JP2011512659A - マイクロリソグラフィのための投影露光装置に使用するファセットミラー - Google Patents

Abstract

マイクロリソグラフィのための投影露光装置における光束誘導光学構成要素としての使用のためのファセットミラー、更に、少なくとも１つのそのようなファセットミラーを含むマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照射光学系、そのような照射光学系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を製造する方法、並びにそのような方法によって製造された微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を提供する。マイクロリソグラフィのための投影露光装置においてファセットミラーが光束誘導光学構成要素として用いられる。ファセットミラーは、複数の個別ミラー（２１）を有する。入射する照射光の個々の偏向に向けて、これらの個別ミラー（２１）は、各場合にこれらの個別ミラー（２１）を少なくとも１つの傾斜軸（ｘ，ｙ）の回りに個別に傾斜させることができるようにアクチュエータに接続される。アクチュエータに接続した制御デバイスは、個別ミラー（２１）の所定の群を各場合に少なくとも２つの個別ミラー（２１）を含む個別ミラー群（１９）へとグループ分けすることができるように構成される。この結果は、投影露光装置内に設けられた時に投影露光装置によって照射される物体視野の様々な照射幾何学形状を設定する変動性を高めるファセットミラーである。ファセットミラーを形成するための個別ミラーの様々な実施形態を説明する。
【選択図】 図７

Description

本発明は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置における光束誘導光学構成要素としての使用のためのファセットミラーに関する。更に、本発明は、少なくとも１つのそのようなファセットミラーを含むマイクロリソグラフィのための投影露光装置のための照射光学系、そのような照射光学系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素を製造する方法、並びにそのような方法によって製造された微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素に関する。

この種のファセットミラーは、ＵＳ６，４３８，２９９Ｂ１及びＵＳ６，６５８，０８４Ｂ２に開示されている。

ＵＳ６，４３８，２９９Ｂ１ ＵＳ６，６５８，０８４Ｂ２ ＵＳ６，４３８，１９９Ｂ１ ＵＳ２００６／０１３２７４７Ａ１ ＵＳ７，０６１，５８２Ｂ２ ＥＰ１，２８９，２７３Ａ１ ＵＳ６，８５９、５１５Ｂ２ ＥＰ１，２２５，４８１Ａ ＤＥ１０，２００６，０３６，０６４Ａ ドイツ特許出願第１０，２００７，００８，７０２．２号

Ｉｓｔｖａｎ Ｒｅｉｍａｎｎ著「Ｐａｒｋｅｔｔｅ、ｇｅｏｍｅｔｒｉｓｃｈ ｂｅｔｒａｃｈｔｅｔ」（タイル張りの幾何学的考察）、「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｓｃｈｅｓ Ｍｏｓａｉｋ」（数学的モザイク）、Ｃｏｌｏｎｇｅ（１９７７年） Ｊａｎ Ｇｕｌｂｅｒｇ著「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｃｓ−Ｆｒｏｍ ｔｈｅ ｂｉｒｔｈ ｏｆ ｎｕｍｂｅｒｓ」（数学−数の誕生から）、ニューヨーク／ロンドン（１９９７年） Ｙｅｏｗ他著「センサとアクチュエータ」、Ａ１１７（２００５年）、３３１ページ〜３４０ページ Ｆａｒｈａｄ Ｓａｌｍａｓｓｉ他著「応用の光学」、第４５巻、第１１号、２４０４ページから２４０８ページ

本発明の目的は、冒頭に挙げた種類のファセットミラーをこのファセットミラーを投影露光装置内に設置することにより投影露光装置を用いて物体視野を照射する様々な照射幾何学形状を設定する変動性が高まるような方法で開発することである。

本発明によるとこの目的は、請求項１又は請求項４に記載の特徴を有するファセットミラーによって達成される。

本発明によると、ファセットミラーは、互いに独立して傾斜させることができる複数の個別ミラーに分割されるので、ファセットミラーを個別ミラーの群へと可変的に分割することができる。この分割は、照射される物体視野の形状への適応に向けて異なる境界を有する群を発生させる上で有利であるとすることができる。個別ミラーは個々に作動可能であり、それによって遮光又は遮蔽によっていかなる光も失うことなしに複数の様々な物体視野照射を保証する。特に、このファセットミラーを装備することができる照射光学系は、放射線源の光学パラメータ、例えば、ビーム発散度、又はビーム断面にわたる強度分布に適応させることができる。ファセットミラーは、いくつかの個別ミラー群が、各場合にこれらのミラー群が独自に物体視野全体を照射するように設計することができる。本発明によるファセットミラーには、１０個よりも多く、５０個よりも多く、更には１００個よりも多くのそのような個別ミラー群を設けることができる。個別ミラー照射チャンネルは、ファセットミラーによって誘導される照射光束のビーム経路の一部であり、照射光束は、ファセットミラーの個別ミラーのうちの厳密に１つによって誘導される。本発明によると、物体視野全体の照射には少なくとも２つのこの種の個別ミラー照射チャンネルが必要である。ＵＳ６，４３８，１９９Ｂ１及びＵＳ６，６５８，０８４Ｂ２によるファセットミラーの例では、個別ミラー照射チャンネルは、各場合に物体視野に対応するサイズを有する物体視野部分を照射する。

請求項２に記載の個別ミラーの例では、割り当てられた個別ミラー照射チャンネルは、互いに個別に物体視野を照射することができ、又はこれらの個別ミラー照射チャンネルは、定められた方式で互いと重なり合うように配置することができる。物体視野は、２つよりも多くの個別ミラー照射チャンネル、例えば、１０個よりも多くの個別ミラー照射チャンネルによって照射することができる。

請求項４に記載のファセットミラーの利点は、請求項１に記載のファセットミラーを参照して上述したものに対応する。

請求項５に記載のファセットミラーは、特に、投影露光装置の照射光学系内の視野ファセットミラーとして用いられる。個別ミラー群のサイズ及び形状によっては、照射される物体視野の対応するサイズ及び形状を得ることができる。矩形の物体視野では、各場合に１つの個別ミラー群によって形成される個別ファセットのファセットアスペクト比は、視野アスペクト比に対応する。個別ミラー群は、個別ミラーの固定配列を有する必要はない。例えば、個別ミラーは、選択された複数の個別ミラーを個別ミラー群、及び従って所定の形状を有するファセットに可変的に割り当てることが可能になるように作動させることができる。この場合、作動時には、ファセットミラーは、ファセットが形成される所定の個別ミラー群によっては、様々な所定のファセット形状に対応することができる。

物体視野の全体形状に対応する形状を有する個別ファセットの代わりに、半視野、言い換えれば、物体視野寸法の半分に沿って延びる視野に対応する個別ファセット又は個別ファセット群を形成することができる。この種の半視野は、各場合に、物体視野全体の照射に向けて組み合わされる。物体視野の部分視野に対応する形状を有する個別ファセット又は個別ファセット群を形成するように考えることもできる。この場合、相補的とすることができるいくつかのこの種の部分視野は、物体視野全体の照射に向けて組み合わせることができる。

請求項６及び請求項７に記載の群形状は、現行の物体視野幾何学形状に良好に適応される。弓形、環状、又は円形のエンベロープも、個別ミラーのラスター配列から、望ましいエンベロープの形状と類似の境界を有する個別ミラー群を選択することによるピクセル毎の近似によって得ることができる。

請求項８に記載のファセットミラーは、特に、投影露光装置の照射光学系内の瞳ファセットミラーとして用いられる。

好ましくは、照射光学系には、本発明により個別ミラーに分割された視野ファセットミラー、及び本発明により個別ミラーに分割された瞳ファセットミラーが装備される。この場合、視野ファセットミラー及び瞳ファセットミラー上で個別ミラー群を対応する群で配置することにより、特定の照射角度分布、言い換えれば照射環境を事実上光損失なしに得ることができる。例えば、ＵＳ２００６／０１３２７４７Ａ１に説明されている種類の鏡面反射器を本発明により個別ミラーに分割することができる。鏡面反射器は、物体視野内の強度分布と照射角度分布の両方を調節するのに用いられるので、個別ミラーへの分割に起因する付加的な変動性は特に有利である。

請求項９に記載の実施形態は、マイクロミラーアレイの分野から既に公知である建設的解決法を用いて得ることができる。マイクロミラーアレイは、例えば、ＵＳ７，０６１，５８２Ｂ２に説明されている。選択されるタイル張りの種類は、個別ミラー群の必要とされる形状に依存する。特に、「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｓｃｈｅｓ Ｍｏｓａｉｋ」（数学的モザイク）、Ｃｏｌｏｎｇｅ（１９７７年）におけるＩｓｔｖａｎ Ｒｅｉｍａｎｎ著「Ｐａｒｋｅｔｔｅ、ｇｅｏｍｅｔｒｉｓｃｈ ｂｅｔｒａｃｈｔｅｔ」（タイル張りの幾何学的考察）、及びＪａｎ Ｇｕｌｂｅｒｇ著「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｃｓ−Ｆｒｏｍ ｔｈｅ ｂｉｒｔｈ ｏｆ ｎｕｍｂｅｒｓ」（数学−数の誕生から）、ニューヨーク／ロンドン（１９９７年）から公知のタイル張りを用いることができる。

請求項１０に記載の個別ミラーの構成は、比較的少量の労力しか必要としない。この種の平面個別ミラーでも、近似的に湾曲した反射面で個別ミラー群を形成することを可能にする。代替的に、ファセットミラーの個別ミラーは、湾曲したもの、特に、楕円形に湾曲したものとすることができ、その結果、照射光又は結像光に対する個別ミラーの光束形成効果が生じる。個別ミラーは、特に、凹に湾曲したものである。ファセットミラーは、特に、多楕円体ミラーとすることができる。この種類の湾曲個別ミラーは、平面反射面を有する個別ミラー群によって置換することができ、置換されたこの種の湾曲個別ミラーの非平面表面は、マイクロファセットの多面体によって近似される。

請求項１１に記載の変位性は、ファセットミラーの反射面の特定のトポグラフィを設定する時の変動性を高める。この変位性により、群を形成するだけでなく、反射面に対してそれぞれの群内で望ましい結像効果又はあらゆる他の光束形成効果を有する特定の曲率及び自由面を定めることも可能になる。個別ミラーは、反射面に対する法線に沿った変位に向けて個別に作動させることができるので、個別ミラー間の相互遮蔽を最小にすることができる。

