent) can be impregnated into a pellet by impregnating a porous material, for example, a porous ceramic material, a metal fiber, for example, steel wool, which is hardened into a cotton shape.
  • a porous material for example, a porous ceramic material, a metal fiber, for example, steel wool, which is hardened into a cotton shape.
  • the pellet can be used for vacuum deposition, for example.
  • the article of the present disclosure includes a substrate and a composition containing the polyether group-containing compound of the present disclosure or the polyether group-containing compound of the present disclosure on the surface of the substrate (a surface treatment agent) (hereinafter, these are representative examples. And a layer (surface treatment layer) formed from the “surface treatment agent of the present disclosure”).
  • Substrates that can be used in the present disclosure include, for example, glass, resins (natural or synthetic resins, such as common plastic materials, which may be in the form of plates, films, or other forms), metals, ceramics, It may be composed of any suitable material such as semiconductor (silicon, germanium, etc.), fiber (woven fabric, non-woven fabric, etc.), fur, leather, wood, ceramics, stone, etc.
  • the material constituting the surface of the base material may be an optical member material such as glass or transparent plastic.
  • some layer (or film) such as a hard coat layer or an antireflection layer may be formed on the surface (outermost layer) of the substrate.
  • the antireflection layer either a single-layer antireflection layer or a multilayer antireflection layer may be used.
  • inorganic materials that can be used for the antireflection layer include SiO 2 , SiO, ZrO 2 , TiO 2 , TiO, Ti 2 O 3 , Ti 2 O 5 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , CeO 2 , and MgO.
  • the article to be manufactured is an optical glass component for a touch panel, it has a transparent electrode, for example, a thin film using indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide on a part of the surface of the substrate (glass). May be.
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium zinc oxide
  • the base material may be an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomizing film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase difference film, depending on its specific specifications. And a liquid crystal display module or the like.
  • the shape of the base material is not particularly limited. Further, the surface region of the base material on which the surface-treated layer is to be formed may be at least a part of the surface of the base material, and can be appropriately determined according to the application and specific specifications of the article to be manufactured.
  • a base material at least the surface portion thereof may be made of a material originally having a hydroxyl group.
  • a material include glass, and also include metals (particularly base metals) on the surface of which a natural oxide film or a thermal oxide film is formed, ceramics, semiconductors, and the like.
  • the resin does not have enough hydroxyl groups, such as a resin, or if it does not originally have hydroxyl groups, the substrate is subjected to some pretreatment to introduce hydroxyl groups to the surface of the substrate. You can increase or decrease. Examples of such pretreatment include plasma treatment (for example, corona discharge) and ion beam irradiation.
  • the plasma treatment can introduce or increase hydroxyl groups on the surface of the base material, and can also be suitably used for cleaning the surface of the base material (removing foreign matters).
  • an interfacial adsorbent having a carbon-carbon unsaturated bond group is preliminarily formed on the surface of the substrate by a LB method (Langmuir-Blodgett method) or a chemical adsorption method. There is a method in which the unsaturated bond is cleaved in an atmosphere containing oxygen, nitrogen, etc.
  • At least the surface portion of the base material may be made of a material containing a silicone compound having another reactive group, for example, one or more Si—H groups, or an alkoxysilane.
  • a layer of the above-described surface treatment agent of the present disclosure is formed on the surface of such a base material, and this layer is post-treated as necessary, thereby forming a layer from the surface treatment agent of the present disclosure.
  • the layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be carried out by applying the above composition to the surface of a substrate so as to cover the surface.
  • the coating method is not particularly limited. For example, wet coating methods and dry coating methods can be used.
  • wet coating methods include dip coating, spin coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating and similar methods.
  • dry coating methods include evaporation (usually vacuum evaporation), sputtering, CVD and similar methods.
  • vapor deposition method usually a vacuum vapor deposition method
  • CVD methods include plasma-CVD, optical CVD, thermal CVD and similar methods.
  • the surface treatment agent of the present disclosure may be diluted with a solvent and then applied to the substrate surface.
  • the following solvents are preferably used: perfluoroaliphatic hydrocarbons having 5 to 12 carbon atoms (eg, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane and Perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane); polyfluoroaromatic hydrocarbons (eg bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (eg C 6 F 13 CH 2 CH 3 (eg Asahi Glass Asahi Kulin (registered trademark) AC-6000), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (for example, Zeorora (registered trademark) H manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.); hydrofluoroethers (HFE) (e.g., perfluor
  • TM perfluorobutyl methyl ether
  • C 4 F 9 OCH 3 perfluorobutyl methyl ether
  • Novec (trademark) 7100 manufactured by Sumitomo 3M Limited perfluorobutylethyl ether
  • C 4 F 9 OC 2 H 5 perfluorobutylethyl ether
  • Hexylmethyl ether (C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 ) (for example, Novec (trademark) 7300 manufactured by Sumitomo 3M Limited) and other alkyl perfluoroalkyl ethers (perfluoroalkyl group and alkyl group are directly Chain or branched), or CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 (for example, Asahi Klin (registered trademark) AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), etc.
  • C 2 F 5 CF(OCH 3 )C 3 F 7 for example, Novec (trademark) 7300 manufactured by Sumitomo 3M Limited
  • other alkyl perfluoroalkyl ethers perfluoroalkyl group and alkyl group are directly Chain or branched
  • CF 3 CH 2 OCF 2 CHF 2 for example, Asahi Klin (registered trademark) AE-3000 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.
  • hydrofluoroethers are preferable, and perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) and/or perfluorobutyl ethyl ether (C 4 F 9 OC 2 H) can be used. 5 ) is particularly preferable.
  • the surface treatment agent of the present disclosure may be directly subjected to the dry coating method, or may be diluted with the above-mentioned solvent and then subjected to the dry coating method.
  • the layer formation of the surface treatment agent is preferably performed so that the surface treatment agent of the present disclosure is present in the layer together with a catalyst for hydrolysis and dehydration condensation.
  • a catalyst may be added to a dilute solution of the surface treatment agent of the present disclosure immediately before application to the substrate surface.
  • the surface-treating agent of the present disclosure to which a catalyst is added is directly subjected to vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) treatment, or the surface-treating agent of the present disclosure to which a catalyst is added to a metal porous body such as iron or copper.
  • Vapor deposition (usually vacuum vapor deposition) may be performed using a pellet-shaped substance impregnated with.
  • any suitable acid or base can be used as the catalyst.
  • the acid catalyst for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid or the like can be used.
  • the base catalyst for example, ammonia, organic amines or the like can be used.
  • the layer formation of the surface treatment agent of the present disclosure can be performed by coating the surface treatment agent of the present disclosure on the surface of a substrate and vacuum deposition. After that, a treatment such as drying may be performed if necessary.
  • the layer derived from the surface treatment agent of the present disclosure is formed on the surface of the base material to manufacture the article of the present disclosure.
  • the layer thus obtained has both high surface slipperiness and high friction durability.
  • the above-mentioned layer also has water repellency, oil repellency, antifouling property (for example, preventing adhesion of dirt such as fingerprints), and waterproof property, depending on the composition of the surface treatment agent used. (Prevents water from penetrating into electronic parts, etc.), surface slipperiness (or lubricity, for example, ability to wipe off stains such as fingerprints, and excellent tactile sensation on fingers). Can be used.
  • the present disclosure further relates to an optical material having the cured product in the outermost layer.
  • optical material in addition to the optical materials related to displays as exemplified below, a wide variety of optical materials are preferably cited: for example, cathode ray tubes (CRTs; for example, personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic ELs. Display, inorganic thin film EL dot matrix display, rear projection display, fluorescent display tube (VFD), field emission display (FED; Field Emission Display), or the like, or a protective plate for those displays, or an antireflection film on their surface Treated.
  • CTRs cathode ray tubes
  • LCD liquid crystal displays
  • plasma displays organic ELs.
  • Display inorganic thin film EL dot matrix display, rear projection display, fluorescent display tube (VFD), field emission display (FED; Field Emission Display), or the like, or a protective plate for those displays, or an antireflection film on their surface Treated.
  • VFD fluorescent display tube
  • FED Field Emission Display
  • Articles having a layer obtained by the present disclosure may be, but are not limited to, optical members.
  • optical members include: lenses for eyeglasses; front protective plates for displays such as PDPs and LCDs, antireflection plates, polarizing plates, antiglare plates; for devices such as mobile phones and personal digital assistants.
  • Touch panel sheet disc surface of optical disc such as Blu-ray (registered trademark) disc, DVD disc, CD-R, MO; optical fiber; clock display face.
  • the article having the layer obtained by the present disclosure may be a medical device or a medical material.
  • the thickness of the above layers is not particularly limited.
  • the thickness of the above layer is preferably in the range of 1 to 50 nm, 1 to 30 nm, preferably 1 to 15 nm from the viewpoint of optical performance, surface slipperiness, friction durability and stain resistance. ..
  • composition of the present disclosure for example, a surface treatment agent
  • use, the method of use and the method of manufacturing an article of the polyether group-containing compound or the composition containing the polyether group-containing compound of the present disclosure are not limited to those exemplified above.
  • polyether group-containing compound of the present disclosure will be described more specifically through the following examples, but the present disclosure is not limited to these examples.
  • the order of the repeating units constituting the perfluoropolyether is arbitrary.
  • Example 1 The polyether group-containing compound (B) obtained in Synthesis Example 2 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300 manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration would be 1 mass %, to give the surface treatment agent (1). Prepared.
  • Example 2 The polyether group-containing compound (D) obtained in Synthesis Example 4 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300, manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, to give the surface treatment agent (2). Prepared.
  • Example 3 The polyether group-containing compound (F) obtained in Synthesis Example 6 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300, manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, to give the surface treatment agent (3). Prepared.
  • Example 4 The polyether group-containing compound (H) obtained in Synthesis Example 8 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300, manufactured by 3M Co., Ltd.) to a concentration of 1 mass% to give the surface treatment agent (4). Prepared.
  • Example 5 The polyether group-containing compound (J) obtained in Synthesis Example 10 was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300 manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, and the surface treatment agent (5) was obtained. Prepared.
  • Example 6 The polyether group-containing compound (L) obtained in Synthesis Example 12 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300 manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, to give the surface treatment agent (6). Prepared.
  • Example 7 The polyether group-containing compound (N) obtained in Synthesis Example 14 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300 manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, to give the surface treatment agent (7). Prepared.
  • Example 8 The polyether group-containing compound (P) obtained in Synthesis Example 16 above was dissolved in hydrofluoroether (Novec HFE-7300 manufactured by 3M Co., Ltd.) so that the concentration was 1 mass %, to give the surface treatment agent (8). Prepared.
  • Comparative Examples 1 and 2 Comparative surface treatment agents (1) and (2) were prepared in the same manner as in Example 4 except that the following control compounds (1) and (2) were used in place of the polyether group-containing compound (H). did. Control compound (1) Control compound (2)
  • the static contact angle was measured by the following method using a fully automatic contact angle meter DropMaster700 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). ⁇ Static contact angle measurement method> The static contact angle was determined by dropping 2 ⁇ L of water or n-hexadecane from a microsyringe on a horizontally placed substrate and photographing a still image 1 second after the dropping with a video microscope.
  • a cured film was formed as follows using each of the surface treatment agents (1) to (8) and the comparative surface treatment agents (1) to (2).
  • the surface treatment agent or the comparative surface treatment agent was applied onto chemically strengthened glass (“Gorilla” glass manufactured by Corning, thickness 0.7 mm) using a spin coater.
  • the spin coating conditions were 300 rpm/min for 3 seconds and 2000 rpm/min for 30 seconds.
  • the coated glass was heated at 150° C. for 30 minutes in a constant temperature bath under the atmosphere to form a cured film.
  • Fingerprint adhesion and wipeability> (Fingerprint adhesion) A finger was pressed against the cured film formed using the surface treatment agent or the comparative surface treatment agent, and the ease with which fingerprints were attached was visually determined. The evaluation was judged based on the following criteria. A: Fingerprints were difficult to attach, or even if they were attached, the fingerprints were not noticeable. B: The amount of fingerprints attached was small, but the fingerprints could be sufficiently confirmed. C: Fingerprints were attached as clearly as on the untreated glass substrate.
  • the contact angle of the cured film formed using the surface treatment agents (1) to (8) did not decrease even when wiped with ethanol.
  • the contact angle of the cured film formed using the comparative surface treatment agents (1) and (2) was reduced by wiping with ethanol. It is considered that this is because the cured film formed of the comparative surface treatment agent (1) or (2) has poor chemical resistance (solvent resistance).
  • the surface treatment agents (1) to (8) were shown to be superior to the comparative surface treatment agents.
  • the cured films formed by using the surface treatment agents (1) to (8) were evaluated as good in both fingerprint adhesion and fingerprint wiping performance.
  • the present disclosure can be suitably used for forming a surface treatment layer on the surface of a wide variety of substrates.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

