JP2012138382A5 - 表示装置、表示モジュール及び電子機器 - Google Patents

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  1. 第1の絶縁層と、
    前記第1の絶縁層上方の第1の導電層と、
    前記第1の絶縁層上方の第2の導電層と、
    前記第1の導電層上方及び前記第2の導電層上方の第2の絶縁層と、
    前記第1の導電層上方の有機化合物を含む層と、
    前記有機化合物を含む層上方の第3の導電層と、を有し、
    前記第2の絶縁層は、前記第1の導電層の一部と重なる第1の領域と、前記第2の導電層の一部と重なる第2の領域と、を有し、
    前記第1の領域における前記第2の絶縁層の膜厚は、前記第2の領域における前記第2の絶縁層の膜厚よりも小さい値を有することを特徴とする表示装置。
  2. 請求項1において、
    前記第2の導電層は、配線として機能する領域を有し、
    前記配線は、発光素子に流れる電流を供給することができる機能を有し、
    前記発光素子は、前記有機化合物を含む層の一部を有することを特徴とする表示装置。
  3. 表示装置と、
    FPCと、
    を有する表示モジュールであって、
    前記表示装置は、請求項1又は請求項2に記載の表示装置であることを特徴とする表示モジュール。
  4. 表示装置又は表示モジュールと、
    ハウジング、スピーカ、バッテリ又は操作キーと、
    を有する電子機器であって、
    前記表示装置は、請求項1又は請求項2に記載の表示装置であり、
    前記表示モジュールは、請求項3に記載の表示モジュールであることを特徴とする電子機器。
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Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7753751B2 (en) 2004-09-29 2010-07-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating the display device
TWI517378B (zh) * 2005-10-17 2016-01-11 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及其製造方法
JP5427390B2 (ja) * 2007-10-23 2014-02-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
KR101448903B1 (ko) * 2007-10-23 2014-10-13 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체장치 및 그의 제작방법
US7824939B2 (en) * 2007-10-23 2010-11-02 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing display device comprising separated and electrically connected source wiring layers
JP5380037B2 (ja) 2007-10-23 2014-01-08 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP5137798B2 (ja) 2007-12-03 2013-02-06 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
EP2232561A4 (en) * 2007-12-03 2015-05-06 Semiconductor Energy Lab METHOD OF MANUFACTURING A THIN FILM TRANSISTOR AND METHOD OF MANUFACTURING A DISPLAY ARRANGEMENT
US8101442B2 (en) * 2008-03-05 2012-01-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing EL display device
JP5430248B2 (ja) * 2008-06-24 2014-02-26 富士フイルム株式会社 薄膜電界効果型トランジスタおよび表示装置
JP5491833B2 (ja) * 2008-12-05 2014-05-14 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置
TWI607670B (zh) * 2009-01-08 2017-12-01 半導體能源研究所股份有限公司 發光裝置及電子裝置
KR101291434B1 (ko) 2009-07-31 2013-08-07 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 디바이스 및 그 형성 방법
KR20120068772A (ko) 2009-09-16 2012-06-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 장치 및 이의 제조 방법
DE112011101969B4 (de) * 2010-06-11 2018-05-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
KR101845480B1 (ko) * 2010-06-25 2018-04-04 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치의 제작 방법
KR20120026970A (ko) 2010-09-10 2012-03-20 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 발광 장치
JP5298244B2 (ja) 2010-10-19 2013-09-25 シャープ株式会社 蒸着装置
JP6302186B2 (ja) 2012-08-01 2018-03-28 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
JP6076683B2 (ja) 2012-10-17 2017-02-08 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
JP6204012B2 (ja) 2012-10-17 2017-09-27 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
KR102000642B1 (ko) * 2012-12-12 2019-07-17 엘지디스플레이 주식회사 고 휘도 유기발광 다이오드 표시장치
JP6155020B2 (ja) 2012-12-21 2017-06-28 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及びその製造方法
JP6216125B2 (ja) 2013-02-12 2017-10-18 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
JP6104649B2 (ja) 2013-03-08 2017-03-29 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
TWI666623B (zh) 2013-07-10 2019-07-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置、驅動器電路及顯示裝置
KR102142481B1 (ko) * 2013-12-30 2020-08-07 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자
CN103887261B (zh) * 2014-03-03 2016-08-31 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示器及其制备方法
TWI726843B (zh) 2014-05-30 2021-05-11 日商半導體能源研究所股份有限公司 觸控面板
KR102360783B1 (ko) 2014-09-16 2022-02-10 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102284756B1 (ko) 2014-09-23 2021-08-03 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
WO2016088394A1 (ja) 2014-12-04 2016-06-09 株式会社Joled 表示装置および電子機器
KR102337889B1 (ko) * 2015-02-16 2021-12-10 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102364863B1 (ko) * 2015-03-10 2022-02-18 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
CN104867963A (zh) * 2015-05-08 2015-08-26 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示基板及其制作方法、有机发光显示装置