請求項１２に記載の配列は、マイクロミラーアレイの分野から公知の建設的解決法を用いて達成することができる。

請求項１３に記載の作動は、設定に従った個別ミラーの迅速で個々の作動を保証する。

必要に応じて、例えば、個別ミラーをグループ分けするか又は集合的に遮光する場合には、請求項１４に記載の特に行又は列による並列作動は、いかなる労力も伴わずに個別ミラーを互いに作動させることを可能にする。

請求項１５に記載の設計は、物体視野照射の均一性を物体視野にわたる照射強度に関して又は特定の視野依存の照射強度分布を調節することに関して補正することを可能にする。代替的又は追加的に、個別ミラーを作動させることによって瞳平面の照射の強度分布を設定することができるように、個別ミラーを個々に作動させることによって瞳照射を設定することができる。個別ミラーを作動させることによって瞳平面の照射強度を分布させる段階は、特に、照射される視野サイズ又は視野形状に依存して行うことができる。代替的又は追加的に、照射される物体視野を通る入射照射角度の所定の変化が設定されるように、個別ミラーを作動させることによって瞳平面内の照射強度を分布させることができる。例えば、視野の中心における照射角度分布は、視野縁部におけるものとは異なるとすることができる。

当然ながら、個別ミラーの個々の作動は、他の原因による物体視野にわたる強度分布又は照射角度分布の不均一性を補償するか、又はより一般的には、物体視野にわたって検出された初期設定の強度分布値又は照射角度分布値からの偏差を補正するのに用いることができる。

請求項１６に記載の平面支持体は、ファセットミラーの製造を容易にする。ファセットミラーの支持体の平面配列は、ファセットミラーの上流で照射光又は結像光を相応に形成することによって達成することができる。

個別ミラーのうちの少なくとも１つのミラー本体は、堅固な支持体に対して傾斜継手の少なくとも１つの傾斜軸の回りに傾斜可能とすることができる。傾斜継手は、傾斜軸に対して垂直に継手厚みＳを有し、傾斜軸に沿って継手長さＬを有し、Ｌ／Ｓ＞５０である硬質の継手とすることができる。特に、僅かな労力しか伴わずに調節を実施することを可能にする所定の低剛性では、継手厚みに対する継手長さのそのような関係は、ミラー本体から支持体への硬質の継手を通じた十分な熱放散を保証する。継手厚みと比較すると大きい継手長さは、硬質の継手を通じた熱伝達に対して十分に大きい断面を生じる。個別ミラーを調節する時には、継手長さと比較して小さい継手厚みは、ミラー本体の所定の角度偏向を僅かな労力しか伴わずに達成することを可能にする。それによって僅かな労力しか必要とせず、従って、例えば、非常に小型とすることができるミラー本体を傾斜させるための作動要素を用いることが可能になる。ミラー本体を傾斜させるのに適する作動要素は、特に、従来のマイクロミラーアレイ内に設けられているものである。この種のマイクロミラーアレイは、例えば、ＥＰ１，２８９，２７３Ａ１に開示されている「ＭＥＭＳ」（マイクロ電気機械システム）として当業者に公知である。非常に小さいＬ／Ｓ比を有するマイクロミラーの従来の捩れ懸架（Ｙｅｏｗ他著「センサとアクチュエータ」、Ａ１１７（２００５年）、３３１ページ〜３４０ページを参照されたい）と比較すると、本発明による硬質の継手を用いた場合に、熱伝達は相当に改善される。この改善は、例えば、個別ミラーによって反射される有用光としてＥＵＶ放射線を用いる場合にそうであるように、相当量の残留吸収に起因する熱をミラー本体から消散する必要がある場合に特に有利である。ミラー本体と支持体の間の熱伝達は、特に、層流冷却液を用いた能動的冷却を可能にするマイクロチャネルを支持体内に設けることによって更に改善することができる。

請求項１７に記載の照射光学系の利点は、本発明によるファセットミラーを参照して既に上述のものに対応する。

請求項１８に記載の照射光学系は、特に、個別ミラーで形成された視野ファセットミラーの利点と、個別ミラーで形成された瞳ファセットミラーの利点とを組み合わせることができ、それによって事実上いかなる光も失うことなしに大幅に異なる照射環境が可能になる。瞳ファセットミラーは、上流の視野ファセットミラーよりも多い個数の個別ミラーを有することができる。上流の視野ファセットミラーは、調節に必要なファセットを変位に向けて相応に作動させることができる場合、特に、傾斜させることができる場合には、瞳ファセットミラーの様々な照射形状、従って、照射光学系の様々な照射環境を得ることを可能にする。瞳ファセットミラーは、特に、視野ファセットミラーの個別ファセットの個数よりも多い個数の個別ミラーを有することができる。個別ファセットが、個別ミラー群から成る場合には、視野ファセットミラーは、瞳ファセットミラーよりも多い個数の個別ミラーを有することができる。

請求項１９に記載の物体視野部分照射は、物体視野照射に関して柔軟性を更に高め、その結果、補正において付加的な自由度が生じる。それに相応して、照射される物体視野部分の物体視野内での相対変位は、物体視野照射を補正することを可能にする。

請求項２０に記載の視野ファセットミラーを含む照射光学系の利点は、請求項１８に記載の照射光学系を参照して既に上述のものに対応する。

請求項２１に記載の投影露光装置の利点は、既に上記に解説したものに対応する。

請求項２２に記載の投影露光装置は、高い構造的解像度を得ることを可能にする。

請求項２３に記載の鏡面反射器は、照射光学系内で必要な照射光の反射回数を低減する。この低減により、照射光学系の全体的な伝達率が高まる。

請求項２４に記載の個別照射は、鏡面反射器の個別ミラーを互いからある一定の距離の位置に配置することを可能にし、それによって個別ミラーのための懸架及び変位機構又は変位アクチュエータのようなデバイスを個別ミラー間に配置するための十分な空間が与えられる。

請求項２５に記載のファセットミラーは、例えば、集光器ファセットミラーとすることができる。特に、楕円体個別ミラーを含むことができるこの種の集光器ファセットミラーは、一般的に、鏡面反射器を用いない照射光学系において適用可能である。

請求項２６に記載の鏡面反射器が、上流のファセットミラーよりも多くの個別ミラーを有する場合には、鏡面反射器の様々な照射形状、及び従って照射光学系の様々な照射環境を発生させる上で上流のファセットミラーを用いることができる。鏡面反射器の個別ミラーの個数が、上流のファセットミラーの個別ミラーの個数よりも少ない場合には、この照射光学系によって物体視野における異なる照射角度分布を得ることができる。

視野ファセットミラーの個別ミラーの個数は、鏡面反射器の個別ミラーの個数を相当量超えることができる。

請求項２７に記載の集光器は、照射光束形成に関して下流のファセットミラーに対する要求を低減する。少なくとも１つのファセットミラーは、集光器からの収束照射に露光することができる。

請求項２８に記載の集光器は、ファセットミラーよりも少ない労力で製造される。

請求項２９に記載の走査方向と長視野軸の間の角度は、物体視野が部分的に照射される場合に、不均一照射を阻止又は低減する。この角度は、例えば、１０°である。例えば、１°と３°の間の範囲、３°と５°の間の範囲、５°と７°の間の範囲、又は７°と９°の間の範囲の他の角度を考えることができる。一般的に、１０°よりも大きい角度を考えることができる。代替的に、走査方向に沿って物体視野部分間のいかなる連続境界も存在しないように物体視野部分を配置することができる。代替的又は追加的に、照射光学系によって物体視野内に結像される個別ミラーの縁部が走査方向に対して平行ではないように個別ミラーの配向することができる。個別ミラー群の像内の陰影部が、走査方向に対して垂直に互いに対してオフセットされ、それによって陰影部によって引き起こされる強度低下が、長視野軸の特定の位置、言い換えれば特定の視野高さで加え合わせられることを阻止するように、照射光学系の少なくとも１つのファセットミラーの個別ミラーを配置することができる。

請求項３０に記載の製造法、及び請求項３１に記載の微細構造化構成要素の利点は、請求項１から請求項２９を参照して既に上述のものに対応する。サブマイクロメートル範囲であっても高い集積密度を示す微細構造化構成要素を得ることができる。

以下では、本発明の実施形態を図面を用いてより詳細に説明する。

ＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置を通る略子午断面図である。 図１による投影露光装置における使用のための個別ミラーから成る視野ファセットミラーの一部分の概略平面図である。 図２の方向ＩＩＩからの図２によるファセットミラーの個別ミラー行の一部分の図である。 図３に示す個別ミラー行の個別ミラーによって形成される反射面行の様々な形状の非常に概略的な図においてこの反射面行を３つの異なる構成で示す図のうちの１つである。 図３に示す個別ミラー行の個別ミラーによって形成される反射面行の様々な形状の非常に概略的な図においてこの反射面行を３つの異なる構成で示す図のうちの１つである。 図３に示す個別ミラー行の個別ミラーによって形成される反射面行の様々な形状の非常に概略的な図においてこの反射面行を３つの異なる構成で示す図のうちの１つである。 個別ミラーが個別ファセットの配列を定める例示的な個別ミラー群へとグループ分けされた個別ファセットで構成された視野ファセットミラーの別の実施形態の一部分の平面図である。 図１による投影露光装置における使用のための例えば様々な環状又はリング状の照射環境を定めるための個別ミラーで構成された瞳ファセットミラーの概略平面図である。 個別ファセットを定める個別ミラー群へとグループ分けされた図２によるファセットミラーの個別ミラーの様々なグループ分けの例を示す図のうちの１つである。 個別ファセットを定める個別ミラー群へとグループ分けされた図２によるファセットミラーの個別ミラーの様々なグループ分けの例を示す図のうちの１つである。 個別ファセットを定める個別ミラー群へとグループ分けされた図２によるファセットミラーの個別ミラーの様々なグループ分けの例を示す図のうちの１つである。 個別ファセットを定める個別ミラー群へとグループ分けされた図２によるファセットミラーの個別ミラーの様々なグループ分けの例を示す図のうちの１つである。 個別ファセットを定める個別ミラー群へとグループ分けされた図２によるファセットミラーの個別ミラーの様々なグループ分けの例を示す図のうちの１つである。 第１の近似的な従来照射環境を定めるように照射される円形照射に露光された複数の個別ミラー、複数の個別ミラー群で同じく構成された図８に類似する瞳ファセットミラーを示す図である。 同じ個数の個別ミラー群が別の近似的にリング状の照射環境を定めるように同じく円形照射に露光された図１４による瞳ファセットミラーを示す図である。 リング形又は弓形の視野の照射のための図２による視野ファセットミラーの個別ミラーのグループ分けの別の実施形態を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた視野ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた視野ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた視野ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた視野ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた瞳ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラー群へとグループ分けされた瞳ファセットミラーの個別ミラーの更に別の例を示す図である。 個別ミラーで構成されたファセットミラーの反射面上に配置された個別ミラーを用いたタイル張りの別の実施形態を示す図である。 投影露光装置の照射光学系が鏡面反射器を含むＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置の光学設計の別の実施形態を通る略子午断面図である。 ＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置のための照射系の別の実施形態の一部分を通る略子午断面図である。 鏡面反射器を含むＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置の照射光学系の光学設計の別の実施形態の図２４と類似の図である。 照射光学系の集光器ファセットミラーの楕円体個別ミラーの鏡面反射器の個別ミラーへの代替割り当てバージョンの図２６と類似の図である。 図２６及び図２７による鏡面反射器上に入射する光源像の平面図である。 投影露光装置の別の実施形態の部分的に照射された物体視野の平面図である。 図２による視野ファセットミラーにおける使用のための個別ミラーの平面図である。 個別ミラーの反射面を傾斜なしの中立位置に示す図３０の方向ＸＸＸＩからの個別ミラーの図である。 図３１の部分拡大図である。 図３０の方向ＸＸＸＩＩからの個別ミラーの図である。 アクチュエータを用いて傾斜された位置にある個別ミラーの図３１と類似の図である。 傾斜継手が硬質の継手である図３０から図３４による個別ミラーの傾斜継手の部分図である。 図３０から図３４による個別ミラーのミラー本体の制御された傾斜のための静電容量アクチュエータの実施形態のアクチュエータの２つの電極間にいかなる電圧も印加されていない場合の概略図である。 図３６によるアクチュエータのその２つの電極間に電圧が印加された場合の図である。 個別ミラーで構成されたファセットミラーの反射面上でのタイル張りの更に別の実施形態を示す図である。 個別ミラーで構成されたファセットミラーの反射面上でのタイル張りの更に別の実施形態を示す図である。

