具有间隙壁支撑结构的平面显示器
技术领域
本发明属于显示器,特别是一种具有间隙壁支撑结构的平面显示器。
背景技术
随着薄膜电晶体制作技术快速的进步,使得诸如液晶显示器(LCD)、有机电激发光显示器(OLED)等平面显示器的性能持续提升,并大量的应用于个人数码助理器(PDA)、笔记型电脑、数码相机、摄录影机、移动电话等各式电子产品中。再加上业界积极的投入研发及采用大型化的生产设备,使平面显示器的品质不断提升,且价格持续下降,更使得其应用领域迅速扩大。
在液晶显示器的显示面板制作过程中,往往会借由膜层沉积及光刻蚀刻等制程,在下玻璃基板表面制作大量的薄膜电晶体(TFT)、像素电极(pixelelectrode)及彼此纵横交错的扫描线与资料线图案,而构筑所需的像素阵列(pixel array)。另一方面,则会在上玻璃基板表面制作彩色滤光片(colorfilter)与共用电极(common electrode)。再将上玻璃基板倒置覆盖于下玻璃基板表面的像素阵列区域上方,并于上、下玻璃基板间注入液晶层,而构成整个显示面板。
一般来说,制作于上玻璃基板表面的彩色滤光片,包括了数量相当多的单位画素(pigment)及环绕于其周围的黑色矩阵(black matrix;BM)。其中,数以万计的单位画素亦排列成阵列状,并且根据其排列顺序分别染上绿色、红色、或蓝色等三种原色,而分别对应到下方的像素电极(pixel electrode)。至于,由诸如铬金属膜(Cr)或树脂(resin)材料构的黑色矩阵,则分别环绕于每一个单位画素的周围,以便遮住各个像素单元(pixel unit)周边液晶排列不良的区域。
值得注意的是,为了提供上、下玻璃基板间足够的支撑效果,在显示器面板的组装过程中,会设置诸如间隙壁(spacer)的支撑物,将上、下两片玻璃基板隔开,再于其中灌注液晶。
习知技术中最广泛应用的方式为利用洒布机将塑胶球(plastic beads)洒布于其中的一片玻璃基板上,再与另一片玻璃基板进行组装。但采用此种方式,除了无法精确控制所有塑胶球的大小与分布的均匀程度外,塑胶球也可能产生移动,而影晌了产品良率。
为了有效的解决上述问题,在目前的组装制程中,则采用光刻制程来制作柱状的间隙壁(photo spacer)。其主要的作法为先在上玻璃基板表面涂布一层感光性树脂材料层,接着再利用已非常成熟的光刻(photolithography)制程,制作所需的间隙壁。如此一来,可精确控制间隙壁的大小及所在位置,将间隙壁固定在黑色矩阵等不透光区,而避免因间隙壁造成露光所导致的影像品质下降。
如图1所示,以光学光刻在下玻璃基板1表面上制作彼此纵横交错的闸极线(即扫描线)11与资料线12图案,并且在闸极线11与资料线12重叠位置旁边的闸极线11图案上,制作用来控制对应的像素单元进行操作的薄膜电晶体14。并且,为了避免在组装上、下玻璃板2、1时,制作于上玻璃基板的间隙壁会遮住像素电极的区域,在现有的布局设计中,往往会使组合后的间隙壁位于闸极线11图案范围内,且位于左、右两条资料线12图案之间。如图1所示,当上玻璃基板2组装至下玻璃基板1后,间隙壁21正好位于两条资料线12之间的闸极线11图案上。
如图2所示,在下玻璃基板1表面先形成第一金属层,并透过光刻蚀刻制程,定义出闸极线11图案;接着,在闸极线11上方依序沉积介电层与第二金属层,并再度进行光刻蚀刻制程,而在第二金属层上定义出资料线图案12及源/汲极图案,且定义出用来隔离第一金属层与第二金属层的介电图案13。其中,源/汲极图案、介电图案13与闸极线11构成所需的薄膜电晶体14,至于资料线12、介电图案13与闸极线11重叠处,则会构成凸块结构15。当上玻璃基板2组装至下玻璃基板1上方时,间隙壁21正好会抵触于闸极线11,且位于左、右两凸块结构15之间。
