JP2020094195A - ポリエーテル基含有化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】本開示の目的は、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物を提供することにある。【解決手段】式（Ｉ）で表されるポリエーテル基含有化合物。式（Ｉ）で表される化合物毎に、Ｒ−のうち１または２が（Ｒｆ−Ｘｆ１−ＰＥ−Ｘｆ２）α−Ｘ１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち１または２がＲＳｉ−で表される基である。各符号は、明細書の記載のとおりである。【選択図】なし

Description

本開示は、ポリエーテル基含有化合物に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。

特表２００８−５３４６９６号公報 国際公開第９７／０７１５５号

本開示の目的は、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物を提供することにある。

本開示は、以下の［１］〜［１７］を提供するものである。
［１］ 式（Ｉ）：

［式中：
Ｒ−のうち１または２が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒ−のうち１または２がＲ^Ｓｉ−で表される基であり；
ただし、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基の数、およびＲ^Ｓｉ−で表される基の数の合計数は３であり；
αは、１〜９の整数であり；
Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表し；
ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
（ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
Ｘ^ｆ１は、（Ｘ^ｆ１１）_ｚで表され；
Ｘ^ｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^ｆ２は、（Ｏ）_ｙまたは（ＮＨ）_ｙで表され；
ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。）
で表される基であり；
Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｓｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）〜（Ａ４）：

で表される基のいずれかであり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４、およびＸ^ａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ^ａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−を表し；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ１’を表し；
Ｒ^ｆ１’は、Ｒ^ｆ１と同意義であり；
Ｒ^ｆ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
Ｒ^ｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ^ｆ３ _ｐ３Ｒ^ｆ２ _ｐ２Ｒ^ｆ１ _ｐ１Ｓｉ−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
Ｒ^ｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−を表し；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｇ１’を表し；
Ｒ^ｇ１’は、Ｒ^ｇ１と同意義であり；
Ｒ^ｇ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^３−を表し；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
Ｒ^ｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−を表し；
Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^ｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、Ｒ^ｇ３ _ｑ３Ｒ^ｇ２ _ｑ２Ｒ^ｇ１ _ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。］
で表されるポリエーテル基含有化合物。
［２］ Ｘ^１が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ^１１）_ｎ１６−）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、または−Ｒ^１３−である、［１］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
Ｒ^１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１１は、１〜２０の整数であり；
Ｒ^１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
ｎ１２は、１〜２０の整数であり；
ｎ１６は、０または１であり；
ｎ１７は、０または１であり；
ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
Ｘ^１１が、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ^６１）_ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^６２）_２Ｏ）_ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−であり；
Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり；
ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基であり；
ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ^１３は、−（ＣＨ_２）_ｎ１３−を表し；
ｎ１３は、１〜２０の整数である。］
［３］ αが２である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［４］ αが１である、［１］または［２］に記載のポリエーテル基含有化合物。
［５］ Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４、およびＸ^ａ５が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ^７１）_ｎ２１−）_２Ｎ−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−Ｒ^７３−、または−Ｙ−Ｏ−である、［１］〜［４］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［式中：
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
Ｘ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ^７４）_ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^７５）_２Ｏ）_ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−であり；
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり；
ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
Ｒ^７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し；
ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_ｎ２７−を表し；
ｎ２７は、１〜２０の整数であり；
Ｙは、２〜６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。］
［６］ ｍ１が、２または３である、［１］〜［５］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［７］ ｍ１が、３である、［１］〜［６］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［８］ ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、［１］〜［７］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［９］ 式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、［１］〜［８］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１０］ β１、β２、β３、またはβ４が、１である、［１］〜［９］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１１］ Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、［１］〜［１０］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１２］ ＰＥが、以下の式（ａ）〜（ｃ）のいずれか：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｃ）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
で表される基である、［１］〜［１１］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物。
［１３］ ［１］〜［１２］のいずれか１に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
［１４］ さらに溶媒を含む、［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］ 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１３］または［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］ 基材と、該基材の表面に、［１］〜［１２］のいずれかに記載のポリエーテル基含有化合物または［１３］〜［１５］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］ 前記物品が光学部材である、［１６］に記載の物品。

本開示によれば、基材の表面処理に用い得る、新たな構造の化合物が提供される。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「有機基」とは、炭素を含有する基を意味する。有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基であり得る。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ^ａ１、−ＯＣＯＲ^ａ１、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ａ１ _２、−ＮＲ^ａ１ _２、−ＮＨＲ^ａ１、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ａ１は、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ^ａ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ａ１の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

本開示のポリエーテル基（以下、「ＰＥ」と称することがある）含有化合物は、式（Ｉ）：

で表される。

本開示のポリエーテル基含有化合物は、上記式（Ｉ）のように、分子構造内にトリアジン環を有する。本開示のポリエーテル基含有化合物は、電子密度の高い環構造であって、６員環を形成する有機化合物のなかで最も小さな環構造を有することから、アニオン化合物の求核置換反応が起こりにくく、例えばアルカリ条件下でも安定に存在し得る。また、トリアジン環の炭素−水素結合をエーテル結合やエステル結合に置換した場合、酸やアルカリ存在下における加水分解を受けにくい。更に、トリアジン環は、耐熱性、および紫外線（ＵＶ）に対する耐久性が良好であることから、本開示のポリエーテル基含有化合物の耐熱性、およびＵＶ耐久性が良好になり得る。

式（Ｉ）において、Ｒ−は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基、または、Ｒ^Ｓｉ−で表される基である。

Ｒのうち１または２が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち１または２がＲ^Ｓｉ−で表される基である。ただし、（Ｒｆ−ＰＥ）_α−Ｘ^１−で表される基の数、および、Ｒ^Ｓｉ−で表される基の数の合計数は３である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層であり、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

好ましくは、Ｒのうち１または２が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、Ｒのうち１または２がＲ^Ｓｉ−で表される基である。ただし、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基の数、およびＲ^Ｓｉ−で表される基の数の合計数は３である。

一の態様において、Ｒのうち１が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち２がＲ^Ｓｉ−で表される基である。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物は、撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有する表面処理層の形成に寄与し得る。上記のような構造により、本開示のポリエーテル基含有化合物は、分子間の結合を形成し得、さらに、形成される表面処理層の基材への結合能が良好になり得る。

一の態様において、Ｒのうち２が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒのうち１がＲ^Ｓｉ−で表される基である。このような構造を有することにより、ポリエーテル基含有化合物一分子あたりのポリエーテル鎖の含量が高くなる為、本開示のポリエーテル基含有化合物は、高い撥水性、撥油性、防汚性、耐ケミカル性、ＵＶ耐久性等を有し、かつ、基材への結合能の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

［（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基］
本開示のポリエーテル基含有化合物は、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基を有する。このような構造を有することにより、本開示のポリエーテル基含有化合物を用いて形成される層の撥水性、撥油性、耐ケミカル性（例えば、塩水、酸または塩基性水溶液、アセトン、オレイン酸またはヘキサンに対する耐久性）、ＵＶ耐久性等が良好になり得る。

Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基における「炭素原子数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素原子数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素原子数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素原子数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素原子数１〜６、特に炭素原子数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素原子数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、ＰＥは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基である。
式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。本明細書において、ＰＥとして記載している基は、左がＸ^ｆ１に、右がＸ^ｆ２に、それぞれ結合する。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−（即ち、上記式中、Ｘ^１０はフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、上記ＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、上記ＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。

一の態様において、上記ＰＥは、好ましくは−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−であり、ｄは１０以上１００以下の整数、より好ましくはｄは１５以上５０以下の整数、さらに好ましくはｄは２５以上３５以下の整数である。

別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＥは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−である。一の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ−で表される基である。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６、およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｇは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ−である。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

ＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９５以下であり、より好ましくは、０．２以上０．９以下である。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．９未満、好ましくは０．８以下、０．７以下であり、０．６５以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、例えば０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．５５以上である。ｅ／ｆ比は、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．８以下を挙げることができる。上記のようなｅ／ｆ比を有することにより、本開示の表面処理剤は、より良好な滑り性を有する表面処理層を形成し得る。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．４以上０．７以下であってもよく、０．５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．６５以下であってもよい。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、１．０以上が好ましく、１．０以上２．０以下であることがより好ましい。