図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置１を通る略子午断面図を示している。投影露光装置１の照射系２は、放射線源３、及び物体平面６内の物体視野５を照射するための照射光学系４を有する。この工程では、物体視野５に配置され、レチクルホルダ（示していない）によって保持されたレチクル（図面には示していない）が照射される。投影光学系７は、物体視野５を像平面９内の像視野８へと結像するのに用いられる。レチクル上の構造は、像平面９内で像視野８の領域に配置されたウェーハ（図面には示していない）であり、ウェーハホルダ（示していない）によって保持されたウェーハの感光層上に結像される。

放射線源３は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の有用光を放出するＥＵＶ放射線源である。放射線源は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ光源（ガス放電生成プラズマ）又はＬＰＰ光源（レーザ生成プラズマ）とすることができる。シンクロトロンに基づく放射線源も同様に放射線源３として適用することができる。当業者は、この種の放射線源に関する有利な情報を例えばＵＳ６，８５９、５１５Ｂ２に見出すであろう。放射線源３によって放出されるＥＵＶ放射線１０は、集光器１１によって集束される。対応する集光器はＥＰ１，２２５，４８１Ａに開示されている。集光器１１の下流では、ＥＵＶ放射線１０は、中間焦点面１２を通って伝播し、その後視野ファセットミラー１３に当たる。視野ファセットミラー１３は、照射光学系４の物体平面６と光学的に共役な平面に配置される。

以下では、ＥＵＶ放射線１０を照射光又は結像光とも呼ぶ。

視野ファセットミラー１３の下流では、ＥＵＶ放射線１０は、瞳ファセットミラー１４によって反射される。瞳ファセットミラー１４は、投影光学系７の瞳平面と光学的に共役な照射光学系４の瞳平面に配置される。瞳ファセットミラー１４、及びビーム経路の方向に相応に１６，１７、及び１８で表しているミラーを含む伝達光学系１５の形態にある結像光学アセンブリを用いて、部分視野又は個別ミラー群とも呼び、以下でより詳細に説明することになる視野ファセットミラー１３の個別視野ファセット１９が、物体視野５内に結像される。伝達光学系１５の最後のミラー１８は、かすめ入射ミラーである。

図１は、位置関係の説明を容易にする直交ｘｙｚ座標システムを示しており、この座標システムは、物体平面６と像平面９との間で投影露光装置１の構成要素の位置関係の説明のための全体座標システムである。図１では、ｘ軸は、作図面に対して垂直に作図面に向けて延びている。ｙ軸は、図１では右に向けて延びている。ｚ軸は図１では下方に延びており、従って、物体平面６及び像平面９に対して垂直である。

図２は、視野ファセットミラー１３の構造的詳細内容の非常に概略的な図を示している。個別ミラー２１のラスターが形成されるように、視野ファセットミラー１３の反射面２０全体が行と列とに分割される。個別ミラー２１の各々の個々の反射面は平面である。個別ミラーの行２２は、複数の直接に隣接する個別ミラー２１を含む。個別ミラーの１つの行２２は、数十個から数百個の個別ミラー２１を含むことができる。図２による例では、個別ミラー２１は正方形の形状にある。可能な限り少ない間隙しか持たないタイル張りを得ることを可能にする個別ミラーの他の形状を適用することができる。個別ミラーにおけるそのような別の形状は、タイル張りの数学的理論から公知である。この点に関しては、「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｓｃｈｅｓ Ｍｏｓａｉｋ」（数学的モザイク）、Ｃｏｌｏｎｇｅ（１９７７年）におけるＩｓｔｖａｎ Ｒｅｉｍａｎｎ著「タイル張りの幾何学的考察」、及びＪａｎ Ｇｕｌｂｅｒｇ著「Ｍａｔｈｅｍａｔｉｃｓ−Ｆｒｏｍ ｔｈｅ ｂｉｒｔｈ ｏｆ ｎｕｍｂｅｒｓ」（数学−数の誕生から）、ニューヨーク／ロンドン（１９９７年）を参照されたい。

視野ファセットミラー１３は、特に、ＤＥ１０，２００６，０３６，０６４Ａ１に説明されているように構成することができる。

視野ファセットミラー１３の設計によっては、個別ミラーの列２３も同様に複数の個別ミラー２１を含む。個別ミラーの１つの列２３は、例えば、数十個の個別ミラー２１から成る。

図２は、位置関係のより容易な説明のために、視野ファセットミラー１３の局所座標システムとして機能する直交ｘｙｚ座標システムを示している。また、ファセットミラー又はファセットミラーの一部分の平面図を示しているその後の図においても、対応する局所ｘｙｚ座標システムを見ることができる。図２では、ｘ軸は水平に右に向けて延び、個別ミラーの行２２に対して平行である。ｙ軸は、図２では上向きに延び、個別ミラーの列２３に対して平行である。ｚ軸は図２の作図面に対して垂直であり、この作図面から現れるように延びている。

投影露光中には、レチクルホルダとウェーハホルダが、ｙ方向に同期して走査される。以下に説明するように、走査方向とｙ方向の間に小さい角度を考えることができる。

視野ファセットミラー１３の反射面２０は、ｘ方向にｘ₀の延長を有する。ｙ方向には、視野ファセットミラー１３の反射面２０はｙ₀の延長を有する。

視野ファセットミラー１３の設計によっては、個別ミラー２１は、例えば、６００μｍ×６００μｍから、例えば、２ｍｍ×２ｍｍの範囲にｘ／ｙ延長を有する。個別ミラー２１は、照射光１０に対して集束効果を有するように成形することができる。個別ミラー２１のそのような集束効果は、視野ファセットミラー１３が発散照射光３に露光される時に特に有利である。視野ファセットミラー１３全体は、設計によっては、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ又は６００ｍｍ×６００ｍｍに達するｘ₀／ｙ₀延長を有する。個別視野ファセット１９は、２５ｍｍ×４ｍｍ又は１０４ｍｍ×８ｍｍの一般的なｘ／ｙ延長を示している。それぞれの個別視野ファセット１９のサイズと、これらの個々の視野ファセット１９を形成する個別ミラー２１のサイズの間の関係によっては、個別視野ファセット１９の各々は、対応する個数の個別ミラー２１を有する。

個別ミラー２１の各々は、入射する照射光１０の個々の偏向に向けてアクチュエータ２４に接続され、このアクチュエータ２４を図２に、反射面２０の左手側下コーナに配置された２つの破線の個別ミラー２１によって例示しており、同様に個別ファセットの行２２の一部分のより詳細な図３にも例示している。アクチュエータ２４は、各場合に、個別ミラー２１のその反射側から離れた側に配置される。アクチュエータ２４は、例えば、圧電アクチュエータとすることができる。そのようなアクチュエータの設計は、マイクロミラーアレイの設計から公知である。

個別ミラーの行２２のアクチュエータ２４は、各場合に、信号線２５を通じて行信号バス２６に接続される。個別ミラーの１つの行２２は、行信号バス２６のそれぞれの１つに割り当てられる。個別ミラーの行２２の行信号バス２６は、更に主信号バス２７に接続される。この主信号バス２７は、信号によって視野ファセットミラー１３の制御デバイス２８に接続される。制御デバイス２８は、特に、個別ミラー２１を並列で作動させるように構成され、言い換えれば、１つの行又は１つの列の個別ミラー２１が互いに作動される。

個別ミラー２１の各々は、互いに対して垂直な２つの傾斜軸の回りに個々に傾斜させることができ、これらの傾斜軸のうちの第１のものは、ｘ軸に対して平行であり、２つの傾斜軸のうちの第２のものは、ｙ軸に対して平行である。２つの傾斜軸は、それぞれの個別ミラー２１の個別反射面に配置される。

上記に加えて、個別ミラー２１は、アクチュエータ２４を用いてｚ方向に個々に変位させることができる。その結果、個別ミラー２１は、反射面２０に対する法線に沿った変位に向けて互いに個別に作動させることができる。これにより、図４から図６の非常に概略的な図に示しているように、反射面２０のトポグラフィ全体を変更することが可能になる。これにより、大きいサジタル高さを有し、言い換えれば、反射面のトポグラフィにおいて大きい変化を有する反射面輪郭を全て１つの平面に配置されたフレネルレンズに似たミラー領域の形態で生成することが可能になる。フレネルゾーンに似たミラー領域への分割は、大きいサジタル高さを有するそのようなミラー面トポグラフィの基本的な曲率を排除する。