但值得注意的是,上述利用光刻制程制作于上玻璃基板2表面的间隙壁21,由于不具有黏性,因此尽管其顶端会触压到下玻璃基板1上的闸极线11,但是依旧无法固定住上、下玻璃基板2、1。如此一来,当整个显示面板组装完成后,若上玻璃基板2或下玻璃基板1受到外力(剪应力)作用时,上、下玻璃基板2与1间,便常常会沿着如图2中箭头所示的方向产生位移。一旦位移量过大,前述制作于上玻璃基板2的黑色矩阵,便无法完全遮盖住像素单元中液晶排列不良的区域,进而造成整个显示器面板在暗态画面下,产生漏光的问题并造成画面颜色不均(Movable Mura)的现象。
发明内容
本发明的目的是提供一种有效防止上、下玻璃基板发生板面方向相对位移、防止显示器面板漏光、确保画面质量的具有间隙壁支撑结构的平面显示器。
本发明包括下玻璃基板及上玻璃基板;下玻璃基板具有由数个像素单元构成的像素阵列;每一个像素单元包括透光区域及环绕透光区域的不透光区域;上玻璃基板组合于下玻璃基板上方,其下表面对应于下玻璃基板不透光区域向下凸设借以抵触于下玻璃基板的支撑结构;下玻璃基板不透光区域上表面向上凸设对应并与支撑结构侧壁抵触的凸起结构。
其中:
凸起结构为制作于下玻璃基板表面的薄膜电晶体元件。
凸起结构由制作于下玻璃基板表面的闸极线图案与数条资料线图案交错重叠构成。
上玻璃基板下表面制作介于上玻璃基板下表面与支撑结构之间的彩色滤光片。
上、下玻璃基板间设有液晶层。
一种具有间隙壁支撑结构的平面显示器,它包括用来制作电晶体的下玻璃基板、用来制作彩色滤光片的上玻璃基板、形成于上、下玻璃基板之间的数个支撑结构及填充于上、下玻璃基板间的液晶层;电晶体包括依序制作于下玻璃基板上的第一导电层、介电层及第二导电层;第一导电层形成于下玻璃基板上表面,其具有横向分布的数条闸极线图案;介电层形成于第一导电层上表面;第二导电层形成于介电层与下玻璃基板上表面,其具有数个源/汲极图案及数条直向分布的资料线图案;彩色滤光片是制作于上玻璃基板下表面,并于彩色滤光片下表面形成共用电极;支撑结构上表面与共用电极接合,其下表面正对于闸极线图案;下玻璃基板上依序形成的第二导电层、介电层与第一导电层重叠处形成对应并与支撑结构侧壁抵触的凸起结构。
凸起结构包括了由源/汲极图案、介电层与闸极线图案堆叠而成的第一凸起结构及由直向分布的资料线图案、介电层与横向分布的闸极线图案交会堆叠构成的第二凸起结构。
第一凸起结构作为电晶体使用其设置于相邻的两个第二凸起结构之间,且邻接于两个第二凸起结构中的一个第二凸起结构。
相邻的两个第二凸起结构之间具有两个支撑结构,一个支撑结构右边侧壁对应并抵触于第一凸起结构;另一个支撑结构的左边侧壁对应并抵触于第二凸起结构。
在相邻的两个第二凸起结构之间具有一个支撑结构,支撑结构为长条状的区块的,其右边侧壁抵触于第一凸起结构,而左边侧壁则正好抵触于第二凸起结构。
相邻的两个第一凸起结构之间具有两个支撑结构,一个支撑结构底面直接挤压第二凸起结构的上表面且其侧壁抵触于第一凸起结构;另一个支撑结构的侧壁抵触于另一第一凸起结构。