一の態様において、上記式中、ＰＥは、各出現において独立して、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基であり、かつ、ポリエーテル基中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、本態様において、上記ＰＥは、少なくとも１のＣＦ_３末端（具体的には、−ＣＦ_３、−Ｃ_２Ｆ_５等、より具体的には−ＣＦ_３）を有する。なお、上記ＰＥは、上記式の左末端の酸素原子がＲｆ基に結合する。このような構造のポリエーテル基を有することにより、ポリエーテル基含有化合物（あるいは、ポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤）を用いて形成された層（例えば表面処理層）の紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、耐ケミカル性、耐加水分解性、滑り性の抑制効果、高い摩擦耐久性、耐熱性、防湿性等がより良好になり得る。

上記式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

ＰＥで表される基中、分岐構造を少なくとも５有することが好ましく、１０有することがより好ましく、２０有することが特に好ましい。

ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数（例えば、上記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和）１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は４０以上であることが好ましく、６０以上であることがより好ましく、８０以上であることが特に好ましい。ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は１００以下であってもよく、例えば９０以下であってもよい。

ＰＥで表される基の構造中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、４０〜１００の範囲にあることが好ましく、６０〜１００の範囲にあることがより好ましく、８０〜１００の範囲にあることが特に好ましい。

上記分岐構造における分岐鎖としては、例えばＣＦ_３を挙げることができる。

分岐構造を有する繰り返し単位としては、例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等を挙げることができる。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等を挙げることができる。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−を挙げることができる。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−を挙げることができる。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−としては、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−を挙げることができる。

上記ＰＥは、分岐構造を有する繰り返し単位とともに、直鎖状の繰り返し単位を含み得る。直鎖状の繰り返し単位としては、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−を挙げることができる。

好ましくは、上記ＰＥで表される基中、繰り返し単位−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−、−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−、および−（ＯＣ_３Ｆ_６）−が分岐構造を有する。

より好ましくは、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ_６Ｆ_１２、ＯＣ_５Ｆ_１０、ＯＣ_４Ｆ_８、およびＯＣ_３Ｆ_６からなる。

一の態様において、上記ＰＥは、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、ＰＥ中に少なくとも１の分岐構造を有する。

本態様において、ＰＥで表される基は、さらに、直鎖状の繰り返し単位−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−を含んでいてもよい。

上記態様において、上記ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ_３Ｆ_６からなることが好ましい。上記ＰＥは、式：−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））_ｄで表されることがより好ましい。上記式中、ｄは１以上２００以下であり、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である。

別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、ＰＥで表される基中に少なくとも１の分岐構造を有する。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｊ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、分岐構造を有することが好ましい。

より好ましくは、上記態様において、ＰＥは、分岐構造の繰り返し単位ＯＣ_６Ｆ_１２、ＯＣ_５Ｆ_１０、ＯＣ_４Ｆ_８、およびＯＣ_３Ｆ_６からなる。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

さらに別の態様において、ＰＥは、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であり、ＰＥで表される基中少なくとも１の分岐構造を有する。式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記ポリエーテル基含有化合物において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、−ＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

αは、１〜９の整数である。αは、Ｘ^１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ^１が１０価の有機基である場合、αは９である。Ｘ^１が単結合である場合、αは１である。

Ｘ^１は、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフッ素を含有するポリエーテル部（ＰＥで表されるポリエーテル基部分）とトリアジン環とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１は、式（Ｉ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの有機基であってもよい。

Ｘ^ｆ１は、（Ｘ^ｆ１１）_ｚで表される基である。なお、Ｘ^ｆ１として記載している基は、左側がＲｆで表される基に、右側がＰＥで表される基に、それぞれ結合する。

Ｘ^ｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基、好ましくは１〜３のアルキレン基、より好ましくは１〜２のアルキレン基、例えばメチレン基である。
Ｘ^ｆ１１において、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されていてもよい。Ｘ^ｆ１１は、好ましくは、アルキレン基に含まれる水素原子がフッ素原子により置換されたアルキレン基であり、より好ましくは、パーフルオロアルキレン基である。Ｘ^ｆ１１は、直鎖状であってもよく、分岐鎖を有していてもよい。好ましくは、Ｘ^ｆ１１は、直鎖状である。

Ｘ^ｆ１１の具体例としては、例えば、−ＣＦ_２−、−Ｃ_２Ｆ_４−、−Ｃ_３Ｆ_６−、−Ｃ_４Ｆ_８−、−Ｃ_５Ｆ_１０−または−Ｃ_６Ｆ_１２−のようなパーフルオロアルキレン基；−ＣＨＦ−、のような一部の水素原子がフッ素原子に置換されたフルオロアルキレン基を挙げることができる。
−Ｃ_６Ｆ_１２−は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−等であってもよいが、好ましくは−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。−Ｃ_５Ｆ_１０−は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−等であってもよいが、好ましくは−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。−Ｃ_４Ｆ_８−は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−、−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３）−、−ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２−および−ＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）−のいずれであってもよいが、好ましくは−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。−Ｃ_３Ｆ_６−は、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２−および−ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）−のいずれであってもよいが、好ましくは−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。また、−Ｃ_２Ｆ_４−は、−ＣＦ_２ＣＦ_２−および−ＣＦ（ＣＦ_３）−のいずれであってもよい。

Ｘ^ｆ１は、より好ましくは、−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、または−ＣＦ（ＣＦ_３）−であり、さらに好ましくは、−ＣＦ_２−、または−ＣＦ_２ＣＦ_２−であり、特に好ましくは−ＣＦ_２−である。

Ｘ^ｆ２は、（Ｏ）_ｙまたは（ＮＨ）_ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）_ｙで表される基である。

ｚは、各出現においてそれぞれ独立して０または１であり、ｙは、各出現においてそれぞれ独立して０または１である。具体的には、ｚが０かつｙが０；ｚが０かつｙが１；ｚが１かつｙが０；ｚが１かつｙが１である。
好ましくは、ｚとｙとの合計は、０または１である。
なお、ｙが０のとき、Ｘ^ｆ２で表される基は単結合であり；ｚが０のとき、Ｘ^ｆ１で表される基は単結合である。

Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１は、窒素原子である。本態様においては、上記（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基は、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_２−Ｎ−で表される。

一の態様において、Ｘ^１は、２〜１０価の有機基である。

Ｘ^１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２〜３価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１は、３〜１０価の有機基であり得、αは２〜９である。

一の態様において、Ｘ^１は２価の有機基であり、αは１である。

一の態様において、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、該２価の有機基は、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−、または−ＮＨＣＯＯ−である。

一の態様において、Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ^１１）_ｎ１６−）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、または−Ｒ^１３−で表される３価または２価の有機基である。
例えば、Ｘ^１が、（−（Ｒ^１１）_ｎ１６−）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基は、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−（Ｒ^１１）_ｎ１６）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表され；Ｘ^１が−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基は、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表され；Ｘ^１が−Ｒ^１３−で表されるとき、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基は、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｒ^１３−で表される。

Ｘ^１は、好ましくは（−（Ｒ^１１）_ｎ１６−）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、または−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表される基であり、より好ましくは−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表される基である。

Ｒ^１１は、ポリエーテル基（ＰＥで表される基）側に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ^１１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に結合する。
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１１−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ_２）_ｎ１１−である。
ｎ１１は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらに好ましくは１または２である。

Ｒ^１２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ^１２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１２−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ_２）_ｎ１２−である。
ｎ１２は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１である。

ｎ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり、ｎ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ１６が０、かつｎ１７が１、または、ｎ１６が１、かつｎ１７が０であり、より好ましくは、ｎ１６が１、かつｎ１７が０である。

Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ^６１）_ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^６２）_２Ｏ）_ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−である。
Ｘ^１１は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＲ^３−で表される基であり、より好ましくは、−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）で表される基である。
なお、本明細書において、Ｘ^１１として記載している構造の左側がＲ^１１で表される基に、右側がＲ^１２で表される基に、それぞれ結合する。

Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
例えば、Ｒ^３が水素原子の場合、上記のＸ^１１の列挙の中で、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−は、それぞれ、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−、または−ＯＣＯＮＨ−である。

Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ_１−３のアルキレン基である。
Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
ｎ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１である。
ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数である。
ここで、Ｘ^１１の水素原子は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

Ｒ^１３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_ｎ１３−である。ここで、ｎ１３は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数である。

好ましい態様において、Ｘ^１は、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表される基であり、ｎ１６が１、ｎ１７が０である。Ｘ^１１は−Ｏ−または−ＮＨ−であることが好ましく、Ｒ^１１は−（ＣＨ_２）_ｎ１１−、ｎ１１は１〜３の整数であることが好ましい。ｎ１１は１または２であることがより好ましい。

Ｘ^１の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｏ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ_２Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＦ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ_２ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ_２ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＦ_２ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＦ_２ＮＨ−、
−ＣＦ_２ＣＨ_２−ＮＨ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ_３−
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−
−（ＣＨ_２）_２−
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＨ_２−
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_２−
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＣＨ_３−、
−ＳＯ_２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ^１として記載している構造の左側がαを付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。

［Ｒ^Ｓｉ−で表される基］
本開示のポリエーテル基含有化合物は、Ｒ^Ｓｉ−で表される基を有する。Ｒ^Ｓｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ａ１）〜（Ａ４）表される末端に水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子を有する基のいずれかである。本開示の化合物は、上記のような基を有することにより、基材への結合能が良好な表面処理層の形成に寄与し得る。
式（Ａ１）〜（Ａ４）：

式（Ａ１）について以下に説明する。

β１は、１〜９の整数である。β１は、Ｘ^ａ１の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ^ａ１が１０価の有機基である場合、β１は９である。Ｘ^ａ１が単結合である場合、β１は１である。

Ｘ^ａ１は、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基を表す。Ｘ^ａ１は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘ^ａ１として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。

一の態様において、Ｘ^ａ１は、２価の有機基であり、該２価の有機基は、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−、または−ＮＨＣＯＯ−である。

好ましくは、Ｘ^ａ１は、（−（Ｒ^７１）_ｎ２１−）_２Ｎ−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−Ｒ^７３−、または−Ｙ−Ｏ−で表される３価または２価の有機基である。
例えば、Ｘ^ａ１が、（−（Ｒ^７１）_ｎ２１−）_２Ｎ−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表されるとき、Ｒ^７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸ^ａ１に含まれる窒素原子とを連結し、Ｒ^７２は、Ｘ^ａ１に含まれる窒素原子と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘ^ａ１が−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表されるとき、Ｒ^７１は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基とＸ^３で表される基とを連結し、Ｒ^７２は、Ｘ^３で表される基と式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘ^ａ１が−Ｒ^７３−で表されるとき、Ｒ^７３は、式（Ａ１）におけるβ１を付して括弧でくくられた基と、式（Ｉ）におけるトリアジン環とを連結する。Ｘ^ａ１が、−Ｙ−Ｏ−で表されるとき、Ｏは、Ｙとトリアジン環とを連結する。

Ｘ^ａ１は、好ましくは、（−（Ｒ^７１）_ｎ２１−）_２Ｎ−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、または−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基であり、より好ましくは−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基である。

Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２３−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ_２）_ｎ２３−である。
ここで、ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。なお、本明細書において、Ｒ^７１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に結合する。

Ｒ^７２は、トリアジン環に結合する基または結合である。本明細書において、Ｒ^７２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２４−であり、より好ましくはフッ素原子に置換されていない−（ＣＨ_２）_ｎ２４−である。
ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。

ｎ２１は０または１であり、ｎ２２は０または１である。ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であることが好ましい。好ましくは、ｎ２１が０、かつｎ２２が１、または、ｎ２１が１、かつｎ２２が０であり、より好ましくは、ｎ２１が１、かつｎ２２が０である。

Ｘ^３は、−Ｏ−、−（ＯＲ^７４）_ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^７５）_２Ｏ）_ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−である。
Ｘ^３は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、―Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−、または−ＮＲ^３−で表される基であり、より好ましくは、−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）で表される基である。
なお、本明細書において、Ｘ^３として記載している構造の左側がＲ^７１で表される基に、右側がＲ^７２で表される基に、それぞれ結合する。

Ｒ^３は、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子またはメチル基、より好ましくは水素原子である。
Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり、好ましくは、Ｃ_１−３のアルキレン基である。
Ｒ^７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは１である。
ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数である。
Ｘ^３の水素原子は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

Ｒ^７３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_ｎ２７−である。ここで、ｎ２７は、１〜２０の整数であり、好ましくは、１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数である。

上記Ｙは、酸素原子とＳｉ原子を結合する２〜６価、好ましくは２〜４価、より好ましくは２価の有機基であり、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有していてもよい。好ましくは、Ｙは、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。
上記Ｙとして、具体的には、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）、ブチレン基（テトラメチレン基、メチルプロピレン基）、ヘキサメチレン基等の炭素原子数２〜１０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素原子数６〜８のアリーレン基を含む炭素原子数２〜８のアルキレン基（例えば、炭素原子数８〜１６のアルキレン・アリーレン基等）、ジメチルシリレン基やジエチルシリレン基等のジオルガノシリレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜８のアルキレン基相互が炭素原子数１〜４のシルアルキレン構造または炭素原子数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状または環状の２〜６価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状または環状の２〜６価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２〜１０のアルキレン基が結合している２〜６価の基などが挙げられ、好ましくは炭素原子数３〜１０のアルキレン基、フェニレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ジメチルシリレン基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、炭素原子数２〜４のアルキレン基相互が炭素原子数１〜４のシルアルキレン構造または炭素原子数６〜１０のシルアリーレン構造を介して結合している２価の基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状の２価のオルガノポリシロキサン残基を含む炭素原子数２〜６のアルキレン基、ケイ素原子数２〜１０個の直鎖状またはケイ素原子数３〜１０個の分岐状もしくは環状の２〜４価のオルガノポリシロキサン残基の結合手に炭素原子数２〜１０のアルキレン基が結合している２〜４価の基であり、さらに好ましくは炭素原子数３〜６のアルキレン基である。

Ｙの具体的な構造としては、例えば以下のような構造を挙げることができる。なお、以下の例示の２価の基において、Ｙとして記載している構造の左側が、−Ｙ−Ｏ−で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合し；２以上の結合手を有する基においては、少なくとも１の結合手がβ１を付して括弧で括られた基と結合し、少なくとも１の結合手が−Ｙ−Ｏ−で表される基に含まれる“Ｏ”原子に結合する。

Ｘ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、または−Ｒ^７３−で表される基であり、より好ましくは、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１であり、ｎ２２は０であり、Ｒ^７１は−（ＣＨ_２）_ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ^３は−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）であり、Ｒ^７３は−（ＣＨ_２）_ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。

Ｘ^ａ１の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ_３−
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−
−（ＣＨ_２）_２−
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＣＨ_３−、
−ＳＯ_２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ^ａ１として記載している構造の左側がβ１を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。

Ｘ^ａ２は、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ^ａ２は、好ましくは、炭素原子数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。

ｔは、それぞれ独立して、２〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは２〜６の整数である。

Ｒ^３１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

Ｒ^３２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

一の態様において、Ｒ^３２は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。加水分解可能な基は上記と同意義である。

Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくはメチル基である。

式（Ａ１）において、ｍ１は、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在する。即ち、すべてのｍ１が同時に０になることはない。

式（Ａ１）中、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。言い換えると、式（Ａ１）において、ｍ１が１以上のＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２存在することが好ましい。

式（Ａ１）中、好ましくはｍ１が２または３、より好ましくはｍ１が３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１存在する。

好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は１〜３の整数であり、さらに好ましくは、２または３である。

より好ましくは、式（Ａ１）において、ｍ１は３である。言い換えると、式（Ａ１）において、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−で表される基は、Ｒ^ａ _３Ｓｉ−で表される。