図４は、個別ミラーの行２２の全ての個別ミラー２１が制御デバイス２８及びアクチュエータ２４を用いて同じ絶対ｚ位置に設定された個別ミラーのこの行２２のある一定の区画が有する個別ミラー２１の個別反射面を示している。結果は、個別ミラーの行２２の平面行反射面である。視野ファセットミラー１３の全ての個別ミラー２１が図４に従って設定された場合には、視野ファセットミラー１３の反射面２０全体が平面である。

図５は、中心個別ミラー２１_mが、隣接する個別ミラー２１_r1、２１_r2、２１_r3と比較して負のｚ方向に変位した個別ミラーの行２２の個別ミラー２１の作動を示している。この作動により、図５による個別ミラーの行２２の上に入射するＥＵＶ放射線１０の対応する位相オフセットを引き起こす段階式構成が生じる。２つの中心個別ミラー２１_mによって反射されるＥＵＶ放射線１０は、最大位相オフセットを受ける。縁部にある個別ミラー２１_r3は、最小位相オフセットを発生させる。これらの間に配置された個別ミラー２１_r1、２１_r2は、中心個別ミラー２１_mによって発生する位相リターデーションと比較して徐々に低くなる位相リターデーションを発生させる。

図６は、一方で個別ミラー２１の互いに対するｚ方向のオフセット配列により、他方で個別ミラー２１の向きを互いに対して定めることによって個別ミラーの凸行２２が形成されるような個別ミラーの行２２の表示区画上の個別ミラー２１の作動を示している。この作動は、視野ファセットミラー１３の個別ミラー群の結像効果を発生させる上で有利であるとすることができる。当然ながら、個別ミラー２１の群の対応する凹配列も同様に考えることができる。

図５及び図６を参照して上述したものに対応する形態は、ｘ次元に限定されず、制御デバイス２８による作動に依存して視野ファセットミラー１３のｙ次元にも続けることができる。

制御デバイス２８によるアクチュエータ２４の個々の作動は、個別ミラー２１の所定の群を各々が少なくとも２つの個別ミラー２１を含む上述の個別ミラー群であって、各場合に１つの個別ミラー群が視野ファセットミラー１３の個別視野ファセット１９を定める個別ミラー群で配置することを可能にする。いくつかの個別ミラー２１から成るこれらの個別視野ファセット１９は、例えば、ＵＳ６，４３８、１９９Ｂ１又はＵＳ６，６５８、０８４Ｂ２から公知の視野ファセットと同じ効果を有する。

図７はこの種のグループ分けを示しており、この図は、図２の図と比較してより多くの個数の個別ミラー２１を含む別の実施形態の視野ファセットミラー１３が有する視野ファセットプレートの反射面２０のある区画を示している。図２から図６を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。図７の例における反射面２０上には、制御デバイス２８による組合せ作動によって合計で１２個の個別ミラー群１９が形成される。個別ミラー群１９の各々は、個別ミラー２１の２４×３のアレイから成り、言い換えれば、各々が、２４個の個別ミラー２１の３つの個別ミラー行を有する。従って、個別ミラー群１９の各々、言い換えれば、このグループ分けによって形成される個別視野ファセットの各々は、８対１のアスペクト比を有する。このアスペクト比は、照射される物体視野５のアスペクト比に対応する。

個別ミラー群１９の各々の個別ミラー２１は、個別ミラー群１９の各々の形状が従来の視野ファセットミラーの個別ファセットの形状に対応するように互いに対して配置される。その結果、個別ミラー群１９の各々は個別ファセットを定める。

図８は、投影露光装置１内に設けられた瞳ファセットミラー１４の詳細内容を示している。瞳ファセットミラー１４は、複数の個別ミラー２１が設けられた円形瞳ファセットプレート２９を含む。図８による実施形態では、有利個別ミラー２１が、瞳ファセットプレート２９の中心３０の回りに環状構成で配置される。この構成の環状幅は、約１１個の隣接する個別ミラー２１の幅に対応する。同様に瞳ファセットプレート２９の中心３０にも、対応するラスターパターンで同様に配置された個別ミラー２１が設けられるが、これらの個別ミラー２１は、図８による環状の言い換えればリング状の設定では使用状態にないことから示していない。

この環状構成の個別ミラー２１は、上述の図２から図７による視野ファセットミラー１３に対応する行と列のラスターパターンで配置される。瞳ファセットミラー１４の個別ミラー２１もアクチュエータを有し、制御デバイス２８によって作動される。これらのアクチュエータ、及び作動の信号接続の種類は、上述の視野ファセットミラー１３のものに対応する。

瞳ファセットミラー１４の個別ミラー２１も、個別ミラー群へとグループ分けすることができる。これに対しては、図１４及び図１５を用いて以下に説明する。

図９から図１３は、個別ミラー群へとグループ分けされた、視野ファセットミラー１３の個別ミラー２１の様々な例を示している。

図９は、視野ファセットミラー１３の全ての個別ミラー２１が単一の個別ミラー群３１へとグループ分けされた場合を示している。この場合、視野ファセットミラー１３の全ての個別ミラー２１は、制御デバイス２８によって同様に作動され、例えば、同じｚ位置にあるミラーは、ｘ軸とｙ軸との回りに同じ傾斜角だけ傾斜される。これらの２つの傾斜角の各々がゼロに等しい場合には、視野ファセットミラー１３は、個別ミラー２１で構成された平面ミラーになる。視野ファセットミラー１３の合計アスペクト比はｘ₀／ｙ₀である。

図１０によると、視野ファセットミラー１３は、個別ミラー群３２、３３に分割される。図１０の上側の個別ミラー群３２は、視野ファセットミラー１３の上側半分を含み、それに対して個別ミラー群３３は、視野ファセットミラー１３の下側半域を含む。ここでもまた、これらの２つの群３２、３３の各々の個別ミラー２１は、制御デバイス２８によって同様に作動される。この作動により、個別ミラー群３２、３３に対応する２つの個別ファセットを含む視野ファセットミラーを生じることができる。これらの個別ファセット３２、３３のアスペクト比は２・ｘ₀／ｙ₀である。

図１１によると、視野ファセットミラー１３は、４・ｘ₀／ｙ₀のアスペクト比を有する合計で４つの個別ミラー群３４から３７であり、各場合に反射面２０の行幅全体を網羅する個別ミラー群３４から３７に分割される。従って、これらの４つの個別ミラー群３４から３７は、上述のアスペクト比を有する４つの個別ファセットを定める。

図１２によると、視野ファセットミラー１３の個別ミラー２１は、各場合に視野ファセットミラー１３の１つの行に対応する合計で８つの個別ミラー群３８から４５であり、８・ｘ₀／ｙ₀のアスペクト比を有する個別ミラー群３８から４５に分割される。すなわち、このグループ分けは、合計で８つの個別ファセットを有する視野ファセットミラーを生成することができる。

図１３によると、視野ファセットミラー１３の個別ファセット２１は、視野ファセットミラー１３の各行内で８つの隣接する個別ミラー２１が、各場合に１つの個別ミラー群４６へとグループ分けされるようにグループ分けされる。これらの個別ミラー群４６の各々は、８：１のアスペクト比を有する。視野ファセットミラー１３の個別ミラーの各行２２が、例えば、８０個の個別ミラー２１から成る場合には、図１３のグループ分けによる各行２２は１０個の個別ミラー群４６を含み、これらの個別ミラー群は合計で８０個の個別ミラー群４６になる。図１３による実施形態では、この構成により、８０個の個別ファセットを有する視野ファセットミラーを形成することが可能になる。

図１４及び図１５は、上述の図２から図７及び図９から図１３による群に分割された合計で１９個の個別ミラー群を有する視野ファセットミラーを用いた瞳ファセットミラー１４と類似の瞳ファセットミラー４７の照射を示している。図８による瞳ファセットミラー１４と同様に、瞳ファセットミラー４７の円形瞳ファセットプレート２９は、行と列のラスターパターンを形成する個別ミラー２１で網羅される。瞳ファセットミラー４７の照射される個別ミラー２１をハッチング線で示している。照射は、各場合に円形境界を有する個別ミラー群４８上に誘導される。個別ミラー群４８の円形境界内には、照射光のビーム経路内で上流に配置された視野ファセットミラーによって発生する複数の像が配置され、これらの複数の像は、円形であると仮定される放射線源の像、又はこの放射線源の像の像である。この放射線源は、円形であると仮定される図１の放射線源１に従って準備することができる。この放射線源の上述の像は、照射及び結像光のビーム経路の中間焦点に配置することができる。これらの複数の像を光源像とも呼ぶ。瞳ファセットミラー４７の中間焦点における光源の像が円形形状から逸脱する場合には、個別ミラー群４８の形状を光源像の形状に相応に適応させることができる。例えば、放射線源の像が楕円形である場合には、瞳ファセットミラー４７上の個別ミラー群４８は、対応する楕円形境界を有することができる。放射線源の像又は光源像の他の形状、例えば、瞳ファセットミラー４７上で最適なタイル張りを生じる六角形又は矩形の形状を考えることができる。放射線源像のそのような形状は、中間焦点面内の対応する絞り配列によって得ることができる。照射光学系４は、絞りの変化に起因して中間焦点内で変化する放射線源像形状に、瞳ファセットミラー４７の個別ミラー群４８の群配列を変更することによって適応させることができる。この適応は、放射線源が変更された場合、例えば、ＧＤＰＰ放射線源がＬＰＰ放射線源で置換された場合にも適用することができる。

瞳ファセットミラー４７の個別ミラー群４８の各々は、視野ファセットミラー１３の厳密に１つの個別ミラー群、例えば、個別ミラー群１９（図７を参照されたい）によって照射される。瞳ファセットミラー４７には、合計で１９個の照射される個別ミラー群４８が生じる。既に上述のように、上流の視野ファセットミラー１３は、１９個の割り当てられた個別ミラー群１９に分割される。瞳ファセットミラー４７上の１９個の個別ミラー群４８への視野ファセットミラー１３の１９個の個別ミラー群１９の割り当ては、視野ファセットミラー１３から物体視野５へのＥＵＶ放射線１０の光路において合計で１９個のチャンネルを生じる。