JP6685675B2 (ja) * 2015-09-07 2020-04-22 株式会社Joled 有機el素子、それを用いた有機el表示パネル、及び有機el表示パネルの製造方法
US10304813B2 (en) * 2015-11-05 2019-05-28 Innolux Corporation Display device having a plurality of bank structures
KR102505879B1 (ko) * 2016-03-24 2023-03-06 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102651136B1 (ko) * 2016-04-12 2024-03-25 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
KR102568252B1 (ko) * 2016-07-21 2023-08-22 삼성디스플레이 주식회사 발광 장치 및 그의 제조방법
US9837682B1 (en) * 2016-08-29 2017-12-05 Microsoft Technology Licensing, Llc Variable layer thickness in curved battery cell
US10801101B2 (en) * 2017-08-17 2020-10-13 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Vapor evaporation source
WO2019064543A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 シャープ株式会社 表示デバイス、表示デバイスの製造方法および露光装置
JP6983080B2 (ja) * 2018-01-19 2021-12-17 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び表示装置の製造方法
KR102615115B1 (ko) 2018-05-11 2023-12-19 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
KR102607270B1 (ko) * 2018-07-17 2023-11-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
WO2020053932A1 (ja) * 2018-09-10 2020-03-19 シャープ株式会社 表示デバイス
CN109243305B (zh) * 2018-09-17 2021-10-12 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置和显示面板的制造方法
JP7236844B2 (ja) * 2018-11-12 2023-03-10 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置、及びその製造方法
CN110610972B (zh) * 2019-09-19 2022-06-03 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制备方法、显示装置
CN111666923B (zh) * 2020-07-02 2023-06-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板以及电子设备
CN112018264B (zh) * 2020-09-01 2023-04-28 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种发光基板及其制备方法
CN112767832B (zh) * 2020-12-22 2023-01-10 武汉天马微电子有限公司 一种显示装置

Family Cites Families (107)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4555622A (en) * 1982-11-30 1985-11-26 At&T Bell Laboratories Photodetector having semi-insulating material and a contoured, substantially periodic surface
JPS6043857A (ja) * 1983-08-20 1985-03-08 Mitsubishi Electric Corp 固体撮像装置とその製造方法
JPS6472557A (en) 1987-09-11 1989-03-17 Seiko Instr & Electronics Image sensor
US6037712A (en) 1996-06-10 2000-03-14 Tdk Corporation Organic electroluminescence display device and producing method thereof
JP3361029B2 (ja) 1997-03-19 2003-01-07 株式会社東芝 表示装置
US6465268B2 (en) 1997-05-22 2002-10-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing an electro-optical device
JP3520396B2 (ja) 1997-07-02 2004-04-19 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリクス基板と表示装置
JP3580092B2 (ja) 1997-08-21 2004-10-20 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリクス型表示装置
US6592933B2 (en) 1997-10-15 2003-07-15 Toray Industries, Inc. Process for manufacturing organic electroluminescent device
CN100530758C (zh) 1998-03-17 2009-08-19 精工爱普生株式会社 薄膜构图的衬底及其表面处理
JPH11339958A (ja) 1998-05-22 1999-12-10 Casio Comput Co Ltd 電界発光素子の製造方法
KR100697413B1 (ko) 1998-07-30 2007-03-19 마츠시타 덴끼 산교 가부시키가이샤 액정 표시 장치, 영상 디스플레이 장치, 정보 처리 장치, 및 그 제조 방법
JP4364957B2 (ja) 1998-10-22 2009-11-18 北陸電気工業株式会社 蒸着マスク
JP4186289B2 (ja) 1998-12-24 2008-11-26 凸版印刷株式会社 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用基板の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス表示素子の製造方法
US6469439B2 (en) 1999-06-15 2002-10-22 Toray Industries, Inc. Process for producing an organic electroluminescent device
US6952020B1 (en) 1999-07-06 2005-10-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
TW459275B (en) 1999-07-06 2001-10-11 Semiconductor Energy Lab Semiconductor device and method of fabricating the same
JP2001093666A (ja) * 1999-09-22 2001-04-06 Sharp Corp 有機ledディスプレイおよびその製造方法
JP3809758B2 (ja) 1999-10-28 2006-08-16 ソニー株式会社 表示装置及び表示装置の製造方法
EP1096568A3 (en) 1999-10-28 2007-10-24 Sony Corporation Display apparatus and method for fabricating the same
JP4776769B2 (ja) 1999-11-09 2011-09-21 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法
JP2001148291A (ja) 1999-11-19 2001-05-29 Sony Corp 表示装置及びその製造方法
US6821827B2 (en) 1999-12-28 2004-11-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing a semiconductor device
JP4132528B2 (ja) 2000-01-14 2008-08-13 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