式（Ａ２）について以下に説明する。

β２は、１〜９の整数である。β２は、Ｘ^ａ３の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ^ａ３が１０価の有機基である場合、β２は９である。Ｘ^ａ３が単結合である場合、β２は１である。

Ｘ^ａ３は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘ^ａ２として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。

Ｘ^ａ３は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^ａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘ^ａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ２）」に、「β１」は「β２」にそれぞれ読み替えることとする。

特に好ましいＸ^ａ３としては、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、または−Ｒ^７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ^７１は−（ＣＨ_２）_ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ^３は−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ^７３は−（ＣＨ_２）_ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。

Ｘ^ａ３の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ_３−
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−
−（ＣＨ_２）_２−
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＣＨ_３−、
−ＳＯ_２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ^ａ３として記載している構造の左側がβ２を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。

式（Ａ２）において、ｍ１は、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在する。

式（Ａ２）において、好ましくは、ｍ１は１〜３であり、さらに好ましくは、２または３である。

より好ましくは、式（Ａ２）において、ｍ１は３である。言い換えると、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−で表される基は、Ｒ^ａ _３Ｓｉ−で表される。

式（Ａ３）について以下に説明する。

β３は、１〜９の整数である。β３は、Ｘ^ａ４の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ^ａ４が１０価の有機基である場合、β３は９である。Ｘ^ａ４が単結合である場合、β３は１である。

Ｘ^ａ４は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘ^ａ４として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。

Ｘ^ａ４は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^ａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘ^ａ１に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ３）」に、「β１」は「β３」にそれぞれ読み替えることとする。

特に好ましいＸ^ａ４としては、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、または−Ｒ^７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基である。ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ^７１は−（ＣＨ_２）_ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ^３は−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ^７３は−（ＣＨ_２）_ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）であることが好ましい。

Ｘ^ａ４の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ_３−
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−
−（ＣＨ_２）_２−
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＣＨ_３−、
−ＳＯ_２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ^ａ４として記載している構造の左側がβ３を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。

Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−を表す。

Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ^１として記載している構造の左側が、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−で表される基に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。

上記Ｚ^１は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｌ１１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ１２−（式中、ｌ１１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ１２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ１３−（式中、ｌ１３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ３−であり得る。Ｚ^１が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３は、０〜６の整数である。

上記態様において、好ましくは、上記Ｚ^１は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ_１−３アルキレン基である。

Ｒ^４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ１’を表す。Ｒ^ｆ１’は、Ｒ^ｆ１と同意義である。

Ｒ^ｆ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｆ１において、Ｒ^４１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｆ１中にＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｆ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｆ１中において直鎖状に連結される−Ｚ^１−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ｆ１中においてＺ^１基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ^１Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ^１Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ^１基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺ^１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺ^１Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、Ｚ^１Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｆ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｆ１中のＺ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

Ｒ^４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

好ましくは、Ｒ^４２は、加水分解可能な基であり、より好ましくは、−ＯＲ^ａ１（式中、Ｒ^ａ１は、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらにに好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

一の態様において、Ｒ^４３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３である。

Ｒ^ｆ１中の末端のＲ^ｆ１’（Ｒ^ｆ１’が存在しない場合、Ｒ^ｆ１）において、上記ｒ２は、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。

Ｒ^ｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

一の態様において、Ｒ^ｆ３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３である。

式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部の少なくとも１つは、Ｒ^４２ _ｒ２’Ｒ^４３ _ｒ３’（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）_２Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３、ｒ２’とｒ３’との合計値が１）、または（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）_３Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）であり、好ましくは（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）_３Ｓｉ−（ここで、ｒ２およびｒ３の合計値が３）である。ここで、ｒ２は１〜３の整数であり、好ましくは、２または３である。式中、（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）の単位は、好ましくは（Ｒ^４２ _３Ｓｉ−Ｚ^１−）である。さらに好ましい態様において、式（Ａ３）で表される基の末端部は、すべて（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１）_３−Ｓｉ−、より好ましくは（Ｒ^４２ _３Ｓｉ−Ｚ^１）_３−Ｓｉ−であり得る。

一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることが特に好ましい。本態様において、ｒ２が１〜３であることが好ましく、２または３であることがより好ましく、３であることがさらに好ましい。

一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、かつ、ｒ２は、２または３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、２または３であることがさらに好ましい。

一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、かつ、ｒ２は、３であることが好ましく、ｐ１は、２または３であり、かつ、ｒ２は、３であることがより好ましく、ｐ１は、３であり、かつ、ｒ２は、３であることがさらに好ましい。

一の態様において、ｐ１は、１〜３の整数であり、Ｚ^１は、２価の有機基である。好ましくは、上記Ｚ^１は、式（Ａ３）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ｆ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。より好ましくは、上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｌ１１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ１２−（式中、ｌ１１は、１〜６の整数であり、ｌ１２は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ１３−（式中、ｌ１３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。

なお、式（Ａ２）で表される化合物と、式（Ａ３）で表される化合物とが重複する場合、式（Ａ２）で表される化合物を優先する。

式（Ａ４）について以下に説明する。

β４は、１〜９の整数である。β４は、Ｘ^ａ５の価数に応じて変化し得る。例えば、Ｘ^ａ５が１０価の有機基である場合、β４は９である。Ｘ^ａ５が単結合である場合、β４は１である。

Ｘ^ａ５は、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは、２価または３価の有機基であり、２価の有機基であってもよい。なお、本明細書において、Ｘ^ａ５として記載している構造の右側がトリアジン環に結合する。

Ｘ^ａ５は、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ^ａ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。なお、Ｘ^ａ５に関する記載において、「式（Ａ１）」は「式（Ａ４）」に、「β１」は「β４」にそれぞれ読み替えることとする。

特に好ましいＸ^ａ５としては、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、または−Ｒ^７３−で表される基を挙げることができ、より好ましくは、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−で表される基である。式中、ｎ２１は１、ｎ２２は０、Ｒ^７１は−（ＣＨ_２）_ｎ２３−（ｎ２３は、１〜６の整数であり、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２である。）、Ｘ^３は−Ｏ−、または−ＮＲ^３−（例えば、−ＮＨ−）、Ｒ^７３は−（ＣＨ_２）_ｎ２７−（ｎ２７は、１〜６の整数、好ましくは１〜３の整数）である。

Ｘ^ａ５の具体的な例としては、
単結合、
−Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−、
−（ＣＨ_２）_４−Ｏ−、
−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＯＣ（＝Ｏ）−、
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、
−ＮＨＣＨ_２−Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３Ｃ（＝Ｏ）−、
−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＨ−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＮＣＨ_３−
−ＣＨ_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_２−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_３−ＮＣＨ_３−、
−（ＣＨ_２）_４−ＮＨ−、
−ＣＨ_２−
−（ＣＨ_２）_２−
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−、
−ＣＨ_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓ−、
−（ＣＨ_２）_３−Ｓ−、
−ＳＯ_２ＮＨ−、
−ＳＯ_２ＮＣＨ_３−、
−ＳＯ_２−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）−Ｏ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−、
−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
−ＣＨ_２ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−、
を挙げることができる。ただし、本明細書において、Ｘ^ａ５として記載している構造の左側がβ４を付して括弧でくくられた基に、右側がトリアジン環に、それぞれ結合する。

Ｒ^ｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−を表す。

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ^２として記載している構造の左側が、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−で表される基に含まれる“Ｃ”原子に結合する。

上記Ｚ^２は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ａ４）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ｇ１が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｌ２１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ２２−（式中、ｌ２１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ２２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ２３−（式中、ｌ２３は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｇ１’を表す。Ｒ^ｇ１’は、Ｒ^ｇ１と同意義である。

Ｒ^ｇ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｇ１において、Ｒ^５１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｇ１中にＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｇ１中のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｇ１中において直鎖状に連結される−Ｚ^２−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｇ１中のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｇ１のＺ^２基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^３−を表す。

Ｒ^ａ、およびＲ^ｂは、それぞれ上記と同意義である。

式（Ａ４）において、ｍ１は、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）単位毎に独立して、０〜３の整数である。ただし、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。

Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。なお、Ｚ^３で表される基は、左側がＲ^５２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｌ３１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３２−（式中、ｌ３１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ３２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ３３−（式中、ｌ３３は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ３３−であり得る。Ｚ^３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３は、０〜６の整数である。

好ましくは、上記Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ_２−３アルキレン基である。

Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

一の態様において、Ｒ^５３は、炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）である。

ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３である。

Ｒ^ｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−を表す。なお、Ｚ^４で表される基は、左側がＲ^ｇ２に含まれる“Ｓｉ”原子に結合する。

Ｒ^ａ、およびＲ^ｂは、上記と同意義である。

一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｌ３１’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ３２’−（式中、ｌ３１’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｌ３２’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ３３’−（式中、ｌ３３’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｌ３３’−であり得る。Ｚ^４が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。式中、ｌ３３’は、０〜６の整数である。

好ましくは、上記Ｚ^４は、Ｃ_１−６アルキレン基であり、より好ましくは、Ｃ_２−３アルキレン基である。

Ｒ^ｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し、好ましくは、水素原子、水酸基または１価の有機基であり、より好ましくは、水素原子、水酸基または炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子、水酸基または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基）である。

ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^ｇ３ _ｑ３Ｒ^ｇ２ _ｑ２Ｒ^ｇ１ _ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３である。

一の態様において、少なくとも１のｑ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。

一の態様において、ｑ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３であり、より好ましくは３である。

一の態様において、ｑ２は２または３であり、好ましくは３である。

式（Ａ４）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２存在することが好ましい。即ち、式（Ａ４）において、Ｒ^５２（ただし、該Ｒ^５２において、ｍ１は１〜３の整数）またはＲ^ｇ２（ただし、、該Ｒ^ｇ２において、ｍ１は１〜３の整数）が少なくとも２存在することが好ましい。言い換えると、式（Ａ４）において、少なくとも２つのｍ１が１以上であることが好ましい。ｍ１は、より好ましくは２または３であり、さらに好ましくは３である。このような構成を有することにより、ポリエーテル基含有化合物は、より良好な紫外線耐久性、撥水性、撥油性、防汚性（例えば土壌や指紋等の汚れの付着を防止する）、耐熱性、高い摩擦耐久性、耐加水分解性、耐ケミカル性、防湿性、防曇性等、特に、良好な紫外線耐久性、高い摩擦耐久性、耐ケミカル性等を有する表面処理層を形成し得る。

式（Ａ４）において、好ましくは、Ｒ^ｇ３（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）_２−Ｃ−または（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）_３−Ｃ−で表される基が存在し、より好ましくは（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）_３−Ｃ−で表される基が存在する。ここで、ｍ１は１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

式（Ａ４）において、好ましくは、ｍ１は１〜３であり、より好ましくは３である。

一の態様において、式（Ａ４）において、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−）の単位は、Ｒ^ａ _２Ｒ^ｂＳｉ−またはＲ^ａ _３Ｓｉ−であり、好ましくはＲ^ａ _３Ｓｉ−である。

式（Ａ４）において、好ましくは、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が１〜３の整数である。

一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が２または３、より好ましくは、ｑ２が１〜３の整数であり、ｍ１が３である。

一の態様において、式（Ａ４）において、ｑ２が２または３であり、ｍ１が１〜３の整数、より好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が１〜３の整数であり、さらに好ましくは、ｑ２が３であり、ｍ１が３である。

好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
Ｒのうち１がＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、Ｒのうち２がＲ^Ｓｉ−で表される基であり；
Ｒ^Ｓｉ−で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ）_３−Ｘ^ａ３−で表される基、（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）_３−Ｓｉ−Ｘ^ａ４−で表される基、または（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−）_３−Ｃ−Ｘ^ａ５−で表される基である。
［式中：
Ｒｆが、炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキル基を表し；
Ｘ^ｆ１は、（Ｘ^ｆ１１）_ｚで表される基であり；
Ｘ^ｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、０であり；
ＰＥは、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
Ｘ^ｆ２は、（Ｏ）_ｙ、または（ＮＨ）_ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）_ｙで表される基であり；
ｙは、０または１であり；
Ｘ^１は、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−で表される基であり；
Ｒ^１１は、−（ＣＨ_２）_ｎ１１−で表され；
ｎ１１は、１〜３の整数であり、好ましくは１または２であり；
ｎ１６は、１であり；
Ｘ^１１は、−Ｏ−または−ＮＨ−であり
ｎ１７は、０であり；
Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４またはＸ^ａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−であり；
Ｒ^７１は、−（ＣＨ_２）_ｎ２３−であり（ｎ２３は、１〜３の整数、より好ましくは１または２である）；
ｎ２１は１であり；
Ｘ^３は、−Ｏ−、または−ＮＨ−で表される基であり；
ｎ２２は、０であり；
Ｚ^１は、Ｃ_１−３アルキレン基であり；
Ｚ^４は、Ｃ_１−３アルキレン基であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｂは、メチル基であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
Ｒ^４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］

上記態様において、より好ましくは、Ｒ^Ｓｉ−で表される基が、同一の構造を有する。例えば、Ｒ^Ｓｉ−で表される基は、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−）_３−Ｃ−Ｘ^ａ５−で表される基である。

別の好ましい態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物は、
Ｒのうち２がＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、Ｒのうち１がＲ^Ｓｉ−で表される基であり；
Ｒ^Ｓｉ−で表される基が、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ）_３−Ｘ^ａ３−で表される基、（Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−）_３−Ｓｉ−Ｘ^ａ４−で表される基、または（Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−）_３−Ｃ−Ｘ^ａ５−で表される基である。
［式中：
Ｒｆが、炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキル基を表し；
Ｘ^ｆ１は、（Ｘ^ｆ１１）_ｚで表される基であり；
Ｘ^ｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
ｚは、０であり；
ＰＥは、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
で表される基であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子であり；
Ｘ^ｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、（Ｏ）_ｙ、または（ＮＨ）_ｙで表される基であり、好ましくは、（Ｏ）_ｙで表される基であり；
ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^１は、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７で表される基であり；
Ｒ^１１は、−（ＣＨ_２）_ｎ１１−で表され；
ｎ１１は、１〜３の整数であり、好ましくは１または２であり；
ｎ１６は、１であり；
Ｘ^１１は、−Ｏ−または−ＮＨ−であり
ｎ１７は、０であり；
Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４またはＸ^ａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−であり；
Ｒ^７１は、−（ＣＨ_２）_ｎ２３−であり（ｎ２３は、１〜３の整数、より好ましくは１または２である）；
ｎ２１は１であり；
Ｘ^３は、−Ｏ−、または−ＮＨ−で表される基であり；
ｎ２２は、０であり；
Ｚ^１は、Ｃ_１−３アルキレン基であり；
Ｚ^４は、Ｃ_１−３アルキレン基であり；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｂは、メチル基であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数、好ましくは３であり；
Ｒ^４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１〜６のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基）であり；
ｒ２は２または３であり、かつｒ２とｒ３との合計値が３、好ましくはｒ２は３である。］

［組成物］
本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、溶媒、含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤、ゾルーゲル、炭化水素系重合体、含フッ素重合体、ラジカル補足剤、無機多孔質、脱水剤、または脱ハロゲン化合物等を含み得る。

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ガルデンＨＴ ＰＦＰＥ、ＡＥ−３０００、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ｍ−ヘキサフルオロメタキシレン、ヘキサフルオロベンゼン、パーフルオロヘキサン等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

別の態様において、本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、および水からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。

含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）としては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−Ｒｆ^６ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”−（ＯＣＦ_２）_ｄ”−Ｒｆ^６ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３−Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

上記含フッ素オイルは、５００〜１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。本態様は、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には特に有利である。