式（Ｉ）で表されるポリエーテル基含有化合物。式（Ｉ）で表される化合物毎に、Ｒ－のうち１または２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒのうち１または２がＲＳｉ－で表される基である。各符号は、明細書の記載のとおりである。

Description

ポリエーテル基含有化合物
　本開示は、ポリエーテル基含有化合物に関する。
　ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
　そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１～２を参照のこと）。
特表２００８－５３４６９６号公報 国際公開第９７／０７１５５号
　本開示の目的は、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物を提供することにある。
　本開示は、以下の［１］～［１７］を提供するものである。
［１］　式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 ［式中：
　Ｒ－のうち１または２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒ－のうち１または２がＲＳｉ－で表される基であり；
　ただし、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基の数、およびＲＳｉ－で表される基の数の合計数は３であり；
　αは、１～９の整数であり；
　Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１～１６のアルキル基を表し；
　ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
　Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表され；
　Ｘｆ１１は、炭素原子数１～６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
　ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表され；
　ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。）
で表される基であり；
　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基であり；
　ＲＳｉ－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）～（Ａ４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 で表される基のいずれかであり；
　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基を表し；
　Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
　β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～９の整数であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数であり；
　Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
　Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
　ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在し；
　Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－を表し；
　Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表し；
　Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義であり；
　Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
　Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
　Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、Ｒｆ３ ｐ３Ｒｆ２ ｐ２Ｒｆ１ ｐ１Ｓｉ－毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
　Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－を表し；
　Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表し；
　Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義であり；
　Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
　Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ３－を表し；
　Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
　ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
　Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－を表し；
　Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
　Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ただし、Ｒｇ３ ｑ３Ｒｇ２ ｑ２Ｒｇ１ ｑ１Ｃ－毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも２つ存在する。］
で表されるポリエーテル基含有化合物。
［２］　Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、（－（Ｒ１１）ｎ１６－）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－、または－Ｒ１３－である、［１］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
　Ｒ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１１－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
　ｎ１１は、１～２０の整数であり；
　Ｒ１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１２－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
　ｎ１２は、１～２０の整数であり；
　ｎ１６は、０または１であり；
　ｎ１７は、０または１であり；
　ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
　Ｘ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－（ＯＲ６１）ｎ１４－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－であり；
　Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり；
　ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１～５の整数であり；
　Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基であり；
　ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり；
　Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり；
　Ｒ１３は、－（ＣＨ２）ｎ１３－を表し；
　ｎ１３は、１～２０の整数である。］
［３］　αが２である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［４］　αが１である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［５］　Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５が、各出現においてそれぞれ独立して、（－（Ｒ７１）ｎ２１－）２Ｎ－（Ｒ７２）ｎ２２－、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、－Ｒ７３－、または－Ｙ－Ｏ－である、［１］～［４］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
　Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２３－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し；
　ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり；
　Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２４－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し；
　ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり；
　ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
　Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－（ＯＲ７４）ｎ２５－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－であり；
　Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり；
　ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１～５の整数であり；
　Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し；
　ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
　Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり；
　Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｎ２７－を表し；
　ｎ２７は、１～２０の整数であり；
　Ｙは、２～６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。］
［６］　ｍ１が、２または３である、［１］～［５］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［７］　ｍ１が、３である、［１］～［６］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［８］　ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、［１］～［７］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［９］　式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、［１］～［８］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１０］　β１、β２、β３、またはβ４が、１である、［１］～［９］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１１］　Ｒｆが、炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基である、［１］～［１０］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１２］　ＰＥが、以下の式（ａ）～（ｃ）のいずれか：
　　－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－　　　（ａ）
［式中、ｄは１～２００の整数である。］
　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　　（ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－　　（ｃ）
［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
　Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］
で表される基である、［１］～［１１］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１３］　［１］～［１２］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
［１４］　さらに溶媒を含む、［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１３］または［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］　基材と、該基材の表面に、［１］～［１２］のいずれかに記載のポリエーテル基含有化合物または［１３］～［１５］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］　前記物品が光学部材である、［１６］に記載の物品。
　本開示によれば、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物が提供される。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１～２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、Ｃ２－６アルキニル基、Ｃ３－１０シクロアルキル基、Ｃ３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
　本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
　本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、－ＯＲａ１、－ＯＣＯＲａ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲａ１ ２、－ＮＲａ１ ２、－ＮＨＲａ１、ハロゲン（これら式中、Ｒａ１は、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲａ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒａ１の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
　本開示のポリエーテル基（以下、「ＰＥ」と称することがある）含有化合物は、式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 で表される。
　本開示のポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｉ）のように、分子構造内にトリアジン環を有する。本開示のポリエーテル基含有化合物は、電子密度の高い環構造であって、６員環を形成する有機化合物のなかで最も小さな環構造を有することから、アニオン化合物の求核置換反応が起こりにくく、例えばアルカリ条件下でも安定に存在し得る。また、トリアジン環の炭素－水素結合をエーテル結合やエステル結合に置換した場合、酸やアルカリ存在下における加水分解を受けにくい。更に、トリアジン環は、耐熱性、および紫外線（ＵＶ）に対する耐久性が良好であることから、本開示のポリエーテル基含有化合物の耐熱性、およびＵＶ耐久性が良好になり得る。
　式（Ｉ）において、Ｒ－は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基、または、ＲＳｉ－で表される基である。
　Ｒのうち１または２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒのうち１または２がＲＳｉ－で表される基である。ただし、（Ｒｆ－ＰＥ）α－Ｘ１－で表される基の数、および、ＲＳｉ－で表される基の数の合計数は３である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層であり、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
　好ましくは、Ｒのうち１または２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、Ｒのうち１または２がＲＳｉ－で表される基である。ただし、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基の数、およびＲＳｉ－で表される基の数の合計数は３である。
　一の態様において、Ｒのうち１が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒのうち２がＲＳｉ－で表される基である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。上記のような構造により、本開示のポリエーテル基含有化合物は、分子間の結合を形成し得、さらに、形成される表面処理層の基材への結合能が良好になり得る。
　一の態様において、Ｒのうち２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒのうち１がＲＳｉ－で表される基である。このような構造を有することにより、ポリエーテル基含有化合物一分子あたりのポリエーテル鎖の含量が高くなる為、本開示のポリエーテル基含有化合物は、高い撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有し、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
［（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基］
　本開示のポリエーテル基含有化合物は、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基を有する。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物を用いて形成される層の撥水性、撥油性、耐ケミカル性（例えば、塩水、酸または塩基性水溶液、アセトン、オレイン酸またはヘキサンに対する耐久性）、ＵＶ耐久性等が良好になり得る。
　Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１～１６のアルキル基を表す。
　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１～１６のアルキル基における「炭素原子数１～１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１～６、特に炭素原子数１～３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１～３のアルキル基である。
　上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素原子数１～１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ－Ｃ１－１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素原子数１～１６のパーフルオロアルキル基である。
　該炭素原子数１～１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１～６、特に炭素原子数１～３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１～３のパーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ３、－ＣＦ２ＣＦ３、または－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
　上記式中、ＰＥは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基である。
　式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。本明細書において、ＰＥとして記載している基は、左がＸｆ１に、右がＸｆ２に、それぞれ結合する。
　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ５Ｆ１０）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－（即ち、上記式中、Ｘ１０はフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。また、－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
　一の態様において、上記ＰＥは、－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、上記ＰＥは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ－（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、上記ＰＥは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
　一の態様において、上記ＰＥは、好ましくは－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－であり、ｄは１０以上１００以下の整数、より好ましくはｄは１５以上５０以下の整数、さらに好ましくはｄは２５以上３５以下の整数である。
　別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＥは、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－である。一の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－で表される基である。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ３Ｆ６、およびＯＣ４Ｆ８から選択される基である。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｇは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＥは、好ましくは、－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ３Ｆ６）ｇ－または－（ＯＣ２Ｆ４－ＯＣ４Ｆ８）ｇ－である。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基である。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　ＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９５以下であり、より好ましくは、０．２以上０．９以下である。
　一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．９未満、好ましくは０．８以下、０．７以下であり、０．６５以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、例えば０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．５５以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．８以下を挙げることができる。上記のようなｅ／ｆ比を有することにより、本開示の表面処理剤は、より良好な滑り性を有する表面処理層を形成し得る。
　一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．４以上０．７以下であってもよく、０．５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．６５以下であってもよい。
　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、１．０以上が好ましく、１．０以上２．０以下であることがより好ましい。
　一の態様において、上記式中、ＰＥは、各出現において独立して、
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり、かつ、ポリエーテル基中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、本態様において、上記ＰＥは、少なくとも１のＣＦ３末端（具体的には、－ＣＦ３、－Ｃ２Ｆ５等、より具体的には－ＣＦ３）を有する。なお、上記ＰＥは、上記式の左末端の酸素原子がＲｆ基に結合する。このような構造のポリエーテル基を有することにより、ポリエーテル基含有化合物（あるいは、ポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤）を用いて形成された層（例えば表面処理層）の紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等がより良好になり得る。
　上記式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
　ＰＥで表される基中、分岐構造を少なくとも５有することが好ましく、１０有することがより好ましく、２０有することが特に好ましい。
　ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数（例えば、上記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和）１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は４０以上であることが好ましく、６０以上であることがより好ましく、８０以上であることが特に好ましい。ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は１００以下であってもよく、例えば９０以下であってもよい。
　ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、４０～１００の範囲にあることが好ましく、６０～１００の範囲にあることがより好ましく、８０～１００の範囲にあることが特に好ましい。
　上記分岐構造における分岐鎖としては、例えばＣＦ３を挙げることができる。