US6559594B2 (en) 2000-02-03 2003-05-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device
TW484238B (en) 2000-03-27 2002-04-21 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and a method of manufacturing the same
JP4637391B2 (ja) 2000-03-27 2011-02-23 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法
US20010030511A1 (en) 2000-04-18 2001-10-18 Shunpei Yamazaki Display device
JP2002025781A (ja) * 2000-07-07 2002-01-25 Nec Corp 有機el素子およびその製造方法
US6739931B2 (en) 2000-09-18 2004-05-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method of fabricating the display device
JP2002164181A (ja) * 2000-09-18 2002-06-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置及びその作製方法
TW522752B (en) 2000-10-20 2003-03-01 Toshiba Corp Self-luminous display panel and method of manufacturing the same
JP5046452B2 (ja) 2000-10-26 2012-10-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP3695308B2 (ja) 2000-10-27 2005-09-14 日本電気株式会社 アクティブマトリクス有機el表示装置及びその製造方法
JP2002141512A (ja) * 2000-11-06 2002-05-17 Advanced Display Inc 薄膜のパターニング方法およびそれを用いたtftアレイ基板およびその製造方法
JP2002151252A (ja) 2000-11-16 2002-05-24 Stanley Electric Co Ltd 有機el表示装置
JP2002208484A (ja) 2001-01-12 2002-07-26 Tohoku Pioneer Corp 有機elディスプレイ及びその製造方法
US6720198B2 (en) 2001-02-19 2004-04-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and manufacturing method thereof
US6992439B2 (en) 2001-02-22 2006-01-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device with sealing structure for protecting organic light emitting element
JP4101529B2 (ja) * 2001-02-22 2008-06-18 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置及びその作製方法
JP2002289347A (ja) 2001-03-27 2002-10-04 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置、その製造方法、被着マスク及びその製造方法
JP3608613B2 (ja) 2001-03-28 2005-01-12 株式会社日立製作所 表示装置
JP4801278B2 (ja) 2001-04-23 2011-10-26 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及びその作製方法
JP2003059671A (ja) 2001-08-20 2003-02-28 Sony Corp 表示素子及びその製造方法
KR100626282B1 (ko) * 2001-09-28 2006-09-22 엘지전자 주식회사 유기전계발광소자의 마스크장치 및 이를 이용한 화소패터닝방법
JP2003123969A (ja) 2001-10-17 2003-04-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着用マスクおよび有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法
KR100944886B1 (ko) * 2001-10-30 2010-03-03 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치의 제조 방법
US6852997B2 (en) 2001-10-30 2005-02-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US7483001B2 (en) * 2001-11-21 2009-01-27 Seiko Epson Corporation Active matrix substrate, electro-optical device, and electronic device
JP3705264B2 (ja) * 2001-12-18 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 表示装置及び電子機器
JP4101511B2 (ja) * 2001-12-27 2008-06-18 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及びその作製方法
US6815723B2 (en) 2001-12-28 2004-11-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, method of manufacturing the same, and manufacturing apparatus therefor
KR100834344B1 (ko) * 2001-12-29 2008-06-02 엘지디스플레이 주식회사 능동행렬 유기전기발광소자 및 그의 제조 방법
KR100488953B1 (ko) 2001-12-31 2005-05-11 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 액정표시장치의 지주 스페이서 형성방법
SG143063A1 (en) 2002-01-24 2008-06-27 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and method of manufacturing the same
JP2003243171A (ja) 2002-02-18 2003-08-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルおよびその製造方法
JP3481232B2 (ja) 2002-03-05 2003-12-22 三洋電機株式会社 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法
JP2003280600A (ja) 2002-03-20 2003-10-02 Hitachi Ltd 表示装置およびその駆動方法
JP3989761B2 (ja) 2002-04-09 2007-10-10 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体表示装置
US7309269B2 (en) 2002-04-15 2007-12-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating light-emitting device and apparatus for manufacturing light-emitting device
JP2003317971A (ja) 2002-04-26 2003-11-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
TWI269248B (en) 2002-05-13 2006-12-21 Semiconductor Energy Lab Display device
TWI263339B (en) 2002-05-15 2006-10-01 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and method for manufacturing the same
US7230271B2 (en) 2002-06-11 2007-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device comprising film having hygroscopic property and transparency and manufacturing method thereof