一の態様において、ポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、本開示の組成物は、該組成物を用いて形成される硬化物の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本開示のポリエーテル基含有化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物は、さらに、以下の式で示す化合物、または以下の式で示す化合物のうち、Ｒ^Ｓｉ’で表される基を有する化合物において、少なくともＲ^Ｓｉ’で表される基の一部をヒドロシリル化して生じる化合物を含み得る。本開示の組成物は、以下の式で示す化合物、または上述した以下の式で示す化合物をヒドロシリル化して生じる化合物を、本開示の組成物中に、例えば、１質量ｐｐｍ〜１質量％、または１０質量ｐｐｍ〜０．１質量％含み得る。

式中、
Ｒ^ＰＥは、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり；
Ｒ^ＰＥで表される基における各記号はそれぞれ上記と同意義であり；
Ｒ^Ｓｉ’は、各出現においてそれぞれ独立して、末端に−ＣＨ＝ＣＨ_２を有する１価の有機基であり、好ましくはヒドロシリル化することによってＲ^Ｓｉで表される基となる基である。

一の態様において、本開示の組成物は、さらに、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ａｌ等を含む金属、金属酸化物または金属塩；Ｓｉを含む化合物、酸化物または塩を含み得る。本開示の組成物は、金属、金属酸化物またはその塩を、本開示の組成物中に、例えば、１０質量ｐｐｂ〜１質量％、または１００質量ｐｐｂ〜０．１質量％含み得る。

一の態様において、本開示の組成物は、さらに、有機アミン、またはその塩酸塩を含み得る。
本開示の組成物は、有機アミン、またはその塩を、例えば、１質量ｐｐｍ〜１質量％、または１０質量ｐｐｍ〜０．１質量％含み得る。

［製造方法］
次に、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法の一例について説明する。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は以下に限定されない。

本開示の例示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
工程（１）：
以下の式（ＩＩ）：

で表される化合物を、ＨＳｉＭ^２ _３、および、所望によりＲ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：

で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。

本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、工程（Ｉ）の前に、さらに以下の工程を含み得る。

工程（２）：
以下の式（ＩＩＩ）：

で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：

で表される化合物を得る工程。各記号については、後述する。

以下、各工程について詳細に説明する。

（工程（１））
工程（１）は、式（ＩＩ）：

で表される化合物を、ＨＳｉＭ^２ _３、および、所望によりＲ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物、および／または式：Ｒ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物と反応させ、式（Ｉ）：

で表される化合物を得る工程である。

式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒ’−のうち１または２がＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒ’−のうち１または２がＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であり；
ただし、式（ＩＩ）で表される化合物毎に、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基の数、および、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数の合計数は３である。
例えば、Ｒ’のうち、１がＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、２がＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であってもよく；２がＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、１がＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基であってもよい。

なお、工程（１）における反応に、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−で表される基は関与しない。従って、式（ＩＩ）におけるＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基は、式（Ｉ）における（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基（α＝１）に、相当する。

Ｒｆ、Ｘ^ｆ１、ＰＥ、Ｘ^ｆ２およびＸ^１は、それぞれ上記と同意義である。

Ｘ’は、トリアジン環とＳｉ原子とをつなぐリンカー部分の一部となる。例えば、式（Ｉ）において、Ｒ^Ｓｉ−で表される基が式（Ａ２）で表される基である場合、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｘ’−で表される構造がＸ^ａ３で表される基に相当する。

Ｒ^ａ、およびＲ^ｂは、それぞれ上記と同意義である。
Ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａと結合可能な基を表す。
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数である。
Ｌ”は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｂと結合可能な基を表す。
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数である。

式（ＩＩ）で表される化合物は、後述する工程（２）において得られる化合物であってもよい。

式（ＩＩ）で表される化合物が、ＨＳｉＭ^２ _３と反応することにより、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基が、ＳｉＭ^２ _３−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｘ’−で表される基に変換される。
Ｍ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ）またはＣ_１−６アルコキシ基であり、好ましくはＣｌである。該化合物は、市販されているか、または市販されている化合物から、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

ＨＳｉＭ^２ _３の量は、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ_２＝ＣＨ−基（２種以上の化合物を用いる場合にはその合計、以下も同様）１モルに対して、１モル以上であればよいが、好ましくは２モルである。

上記反応において、Ｒ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲ^ａ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

上記反応において、Ｒ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物を用いる場合、その使用量は、導入したいＲ^ｂ基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

工程（１）の反応においては、最初に、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ_２＝ＣＨ−基とＨＳｉＭ^２ _３が反応して、末端がＳｉＭ^２ _３−ＣＨ_２ＣＨ_２−基に変換される。ついで、この末端ＳｉＭ^２ _３−ＣＨ_２ＣＨ_２−基と、Ｒ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物が反応して、Ｍ^２がＲ^ａまたはＲ^ｂにより置換される。なお、Ｒ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物およびＲ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物は、同時または別個に反応させてもよい。

しかしながら、本開示の一の態様においては、ＨＳｉＭ^２ _３、Ｒ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物、およびＲ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物を、ＨＳｉ（Ｒ^ａ _ｋ１）（Ｒ^ｂ _ｋ２）（この場合、ｋ１＋ｋ２は３である）で表される化合物として用いることもできる。ＨＳｉ（Ｒ^ａ _ｋ１）（Ｒ^ｂ _ｋ２）で表される化合物は、当業者であれば、当該技術分野における通常の技術を用いて製造することができる。

別の態様において、工程（１）におけるＲ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ_２＝ＣＨ−基１モルに対して３モル以上とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ^２ _３−ＣＨ_２ＣＨ_２−のＭ^２を、実質的にすべてＲ^ａまたはＲ^ｂにより置換することができる。

さらに別の態様において、工程（１）におけるＲ^ａ _ｋ１Ｌ’で表される化合物および／またはＲ^ｂ _ｋ２Ｌ”で表される化合物の使用量の合計を、上記式（ＩＩ）で表される化合物の末端ＣＨ_２＝ＣＨ−基１モルに対して０以上３モル未満とする。かかる態様によれば、工程（１）の反応において生じる末端ＳｉＭ^２ _３−ＣＨ_２ＣＨ_２−のＭ^２のすべてまたはいくつかが、Ｒ^ａまたはＲ^ｂにより置換されることなく残り得る。このように残ったＭ−Ｓｉ部を、式：Ｈａｌ−Ｊ−Ｚ’−ＣＨ＝ＣＨ_２（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｊは、Ｍｇ、ＣｕまたはＺｎを表し、Ｚ’は結合または２価の有機基を表す。）で表される化合物と反応させることにより、再度、末端部をＣＨ_２＝ＣＨ−とすることができ、工程（１）と同様の反応に付すことが可能になる。この操作を繰り返すことにより、上記式（ＩＩ）で示される化合物の末端に、リンカー部を介してＳｉ原子をツリー状に連結させることができる。

工程（１）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。

適当な触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が挙げられる。かかる触媒は任意の形態、例えば錯体の形態であってもよい。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン等が挙げられる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

本明細書において、常温とは、例えば、０〜４０℃を示す。

式（Ｉ）において、Ｒは上記と同意義である。ただし、式（Ｉ）における（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基の数、および、Ｒ^Ｓｉ−で表される基の数は、それぞれ、式（ＩＩ）におけるＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基の数、および、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数に相当する。

（工程（２））
工程（２）は、以下の式（ＩＩＩ）：

で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、式（ＩＩ）：

で表される化合物を得る工程である。

Ｍ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、ハロゲン原子（即ち、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、好ましくは、Ｃｌ）であり；
Ｒ’は、工程（１）において記載したとおりである。

工程（２）において、
Ｒｆ、Ｘ^ｆ１ _、ＰＥ、Ｘ^１、Ｘ^ｆ２およびＸ’は、それぞれ上記と同意義であり；
Ｇは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、またはＮＨ_２−であり；
Ｇ’は、各出現においてそれぞれ独立して、ＮＨ_２−、水酸基、またはＳＨ−である。

工程（２）において、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−Ｇで表される化合物、およびＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物のその使用量は、導入したいＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基およびのＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の量に応じて変化させることができ、このような量は、当業者であれば、適宜決定することができる。

一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｇで表される化合物、および、２モルのＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の１つがＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、および、２つがＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。