瞳ファセットミラーの個別ミラー群４８の各々の内部では、９個の中心個別ミラー２１は完全に照射され、それに対して中心個別ミラー２１を取り囲む更に別の個別ミラー２１は部分的に照射される。これらの少なくとも一部は照射される個別ミラー２１は、制御デバイス２８を用いて群として作動させるべき個別ミラー群４８を形成する。個別ミラー群４８の各々の個別ミラー２１は、視野ファセットミラー１３の割り当てられた個別ミラー群、例えば、図７による実施形態の割り当てられた個別ミラー群１９の像が、瞳ファセットミラー４７の個別ミラー群４８及びその下流の伝達光学系１６を通じて物体視野５へと結像されるように作動される。視野ファセットミラー１３を用いて、個別ミラー群４８の位置に２次放射線源が発生し、これらの２次放射線源は、投影平面７の瞳平面に結像される。従って、瞳ファセットミラー４７上のＥＵＶ放射線１０の強度分布は、物体平面６内の物体視野５の照射の照射角度分布に正相関する。

図１４による照射例では、個別ミラー群４８は、瞳ファセットプレート２９にわたってほぼ等しく分布される。その結果、物体視野５は、瞳ファセットプレート２９の開口全体にわたって分布された照射角度によって照射される。その結果は、投影光学系７の像側開口数によって定められる全ての方向からの物体視野５の近似的な従来照射である。

図１５は、図１４のものとは異なる、言い換えれば、投影露光装置１の照射環境が変更された瞳ファセットミラー４７の照射を示している。瞳ファセットプレート２９の縁部にある個別ミラー群４９は、視野ファセットミラー１３のそれぞれの個別ミラー群、例えば、図７による個別ミラー群１９の群毎の又は集合的な作動によって照射される。その結果は、物体平面６内の物体視野５の照射の近似的に環状の照射角度分布である。上述のようにして調節することができる強度分布のリングの最小幅は、個別ミラー群４９の幅によって定められる。

図１５に従って照射環境が変更された場合であっても、個々の視野ファセットが物体視野５へと結像されることを保証するためには、個別視野ファセット、例えば、図７による実施形態の個別ミラー群１９と、個別ミラー群４９の個別ミラー２１との両方を制御デバイス２８を用いてそれぞれの群を傾斜させることによって相応に再調節すべきである。言い換えれば、照射環境が変更された場合には、一方で視野ファセットミラー１３の個別ミラー群と、他方で瞳ファセットミラー４７の個別ミラー群とを制御デバイス２８によって同期して作動させる必要がある。

図８による瞳ファセットミラー１４を用いる場合にも図１５による照射が可能である。この瞳ファセットミラー１４は、物体視野５内の最小照射角度と最大照射角度とによって異なる様々な環状照射環境によって物体視野を照射する上に用いることができる。

図１６は、視野ファセットミラー１３の個別ミラー２１のグループ分けの別の代替バージョンを示している。図１６による視野ファセットミラー１３の個別ミラー群５０は、個別ミラー群５０が弓形のエンベロープ５１を有するようにグループ分けされる。エンベロープ５１は、対応する個別ミラー２１を選択することによって再現される。個別ミラー群５０は、図１６にハッチングで示している個別ミラー２１を含む。相応に、個別ミラー群５０は、物体平面６内で相応に弓形又は環状の物体視野５を照射するための弓形の個別ファセットを形成する。同様に、弓形又は環状のエンベロープ５１を有する複数のそのような個別ミラー群５０を相応に形成される物体視野を照射するように形成することができる。上述の他の個別ミラーのグループ分けと同様に、視野ファセットミラー１３に設ける必要がある個別ファセット２１の個数は、一方で個別ミラー群の望ましい個数と、他方で個別ミラー２１のラスターパターン又はタイル張りを用いて望ましいエンベロープ、例えば、エンベロープ５１を再現するのに必要な解像度とに依存する。

図１７から図２０は、視野ファセットミラー１３の個別ミラー群又は個別ファセット１９の配列又は構成の様々な例を示している。図２から図１６を参照して上述したように、これらの個別ミラー群１９の各々は、詳細には示していない複数の個別ミラー２１へと更に分割される。図１７から図２０に示しているグループ分けの各々は、１つの同じ視野ファセットミラー１３によって発生させることができる。これらの図は、各場合に個別ミラー群１９しか示しておらず、その一方でこれらの群の間に設けられるが使用状態にない個別ミラーを示していない。

図１７による視野ファセットミラー１３は、個別ミラー群１９の合計で４つの列５２へとグループ分けされる。視野ファセットミラー１３は、上流の構成要素によって中心の十字形の領域５３内で遮蔽され、この領域５３内では、グループ分けされたいかなる個別ミラーも領域５３に存在しないように、隣接する個別ミラー群１９は、互いからより大きい距離の位置に配置される。

図１８による視野ファセットミラー１３は、複数の個別ミラー（示していない）で構成された個別ミラー群１９が、図７に示す区画によって例示しているように互いに対してオフセットされた列で配置されるようにグループ分けされる。個別ミラー群１９のこの構成では、視野ファセットミラー１３の中心で幅が拡大する水平中心部分５４は、グループ分けされた個別ミラー２１で網羅されない。部分５４もまた、図１８による視野ファセットミラー１３の上流に配置された構成要素によって遮蔽される。

図１８による視野ファセットミラー１３では、個別ミラー群１９は上位群５５で配置される。隣接する上位群の行のうちの一部は、互いに対してオフセットされ、図１８による視野ファセットミラー１３の円形のエンベロープを形成する。

図１７及び図１８による視野ファセットミラー１３の個別ミラー群１９は、１３：１のアスペクト比ｘ／ｙを有する。従って、これらの個別ミラー群１９は、１３個の隣接する正方形の個別ミラー２１によって形成することができる。

図１９は、各々が図１６を参照して上述したものに対応する複数の弓形又は環状の個別ミラー群５０の構成例を示している。図１９では、個別ミラー群５０、言い換えれば図１９による視野ファセットミラー１３の個別ファセットは、各々が、上下に重なって配置された１０個の個別ミラー群５０から成る上位群５６で配置される。上位群５６は、５つの上位群列で更に配置される。上位群５６は対称に配置され、それによってこれらの上位群５６を円形のエンベロープ５７に内接させることが可能になる。

図２０は、弓形又は環状の個別ミラー群５０に分割される視野ファセットミラー１３の別の構成を示している。個別ミラー群５０は、各場合に異なる個数の個別ミラー群５０を含む上位群５８へと更にグループ分けされる。図２０の左下に示している上位群５８ａは、例えば、９個の個別ミラー群５０に分割される。他の上位群５８は、より多い又はより少ない個別ミラー群５０を有する。集光器１１によって形成される中心遮蔽に起因して、視野ファセットミラー１３の中心部分５９には個別ミラー群１３が設けられない。

図１９及び図２０による実施形態の個別ミラー群５０のアスペクト比も同様にｘ／ｙ＝１３：１に等しく、この場合に、ｘは、個別ミラー群５０のうちの１つのｘ方向の幅を意味し、ｙは、個別ミラー群５０のうちの１つのｙ方向の延長を意味する。

図２１及び図２２は、瞳ファセットミラー４７の個別ミラー群６０、６１への様々な分割を示している。ここでもまた、これらの図は個別ミラー群しか示しておらず、グループ分けされた個別ミラーの間の個別ミラーを示していない。図２１及び図２２による分割は、１つの同じ瞳ファセットミラー４７を用いて達成することができる。

図２１による実施形態では、瞳ファセットミラー４７は、中心領域６２の回りに複数の同心円を形成する個別ミラー群６０に分割される。個別ミラー群６０の各々は、図８、図１４、及び図１５を参照して上述したように、更に瞳ファセットミラー４７の複数の個別ミラー２１から成る。瞳ファセットミラー４７は、合計で１００個を超える個別ミラー群６０を含み、図２１による実施形態では、個別ミラー２１の個数は１、０００を超える。

図２２による個別ミラー２１は、円形個別ミラー群６１が近似的な六方緊密充填で配置されるようにグループ分けされる。

図２１及び図２２によるグループ分けは、所定の照射角度分布を有する照射環境を形成するのに特に適することが見出されている。必要に応じて、特定の照射環境を定めるために、個別ミラー群６０、６１又はその上位群のうちの一部は、これらの上流にある視野ファセットミラー１３の個別ミラー群１９を傾斜させることによって遮光することができる。

図２に対する代替形態として、図２３は、個別ミラー２１で網羅される上述のファセットミラーのうちの１つの反射面２０のタイル張りを示している。図２３によるタイル張りの個別ミラー２１も同様に正方形である。個別ミラー２１は、行と列のラスターパターンで配置されず、隣接する列は、個別ミラー２１の縁部長の半分だけ互いに対してオフセットされる。

図２３によるタイル張りは、弓形又は環状の個別ミラー群、例えば、図１９及び図２０による個別ミラー群５０をエンベロープ５１に隣接して低損失しか伴わずに形成することを可能にし、それによって所定の最大許容可能損失に対して行と列のラスターパターンで配置されたタイル張りよりも低い個別ミラー解像度又はピクセル解像度しか必要とされない。

図２４は、別の照射光学系を含む投影露光装置１を示している。図１から図２３を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。

放射線源３の下流にある最初の要素は、それ以外は図１による配列にある集光器１１の機能を有する光束形成集光器６２である。集光器６３の下流には、鏡面反射器６４が配置される。この鏡面反射器６４は、ＥＵＶ放射線１０が物体平面６内の物体視野５を照射し、その結果として図２４には示していない投影光学系のレチクルの下流に配置された瞳平面６５内に、円形境界を有する所定の例えば均一に照射される瞳照射分布、言い換えれば対応する照射環境が生じるように入射ＥＵＶ放射線１０を形成する。鏡面反射器６５の効果は、ＵＳ２００６／０１３２７４７Ａ１に説明されている。上述のファセットミラーと同様に、鏡面反射器６４の反射面は個別ミラー２１に分割される。照射要件によっては、鏡面反射器６４のこれらの個別ミラーは、鏡面反射器６４の個別ミラー群、言い換えればファセットへとグループ分けされる。

図２５は、図１による照射とは異なる瞳ファセットミラー１４の別の照射を示している。図１から図２３を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。図２５では、瞳ファセットミラー１４を含み、そこまでの照射系２を示している。

図１による照射系２とは対照的に、図２５による照射系２には、集光器１１と視野ファセットミラー１３の間に中間焦点面が設けられない。図２５にはそれ程詳細に示していない視野ファセットミラー１３の個別ミラー群の反射面は平面表面とすることができる。

上述の視野ファセットミラー１３の個別ミラー群の様々な実施形態のうちの１つでは、個別ミラー２１のうちの一部の作動が、この群のうちの残りの個別ミラー２１のものとは個々に異なるものとすることができ、言い換えれば、これらの一部の個別ミラー２１を個別ミラー群から外すことができる。その結果、このようにして形成された視野ファセットミラー１３の様々な個別ファセットに、物体視野５内の照射強度の均一性を補正するのに有利であるとすることができる特定の遮光又は遮蔽を与えることができる。