由于本发明包括下玻璃基板及上玻璃基板;下玻璃基板具有由数个像素单元构成的像素阵列;每一个像素单元包括透光区域及环绕透光区域的不透光区域;上玻璃基板组合于下玻璃基板上方,其下表面对应于下玻璃基板不透光区域向下凸设借以抵触于下玻璃基板的支撑结构;下玻璃基板不透光区域上表面向上凸设对应并与支撑结构侧壁抵触的凸起结构。当上、下玻璃基板组合在一起的时候,借着调整上玻璃基板下表面支撑结构的尺寸与位置,使支撑结构受到了凸起结构的阻碍,使支撑结构除了可提供原本支撑上、下玻璃基板间空隙的功能外,并可防止上、下玻璃基板沿着板面方向发生相对位移,即使上、下玻璃基板受到剪应力的作用,也不会沿板面方向产生相对位移,可有效的避免先前技术中可能发生的漏光问题。即能有效防止上、下玻璃基板发生板面方向相对位移,从而防止显示器面板漏光、确保画面质量,进而达到本发明的目的。
附图说明
图1、为具有习知以光刻制作间隙壁的显示器面板结构示意俯视图。
图2、为具有习知以光刻制作间隙壁的显示器面板结构示意剖视图。
图3、为本发明实施例一结构示意俯视图。
图4、为本发明实施例一结构示意剖视图。
图5、为本发明实施例二结构示意俯视图。
图6、为本发明实施例二结构示意剖视图。
图7、为本发明实施例三结构示意俯视图。
图8、为本发明实施例三结构示意剖视图。
图9、为本发明实施例四结构示意俯视图。
图10、为本发明实施例四结构示意剖视图。
具体实施方式
本发明为了解决习知技术中液晶显示器的上、下玻璃基板产生板面方向位移的问题,提供了一种于上玻璃基板表面制作支撑结构时的布局设计。使上玻璃基板在组合至下玻璃基板时,连接于上玻璃基板下表面的支撑结构的侧壁正好会抵触下玻璃基板上表面凸起的元件或结构。如此一来,便能有效防止上、下玻璃基板发生板面方向的相对位移,进而达到防止显示器面板漏光的目的。
实施例一
如图3、图4所示,本发明具有间隙壁支撑结构的平面显示器3主要包括用来制作电晶体的下玻璃基板30、用来制作彩色滤光片310的上玻璃基板31及填充于上、下玻璃基板30、31间的液晶层32。
彩色滤光片310是制作于上玻璃基板31下表面,使通过的光线能产生红、蓝、绿色三种色光。在彩色滤光片310的下表面,制作设有对应于制作在下玻璃基板30上的像素电极的共用电极311,用以产生驱动液晶分子转动的电场。
至于,在下玻璃基板30上表面,则会依序制作第一导电层401、介电层402及第二导电层403。
一般来说,在沉积出第一导电层401后,接着进行光刻蚀刻程序,在第一导电层401上定义出数条闸极线图案401a。如同熟悉该项技艺者所了解的,这些闸极线图案401a横向的分布于下玻璃基板30上表面。在定义出闸极线图案401a后,接着会于下玻璃基板30与闸极线图案401a上沉积介电层402,用来提供第一导电层401与后续沉积的导电层间所需的绝缘隔离功用。随后,在介电层402与下玻璃基板30表面上沉积第二导电层403,并透过光刻蚀刻程序,在第二导电层403上定义出源/汲极图案403a及数条资料线图案403b。相较于上述横向分布的数条闸极线图案401a,数条资料线图案403b为直向的分布于下玻璃基板30表面,并与数条闸极线图案401a交错形成格子状的结构。
值得注意的是,由于在下玻璃基板30上依序沉积第一导电层401、介电层402与第二导电层403,因此在其重叠处会形成堆叠的凸起结构40a、40b。如图3所示,此处的凸起结构40a、40b包括了由源/汲极图案403a、介电层402与闸极线图案401a堆叠而成的第一凸起结构40a及由直向分布的资料线图案403b、介电层402与横向分布的闸极线图案401a交会堆叠构成的第二凸起结构40b。