　分岐構造を有する繰り返し単位としては、例えば、－（ＯＣ６Ｆ１２）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等を挙げることができる。－（ＯＣ５Ｆ１０）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－等を挙げることができる。－（ＯＣ４Ｆ８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－を挙げることができる。－（ＯＣ３Ｆ６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－および－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－を挙げることができる。－（ＯＣ２Ｆ４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ３））－を挙げることができる。
　上記ＰＥは、分岐構造を有する繰り返し単位とともに、直鎖状の繰り返し単位を含み得る。直鎖状の繰り返し単位としては、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－を挙げることができる。
　好ましくは、上記ＰＥで表される基中、繰り返し単位－（ＯＣ６Ｆ１２）－、－（ＯＣ５Ｆ１０）－、－（ＯＣ４Ｆ８）－、および－（ＯＣ３Ｆ６）－が分岐構造を有する。
　より好ましくは、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ６Ｆ１２、ＯＣ５Ｆ１０、ＯＣ４Ｆ８、およびＯＣ３Ｆ６からなる。
　一の態様において、上記ＰＥは、－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、ＰＥ中に少なくとも１の分岐構造を有する。
　本態様において、ＰＥで表される基は、さらに、直鎖状の繰り返し単位－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－を含んでいてもよい。
　上記態様において、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ３Ｆ６からなることが好ましい。上記ＰＥは、式：－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄで表されることがより好ましい。上記式中、ｄは１以上２００以下であり、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である。
　別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、ＰＥで表される基中に少なくとも１の分岐構造を有する。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（Ｒ６－Ｒ７）ｊ－で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６－、－ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４－、および－ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４－等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、分岐構造を有することが好ましい。
　より好ましくは、上記態様において、ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ６Ｆ１２、ＯＣ５Ｆ１０、ＯＣ４Ｆ８、およびＯＣ３Ｆ６からなる。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　さらに別の態様において、ＰＥは、－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。
　上記ポリエーテル基含有化合物において、－ＰＥ－部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。
　別の態様において、－ＰＥ－部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。
　別の態様において、－ＰＥ－部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。
　αは、１～９の整数である。αは、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、αは９である。Ｘ１が単結合である場合、αは１である。
　Ｘ１は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフッ素を含有するポリエーテル部（ＰＥで表されるポリエーテル基部分）とトリアジン環とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ｉ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの有機基であってもよい。
　Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基である。なお、Ｘｆ１として記載している基は、左側がＲｆで表される基に、右側がＰＥで表される基に、それぞれ結合する。
　Ｘｆ１１は、炭素原子数１～６のアルキレン基、好ましくは１～３のアルキレン基、より好ましくは１～２のアルキレン基、例えばメチレン基である。
　Ｘｆ１１において、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されていてもよい。Ｘｆ１１は、好ましくは、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されたアルキレン基であり、より好ましくは、パーフルオロアルキレン基である。Ｘｆ１１は、直鎖状であってもよく、分岐鎖を有していてもよい。好ましくは、Ｘｆ１１は、直鎖状である。
　Ｘｆ１１の具体例としては、例えば、－ＣＦ２－、－Ｃ２Ｆ４－、－Ｃ３Ｆ６－、－Ｃ４Ｆ８－、－Ｃ５Ｆ１０－または－Ｃ６Ｆ１２－のようなパーフルオロアルキレン基；－ＣＨＦ－、のような一部の水素原子がフッ素原子に置換されたフルオロアルキレン基を挙げることができる。
　－Ｃ６Ｆ１２－は、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－等であってもよいが、好ましくは－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。－Ｃ５Ｆ１０－は、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－等であってもよいが、好ましくは－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。－Ｃ４Ｆ８－は、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－、－Ｃ（ＣＦ３）２ＣＦ２－、－ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２－、－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３）－、－ＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２－および－ＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５）－のいずれであってもよいが、好ましくは－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。－Ｃ３Ｆ６－は、－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－、－ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２－および－ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）－のいずれであってもよいが、好ましくは－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－である。また、－Ｃ２Ｆ４－は、－ＣＦ２ＣＦ２－および－ＣＦ（ＣＦ３）－のいずれであってもよい。
　Ｘｆ１は、より好ましくは、－ＣＦ２－、－ＣＦ２ＣＦ２－、または－ＣＦ（ＣＦ３）－であり、さらに好ましくは、－ＣＦ２－、または－ＣＦ２ＣＦ２－であり、特に好ましくは－ＣＦ２－である。
　Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基である。
　ｚは、各出現においてそれぞれ独立して０または１であり、ｙは、各出現においてそれぞれ独立して０または１である。具体的には、ｚが０かつｙが０；ｚが０かつｙが１；ｚが１かつｙが０；ｚが１かつｙが１である。
　好ましくは、ｚとｙとの合計は、０または１である。
　なお、ｙが０のとき、Ｘｆ２で表される基は単結合であり；ｚが０のとき、Ｘｆ１で表される基は単結合である。
　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ１は、窒素原子である。本態様においては、上記（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基は、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）２－Ｎ－で表される。
　一の態様において、Ｘ１は、２～１０価の有機基である。
　Ｘ１は、好ましくは２～７価であり、より好ましくは２～４価であり、さらに好ましくは２～３価の有機基である。
　一の態様において、Ｘ１は、３～１０価の有機基であり得、αは２～９である。
　一の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、αは１である。
　一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、該２価の有機基は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＯＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯＯ－である。
　一の態様において、Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、（－（Ｒ１１）ｎ１６－）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－、または－Ｒ１３－で表される３価または２価の有機基である。
　例えば、Ｘ１が、（－（Ｒ１１）ｎ１６－）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－で表されるとき、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基は、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－（Ｒ１１）ｎ１６）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－で表され；Ｘ１が－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表されるとき、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基は、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表され；Ｘ１が－Ｒ１３－で表されるとき、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基は、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｒ１３－で表される。
　Ｘ１は、好ましくは（－（Ｒ１１）ｎ１６－）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－、または－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表される基であり、より好ましくは－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表される基である。
　Ｒ１１は、ポリエーテル基（ＰＥで表される基）側に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ１１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に結合する。
　Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１１－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１１－であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない－（ＣＨ２）ｎ１１－である。
　ｎ１１は、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらに好ましくは１または２である。
　Ｒ１２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ１２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１２－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１２－であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない－（ＣＨ２）ｎ１２－である。
　ｎ１２は、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１である。
　ｎ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり、ｎ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ１６が０、かつｎ１７が１、または、ｎ１６が１、かつｎ１７が０であり、より好ましくは、ｎ１６が１、かつｎ１７が０である。
　Ｘ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－（ＯＲ６１）ｎ１４－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－である。
　Ｘ１１は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＮＲ３－で表される基であり、より好ましくは、－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）で表される基である。
　なお、本明細書において、Ｘ１１として記載している構造の左側がＲ１１で表される基に、右側がＲ１２で表される基に、それぞれ結合する。
　Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
　例えば、Ｒ３が水素原子の場合、上記のＸ１１の列挙の中で、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、または－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－は、それぞれ、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯＯ－、または－ＯＣＯＮＨ－である。
　Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１－３のアルキレン基である。
　Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
　ｎ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～５の整数であり、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは１である。
　ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数である。
　ここで、Ｘ１１の水素原子は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　Ｒ１３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｎ１３－である。ここで、ｎ１３は、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数、より好ましくは１～３の整数である。
　好ましい態様において、Ｘ１は、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表される基であり、ｎ１６が１、ｎ１７が０である。Ｘ１１は－Ｏ－または－ＮＨ－であることが好ましく、Ｒ１１は－（ＣＨ２）ｎ１１－、ｎ１１は１～３の整数であることが好ましい。ｎ１１は１または２であることがより好ましい。
　Ｘ１の具体的な例としては、
単結合、
－Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－ＣＦ２ＣＨ２－Ｏ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＦ２ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＦ２ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＦ２ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＦ２ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＦ２ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＨ－、
－ＣＨ２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＦ２ＮＨ－、
－ＣＦ２ＣＨ２－ＮＨ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＮＣＨ３－
－ＣＨ２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）３－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＨ２－
－（ＣＨ２）２－
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－ＣＦ２ＣＨ２－
－ＣＦ２（ＣＨ２）２－
－ＣＦ２（ＣＨ２）３－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）４－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）５－、
－ＣＦ２（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－、
－ＣＨ２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）３－Ｓ－、
－ＳＯ２ＮＨ－、
－ＳＯ２ＮＣＨ３－、
－ＳＯ２－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｏ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
［ＲＳｉ－で表される基］
　本開示のポリエーテル基含有化合物は、ＲＳｉ－で表される基を有する。ＲＳｉ－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ａ１）～（Ａ４）表される末端に水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基のいずれかである。本開示の化合物は、上記のような基を有することにより、基材への結合能が良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
　式（Ａ１）～（Ａ４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000006
　式（Ａ１）について以下に説明する。
　β１は、１～９の整数である。β１は、Ｘａ１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ１が１０価の有機基である場合、β１は９である。Ｘａ１が単結合である場合、β１は１である。
　Ｘａ１は、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基を表す。Ｘａ１は、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ１として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　一の態様において、Ｘａ１は、２価の有機基であり、該２価の有機基は、－ＣＯＮＨ－、－ＮＨＣＯ－、－ＮＨＣＯＮＨ－、－ＯＣＯＮＨ－、または－ＮＨＣＯＯ－である。
　好ましくは、Ｘａ１は、（－（Ｒ７１）ｎ２１－）２Ｎ－（Ｒ７２）ｎ２２－、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、－Ｒ７３－、または－Ｙ－Ｏ－で表される３価または２価の有機基である。
　例えば、Ｘａ１が、（－（Ｒ７１）ｎ２１－）２Ｎ－（Ｒ７２）ｎ２２－で表されるとき、Ｒ７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸａ１に含まれる窒素原子とを連結し、Ｒ７２は、Ｘａ１に含まれる窒素原子と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表されるとき、Ｒ７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸ３で表される基とを連結し、Ｒ７２は、Ｘ３で表される基と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が－Ｒ７３－で表されるとき、Ｒ７３は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基と、式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘａ１が、－Ｙ－Ｏ－で表されるとき、Ｏは、Ｙとトリアジン環とを連結する。
　Ｘａ１は、好ましくは、（－（Ｒ７１）ｎ２１－）２Ｎ－（Ｒ７２）ｎ２２－、または－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基であり、より好ましくは－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基である。
　Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２３－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２３－であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない－（ＣＨ２）ｎ２３－である。
　ここで、ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。なお、本明細書において、Ｒ７１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に結合する。
　Ｒ７２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ７２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２４－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２４－であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない－（ＣＨ２）ｎ２４－である。
　ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。
　ｎ２１は０または１であり、ｎ２２は０または１である。ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ２１が０、かつｎ２２が１、または、ｎ２１が１、かつｎ２２が０であり、より好ましくは、ｎ２１が１、かつｎ２２が０である。
　Ｘ３は、－Ｏ－、－（ＯＲ７４）ｎ２５－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－である。
　Ｘ３は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、―Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ－、または－ＮＲ３－で表される基であり、より好ましくは、－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）で表される基である。
　なお、本明細書において、Ｘ３として記載している構造の左側がＲ７１で表される基に、右側がＲ７２で表される基に、それぞれ結合する。
　Ｒ３は、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
　Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ１－３のアルキレン基である。
　Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
　ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１～５の整数であり、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは１である。
　ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数である。
　Ｘ３の水素原子は、フッ素原子、Ｃ１－３アルキル基およびＣ１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　Ｒ７３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｎ２７－である。ここで、ｎ２７は、１～２０の整数であり、好ましくは、１～６の整数、より好ましくは１～３の整数である。
　上記Ｙは、酸素原子とＳｉ原子を結合する２～６価、好ましくは２～４価、より好ましくは２価の有機基であり、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。好ましくは、Ｙは、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。
　上記Ｙとして、具体的には、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等の炭素原子数２～１０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素原子数６～８のアリーレン基を含む炭素原子数２～８のアルキレン基（例えば、炭素原子数８～１６のアルキレン・アリーレン基等）、ジメチルシリレン基やジエチルシリレン基等のジオルガノシリレン基を含む炭素原子数２～６のアルキレン基、炭素原子数２～８のアルキレン基相互が炭素原子数１～４のシルアルキレン構造または炭素原子数６～１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２～１０個、好ましくは２～５個の直鎖状、分岐状または環状の２～６価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２～６のアルキレン基、ケイ素原子数２～１０個、好ましくは２～５個の直鎖状、分岐状または環状の２～６価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２～１０のアルキレン基が結合している２～６価の基などが挙げられ、好ましくは炭素原子数３～１０のアルキレン基、フェニレン基を含む炭素原子数２～６のアルキレン基、ジメチルシリレン基を含む炭素原子数２～６のアルキレン基、炭素原子数２～４のアルキレン基相互が炭素原子数１～４のシルアルキレン構造または炭素原子数６～１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２～１０個の直鎖状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２～６のアルキレン基、ケイ素原子数２～１０個の直鎖状またはケイ素原子数３～１０個の分岐状もしくは環状の２～４価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２～１０のアルキレン基が結合している２～４価の基であり、さらに好ましくは炭素原子数３～６のアルキレン基である。