相応に、瞳ファセットミラー１４、４７の個別ミラー群の上述の様々な実施形態のうちの１つでは、個別ミラー２１のうちの一部の作動が、この群のうちの他の個別ミラー２１のものとは個々に異なるものとすることができ、言い換えれば、これらの一部の個別ミラー２１は、個別ミラー群から外される。瞳ファセットミラー１４、４７上の様々な光源像（図１４及び図１５の４８を参照されたい）は、特定の遮光又は遮蔽を用いて個々に遮光することができる。この遮光は、物体視野５の照射角度にわたる特定の強度分布を補正又は設定するのに有利であるとすることができる。

相応に、鏡面反射器６４上で組み合わされる個別ミラー群の個別ファセットを個別ミラー群から個々に外すことができる。

図２６は、別の実施形態の照射光学系を示している。図１から図２５を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。

放射線源３の下流にある最初の要素は、連続ミラー面、言い換えればファセットが設けられていないミラー面を有する集光器６６である。ミラー面は、例えば、楕円形のミラー面とすることができる。集光器６６は、入れ子状の集光器で置換することができる。

中間焦点面１２の下流では、ＥＵＶ放射線１０は、集光器ファセットミラー６７上に入射する。この集光器６７は、上部に固定された楕円体個別ミラー６９のｘ／ｙアレイに結合された平面支持プレート６８を有する。楕円体個別ミラー６９は密接する反射面を有し、それによってＥＵＶ放射線１０の殆どの部分が集光器ファセットミラー６７のこれらの楕円体個別ミラー６９によって反射される。楕円体個別ミラー６９は、楕円体個別ミラー６９を個々に傾斜させることを可能にするアクチュエータ（示していない）に接続される。楕円体個別ミラー６９は、その全てが同じ立体角のＥＵＶ放射線１０を吸収するように形成される。

放射線源３は、楕円体集光器６６の１つの焦点上に配置され、それに対して中間焦点面１２の中間焦点は、楕円体集光器６６の別の焦点上に配置される。

集光器ファセットミラー６７の下流には、個別ミラー２１のｘ／ｙアレイを含む鏡面反射器７０がＥＵＶ放射線１０のビーム経路に配置される。ＥＵＶ放射線１０が入射する各楕円体個別ミラー６９は、その後のビーム経路内の鏡面反射器７０の個別ミラー２１のうちの１つに割り当てられ、それによってＥＵＶ放射線１０は入射を受ける楕円体個別ミラー６９の個数に対応する放射線チャンネルの個数に分割され、これらの放射線チャンネルの各々は楕円体個別ミラー６９のうちの１つの上に入射し、次に、鏡面反射器７０の割り当て個別ミラー６９のうちの１つの上に入射する。

中間焦点面１２の中間焦点は、楕円体個別ミラー６９のうちの１つが有する焦点のそれぞれの１つに配置され、それに対して楕円体個別ミラー６９の第２の焦点には、この楕円体個別ミラー６９に割り当てられた鏡面反射器７０の個別ミラー２１が配置される。言い換えれば、鏡面反射器７０は、放射線源３の光源像７２に対する像平面７１に配置される。これらの光源像７２は、像平面７１内に個別的に、言い換えれば互いからある距離の位置に配置される。この配列を鏡面反射器７０の位置における光源像７２の平面図である図２８に示す。鏡面反射器の照射される個別ファセット２１の個数に対応して、等距離のｘ／ｙラスターパターンで配置された合計で数百個のそのような光源像７２が生じる。合計の光源像７２のエンベロープは、肝臓又は豆の形状を近似的に有する。

鏡面反射器７０上の光源像７２から進み、レチクルが配置された物体平面６内の物体視野５の物体視野部分７３は、個々の放射線チャンネルを通じて照射される。物体視野部分７３は、一般的に、歪曲した矩形のｘ／ｙラスターパターン方式で物体視野５を網羅する。

物体視野部分７３は、各場合に１つの光源像７２に割り当てられるので、物体視野部分７３を光源スポットとも呼ぶ。物体視野部分７３の照射形状は、楕円体個別ミラー６９の境界形状と相関する。

鏡面反射器７０は、図２６による照射光学系の瞳平面には配置されない。

物体視野５は、例えば、ｙ方向に８ｍｍのスロット幅、及びｘ方向に１０４ｍｍの幅を有する部分的に環状の形状を有する。鏡面反射器７０の個別ミラー２１は、物体平面６内で物体視野部分７３によって形成される物体視野が照射され、かつ下流にある投影光学系の瞳平面と一致する照射光学系が有する下流の瞳平面内で望ましい強度分布が得られるように、ＥＵＶ放射線の放射線チャンネルを形成し、それによってレチクル上で望ましい照射角度分布が得られることを保証する。

図２６は、隣接する楕円体個別ミラー６９により、ＥＵＶ放射線１０が鏡面反射器７０の隣接する個別ミラー２１上に入射するチャンネル毎の照射の概略図である。そのような隣接関係は必須ではない。実際には、例えば、一方で楕円体個別ミラー６９と、他方で鏡面反射器７０の個別ミラー２１との近接性関係が、点反転、鏡像反転、又は恒等関数によって互いに変換することができないように、そのような隣接配列を排除することが望ましい場合がある。以下ではこの互いの変換を近接性関係の混合とも呼び、楕円体個別ミラー６９の鏡面反射器７０の個別ミラー２１への別の関係を示す図２７に例示している。

図２７に従って近接性関係が混合された場合には、結果として鏡面反射器７０による物体視野部分７３の相応に混合された照射が生じ、それによって物体視野５を良好な均一性を伴って照射することが可能になる。この均一性を有する照射により、放射線源３の放出特性に起因し、更に、例えばミラー面の選択的な汚染の結果として鏡面反射器７０の上流に配置された光学系の反射率の特に面にわたる変化に起因する物体視野照射の均一性に対する効果が低減する。

鏡面反射器７０の個別ミラー２１に対する楕円体個別ミラー６９の混合割り当ては、例えば、ＵＳ６，４３８、１９９Ｂ１に開示されているアルゴリズムを用いて行うことができる。この割り当ては、例えば、交差方式とすることができ、その結果、鏡面反射器７０の隣接する個別ミラー２１には、隣接しない楕円体個別ミラー６９からの光が入射する。

鏡面反射器７０の個別ミラー２１の個数は、集光器ファセットミラー６７の楕円体個別ミラー６９の個数を超える。このようにして、鏡面反射器７０の個別ミラー２１の様々な部分群が、物体視野５の様々な望ましい照射を提供するように調節されるように、楕円体個別ミラー６９のアクチュエータを作動させることができる。光源像７２の各々は、個別ミラー２１のうちの厳密に１つの上で発生させることができる。

鏡面反射器７０の個別ミラー２１もまた、各場合にアクチュエータに接続され、それによって像平面７１に対してこれらの個別ミラー２１を個々に傾斜させることが可能になる。楕円体個別ミラー６９を調節した後には、それに応じて鏡面反射器７０の個別ミラー２１を再調節することが可能になる。

図２６及び図２７は、ｙ方向に沿って延びる楕円体個別ミラー６９の群７４であって、同様にｙ方向に延びる鏡面反射器７０の個別ミラー２１の群７５及び物体視野点７３の群に割り当てられた群７４の概略図を示している。

一方で集光器ファセットミラー６７のアクチュエータと、他方で鏡面反射器７０のアクチュエータとは、楕円体個別ミラー６９又は鏡面反射器７０の個別ミラー２１を群で作動させることができるように作動させることができる。しかし、特定の群のそのような作動は必須ではない。

集光器ファセットミラー６７は、個別に予備製作された楕円体個別ミラー６９から組み立てることができる。集光器ファセットミラー６７を製造する別の方法は、この集光器ファセットミラー６７を例えば単一のダイヤモンドの処理によってモノリシックに形成することを可能にする。次に、集光器ファセットミラー６７は、ＨＳＱ又はポリアミドスピンコーティングを用いて平滑化される。ＨＳＱ法は、Ｆａｒｈａｄ Ｓａｌｍａｓｓｉ他著「応用の光学」、第４５巻、第１１号、２４０４ページから２４０８ページに説明されている。

集光器ファセットミラー６７を製造する別の方法は、電気メッキを用いて基体から電気的に形成することを可能にする。

放射線源３、集光器６６，及び集光器ファセットミラー６７は、多光源アレイ内に統合することができる。この種の多光源アレイは、ドイツ特許出願第１０，２００７，００８，７０２．２号に説明されており、この出願は、本出願に完全に組み込まれていると考えるものとする。照射される領域内、言い換えれば物体視野内では、多光源アレイの各放射線源は、部分領域、言い換えれば物体視野部分を照射することしかできない。

楕円体個別ミラー６９又は個別ミラー２１が湾曲している場合は、上述の実施形態の個別ミラー２１でさえも複数の平面マイクロミラーで構成することができ、この場合、これらの複数の平面表面は、楕円体個別ミラー６９のそれぞれの湾曲面又は湾曲個別ミラー２１をこれらが多面体に似るように近似する。

一般的に、楕円体個別ミラー６９の湾曲面又は湾曲個別ミラー２１を近似するマイクロミラーは、更にアクチュエータを用いて変位させることができる。この場合、マイクロミラーは、個別ミラー６９、２１の結像特性に影響を与えるのに用いることができる。

この種のマイクロミラーは、例えば、横方向に取り付けられたバネ継手を用いて個別ミラーが移動可能に装着され、静電気によって作動させることができるマイクロミラーアレイ（ＭＭＡ）と同様に設計することができる。例えば、ＥＰ１，２８９，２７３Ａ１に開示されているこの種のマイクロミラーは、当業者には、「ＭＥＭＳ（マイクロ電気機械システム）」として公知である。

上述の実施形態では、個別ミラー２１及び６９は、照射チャンネルが投影露光装置１の物体視野５内でＥＵＶ放射線１０、言い換えれば照射光を重ね合わさることを可能にする。図２６及び図２７では、そのような照射チャンネルＡＫを略示している。対応する照射チャンネルは、図１から図２５による実施形態においても見られる。個別ミラー２１及び６９は、これらの個別ミラー照射チャンネルが、物体視野５内で物体視野５よりも小さい部分物体を照射するような延長を有するミラー面を有する。図２６及び図２７ではこのミラー面を鏡面反射器７０において示している。異なる個別ミラー照射チャンネルに割り当てられた物体視野部分を組み立てることによる物体視野５の照射は、一般的に、図１から図２５による実施形態にも適用することができる。