如图3、图4所示,下玻璃基板30上闸极线图案401a与资料线图案403b所排列的格子状阵列,正好用来定义像素单元阵列。其中,每一个格子即为一个像素单元所占用的区域。换言之,由相邻的闸极线图案401a与相邻的资料线图案403b所圈围的区域,用来制作一个像素单元。下玻璃基板30上横向分布的闸极线图案401a左、右两侧表面上,具有两条相邻且直向分布的资料线图案403b。这两条资料线图案403b,会各自与闸极线图案401a交会重叠,而堆叠出图中相邻的两个第二凸起结构40b。
另外,由源/汲极图案403a、介电层402与闸极线图案401a堆叠成的第一凸起结构40a,实际上即为薄膜电晶体元件。由于薄膜电晶体元件的汲极连接至资料线图案403b来取得资料讯号,因此在布局设置上,第一凸起结构40a会邻接于一条对应的资料线图案403b,亦即,第一凸起结构40a会邻接于一个第二凸起结构40b。并且,由于每一个像素单元,都需要一个薄膜电晶体线路来进行驱动,因此如图3所示,在两个相邻的第二凸起结构40b之间,会设置一个第一凸起结构40a,即薄膜电晶体元件,且此第一凸起结构40a设置于资料线图案403b的左侧。
要特别指出的是,为了维持上、下玻璃基板31与30之间借以填充液晶层32的空隙(gap),在上玻璃基板31的下表面会制作向下凸出的支撑结构50;并且,为了进一步防止上、下玻璃基板31与30之间因受到外力而沿着板面方向产生相对位移,在于上玻璃基板31表面制作支撑结构时,需要特别选择支撑结构50的布局位置,使得后续将上玻璃基板31组装到下玻璃基板30上时,支撑结构50的侧壁会正好抵触在凸起结构40a、40b的侧壁上。要特别说明的是,此处的支撑结构50可借由光刻制程在上玻璃基板31下表面定义出间隙壁(photo spacer)来构成。
如图3、图4所示,在此实施例中,在共用电极311的下表面制作向下凸出的支撑结构50,并且此支撑结构50为长条状的区块。
当上、下玻璃基板31与30组合在一起的时候,支撑结构50的下表面刚好正对并触压于下玻璃基板30的闸极线图案401a。更者,在相邻的两个第二凸起结构40b之间,仅设置了一个支撑结构50,并且此支撑结构50的右边侧壁正好抵触于第一凸起结构40a,而左边侧壁则正好抵触于第二凸起结构40b。如此一来,由于受到了第一、二凸起结构40a、40b的阻碍,即使上、下玻璃基板31与30受到剪应力的作用,也不会沿板面方向产生相对位移。
实施例二
除了上述长条状的支撑结构50外,亦可如图5、图6所示,选择以两个支撑结构分别抵触于第一凸起结构40a及第二凸起结构40b。即制作于上玻璃基板31共用电极311下表面的支撑结构包括了位于左侧的支撑结构51a与位于右侧的支撑结构51b。此处的支撑结构51a、51b可制作成矩形区块。当然,随着制程的考量,支撑结构51a、51b也可以制作成圆柱状或其它形状的区块。
同样的,借着调整支撑结构51a与51b于上玻璃基板31表面的位置,当上、下玻璃基板31与30组合在一起的时候,支撑结构51a、51b的下表面会正对并触压于下玻璃基板30的闸极线图案401a。要特别说明的是,此实施例中,相邻两个第二凸起结构40b之间,会同时设置了分别为支撑结构51a、51b的两个支撑结构。其中,支撑结构51a的右边侧壁正好抵触于第一凸起结构40a,且支撑结构51b的左边侧壁正好抵触于第二凸起结构40b。如此一来,由于同时受到了第一、二凸起结构40a、40b的阻碍,即便上、下玻璃基板31与30受到剪应力的作用,也不会沿板面方向产生相对位移。
实施例三