　Ｙの具体的な構造としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下の例示の２価の基において、Ｙとして記載している構造の左側が、－Ｙ－Ｏ－で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合し；２以上の結合手を有する基においては、少なくとも１の結合手がβ１を付して括弧で括られた基と結合し、少なくとも１の結合手が－Ｙ－Ｏ－で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　Ｘａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、または－Ｒ７３－で表される基であり、より好ましくは、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基である。ｎ２１は１であり、ｎ２２は０であり、Ｒ７１は－（ＣＨ２）ｎ２３－（ｎ２３は、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）であり、Ｒ７３は－（ＣＨ２）ｎ２７－（ｎ２７は、１～６の整数、好ましくは１～３の整数）であることが好ましい。
　Ｘａ１の具体的な例としては、
単結合、
－Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＨ－、
－ＣＨ２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＮＣＨ３－
－ＣＨ２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）３－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＨ２－
－（ＣＨ２）２－
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－、
－ＣＨ２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）３－Ｓ－、
－ＳＯ２ＮＨ－、
－ＳＯ２ＮＣＨ３－、
－ＳＯ２－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｏ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
　Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表す。Ｘａ２は、好ましくは、炭素原子数１～２０のアルキレン基であり、より好ましくは、－（ＣＨ２）ｕ－（式中、ｕは、０～２の整数である）である。
　ｔは、それぞれ独立して、２～１０の整数である。好ましい態様において、ｔは２～６の整数である。
　Ｒ３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
　Ｒ３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１～２０のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　一の態様において、Ｒ３２は、炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。加水分解可能な基は上記と同意義である。
　Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１～６のアルキル基、より好ましくはメチル基である。
　式（Ａ１）において、ｍ１は、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）単位毎に独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在する。即ち、すべてのｍ１が同時に０になることはない。
　式（Ａ１）中、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。言い換えると、式（Ａ１）において、ｍ１が１以上のＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも２存在することが好ましい。
　式（Ａ１）中、好ましくはｍ１が２または３、より好ましくはｍ１が３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１存在する。
　好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は１～３の整数であり、さらに好ましくは、２または３である。
　より好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は３である。言い換えると、式（Ａ１）において、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－で表される基は、Ｒａ ３Ｓｉ－で表される。
　式（Ａ２）について以下に説明する。
　β２は、１～９の整数である。β２は、Ｘａ３の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ３が１０価の有機基である場合、β２は９である。Ｘａ３が単結合である場合、β２は１である。
　Ｘａ３は、単結合または２～１０価の有機基を表し、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　Ｘａ３は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ２）」に、「β１」は「β２」にそれぞれ読み替えることとする。
　特に好ましいＸａ３としては、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、または－Ｒ７３－で表される基を挙げることができ、より好ましくは、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は－（ＣＨ２）ｎ２３－（ｎ２３は、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）、Ｒ７３は－（ＣＨ２）ｎ２７－（ｎ２７は、１～６の整数、好ましくは１～３の整数）であることが好ましい。
　Ｘａ３の具体的な例としては、
単結合、
－Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＨ－、
－ＣＨ２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＮＣＨ３－
－ＣＨ２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）３－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＨ２－
－（ＣＨ２）２－
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－、
－ＣＨ２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）３－Ｓ－、
－ＳＯ２ＮＨ－、
－ＳＯ２ＮＣＨ３－、
－ＳＯ２－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｏ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ３として記載している構造の左側がβ２を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
　式（Ａ２）において、ｍ１は、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）単位毎に独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ２）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在する。
　式（Ａ２）において、好ましくは、ｍ１は１～３であり、さらに好ましくは、２または３である。
　より好ましくは、式（Ａ２）において、ｍ１は３である。言い換えると、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－で表される基は、Ｒａ ３Ｓｉ－で表される。
　式（Ａ３）について以下に説明する。
　β３は、１～９の整数である。β３は、Ｘａ４の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ４が１０価の有機基である場合、β３は９である。Ｘａ４が単結合である場合、β３は１である。
　Ｘａ４は、単結合または２～１０価の有機基を表し、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ４として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　Ｘａ４は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ３）」に、「β１」は「β３」にそれぞれ読み替えることとする。
　特に好ましいＸａ４としては、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、または－Ｒ７３－で表される基を挙げることができ、より好ましくは、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は－（ＣＨ２）ｎ２３－（ｎ２３は、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）、Ｒ７３は－（ＣＨ２）ｎ２７－（ｎ２７は、１～６の整数、好ましくは１～３の整数）であることが好ましい。
　Ｘａ４の具体的な例としては、
単結合、
－Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＨ－、
－ＣＨ２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＮＣＨ３－
－ＣＨ２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）３－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＨ２－
－（ＣＨ２）２－
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－、
－ＣＨ２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）３－Ｓ－、
－ＳＯ２ＮＨ－、
－ＳＯ２ＮＣＨ３－、
－ＳＯ２－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｏ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ４として記載している構造の左側がβ３を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
　Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－を表す。
　Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ１として記載している構造の左側が、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－で表される基に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
　上記Ｚ１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
　上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｌ１１－Ｏ－（ＣＨ２）ｌ１２－（式中、ｌ１１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｌ１２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ１３－（式中、ｌ１３は、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　一の態様において、Ｚ１は、Ｃ１－６アルキレン基または－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ３－であり得る。Ｚ１が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３は、０～６の整数である。
　上記態様において、好ましくは、上記Ｚ１は、Ｃ１－６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ１－３アルキレン基である。
　Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表す。Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義である。
　Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒｆ１において、Ｒ４１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｆ１中にＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒｆ１中において直鎖状に連結される－Ｚ１－Ｓｉ－の繰り返し数と等しくなる。
　例えば、下記にＲｆ１中においてＺ１基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ１Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ１Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ１基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺ１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺ１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、Ｚ１Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
　好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一の態様において、Ｒｆ１中のＺ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
　Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　好ましくは、Ｒ４２は、加水分解可能な基であり、より好ましくは、－ＯＲａ１（式中、Ｒａ１は、置換または非置換のＣ１－３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
　Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１～２０のアルキル基であり、さらにに好ましくは水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　一の態様において、Ｒ４３は、炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３である。
　Ｒｆ１中の末端のＲｆ１’（Ｒｆ１’が存在しない場合、Ｒｆ１）において、上記ｒ２は、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
　Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
　Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１～２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　一の態様において、Ｒｆ３は、炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３である。
　式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
　好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部の少なくとも１つは、Ｒ４２ ｒ２’Ｒ４３ ｒ３’（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）２Ｓｉ－（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３、ｒ２’とｒ３’との合計値が１）、または（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）３Ｓｉ－（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）であり、好ましくは（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）３Ｓｉ－（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）である。ここで、ｒ２は１～３の整数であり、好ましくは、２または３である。式中、（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）の単位は、好ましくは（Ｒ４２ ３Ｓｉ－Ｚ１－）である。さらに好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部は、すべて（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１）３－Ｓｉ－、より好ましくは（Ｒ４２ ３Ｓｉ－Ｚ１）３－Ｓｉ－であり得る。
　一の態様において、ｐ１は、１～３の整数であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることが特に好ましい。本態様において、ｒ２が１～３であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。
　一の態様において、ｐ１は、１～３の整数であり、かつ、ｒ２は、２または３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがさらに好ましい。
　一の態様において、ｐ１は、１～３の整数であり、かつ、ｒ２は、３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、３であることがさらに好ましい。
　一の態様において、ｐ１は、１～３の整数であり、Ｚ１は、２価の有機基である。好ましくは、上記Ｚ１は、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。より好ましくは、上記Ｚ１は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｌ１１－Ｏ－（ＣＨ２）ｌ１２－（式中、ｌ１１は、１～６の整数であり、ｌ１２は、１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ１３－（式中、ｌ１３は、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。
　なお、式（Ａ２）で表される化合物と、式（Ａ３）で表される化合物とが重複する場合、式（Ａ２）で表される化合物を優先する。
　式（Ａ４）について以下に説明する。
　β４は、１～９の整数である。β４は、Ｘａ５の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘａ５が１０価の有機基である場合、β４は９である。Ｘａ５が単結合である場合、β４は１である。
　Ｘａ５は、単結合または２～１０価の有機基を表し、好ましくは２～７価、より好ましくは２～４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘａ５として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
　Ｘａ５は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘａ５に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ４）」に、「β１」は「β４」にそれぞれ読み替えることとする。
　特に好ましいＸａ５としては、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、または－Ｒ７３－で表される基を挙げることができ、より好ましくは、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－で表される基である。式中、ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ７１は－（ＣＨ２）ｎ２３－（ｎ２３は、１～６の整数であり、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ３は－Ｏ－、または－ＮＲ３－（例えば、－ＮＨ－）、Ｒ７３は－（ＣＨ２）ｎ２７－（ｎ２７は、１～６の整数、好ましくは１～３の整数）である。
　Ｘａ５の具体的な例としては、
単結合、
－Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）２－Ｏ－、
－（ＣＨ２）３－Ｏ－、
－（ＣＨ２）４－Ｏ－、
－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＯＣ（＝Ｏ）－、
－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、
－ＮＨＣＨ２－Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＣＨ２－ＮＣＨ３Ｃ（＝Ｏ）－、
－ＮＨ－、
－ＣＨ２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）２－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）３－ＮＨ－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＮＣＨ３－
－ＣＨ２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）２－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）３－ＮＣＨ３－、
－（ＣＨ２）４－ＮＨ－、
－ＣＨ２－
－（ＣＨ２）２－
－（ＣＨ２）３－、
－（ＣＨ２）４－、
－（ＣＨ２）５－、
－（ＣＨ２）６－、
－Ｓ－、
－ＣＨ２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）２－Ｓ－、
－（ＣＨ２）３－Ｓ－、
－ＳＯ２ＮＨ－、
－ＳＯ２ＮＣＨ３－、
－ＳＯ２－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｏ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ－、
－ＣＨ２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
－ＣＨ２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘａ５として記載している構造の左側がβ４を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。
　Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－を表す。
　Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ２として記載している構造の左側が、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－で表される基に含まれる“Ｃ”原子に結合する。
　上記Ｚ２は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ４）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒｇ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
　上記Ｚ２は、好ましくは、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｌ２１－Ｏ－（ＣＨ２）ｌ２２－（式中、ｌ２１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｌ２２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ２３－（式中、ｌ２３は、０～６の整数である）であり、より好ましくはＣ１－３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表す。Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義である。
　Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｇ１において、Ｒ５１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｇ１中にＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｇ１中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｇ１中において直鎖状に連結される－Ｚ２－Ｃ－の繰り返し数と等しくなる。
　好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｇ１中のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　一の態様において、Ｒｇ１のＺ２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
　Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ３－を表す。
　Ｒａ、およびＲｂは、それぞれ上記と同意義である。
　式（Ａ４）において、ｍ１は、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）単位毎に独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ａ４）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも２つ存在する。
　Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ３で表される基は、左側がＲ５２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
　一の態様において、Ｚ３は酸素原子である。
　一の態様において、Ｚ３は２価の有機基である。