図２９は、合計で２２個の照射チャンネルによって照射される例示的物体視野５の概略図であり、この場合これらの照射チャンネルは、対応する２２個の物体視野部分７６を照射する。物体視野部分７６の間の境界７７、７８は、それぞれｘ方向又はｙ方向に延びている。

図２９による物体視野照射を有する投影露光装置１を用いた投影露光中にウェーハホルダとレチクルホルダとが同期して変位した走査方向ｙ_scanは、ｙ方向に対して厳密に平行ではない、言い換えれば、物体視野５の長視野軸ｘに対して垂直ではなく、この視野軸ｘに対して角度αだけ傾斜される。その結果、物体視野５を通る走査時に、レチクル上の点は、ｙ方向に２つの物体視野部分７６の間で延びる境界７８のうちの１つと出合うことがあったとしても、走査処理の一部の間にしか出合わない。それによって物体視野５を通る走査処理全体の間に結像されるレチクル上の点が常時境界７８のうちの１つに沿って移動することが阻止され、それによって物体視野が部分的に照射される場合に結像されるレチクル上の点が露光される強度の均一性が改善される。

代替的に、物体視野部分は、走査方向に沿って物体視野点の間にいかなる連続境界も存在しないように配置することができる。互いに対してオフセットされ、重ね合わされた物体視野部分のそのような配列は、例えば、図２３による配列が９０°だけ回転されたものに対応する物体視野５が、図２３による個別ファセット２１に対応する物体視野部分を用いて照射される場合に得られる。この場合、走査方向に対して垂直に互いに対してオフセットされた物体視野部分の行が存在し、その結果、走査方向ｙ_scanがｙ方向と厳密に一致する場合であっても、物体視野５を通る走査時に、レチクル上には物体視野部分の間の境界に常時沿って移動するいかなる単一点も存在しない。従って、この種のオフセット配列もまた、走査処理中に視野点が露光される強度の望ましくない不均一性を回避するのに役立つ。

物体視野部分が、走査方向に対して平行ではない縁部を有する境界形状を有する場合は、対応する均一化を得ることができる。この境界形状は、例えば、物体視野部分の形状を定める形状を有する台形又は菱形の個別ミラー２１によって得ることができる。

像視野８内で望ましくない強度不均一性を招くことになる個別ミラー２１の鮮明な縁部が像視野内に結像されることを阻止するために、伝達光学系１５を用いて個別ミラー２１の像の特定の焦点ぼけ、又は鏡像の特定の収差を得ることができる。この目的のために、伝達光学系１５は、個別ミラー２１、６９の像の鮮明な縁部が、物体平面６の上流又は下流で発生するように構成することができる。

個別ミラー２１、６９は、用いられるＥＵＶ波長に対して個別ミラー２１、６９の反射率を最適化するために、モリブデン及びシリコンの個別層を含む多層コーティングを有することができる。

個別ミラーに分割されない瞳ファセットを含む瞳ファセットミラーの場合には、１つの同じ瞳ファセットによって個別ミラー照射チャンネルは、群で物体視野５に伝達させることができる。これらの瞳ファセットの各々は、この瞳ファセットに割り当てられた個別ミラー照射チャンネルを組み合わせる群照射チャンネルを定める。この場合、群照射チャンネルの個数は、個別ミラーに分割されない瞳ファセットの個数に対応する。次に、群照射チャンネルの個別ミラー照射チャンネルへの分割に対応して、これらの瞳ファセットの各々及び各群照射チャンネルが、視野ファセットミラーの一部の個別ミラーに割り当てられる。照射角度分布を修正するために、瞳ファセットの個数は、群照射チャンネルの個数を超えることができる。

視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーの両方が個別ミラー２１に分割される実施形態では、視野ファセットミラーの隣接する個別ミラー２１は、隣接する瞳ファセット個別ミラーによって伝達する必要はなく（図２６による鏡面反射器の以上の説明と図２７による鏡面反射器の以上の説明とを比較されたい）、実際には、物体視野５全体の組合せ照射に向けて空間的に不規則に混合された視野ファセット個別ミラーと瞳ファセット個別ミラーとの群を設けることができる。

以下は、図３０から図３４を用いた個別ミラー、例えば、図２による視野ファセットミラー１３を形成する個別ミラー２１のうちの１つの実施形態のより詳細説明である。図１から図２９を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。

図３１から図３４による個別ミラー２１は、ミラープレートの形態にあるミラー本体７９を有する。ミラー本体７９はシリコンから成る。ミラー本体７９は、ＥＵＶ放射線１０を反射するための図３０から図３４による実施形態では近似的に正方形である矩形反射面８０を有する。反射面８０には、ＥＵＶ放射線１０に対して個別ミラー２１の反射率を最適化するための多層反射コーティングを設けることができる。

個別ミラー２１のミラー本体７９は、シリコンから成る堅固な支持体に対して２つの傾斜軸の回りに傾斜させることができる。図３０から図３４ではこれらの２つの傾斜軸をｗ₁及びｗ₂で表している。これらの２つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の各々は、各場合に硬質の継手である傾斜継手８２、８３の一部である。２つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂は、互いに対して垂直である。傾斜軸ｗ₁はｘ軸に対して平行であり、傾斜軸ｗ₂はｙ軸に対して平行である。ミラー本体７０及び支持体８１は、ＦｉＯ₂又はＦｉ₃Ｎ₄で形成することができる。傾斜軸ｗ₂は、ミラー本体７９の延伸平面に配置される。ミラー本体７９の実際の反射面８０の隣には、傾斜させることができない小さい非作動面区域８３ａが存在し、図３０にはこの非作動面区域８３ａを傾斜軸ｗ₂の上に示す。２つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の両方が、反射面８０の平面に対して平行に延びている。代替的に、傾斜継手８２、８３は、２つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂のうちの少なくとも一方が、反射面８０の平面に配置されるように配置することができる。

個別ミラー２１を形成するのに適するＥＵＶ及び高真空適合材料の他の例は、ＣＶＤ（化学気相蒸着）ダイヤモンド、ＳｉＣ（炭化珪素）、ＳｉＯ₂（酸化シリコン）、Ａｌ₂Ｏ₃、銅、ニッケル、アルミニウム合金、及びモリブデンを含む。

図３２は、傾斜軸ｗ₁の傾斜継手８２の拡大図を示している。傾斜継手８３は、相応に形成される。

傾斜軸ｗ₁に対して垂直に、言い換えれば図３２のｚ方向に、傾斜継手８２は、継手厚みＳを有する。傾斜軸ｗ₁に沿って、言い換えれば図３２のｘ方向に、傾斜継手８２は、継手長さＬを有する（図３３を参照されたい）。継手長さＬのサイズは、ミラー本体７９の横手延長と同等である。

図３０から図３４による個別ミラー２１では、継手長さＬは約１ｍｍである。図面内では極端に大きい継手厚みＳは、１μｍである。従って、図３０から図３４による個別ミラー２１では、比率Ｌ／Ｓは約１０００である。

ミラー本体７９は、傾斜継手８２の寸法に対応する寸法、特に、継手厚みＳ及び継手長さＬを有する傾斜継手８３を通じて中間支持体８４と一体に接続される。中間支持体８４も同様にシリコンから成る。図３３の断面によると、中間支持体８４はＬ字形であり、傾斜継手８３と直接に隣接する継手部分８５を有し、更にミラー本体７９の下に、言い換えればミラー本体７９の反射面８０から離れた側に配置されたプレート部分８６を有する。傾斜継手８３の領域内には、ミラー本体７９と中間支持体８４の継手部分８５の間に距離Ｂが存在し、この距離Ｂを傾斜継手８３の幅とも呼ぶ。

中間支持体８４のプレート部分８６は、傾斜継手８２を通じて支持体８１の継手部分８７と一体に接続される。継手部分８７は、支持体８１のプレート部分８８に固定される。支持体８１のプレート部分８８は、中間支持体８４のプレート部分８６の下に配置される。図３１及び図３３に示している中立位置では、ミラー本体７９、中間支持体８４のプレート部分８６，及び支持体８１のプレート部分８８は互いに対して平行である。

２つの傾斜軸ｘ₁、ｘ₂の回りのミラー本体７９の制御された傾斜に向けて、２つの電極アクチュエータ８９、９０が設けられる（図３４を参照されたい）。電極アクチュエータ８９は、傾斜継手８２に割り当てられ、従って、このアクチュエータをｗ₁−アクチュエータ９０とも呼ぶ。電極アクチュエータ９０は、傾斜継手８３に割り当てられ、従って、このアクチュエータをｗ₂−アクチュエータとも呼ぶ。ｗ₂−アクチュエータの第１の電極は、導電性を有するミラー本体７９自体である。ｗ₂−アクチュエータ９０の対極９１は、中間支持体８４のプレート部分８６に付加された導電性コーティングであり、コーティングは、ミラー本体７９に対面する。個別ミラー２１の中立位置では、対極７９は、ミラー本体７９から約１００μｍの距離を有する。

ｗ₂−アクチュエータの２つの電極９０、９１は、信号線９２を通じて作動可能電圧供給源９３に接続される。電圧供給源９３は、信号線９４を通じてアクチュエータ制御デバイス９５に接続される。

対極９１は、同時にｗ₁−アクチュエータ８９の電極でもある。ｗ₁−アクチュエータ８９の対極９６は、支持体８１のプレート部分８８に付加された導電性コーティングによって形成される。ｗ₁−アクチュエータ８９の対極９６は、支持体８１のプレート部分８８の中間支持体８４のプレート部分８６に対面する側に配置される。中立位置、言い換えれば無力状態では、ｗ₁−アクチュエータ８９の対極９６の中間支持体８４のプレート部分８６からの距離は１００μｍである。

電極９１、９６は、信号線９２を通じて別の電圧供給源９７に電気的に接続される。電圧供給源９７は、別の制御線９８を通じてアクチュエータ制御デバイス９５に接続される。

直流電圧Ｖ１及びＶ２（図３４を参照されたい）が印加されると、中間支持体８４のプレート部分８６は、傾斜軸ｗ₁の回りに支持体８１のプレート部分８８に向けて、更にミラー本体７９を傾斜軸ｗ₂の回りに中間支持体８４のプレート部分８６に対して、各場合に所定の傾斜角だけ制御可能に傾斜させることができる。それぞれの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の回りの傾斜角の割合は、特に、傾斜継手８２、８３の寸法、電極９０、９１、９６の面積、これらの電極の互いからの距離、及び当然ながら印加電圧Ｖ１、Ｖ２のマグニチュードに依存する。印加電圧Ｖ１、Ｖ２は、傾斜角を２つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の回りに連続的に調節することを可能にする。

