JP2016213454A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、を有する半導体装置であって、
    前記第1のトランジスタは、
    第1のゲート電極と、
    前記第1のゲート電極上の第1の絶縁膜と、
    前記第1の絶縁膜上の第1の酸化物半導体膜と、
    前記第1の酸化物半導体膜に電気的に接続されるソース電極と、
    前記第1の酸化物半導体膜に電気的に接続されるドレイン電極と、
    前記第1の酸化物半導体膜上の第2の絶縁膜と、
    前記第2の絶縁膜上の第2のゲート電極として機能する第2の酸化物半導体膜と、
    前記第2の酸化物半導体膜上の第3の絶縁膜と、を有し、
    前記第2のトランジスタは、
    前記第2の絶縁膜上の、チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含む第3の酸化物半導体膜と、
    前記チャネル領域上の第4の絶縁膜と、
    前記第4の絶縁膜上の第3のゲート電極と、
    前記ソース領域、及び前記ドレイン領域上の前記第3の絶縁膜と、を有する半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1の酸化物半導体膜、前記第2の酸化物半導体膜、及び前記第3の酸化物半導体膜は、それぞれInと、M(MはAl、Ga、Y、またはSn)と、Znと、を有する半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第1の酸化物半導体膜、前記第2の酸化物半導体膜、及び前記第3の酸化物半導体膜の少なくともいずれか一つは、多層構造を有する半導体装置。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項において、
    前記第1の酸化物半導体膜、前記第2の酸化物半導体膜、及び前記第3の酸化物半導体膜の少なくともいずれか一つは、
    結晶部を有し、
    前記結晶部は、c軸配向性を有する半導体装置。
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