　好ましい態様において、Ｚ３は、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｌ３１－Ｏ－（ＣＨ２）ｌ３２－（式中、ｌ３１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｌ３２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ３３－（式中、ｌ３３は、０～６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　一の態様において、Ｚ３は、Ｃ１－６アルキレン基または－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ３３－であり得る。Ｚ３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３は、０～６の整数である。
　好ましくは、上記Ｚ３は、Ｃ１－６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ２－３アルキレン基である。
　Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１～２０のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　一の態様において、Ｒ５３は、炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。
　ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３である。
　Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－を表す。なお、Ｚ４で表される基は、左側がＲｇ２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。
　Ｒａ、およびＲｂは、上記と同意義である。
　一の態様において、Ｚ４は酸素原子である。
　一の態様において、Ｚ４は２価の有機基である。
　好ましい態様において、Ｚ４は、Ｃ１－６アルキレン基、－（ＣＨ２）ｌ３１’－Ｏ－（ＣＨ２）ｌ３２’－（式中、ｌ３１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｌ３２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ３３’－（式中、ｌ３３’は、０～６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１－６アルキル基、Ｃ２－６アルケニル基、およびＣ２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
　一の態様において、Ｚ４は、Ｃ１－６アルキレン基または－フェニレン－（ＣＨ２）ｌ３３’－であり得る。Ｚ４が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３’は、０～６の整数である。
　好ましくは、上記Ｚ４は、Ｃ１－６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ２－３アルキレン基である。
　Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、より好ましくは、水素原子、水酸基または炭素原子数１～２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子、水酸基または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基）である。
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒｇ３ ｑ３Ｒｇ２ ｑ２Ｒｇ１ ｑ１Ｃ－毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３である。
　一の態様において、少なくとも１のｑ１は１～３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
　一の態様において、ｑ１は１～３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。
　一の態様において、ｑ２は２または３であり、好ましくは３である。
　式（Ａ４）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２存在することが好ましい。即ち、式（Ａ４）において、Ｒ５２（ただし、該Ｒ５２において、ｍ１は１～３の整数）またはＲｇ２（ただし、、該Ｒｇ２において、ｍ１は１～３の整数）が少なくとも２存在することが好ましい。言い換えると、式（Ａ４）において、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。ｍ１は、より好ましくは２または３であり、さらに好ましくは３である。このような構成を有することにより、ポリエーテル基含有化合物は、より良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば土壌や指紋等の汚れの付着を防止する）、耐熱性、高い摩擦耐久性、耐加水分解性、耐ケミカル性、防湿性、防曇性等、特に、良好な紫外線耐久性、高い摩擦耐久性、耐ケミカル性等を有する表面処理層を形成し得る。
　式（Ａ４）において、好ましくは、Ｒｇ３（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）２－Ｃ－または（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）３－Ｃ－で表される基が存在し、より好ましくは（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）３－Ｃ－で表される基が存在する。ここで、ｍ１は１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。
　式（Ａ４）において、好ましくは、ｍ１は１～３であり、より好ましくは３である。
　一の態様において、式（Ａ４）において、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－）の単位は、Ｒａ ２ＲｂＳｉ－またはＲａ ３Ｓｉ－であり、好ましくはＲａ ３Ｓｉ－である。
　式（Ａ４）において、好ましくは、ｑ２が１～３の整数であり、ｍ１が１～３の整数である。
　一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が１～３の整数であり、ｍ１が２または３、より好ましくは、ｑ２が１～３の整数であり、ｍ１が３である。
　一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が２または３であり、ｍ１が１～３の整数、より好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が１～３の整数であり、さらに好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が３である。
　好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
　Ｒのうち１がＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、Ｒのうち２がＲＳｉ－で表される基であり；
　ＲＳｉ－で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ）３－Ｘａ３－で表される基、（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）３－Ｓｉ－Ｘａ４－で表される基、または（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－）３－Ｃ－Ｘａ５－で表される基である。
［式中：
　Ｒｆが、炭素原子数１～６のパーフルオロアルキル基を表し；
　Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基であり；
　Ｘｆ１１は、炭素原子数１～６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
　ｚは、０であり；
　ＰＥは、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
　Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙ、または（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基であり；
　ｙは、０または１であり；
　Ｘ１は、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－で表される基であり；
　Ｒ１１は、－（ＣＨ２）ｎ１１－で表され；
　ｎ１１は、１～３の整数であり、好ましくは１または２であり；
　ｎ１６は、１であり；
　Ｘ１１は、－Ｏ－または－ＮＨ－であり
　ｎ１７は、０であり；
　Ｘａ３、Ｘａ４またはＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－であり；
　Ｒ７１は、－（ＣＨ２）ｎ２３－であり（ｎ２３は、１～３の整数、より好ましくは１または２である）；
　ｎ２１は１であり；
　Ｘ３は、－Ｏ－、または－ＮＨ－で表される基であり；
　ｎ２２は、０であり；
　Ｚ１は、Ｃ１－３アルキレン基であり；
　Ｚ４は、Ｃ１－３アルキレン基であり；
　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒｂは、メチル基であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数、好ましくは３であり；
　Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
　ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］
　上記態様において、より好ましくは、ＲＳｉ－で表される基が、同一の構造を有する。例えば、ＲＳｉ－で表される基は、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－）３－Ｃ－Ｘａ５－で表される基である。
　別の好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
　Ｒのうち２がＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、Ｒのうち１がＲＳｉ－で表される基であり；
　ＲＳｉ－で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ）３－Ｘａ３－で表される基、（Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－）３－Ｓｉ－Ｘａ４－で表される基、または（Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－）３－Ｃ－Ｘａ５－で表される基である。
［式中：
　Ｒｆが、炭素原子数１～６のパーフルオロアルキル基を表し；
　Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表される基であり；
　Ｘｆ１１は、炭素原子数１～６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
　ｚは、０であり；
　ＰＥは、式：
－（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
　Ｘｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ）ｙ、または（ＮＨ）ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）ｙで表される基であり；
　ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　Ｘ１は、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７で表される基であり；
　Ｒ１１は、－（ＣＨ２）ｎ１１－で表され；
　ｎ１１は、１～３の整数であり、好ましくは１または２であり；
　ｎ１６は、１であり；
　Ｘ１１は、－Ｏ－または－ＮＨ－であり
　ｎ１７は、０であり；
　Ｘａ３、Ｘａ４またはＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－であり；
　Ｒ７１は、－（ＣＨ２）ｎ２３－であり（ｎ２３は、１～３の整数、より好ましくは１または２である）；
　ｎ２１は１であり；
　Ｘ３は、－Ｏ－、または－ＮＨ－で表される基であり；
　ｎ２２は、０であり；
　Ｚ１は、Ｃ１－３アルキレン基であり；
　Ｚ４は、Ｃ１－３アルキレン基であり；
　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
　Ｒｂは、メチル基であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数、好ましくは３であり；
　Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
　Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１～６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
　ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］
［組成物］
　本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、溶媒、含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤、ゾルーゲル、炭化水素系重合体、含フッ素重合体、ラジカル補足剤、無機多孔質、脱水剤、または脱ハロゲン化合物等を含み得る。
　上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ガルデンＨＴ　ＰＦＰＥ、ＡＥ－３０００、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ｍ－ヘキサフルオロメタキシレン、ヘキサフルオロベンゼン、パーフルオロヘキサン等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。
　別の態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、および水からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
　含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）としては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ５－（ＯＣ４Ｆ８）ａ’－（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’－（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’－（ＯＣＦ２）ｄ’－Ｒｆ６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５及びＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ４Ｆ８）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ３Ｆ６）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）－である。－（ＯＣ２Ｆ４）－は、－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ２ＣＦ２）－である。
　上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－Ｒｆ６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ５－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ”－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ”－（ＯＣＦ２）ｄ”－Ｒｆ６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ５及びＲｆ６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３－Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。
　上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。
　含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。
　含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。本態様は、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には特に有利である。
　一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、本開示の組成物は、該組成物を用いて形成される硬化物の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。
　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。
　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
　触媒は、本開示のポリエーテル基含有化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。
　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
　本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、以下の式で示す化合物、または以下の式で示す化合物のうち、ＲＳｉ’で表される基を有する化合物において、少なくともＲＳｉ’で表される基の一部をヒドロシリル化して生じる化合物を含み得る。本開示の組成物は、以下の式で示す化合物、または上述した以下の式で示す化合物をヒドロシリル化して生じる化合物を、本開示の組成物中に、例えば、１質量ｐｐｍ～１質量％、または１０質量ｐｐｍ～０．１質量％含み得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
　式中、
ＲＰＥは、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり；
ＲＰＥで表される基における各記号はそれぞれ上記と同意義であり；
ＲＳｉ’は、各出現においてそれぞれ独立して、末端に－ＣＨ＝ＣＨ２を有する１価の有機基であり、好ましくはヒドロシリル化することによってＲＳｉで表される基となる基である。
　一の態様において、本開示の組成物は、さらに、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｌ等を含む金属、金属酸化物または金属塩；Ｓｉを含む化合物、酸化物または塩を含み得る。本開示の組成物は、金属、金属酸化物またはその塩を、本開示の組成物中に、例えば、１０質量ｐｐｂ～１質量％、または１００質量ｐｐｂ～０．１質量％含み得る。
　一の態様において、本開示の組成物は、さらに、有機アミン、またはその塩酸塩を含み得る。
　本開示の組成物は、有機アミン、またはその塩を、例えば、１質量ｐｐｍ～１質量％、または１０質量ｐｐｍ～０．１質量％含み得る。
［製造方法］
　次に、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法の一例について説明する。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は以下に限定されない。
　本開示の例示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
　工程（１）：
　以下の式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 で表される化合物を、ＨＳｉＭ２ ３、および、所望によりＲａ ｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。
　本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、工程（Ｉ）の前に、さらに以下の工程を含み得る。
　工程（２）：
　以下の式（ＩＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 で表される化合物を、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。
　以下、各工程について詳細に説明する。
（工程（１））
　工程（１）は、式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 で表される化合物を、ＨＳｉＭ２ ３、および、所望によりＲａ ｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 で表される化合物を得る工程である。
　式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒ’－のうち１または２がＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒ’－のうち１または２がＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基であり；
　ただし、式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基の数、および、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基の数の合計数は３である。
　例えば、Ｒ’のうち、１がＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、２がＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基であってもよく；２がＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、１がＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基であってもよい。
　なお、工程（１）における反応に、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－で表される基は関与しない。従って、式（ＩＩ）におけるＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基は、式（Ｉ）における（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基（α＝１）に、相当する。
　Ｒｆ、Ｘｆ１、ＰＥ、Ｘｆ２およびＸ１は、それぞれ上記と同意義である。
　Ｘ’は、トリアジン環とＳｉ原子とをつなぐリンカー部分の一部となる。例えば、式（Ｉ）において、ＲＳｉ－で表される基が式（Ａ２）で表される基である場合、－ＣＨ２ＣＨ２Ｘ’－で表される構造がＸａ３で表される基に相当する。
　Ｒａ、およびＲｂは、それぞれ上記と同意義である。
　Ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａと結合可能な基を表す。
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数である。
　Ｌ”は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｂと結合可能な基を表す。
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数である。
　式（ＩＩ）で表される化合物は、後述する工程（２）において得られる化合物であってもよい。
　式（ＩＩ）で表される化合物が、ＨＳｉＭ２ ３と反応することにより、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基が、ＳｉＭ２ ３－ＣＨ２ＣＨ２－Ｘ’－で表される基に変換される。
　Ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）またはＣ１－６アルコキシ基であり、好ましくはＣｌである。該化合物は、市販されているか、または市販されている化合物から、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。
　ＨＳｉＭ２ ３の量は、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ－基（２種以上の化合物を用いる場合にはその合計、以下も同様）１モルに対して、１モル以上であればよいが、好ましくは２モルである。
　上記反応において、Ｒａ ｋ１Ｌ’で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲａ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
　上記反応において、Ｒｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲｂ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
　工程（１）の反応においては、最初に、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ－基とＨＳｉＭ２ ３が反応して、末端がＳｉＭ２ ３－ＣＨ２ＣＨ２－基に変換される。ついで、この末端ＳｉＭ２ ３－ＣＨ２ＣＨ２－基と、Ｒａ ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物が反応して、Ｍ２がＲａまたはＲｂにより置換される。なお、Ｒａ ｋ１Ｌ’で表される化合物およびＲｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物は、同時または別個に反応させてもよい。
　しかしながら、本開示の一の態様においては、ＨＳｉＭ２ ３、Ｒａ ｋ１Ｌ’で表される化合物、およびＲｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物を、ＨＳｉ（Ｒａ ｋ１）（Ｒｂ ｋ２）（この場合、ｋ１＋ｋ２は３である）で表される化合物として用いることもできる。ＨＳｉ（Ｒａ ｋ１）（Ｒｂ ｋ２）で表される化合物は、当業者であれば、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。
　別の態様において、工程（１）におけるＲａ ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ－基１モルに対して３モル以上とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ２ ３－ＣＨ２ＣＨ２－のＭ２を、実質的にすべてＲａまたはＲｂにより置換することができる。