US7042149B2 (en) * 2002-06-13 2006-05-09 Tfpd Corporation Circuit array substrate for display device
JP4094347B2 (ja) 2002-06-13 2008-06-04 株式会社ルネサステクノロジ データ転送装置
JP2004031262A (ja) 2002-06-28 2004-01-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスパネル
JP2004071558A (ja) * 2002-07-25 2004-03-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置の作製方法
SG130013A1 (en) 2002-07-25 2007-03-20 Semiconductor Energy Lab Method of fabricating light emitting device
US7307381B2 (en) 2002-07-31 2007-12-11 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electroluminescent display and process for producing the same
JP4170700B2 (ja) * 2002-07-31 2008-10-22 大日本印刷株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置および製造方法
JP2004083650A (ja) 2002-08-23 2004-03-18 Konica Minolta Holdings Inc 有機半導体材料及びそれを用いる薄膜トランジスタ素子
JP2004140799A (ja) * 2002-09-27 2004-05-13 Fuji Photo Film Co Ltd 撮像装置制御方法および装置並びにプログラム
JP2004127933A (ja) * 2002-09-11 2004-04-22 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
WO2004026002A1 (en) 2002-09-11 2004-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting apparatus and fabrication method of the same
US7094684B2 (en) 2002-09-20 2006-08-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of semiconductor device
US20040086639A1 (en) 2002-09-24 2004-05-06 Grantham Daniel Harrison Patterned thin-film deposition using collimating heated mask asembly
JP2004165067A (ja) 2002-11-14 2004-06-10 Sanyo Electric Co Ltd 有機電界発光パネル
CN100370491C (zh) 2002-12-10 2008-02-20 株式会社半导体能源研究所 发光装置及其制作方法
JP2004192935A (ja) 2002-12-11 2004-07-08 Hitachi Displays Ltd 有機el表示装置
JP4373086B2 (ja) 2002-12-27 2009-11-25 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置
JP4282985B2 (ja) * 2002-12-27 2009-06-24 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置の作製方法
EP1615473A4 (en) * 2003-04-15 2009-11-25 Fujifilm Corp EL ORGANIC DISPLAY
JP4222880B2 (ja) * 2003-06-02 2009-02-12 三菱電機株式会社 有機電界発光表示装置およびその製造方法
JP4630535B2 (ja) * 2003-11-14 2011-02-09 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置の製造方法
JP4188807B2 (ja) * 2003-11-20 2008-12-03 三菱電機株式会社 表示装置および表示装置の製造方法
KR100611159B1 (ko) 2003-11-29 2006-08-09 삼성에스디아이 주식회사 유기전계 발광표시장치
JP2005208603A (ja) 2003-12-26 2005-08-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置
US7792489B2 (en) 2003-12-26 2010-09-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device, electronic appliance, and method for manufacturing light emitting device
US7495257B2 (en) 2003-12-26 2009-02-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
JP3994998B2 (ja) * 2004-03-03 2007-10-24 セイコーエプソン株式会社 発光装置、発光装置の製造方法及び電子機器
US7619258B2 (en) * 2004-03-16 2009-11-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
JP4628004B2 (ja) * 2004-03-26 2011-02-09 株式会社半導体エネルギー研究所 薄膜トランジスタの作製方法
JP2005322564A (ja) * 2004-05-11 2005-11-17 Sony Corp 表示装置の製造方法および表示装置
CN1293419C (zh) 2004-07-07 2007-01-03 友达光电股份有限公司 具有间隙壁支撑结构的平面显示器
DE102004034991A1 (de) * 2004-07-16 2006-02-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Zoomoptik für ein Lichtrastermikroskop
US8350466B2 (en) 2004-09-17 2013-01-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
US7753751B2 (en) 2004-09-29 2010-07-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating the display device
US8772783B2 (en) 2004-10-14 2014-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
EP1760776B1 (en) 2005-08-31 2019-12-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method for semiconductor device with flexible substrate
KR100745332B1 (ko) 2005-09-28 2007-08-02 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그 제조방법
TWI517378B (zh) * 2005-10-17 2016-01-11 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及其製造方法
US7693535B2 (en) * 2006-12-22 2010-04-06 Sony Ericsson Mobile Communications Ab Communication systems and methods for providing a group play list for multimedia content records
WO2009128553A1 (en) 2008-04-18 2009-10-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Thin film transistor and method for manufacturing the same
CN102007586B (zh) 2008-04-18 2013-09-25 株式会社半导体能源研究所 薄膜晶体管及其制造方法
TWI607670B (zh) 2009-01-08 2017-12-01 半導體能源研究所股份有限公司 發光裝置及電子裝置
KR101155907B1 (ko) * 2009-06-04 2012-06-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법

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