一の態様において、工程（２）は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｇで表される化合物、および、１モルのＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物を反応させ、式（ＩＩ）で表される化合物を得ることである。本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の２つがＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、および、１つがＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。

工程（２）の反応は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行うことが好ましい。

適当な触媒としては、塩基性の化合物を用いることが好ましく、例えば、三級アミン、アミノ基を有する複素環式化合物等のアミン系触媒；カリウム、ナトリウム、セシウム等の塩類を挙げることでき、具体的には、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン）、ピリジン、２，６−ルチジン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙げることができる。

一の態様において、上記触媒は、三級アミンである。

適当な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではなく、例えば、炭化水素系溶媒、フッ素含有溶媒等を用いることができ、具体的には、ヘキサフルオロベンゼン、ｍ−ヘキサフルオロキシレン、パーフルオロブチルエチルエーテル、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、ゼオローラＨ、パーフルオロヘキシルメチルエーテル、パーフルオロヘキサン、アセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、水等を用いることができる。

かかる反応における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、好ましくは常温〜８０℃であり、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、好ましくは１２０〜３００分であり、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

工程（２）は、以下のように実施することが好ましい。
工程（２−１）：以下の式（ＩＩＩ）：

で表される化合物を、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−Ｇで表される化合物と反応させ、Ｍ^１で表される基をＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基に変換する工程；および
工程（２−２）：工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ^１で表される基をＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する工程。

上記工程（２−１）において、Ｍ’で表される基の１または２が、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基に変換され、上記工程（２−２）において、Ｍ’で表される基の１または２がＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換される。ただし、Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基の数およびＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基の数は２または３である。

上記工程（２−１）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。

上記工程（２−１）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、例えば室温（具体的には１０〜３０℃）で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、必要に応じて例えば２４時間であってもよく、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

上記工程（２−２）は、適当な触媒の存在下、適当な溶媒中で行い得る。例えば、工程（２）において記載した触媒および溶媒を用いることができる。

上記工程（２−２）における反応温度は、特に限定されないが、通常、０〜１００℃、例えば常温〜８０℃で行い得、反応時間は、特に限定されないが、通常、６０〜６００分、反応圧力は、特に限定されないが、−０．２〜１ＭＰａ（ゲージ圧）であり、簡便には常圧である。

一の態様において、
工程（２−１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、１モルのＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｇで表される化合物を反応させ、
工程（２−２）において、工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ^１で表される基をＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する。
本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の１つがＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、および、２つがＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
本態様において、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、２モル、２〜３モル、または２〜１０モル加え得る。

一の態様において、
工程（２−１）において、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、２モルのＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｇで表される化合物を反応させ、
工程（２−２）において、工程（２−１）で得られた化合物を、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物と反応させ、Ｍ^１で表される基をＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基に変換する。
本態様は、式（ＩＩ）で表される化合物において、Ｒ’−の２つがＲｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２−Ｘ^１−で表される基であり、および、１つがＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−で表される基である化合物の合成に適する。
本態様において、ＣＨ_２＝ＣＨ−Ｘ’−Ｇ’で表される化合物は、式（ＩＩＩ）で表される化合物１モルに対して、例えば、１モル、１〜２モル、または１〜１０モル加え得る。

さらに、必要により、反応液の濃縮工程、洗浄工程等を行い得る。

以上、本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法について説明した。本開示のポリエーテル基含有化合物の製造方法は、上記で例示した製造方法に限定されない。

本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用い得る。

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

［物品］
以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のポリエーテル基含有化合物、または本開示のポリエーテル基含有化合物を含む組成物（表面処理剤）（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」と言う）より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

一の態様において、本開示の表面処理剤の層形成は、基材の表面に本開示の表面処理剤を塗布、真空蒸着によって行い得る。その後、必要に応じて乾燥等の処理を行い得る。

上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本開示はさらに、前記硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示のポリエーテル基含有化合物またはポリエーテル基含有化合物を含む組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

以上、実施形態について説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

本開示のポリエーテル基含有化合物について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本開示はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。

（合成例１）
シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨの水酸基β位−ＣＦ_２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ａ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：

（合成例２）
合成例１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ａ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｂ）４．７ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：

（合成例３）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
この反応液に４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、^１９Ｆ−ＮＭＲによって、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨの水酸基β位−ＣＦ_２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）：

（合成例４）
合成例３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｃ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｄ）４．６ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：

（合成例５）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、室温で一昼夜撹拌した。その後、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱して、８時間撹拌した。
４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）：

（合成例６）
合成例５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｅ）２．５ｇを用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）２．６ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）：

（合成例７）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ１．２５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミンおよびジイソプロピルエチルアミンを加える以降の操作は、合成例３と同様に行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：

（合成例８）
合成例７で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｇ）を３．８ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）３．５ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）：

（合成例９）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨ２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨの水酸基β位―ＣＦ_２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）：

（合成例１０）
合成例９で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｉ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）４．０ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）：

（合成例１１）
シアヌル酸クロライド０．２３ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）５．０ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。この反応液に、アリルアミン０．３５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．３４ｇを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨの水酸基β位−ＣＦ_２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）：

（合成例１２）
合成例１１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｋ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０２ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．０６ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシランを１．０ｇ仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱し４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｌ）４．２ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）：

（合成例１３）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇおよびジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇを加え、５０℃に加熱し、８時間撹拌した。
この反応液に４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．３５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．０９ｇとを加え、５０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は、^１９Ｆ−ＮＭＲによって、ＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨの水酸基β位−ＣＦ_２−のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および、^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）：

（合成例１４）
合成例１３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｍ）を５．０ｇ、ｍ−ヘキサフルオロキシレンを２０ｍｌ、トリアセトキシメチルシランを０．０３ｇ、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１ｍｌ、それぞれ加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、１０℃で３０分間撹拌し、続いて、５０℃に加熱して、４時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇおよびオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、５０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有するポリエーテル基含有化合物（Ｎ）４．０ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｎ）：

（合成例１５）
シアヌル酸クロライド０．１７ｇをヘキサフルオロベンゼン３ｍｌに溶解させた。ヘキサフルオロベンゼンに溶解したＣＦ_３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ−（ＯＣＦ_２）_ｎ−ＣＨ_２ＯＨ（ｍ≒２２、ｎ≒３４）２．５ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを混合し、室温で一昼夜撹拌した。その後、上記反応液に、４−［２，２−ジ（２−プロピレニル）］ペンテニルアミン０．７ｇとジイソプロピルエチルアミン０．１７ｇとを加え、８０℃に加熱し、６時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ−ＮＭＲによってＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍＯＣＦ_２ＣＨ_２−ＯＨの水酸基β位―ＣＦ_２―のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、および^１Ｈ−ＮＭＲによって、アリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことによりを確認した。反応液を濃縮し、濃縮液をアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｏ）：

（合成例１６）
合成例１５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｏ）を３．９ｇ用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）３．５ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（Ｐ）：

（実施例１）
上記合成例２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｂ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。

（実施例２）
上記合成例４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｄ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。

（実施例３）
上記合成例６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｆ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。

（実施例４）
上記合成例８で得たポリエーテル基含有化合物（Ｈ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。

（実施例５）
上記合成例１０で得たポリエーテル基含有化合物（Ｊ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（５）を調製した。

（実施例６）
上記合成例１２で得たポリエーテル基含有化合物（Ｌ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（６）を調製した。

（実施例７）
上記合成例１４で得たポリエーテル基含有化合物（Ｎ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（７）を調製した。

（実施例８）
上記合成例１６で得たポリエーテル基含有化合物（Ｐ）を、濃度１ｍａｓｓ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ−７３００）に溶解させて、表面処理剤（８）を調製した。

（比較例１、２）
ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）の代わりに、下記対照化合物（１）および（２）を用いた以外は、実施例４と同様に行い、比較表面処理剤（１）および（２）をそれぞれ調製した。
対照化合物（１）

対照化合物（２）

（静的接触角）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。
＜静的接触角の測定方法＞
静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水またはｎ−ヘキサデカンを２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。