　さらに別の態様において、工程（１）におけるＲａ ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲｂ ｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ２＝ＣＨ－基１モルに対して０以上３モル未満とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ２ ３－ＣＨ２ＣＨ２－のＭ２のすべてまたはいくつかが、ＲａまたはＲｂにより置換されることなく残り得る。このように残ったＭ－Ｓｉ部を、式：Ｈａｌ－Ｊ－Ｚ’－ＣＨ＝ＣＨ２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｊは、Ｍｇ、ＣｕまたはＺｎを表し、Ｚ’は結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させることにより、再度、末端部をＣＨ２＝ＣＨ－とすることができ、工程（１）と同様の反応に付すことが可能になる。この操作を繰り返すことにより、上記式（ＩＩ）で示される化合物の末端に、リンカー部を介してＳｉ原子をツリー状に連結させることができる。
　工程（１）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。
　適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。
　適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン等が挙げられる。
　かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、好ましくは常温～８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、好ましくは１２０～３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　本明細書において、常温とは、例えば、０～４０℃を示す。
　式（Ｉ）において、Ｒは上記と同意義である。ただし、式（Ｉ）における（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基の数、および、ＲＳｉ－で表される基の数は、それぞれ、式（ＩＩ）におけるＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基の数、および、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基の数に相当する。
（工程（２））
　工程（２）は、以下の式（ＩＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 で表される化合物を、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 で表される化合物を得る工程である。
　Ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、好ましくは、Ｃｌ）であり；
　Ｒ’は、工程（１）において記載したとおりである。
　工程（２）において、
　Ｒｆ、Ｘｆ１ 、ＰＥ、Ｘ１、Ｘｆ２およびＸ’は、それぞれ上記と同意義であり；
　Ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、またはＮＨ２－であり；
　Ｇ’は、各出現においてそれぞれ独立して、ＮＨ２－、水酸基、またはＳＨ－である。
　工程（２）において、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－Ｇで表される化合物、およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物のその使用量は、導入したいＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基およびのＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。
　一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｇで表される化合物、および、２モルのＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’－の１つがＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、および、２つがＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基である化合物の合成に適する。
　一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｇで表される化合物、および、１モルのＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’－の２つがＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、および、１つがＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基である化合物の合成に適する。
　工程（２）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行うことが好ましい。
　適当な触媒としては、塩基性の化合物を用いることが好ましく、例えば、三級アミン、アミノ基を有する複素環式化合物等のアミン系触媒；カリウム、ナトリウム、セシウム等の塩類を挙げることでき、具体的には、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）、ピリジン、２，６－ルチジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げることができる。
　一の態様において、上記触媒は、三級アミンである。
　適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、炭化水素系溶媒、フッ素含有溶媒等を用いることができ、具体的には、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ－ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、水等を用いることができる。
　かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、好ましくは常温～８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、好ましくは１２０～３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　工程（２）は、以下のように実施することが好ましい。
　工程（２－１）：以下の式（ＩＩＩ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 で表される化合物を、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－Ｇで表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基に変換する工程；および
　工程（２－２）：工程（２－１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基に変換する工程。
　上記工程（２－１）において、Ｍ’で表される基の１または２が、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基に変換され、上記工程（２－２）において、Ｍ’で表される基の１または２がＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基に変換される。ただし、Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基の数およびＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基の数は２または３である。
　上記工程（２－１）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。
　上記工程（２－１）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、例えば室温（具体的には１０～３０℃）で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、必要に応じて例えば２４時間であってもよく、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　上記工程（２－２）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。
　上記工程（２－２）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０～１００℃、例えば常温～８０℃で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０～６００分、反応圧力は、特に限定されないが、－０．２～１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。
　一の態様において、
　工程（２－１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｇで表される化合物を反応させ、
　工程（２－２）において、工程（２－１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基に変換する。
　本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’－の１つがＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、および、２つがＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基である化合物の合成に適する。
　本態様において、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、２モル、２～３モル、または２～１０モル加え得る。
　一の態様において、
　工程（２－１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｇで表される化合物を反応させ、
　工程（２－２）において、工程（２－１）で得られた化合物を、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ１で表される基をＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基に変換する。
　本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’－の２つがＲｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２－Ｘ１－で表される基であり、および、１つがＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－で表される基である化合物の合成に適する。
　本態様において、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｘ’－Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、１モル、１～２モル、または１～１０モル加え得る。
　さらに、必要により、反応液の濃縮工程、洗浄工程等を行い得る。
　以上、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法について説明した。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、上記で例示した製造方法に限定されない。
　本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用い得る。
　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
［物品］
　以下、本開示の物品について説明する。
　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のポリエーテル基含有化合物、または本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物（表面処理剤）（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。
　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
　基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
　かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
　またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。
　本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）が特に好ましい。
　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
　触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
　一の態様において、本開示の表面処理剤の層形成は、基材の表面に本開示の表面処理剤を塗布、真空蒸着によって行い得る。その後、必要に応じて乾燥等の処理を行い得る。
　上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
　すなわち本開示はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。
　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
　本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
　また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
　以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示のポリエーテル基含有化合物またはポリエーテル基含有化合物を含む組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
　以上、実施形態について説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
　本開示のポリエーテル基含有化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。
（合成例１）
　シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨの水酸基β位－ＣＦ２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ａ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000023
（合成例２）
　合成例１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ａ）を５．０ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｂ）４．７ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000024
（合成例３）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
　この反応液に４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、１９Ｆ－ＮＭＲによって、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨの水酸基β位－ＣＦ２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000025
（合成例４）
　合成例３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を５．０ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｄ）４．６ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000026
（合成例５）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、室温で一昼夜撹拌した。その後、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱して、８時間撹拌した。
　４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000027
（合成例６）
　合成例５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｅ）２．５ｇを用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）２．６ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000028
（合成例７）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｎＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
　４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000029
（合成例８）
　合成例７で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を３．８ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）３．５ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000030
（合成例９）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨの水酸基β位―ＣＦ２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000031
（合成例１０）
　合成例９で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）４．０ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000032
（合成例１１）
　シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨの水酸基β位－ＣＦ２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000033
（合成例１２）
　合成例１１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を５．０ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｌ）４．２ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000034
（合成例１３）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
　この反応液に４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、１９Ｆ－ＮＭＲによって、ＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨの水酸基β位－ＣＦ２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000035
（合成例１４）
　合成例１３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を５．０ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｎ）４．０ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｎ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000036
（合成例１５）
　シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ３－（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｍ－（ＯＣＦ２）ｎ－ＣＨ２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４－［２，２－ジ（２－プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｍＯＣＦ２ＣＨ２－ＯＨの水酸基β位―ＣＦ２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および１Ｈ－ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｏ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000037
（合成例１６）
　合成例１５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）３．５ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000038
（実施例１）
　上記合成例２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｂ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。
（実施例２）
　上記合成例４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｄ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。
（実施例３）
　上記合成例６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｆ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。
（実施例４）
　上記合成例８で得たポリエーテル基含有化合物（Ｈ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。
（実施例５）
　上記合成例１０で得たポリエーテル基含有化合物（Ｊ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（５）を調製した。
（実施例６）
　上記合成例１２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｌ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（６）を調製した。
（実施例７）
　上記合成例１４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｎ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（７）を調製した。
（実施例８）
　上記合成例１６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｐ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７３００）に溶解させて、表面処理剤（８）を調製した。
（比較例１、２）
　ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）の代わりに、下記対照化合物（１）および（２）を用いた以外は、実施例４と同様に行い、比較表面処理剤（１）および（２）をそれぞれ調製した。
　対照化合物（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000039
　対照化合物（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000040
（静的接触角）
　静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。
＜静的接触角の測定方法＞
　静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水またはｎ－ヘキサデカンを２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。
（硬化膜の形成）
　表面処理剤（１）～（８）、および比較表面処理剤（１）～（２）をそれぞれ用いて、以下のように硬化膜を形成した。
　表面処理剤または比較表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
　スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
　塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。
［硬化膜の特性評価］
　得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。
＜静的接触角＞
（初期評価）
　まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
（エタノール拭き後の評価）
　次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。
＜指紋付着性および拭き取り性＞
（指紋付着性）
　表面処理剤または比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
　Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
　Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
　Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。
（指紋拭き取り性）
　上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
　Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
　Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
　Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。
　上記の一連の評価結果を以下の表１にまとめた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
　表面処理剤（１）～（８）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）および（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）または（２）で形成された硬化膜では、ケミカル耐性（耐溶剤性）が悪いためと考えられる。
　上記のように、表面処理剤（１）～（８）の方が、比較表面処理剤よりも優れていることが示された。表面処理剤（１）～（８）を用いて形成された硬化膜では、指紋付着性および指紋拭き取り性の双方において良好な評価が得られた。
　本開示は、種々多様な基材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (17)