除了前述使用支撑结构同时抵触于左、右两侧的第一、二凸起结构40a、40b外,亦可如图7、图8所示,亦可使向下凸出的支撑结构直接挤压第一、二凸起结构40a、40b的上表面,借着第一、二凸起结构40a、40b凸起结构的阶梯状表面,提供较大的摩擦力,达到防止上、下玻璃基板31与30产生相对位移的目的。于上玻璃基板31共用电极311下表面制作的支撑结构52,亦为矩形区块,且其布局的位置正对着第二凸起结构40b。
当上、下玻璃基板31与30组合在一起的时候,支撑结构52的底面直接挤压第二凸起结构40b的上表面,同时此支撑结构52的左边侧壁,正好抵触于邻接于第二凸起结构40b左侧的第一凸起结构40a。在此种情况下,由于支撑结构52与第二凸起结构40b间具有较大的摩擦力,且支撑结构52的左边侧壁同时又受到第一凸起结构40a阻碍,因此上、下玻璃基板31与30也不至于沿板面方向产生相对位移。
实施例四
当然,为了提供更好的固定效果,在使用上述支撑结构52向左抵触于凸起结构的同时,再增加额外的支撑结构,用来抵触于右侧的凸起结构。亦可如图9、图10所示,除了在上玻璃基板31共用电极311下表面,制作一个正对着第二凸起结构40b的支撑结构52,也会在支撑结构52的右侧再额外制作一个支撑结构53。此处的两个支撑结构52、53可制作成矩形区块。
当上、下玻璃基板31与30组合在一起的时候,如同前述,支撑结构52的底面直接挤压第二凸起结构40b的上表面,并且此支撑结构52的左边侧壁会抵触于邻接于第二凸起结构40b左侧的第一凸起结构40a。同时,支撑结构53的右边侧壁,则会正好抵触于另一个第一凸起结构40a。换言的,在两个相邻的第一凸起结构40a之间,会设置两个支撑结构52、53,各自向外侧抵触于相邻的第一凸起结构40a,以防止上、下玻璃基板31与30产生沿板面方向的相对位移。
要特别指出的是,为了防止上述支撑结构对显示器面板的出光造成影响,在设置支撑结构时,最好将其设置于像素单元中的不透光区域内。以上述实施例而言,每一个像素单元都包括了位于中央的透光区域及环绕于透光区域周围的不透光区域。其中,位于中央的透光区域用来设置像素电极之用,至于不透光区域则是用来设置上述的闸极线图案401a、资料线图案403b或是设置诸如黑色矩阵等不透光的材料。当上、下玻璃基板组合在一起时,在上玻璃基板下表面的支撑结构,正好会位于不透光区域的范围内。以上述各实施例而言,支撑结构沿着资料线图案403b方向的径向尺寸,需要小于闸极线图案401a的宽度,以便整个支撑结构于闸极线图案401a上的投影,会完全落在闸极线图案401a的范围内。
由于下玻璃基板30上会制作了薄膜电晶体、闸极线图案、资料线图案等各式元件,因此在下玻璃基板30表面往往会有阶梯状的凸起结构。本发明中,借着调整上玻璃基板31下表面支撑结构的尺寸与位置,使上、下玻璃基板31与30结合时,支撑住并同时抵触侧边的凸起结构。如此一来,除了可提供原本支撑上、下玻璃基板间空隙的功能外,并可防止上、下玻璃基板31与30沿着板面方向发生相对位移,从而有效的避免先前技术中可能发生的漏光问题。
本发明虽以较佳实例阐明如上,然其并非用以限定本发明精神与发明实体,仅止于上述实施例尔。例如,在上述实施例中虽然是以液晶显示装置来进行说明,但对熟悉是项技术者,当可轻易将本案的技术特徵,应用至各种上、下玻璃基板间可能会产生相对位移的平面显示装置。是以,在不脱离本发明的精神与范围内所作的修改,或是将本案技术特征扩展应用至其它平面显示装置的设计,均应包含在下述的申请专利范围内。