（硬化膜の形成）
表面処理剤（１）〜（８）、および比較表面処理剤（１）〜（２）をそれぞれ用いて、以下のように硬化膜を形成した。

表面処理剤または比較表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。

［硬化膜の特性評価］
得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。

＜静的接触角＞
（初期評価）
まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
（エタノール拭き後の評価）
次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。

＜指紋付着性および拭き取り性＞
（指紋付着性）
表面処理剤または比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。
（指紋拭き取り性）
上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。

上記の一連の評価結果を以下の表１にまとめた。

表面処理剤（１）〜（８）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）および（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）または（２）で形成された硬化膜では、ケミカル耐性（耐溶剤性）が悪いためと考えられる。
上記のように、表面処理剤（１）〜（８）の方が、比較表面処理剤よりも優れていることが示された。表面処理剤（１）〜（８）を用いて形成された硬化膜では、指紋付着性および指紋拭き取り性の双方において良好な評価が得られた。

本開示は、種々多様な基材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (17)

1. 式（Ｉ）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ−のうち１または２が（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基であり、かつ、Ｒ−のうち１または２がＲ^Ｓｉ−で表される基であり；
   ただし、（Ｒｆ−Ｘ^ｆ１−ＰＥ−Ｘ^ｆ２）_α−Ｘ^１−で表される基の数、およびＲ^Ｓｉ−で表される基の数の合計数は３であり；
   αは、１〜９の整数であり；
   Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素原子数１〜１６のアルキル基を表し；
   ＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
   （ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、Ｘ^１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
   Ｘ^ｆ１は、（Ｘ^ｆ１１）_ｚで表され；
   Ｘ^ｆ１１は、炭素原子数１〜６のアルキレン基であり、水素原子がフッ素原子により置換されていてもよく；
   ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   Ｘ^ｆ２は、（Ｏ）_ｙまたは（ＮＨ）_ｙで表され；
   ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。）
   で表される基であり；
   Ｘ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基であり；
   Ｒ^Ｓｉ−で表される基は、各出現においてそれぞれ独立して、以下の式（Ａ１）〜（Ａ４）：
   

   

   で表される基のいずれかであり；
   Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
   Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
   ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４、およびＸ^ａ５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、−ＮＨ−、−ＳＯ_２ＮＨ−、−ＳＯ_２−、または２〜１０価の有機基を表し；
   Ｘ^ａ２は、単結合または２価の有機基を表し；
   β１、β２、β３およびβ４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
   Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
   Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
   ただし、式（Ａ１）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し、式（Ａ２）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも１つ存在し；
   Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−を表し；
   Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^４１は各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｆ１’を表し；
   Ｒ^ｆ１’は、Ｒ^ｆ１と同意義であり；
   Ｒ^ｆ１中、Ｚ^１基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
   Ｒ^４２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^４３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
   ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、Ｒ^４１ _ｒ１Ｒ^４２ _ｒ２Ｒ^４３ _ｒ３Ｓｉ−Ｚ^１−毎において、ｒ１、ｒ２およびｒ３の和は３であり；
   Ｒ^ｆ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
   Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基を表し；
   ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｐ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、Ｒ^ｆ３ _ｐ３Ｒ^ｆ２ _ｐ２Ｒ^ｆ１ _ｐ１Ｓｉ−毎において、ｐ１、ｐ２およびｐ３の和は３であり、式（Ａ３）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在し；
   Ｒ^ｇ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−を表し；
   Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｇ１’を表し；
   Ｒ^ｇ１’は、Ｒ^ｇ１と同意義であり；
   Ｒ^ｇ１中、Ｚ^２基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり；
   Ｒ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^３−を表し；
   Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
   ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｓ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、Ｒ^５１ _ｓ１Ｒ^５２ _ｓ２Ｒ^５３ _ｓ３Ｃ−Ｚ^２−毎において、ｓ１、ｓ２およびｓ３の和は３であり；
   Ｒ^ｇ２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−Ｚ^４−を表し；
   Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
   Ｒ^ｇ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基を表し；
   ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ３は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ただし、Ｒ^ｇ３ _ｑ３Ｒ^ｇ２ _ｑ２Ｒ^ｇ１ _ｑ１Ｃ−毎において、ｑ１、ｑ２およびｑ３の和は３であり、式（Ａ４）において、ｍ１が１〜３であるＲ^ａ _ｍ１Ｒ^ｂ _３−ｍ１Ｓｉ−が少なくとも２つ存在する。］
   で表されるポリエーテル基含有化合物。
2. Ｘ^１が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ^１１）_ｎ１６−）_２Ｎ−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、−（Ｒ^１１）_ｎ１６−Ｘ^１１−（Ｒ^１２）_ｎ１７−、または−Ｒ^１３−である、請求項１に記載のポリエーテル基含有化合物。
   ［式中：
   Ｒ^１１が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１１−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
   ｎ１１は、１〜２０の整数であり；
   Ｒ^１２が、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ１２−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基であり；
   ｎ１２は、１〜２０の整数であり；
   ｎ１６は、０または１であり；
   ｎ１７は、０または１であり；
   ただし、ｎ１６およびｎ１７の合計は１以上であり；
   Ｘ^１１が、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ^６１）_ｎ１４−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^６２）_２Ｏ）_ｎ１５−Ｓｉ（Ｒ^６２）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−であり；
   Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり；
   ｎ１４は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
   Ｒ^６２は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基であり；
   ｎ１５は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
   Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
   Ｒ^１３は、−（ＣＨ_２）_ｎ１３−を表し；
   ｎ１３は、１〜２０の整数である。］
3. αが２である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
4. αが１である、請求項１または２に記載のポリエーテル基含有化合物。
5. Ｘ^ａ１、Ｘ^ａ３、Ｘ^ａ４、およびＸ^ａ５が、各出現においてそれぞれ独立して、（−（Ｒ^７１）_ｎ２１−）_２Ｎ−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−（Ｒ^７１）_ｎ２１−Ｘ^３−（Ｒ^７２）_ｎ２２−、−Ｒ^７３−、または−Ｙ−Ｏ−である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
   ［式中：
   Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２３−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
   ｎ２３は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
   Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上のフッ素原子により置換されていてもよい−（ＣＨ_２）_ｎ２４−、またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
   ｎ２４は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２０の整数であり；
   ｎ２１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   ｎ２２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   ただし、ｎ２１およびｎ２２の合計は１以上であり；
   Ｘ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−（ＯＲ^７４）_ｎ２５−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^７５）_２Ｏ）_ｎ２６−Ｓｉ（Ｒ^７５）_２−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^３−、−ＮＲ^３−、−ＳＯ_２ＮＲ^３−、または−ＳＯ_２−であり；
   Ｒ^７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６のアルキレン基であり；
   ｎ２５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜５の整数であり；
   Ｒ^７５は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し；
   ｎ２６は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり；
   Ｒ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基または炭素原子数１〜６のアルキル基であり；
   Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_ｎ２７−を表し；
   ｎ２７は、１〜２０の整数であり；
   Ｙは、２〜６価の炭化水素基であって、ケイ素原子および／またはシロキサン結合を有する。］
6. ｍ１が、２または３である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
7. ｍ１が、３である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
8. ｐ１が、３、かつ、ｒ２が、３である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
9. 式（Ａ４）において、ｑ２が３、かつｍ１が３である、請求項１〜８のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
10. β１、β２、β３、またはβ４が、１である、請求項１〜９のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
11. Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
12. ＰＥが、以下の式（ａ）〜（ｃ）のいずれか：
    −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ａ）
    ［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
    −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｂ）
    ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり；
    ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり；
    ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０以上２００以下の整数であり；
    添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
    −（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｃ）
    ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
    Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
    ｇは、２〜１００の整数である。］
    で表される基である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物。
13. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物を含有する表面処理剤。
14. さらに溶媒を含む、請求項１３に記載の表面処理剤。
15. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１３または１４に記載の表面処理剤。
16. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のポリエーテル基含有化合物または請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
17. 前記物品が光学部材である、請求項１６に記載の物品。