  1. 　式（Ｉ）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式中：
    　Ｒ－のうち１または２が（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基であり、かつ、Ｒ－のうち１または２がＲＳｉ－で表される基であり；
    　ただし、（Ｒｆ－Ｘｆ１－ＰＥ－Ｘｆ２）α－Ｘ１－で表される基の数、およびＲＳｉ－で表される基の数の合計数は３であり；
    　αは、１～９の整数であり；
    　Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１～１６のアルキル基を表し；
    　ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
    －（ＯＣ６Ｆ１２）ａ－（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｘ１０ ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－
    （ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
    　Ｘｆ１は、（Ｘｆ１１）ｚで表され；
    　Ｘｆ１１は、炭素原子数１～６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
    　ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
    　Ｘｆ２は、（Ｏ）ｙまたは（ＮＨ）ｙで表され；
    　ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。）
    で表される基であり；
    　Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基であり；
    　ＲＳｉ－で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）～（Ａ４）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     で表される基のいずれかであり；
    　Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
    　Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し；
    　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、－ＮＨ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－、または２～１０価の有機基を表し；
    　Ｘａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
    　β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～９の整数であり；
    　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数であり；
    　Ｒ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
    　Ｒ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
    　ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも１つ存在し；
    　Ｒｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－を表し；
    　Ｚ１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒ４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ１’を表し；
    　Ｒｆ１’は、Ｒｆ１と同意義であり；
    　Ｒｆ１中、Ｚ１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
    　Ｒ４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒ４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
    　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、Ｒ４１ ｒ１Ｒ４２ ｒ２Ｒ４３ ｒ３Ｓｉ－Ｚ１－毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
    　Ｒｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
    　Ｒｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
    　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、Ｒｆ３ ｐ３Ｒｆ２ ｐ２Ｒｆ１ ｐ１Ｓｉ－毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
    　Ｒｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－を表し；
    　Ｚ２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒ５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｇ１’を表し；
    　Ｒｇ１’は、Ｒｇ１と同意義であり；
    　Ｒｇ１中、Ｚ２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
    　Ｒ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ３－を表し；
    　Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒ５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
    　ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、Ｒ５１ ｓ１Ｒ５２ ｓ２Ｒ５３ ｓ３Ｃ－Ｚ２－毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
    　Ｒｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－Ｚ４－を表し；
    　Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
    　Ｒｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
    　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
    　ただし、Ｒｇ３ ｑ３Ｒｇ２ ｑ２Ｒｇ１ ｑ１Ｃ－毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１～３であるＲａ ｍ１Ｒｂ ３－ｍ１Ｓｉ－が少なくとも２つ存在する。］
    で表されるポリエーテル基含有化合物。
  2. 　Ｘ１が、各出現においてそれぞれ独立して、（－（Ｒ１１）ｎ１６－）２Ｎ－（Ｒ１２）ｎ１７－、－（Ｒ１１）ｎ１６－Ｘ１１－（Ｒ１２）ｎ１７－、または－Ｒ１３－である、請求項１に記載のポリエーテル基含有化合物。
    ［式中：
    　Ｒ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１１－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
    　ｎ１１は、１～２０の整数であり；
    　Ｒ１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ１２－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり；
    　ｎ１２は、１～２０の整数であり；
    　ｎ１６は、０または１であり；
    　ｎ１７は、０または１であり；
    　ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
    　Ｘ１１が、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－（ＯＲ６１）ｎ１４－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－（Ｓｉ（Ｒ６２）２Ｏ）ｎ１５－Ｓｉ（Ｒ６２）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－であり；
    　Ｒ６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり；
    　ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１～５の整数であり；
    　Ｒ６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基であり；
    　ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり；
    　Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり；
    　Ｒ１３は、－（ＣＨ２）ｎ１３－を表し；
    　ｎ１３は、１～２０の整数である。］
  3. 　αが２である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
  4. 　αが１である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
  5. 　Ｘａ１、Ｘａ３、Ｘａ４、およびＸａ５が、各出現においてそれぞれ独立して、（－（Ｒ７１）ｎ２１－）２Ｎ－（Ｒ７２）ｎ２２－、－（Ｒ７１）ｎ２１－Ｘ３－（Ｒ７２）ｎ２２－、－Ｒ７３－、または－Ｙ－Ｏ－である、請求項１～４のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
    ［式中：
    　Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２３－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し；
    　ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり；
    　Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい－（ＣＨ２）ｎ２４－、またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し；
    　ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり；
    　ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
    　ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
    　ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
    　Ｘ３は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－（ＯＲ７４）ｎ２５－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－（Ｓｉ（Ｒ７５）２Ｏ）ｎ２６－Ｓｉ（Ｒ７５）２－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ３－、－ＮＲ３－、－ＳＯ２ＮＲ３－、または－ＳＯ２－であり；
    　Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ１－６のアルキレン基であり；
    　ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１～５の整数であり；
    　Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１－６アルキル基またはＣ１－６アルコキシ基を表し；
    　ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数であり；
    　Ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１～６のアルキル基であり；
    　Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、－（ＣＨ２）ｎ２７－を表し；
    　ｎ２７は、１～２０の整数であり；
    　Ｙは、２～６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。］
  6. 　ｍ１が、２または３である、請求項１～５のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  7. 　ｍ１が、３である、請求項１～６のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  8. 　ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、請求項１～７のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  9. 　式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、請求項１～８のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  10. 　β１、β２、β３、またはβ４が、１である、請求項１～９のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  11. 　Ｒｆが、炭素数１～１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  12. 　ＰＥが、以下の式（ａ）～（ｃ）のいずれか：
    　　－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－　　　（ａ）
    ［式中、ｄは１～２００の整数である。］
    　　－（ＯＣ４Ｆ８）ｃ－（ＯＣ３Ｆ６）ｄ－（ＯＣ２Ｆ４）ｅ－（ＯＣＦ２）ｆ－　　（ｂ）
    ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
    　ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
    　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
    　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    　　－（Ｒ６－Ｒ７）ｇ－　　（ｃ）
    ［式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり；
    　Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
    　ｇは、２～１００の整数である。］
    で表される基である、請求項１～１１のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
  13. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
  14. 　さらに溶媒を含む、請求項１３に記載の表面処理剤。
  15. 　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１３または１４に記載の表面処理剤。
  16. 　基材と、該基材の表面に、請求項１～１２のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物または請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
  17. 　前記物品が光学部材である、請求項１６に記載の物品。
PCT/JP2019/046418 2018-11-30 2019-11-27 ポリエーテル基含有化合物 WO2020111138A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020217015751A KR102557828B1 (ko) 2018-11-30 2019-11-27 폴리에테르기 함유 화합물
EP19890177.9A EP3889205A4 (en) 2018-11-30 2019-11-27 COMPOUND CONTAINING A POLYETHER GROUP
CN201980078603.4A CN113166394A (zh) 2018-11-30 2019-11-27 含聚醚基的化合物
US17/331,096 US20210284798A1 (en) 2018-11-30 2021-05-26 Polyether group-containing compound

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018-225935 2018-11-30
JP2018225935 2018-11-30

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US17/331,096 Continuation US20210284798A1 (en) 2018-11-30 2021-05-26 Polyether group-containing compound

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020111138A1 true WO2020111138A1 (ja) 2020-06-04

Family

ID=70853475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/046418 WO2020111138A1 (ja) 2018-11-30 2019-11-27 ポリエーテル基含有化合物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20210284798A1 (ja)
EP (1) EP3889205A4 (ja)
JP (1) JP6787469B2 (ja)
KR (1) KR102557828B1 (ja)
CN (1) CN113166394A (ja)
TW (1) TWI786349B (ja)
WO (1) WO2020111138A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113583231A (zh) * 2021-07-09 2021-11-02 东华大学 一种全氟聚醚硅氧烷化合物的制备方法及抗指纹剂
JP7029102B1 (ja) 2020-11-05 2022-03-03 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP7029101B1 (ja) 2020-11-05 2022-03-03 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP7364990B1 (ja) 2022-04-22 2023-10-19 ダイキン工業株式会社 ポリエーテル基含有化合物

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997007155A1 (fr) 1995-08-11 1997-02-27 Daikin Industries, Ltd. Fluoropolymeres organiques au silicium et leur emploi
JP2000290264A (ja) * 1999-03-03 2000-10-17 Ausimont Spa フッ素化されたトリアジン化合物
JP2004146478A (ja) * 2002-10-23 2004-05-20 Hitachi Ltd 配線基板，表示デバイス，表示デバイス用カラーフィルター、及び配線基板形成方法，表示デバイス形成方法，表示デバイス用カラーフィルター形成方法
WO2006106856A1 (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Fujifilm Corporation 潤滑剤組成物
JP2008534696A (ja) 2005-04-01 2008-08-28 ダイキン工業株式会社 表面改質剤
JP2012207169A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Fujifilm Corp 離型剤組成物、及びモールド
JP2015160902A (ja) * 2014-02-27 2015-09-07 デクセリアルズ株式会社 表面調整剤及びそれを用いた物品
WO2018056413A1 (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 ダイキン工業株式会社 イソシアヌル骨格を有する新規化合物及びそれを含む組成物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5288891A (en) * 1990-11-22 1994-02-22 Nippon Oil And Fats Co. Ltd. Fluoralykyl group-containing organosilicon oligomer, method for preparing same and surface treating agent
US6391948B1 (en) * 1999-12-14 2002-05-21 3M Innovative Properties Company Triazine compounds and use thereof
ATE354578T1 (de) * 2000-04-07 2007-03-15 Asahi Glass Co Ltd Flourierte organosiliziumverbindungen und ein verfahre zu ihrer herstellung

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997007155A1 (fr) 1995-08-11 1997-02-27 Daikin Industries, Ltd. Fluoropolymeres organiques au silicium et leur emploi
JP2000290264A (ja) * 1999-03-03 2000-10-17 Ausimont Spa フッ素化されたトリアジン化合物
JP2004146478A (ja) * 2002-10-23 2004-05-20 Hitachi Ltd 配線基板，表示デバイス，表示デバイス用カラーフィルター、及び配線基板形成方法，表示デバイス形成方法，表示デバイス用カラーフィルター形成方法
WO2006106856A1 (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Fujifilm Corporation 潤滑剤組成物
JP2008534696A (ja) 2005-04-01 2008-08-28 ダイキン工業株式会社 表面改質剤
JP2012207169A (ja) * 2011-03-30 2012-10-25 Fujifilm Corp 離型剤組成物、及びモールド
JP2015160902A (ja) * 2014-02-27 2015-09-07 デクセリアルズ株式会社 表面調整剤及びそれを用いた物品
WO2018056413A1 (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 ダイキン工業株式会社 イソシアヌル骨格を有する新規化合物及びそれを含む組成物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3889205A4

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7029102B1 (ja) 2020-11-05 2022-03-03 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP7029101B1 (ja) 2020-11-05 2022-03-03 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
WO2022097406A1 (ja) * 2020-11-05 2022-05-12 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
WO2022097405A1 (ja) * 2020-11-05 2022-05-12 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP2022075520A (ja) * 2020-11-05 2022-05-18 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP2022075521A (ja) * 2020-11-05 2022-05-18 ダイキン工業株式会社 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
CN113583231A (zh) * 2021-07-09 2021-11-02 东华大学 一种全氟聚醚硅氧烷化合物的制备方法及抗指纹剂
JP7364990B1 (ja) 2022-04-22 2023-10-19 ダイキン工業株式会社 ポリエーテル基含有化合物
WO2023204249A1 (ja) * 2022-04-22 2023-10-26 ダイキン工業株式会社 ポリエーテル基含有化合物

Also Published As

Publication number Publication date
TWI786349B (zh) 2022-12-11
EP3889205A1 (en) 2021-10-06
JP2020094195A (ja) 2020-06-18
US20210284798A1 (en) 2021-09-16
EP3889205A4 (en) 2022-08-24
JP6787469B2 (ja) 2020-11-18
KR102557828B1 (ko) 2023-07-21
TW202031723A (zh) 2020-09-01
KR20210082214A (ko) 2021-07-02
CN113166394A (zh) 2021-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6787469B2 (ja) ポリエーテル基含有化合物
JP6801804B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有化合物
JP7299546B2 (ja) 表面処理剤
CN114402047A (zh) 表面处理剂
CN113677738A (zh) 含氟代聚醚基的化合物
US20220153929A1 (en) Surface-treating agent
JP6911963B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有化合物
JP7029101B1 (ja) 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP6838671B2 (ja) フルオロポリエーテル基含有化合物
US20220119592A1 (en) Surface-treating agent
JP7364990B1 (ja) ポリエーテル基含有化合物
JP7029102B1 (ja) 含フッ素ポリエーテル基含有化合物
JP7252500B2 (ja) 表面処理剤
CN116640498A (zh) 表面处理剂
WO2023210653A1 (ja) 表面処理剤
WO2022163319A1 (ja) フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物
WO2023210654A1 (ja) フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19890177

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20217015751

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2019890177

Country of ref document: EP

Effective date: 20210630