図３４は、電圧Ｖ１、Ｖ２を印加した後に、一方で中間支持体８４のプレート部分８６が、傾斜軸ｗ₁の回りに支持体８１のプレート部分８８に対してそれに向けて傾斜され、他方でミラー本体７９が、傾斜軸ｗ₂の回りに中間支持体８４のプレート部分８６に対してそれに向けて傾斜された傾斜位置を示している。入射するＥＵＶ放射線１０は、図３４に略示しているように、定められた方式でミラー本体７９の反射面８０によって偏向される。

図３５は、図３２の別の図であり、実施形態の傾斜継手８２における寸法関係を示している。この実施形態では、継手厚みＳも約１μｍになり、継手幅Ｂは、約２０μｍになり、図３５の作図面に対して垂直な継手長さＬは、約１ｍｍになる。

図３６及び図３７は、例えば、個別ミラー２１の反射面８０の少なくとも１つの傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の回りの制御された傾斜のための別の実施形態のアクチュエータ１１９を示している。図３０から図３５を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。

アクチュエータ１１９は、図３６及び図３７には示していない継手体との可動接続が確立されるように、アクチュエータ１１９に割り当てられた傾斜継手が設けられた自由端１２１（図３６及び図３７を参照されたい）を有する可動電極１２０を有する。可動電極１２０は平坦であり、図３６及び図３７ではこれを断面で示している。図３６及び図３７による断面図では、可動電極１２０は湾曲している。

アクチュエータ１１９の対極２２は、支持体８１のプレート部分８８と堅固に接続される。対極１２２は、例えば、支持体８１のプレート部分８８に付加されたコーティングである。可動電極１２０と対極１２２の間には、誘電体１２３の形態で層が配置される。誘電体１２３は、対極１２２上の平坦なコーティングとすることができる。

対極１２２は、接触領域１２４内で可動電極１２０と直接接触状態にある。可動電極１２０の離間領域１２５は、対極１２２及び誘電体１２３から離間している。可動電極１２０の自由端１２１は、離間領域１２５の一部である。

図３６及び図３７は、可動電極１２０の２つの位置を示している。図３６は、２つの電極１２０、１２２の間にいかなる電圧も印加されていない中立位置を示している。この場合、可動電極１２０の自由端１２１は、プレート部分８８から最大距離の位置に配置される。図３７は、電極１２０、１２２の間に約８０Ｖの傾斜電圧が印加された位置を示している。

図３７によるこの傾斜位置では、可動電極１２０の接触領域１２４の隣の領域も誘電体１２３と接触状態になり、それに応じて支持体８１のプレート部分８８からの自由端１２１の距離が短縮する。

図３６及び図３７によるそのようなアクチュエータ１１９は、マイクロスクロールドライブとも呼ばれる。

他の実施形態の傾斜継手は、継手長さＬの継手厚みＳに対して異なる寸法関係を有することができる。Ｌ／Ｓは、５０よりも大きく、１００よりも大きく、２５０よりも大きく、又は更に５００よりも大きいとすることができる。１０００よりも大きいＬ／Ｓ関係を考えることもできる。

ミラー本体７９を傾斜させるための上述のアクチュエータは、傾斜軸ｗ₁、ｗ₂の回りのそれぞれの傾斜角を測定するための統合されたセンサを含むことができる。このセンサは、特に、事前設定された傾斜角をモニタするために用いることができる。

図３８及び図３９は、個別ミラー２１を含む上述のファセットミラーのうちの１つの反射面上の更に別の実施形態のタイル張りを示している。

図３８におるタイル張りでは、隣接する列の個別ミラー２１は、互いに対してｙ方向にオフセットされる。図３８では、このオフセットを２つの列Ｓ１及びＳ２を用いて例示している。これらの列Ｓ１、Ｓ２に配置された個別ミラー群１９の隣接する個別ミラー２１は、各場合に、互いに対してｙ方向に個別ミラー２１のｙ延長の半分だけオフセットされる。隣接する他の列内では、列Ｓ３と列Ｓ４を比較すると、これらの列内に互いに隣に配置された個別ミラー群１９の個別ミラー２１は、各場合に、互いに対してｙ方向に個別ミラー２１の全ｙ延長分オフセットされる。このオフセットにより、それぞれの個別ミラー２１の比較的大きいｙ延長にも関わらず、大きい所定の曲率半径の個別ミラー群１９を得ることが可能になる。このようにして、例えば、個別ミラー群１９を湾曲した物体視野形状に適応させることができる。図３８の縁部にある個別ミラー群１９のうちの１つをより容易に識別することができるように強調表示している。

図３９は、個別ミラー２１の別の実施形態の配列、及びこれらの個別ミラー２１の個別ミラー群１９への別のグループ分けを示している。図３９のｘ方向には部分的にしか示していない個別ミラー群１９は、図３８による個別ミラー群１９のものに対応するｘ／ｙアスペクト比を有する。図３８による個別ミラー群１９とは対照的に、図３９による個別ミラー群１９は、矩形形状のものである。図３９によるこれらの個別ミラー群１９の各々は、矩形物体視野を照射することができる。図３９による矩形個別ミラー群１９を用いて弓形物体視野を照射するように考えることができ、この場合、例えば、かすめ入射ミラー１８（図１を参照されたい）が、対応する視野形成を保証することになる。

ファセットミラー１３が個別ミラー２１によってタイル張りされる方法は、木製のこけら板でタイル張りされた家壁に似ている。個別ミラー群１９の各々は、上下に重なって配置された隣接する個別ミラー２１の７つの行を含む。これらの行の間の継手１４０は、連続的に水平であり、言い換えれば、ｘ方向に延びている。行のうちの１つ内で隣接する個別ミラー２１の間の継手１４１は、ｙ方向に対して、すなわち、個別ミラー２１の列配列の方向に対して角度Ｔで配置される。図示の実施形態では、角度Ｔは、約１２°である。他の継手角度Ｔ、例えば、５°、８°、１５°、１９°、又は２０°の継手角度Ｔを考えることができる。

個別ミラー２１の各々は、複数個の個別ミラー１９のｘ／ｙアスペクト比に対応するｘ／ｙアスペクト比を有する。図３９によるとそうではないように見えるが、これは、個別ミラー２１をｘ方向に見て圧縮した図で示しているからである。

投影露光装置１は、微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素、特に、マイクロチップのような半導体構成要素のリソグラフィ製造において、物体視野５内のレチクルの少なくとも一部を像視野８内のウェーハ上の感光層のある一定の領域上に結像するのに用いられる。投影露光装置１が、スキャナ又はステッパのいずれとして設計されたかに依存して、レチクルとウェーハは、時間的に同期化された方式で、すなわち、スキャナモードで作動する場合は連続的に、又はステッパモードで作動する時には区分的にｙ方向に変位される。

個別ミラー２１及び６９に対して定められた傾斜角の設定は、これらの個別ミラー２１及び６９が照射光学系の視野平面に配置されない場合には、結像光１０の強度走査プロフィール、言い換えれば、強度分布を像視野８にわたってｙ方向に定めることを可能にする。この種の走査プロフィールは、ガウス分布に似たｙ座標の関数とすることができる。代替的に、この種の走査プロフィールは、台形形状のｙ座標の関数とすることができる。この種の代替の走査プロフィールはまた、矩形関数をガウス関数で畳み込むことによっても得ることができる。

１９ 個別ミラー群
２１ 個別ミラー
ｘ，ｙ 傾斜軸

Claims (31)

1. ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）の光学構成要素として使用するためのファセットミラー（１３，１４；４７；６４；６７，７０）であって、
   照射光（１０）を投影露光装置（１）の物体視野（５）に誘導するための個別ミラー照射チャンネル（ＡＫ）をもたらす個別ミラー（２１；６９）、
   を含み、
   前記個別ミラー（２１；６９）は、前記個別ミラー照射チャンネル（ＡＫ）が、前記物体視野（５）よりも小さい物体視野部分（７３；７６）を該物体視野（５）内で照射するようなミラー面を有し、
   前記個別ミラー（２１；６９）は、アクチュエータ（２４）を通じて傾斜可能である、
   ことを特徴とするファセットミラー。
2. 前記個別ミラー（２１；６９）は、前記物体視野（５）全体を照射するのに少なくとも２つの個別ミラー照射チャンネル（ＡＫ）を必要とするようなミラー面を有することを特徴とする請求項１に記載のファセットミラー。
3. 少なくとも１つの個別ミラー群（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６；４８；５０；６０；６１）が、前記物体視野（５）全体を照射するように設計されることを特徴とする請求項１に記載のファセットミラー。
4. マイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）の光学構成要素として使用するためのファセットミラー（１３，１４；４７；６４；６７，７０）であって、
   複数の個別ミラー（２１；６９）、
   を含み、
   これらは、入射照射光（１０）の個々の偏向に向けて、
   それらが、個別作動によって少なくとも１つの傾斜軸（ｘ，ｙ）の回りに傾斜可能である、
   ような方法で各場合に少なくとも１つのアクチュエータ（２４）に接続され、
   各場合に少なくとも２つの個別ミラーの個別ミラー群（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６；４８；５０；６０；６１）への前記個別ミラー（２１；６９）の所定のグループ分けを設定することを可能にするような方法で構成され、前記アクチュエータ（２４）に接続した制御デバイス（２８）、
   を更に含む、
   ことを特徴とするファセットミラー。
5. 前記個別ミラー群は、前記投影露光装置（１）において照射される物体視野（５）の視野形状に対応するファセット形状を有する個別ファセット（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６；５０）を形成することを特徴とする請求項３から請求項４のいずれか１項に記載のファセットミラー。
6. 前記個別ミラー群（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６）は、矩形エンベロープを有することを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載のファセットミラー。
7. 前記個別ミラー群（４８；４９；５０）は、弓形、環状、又は円形のエンベロープ（５１）を有することを特徴とする請求項３から請求項６のいずれか１項に記載のファセットミラー。
8. 前記個別ミラー群は、前記投影露光装置（１）において照射される物体視野（５）内の照射角度分布に対応する配列を有するミラー領域（４８；４９；６０；６１）を形成することを特徴とする請求項３から請求項７のいずれか１項に記載のファセットミラー。
9. 前記個別ミラー（２１）は、多角形であり、かつタイル張りの方式で前記個別ファセット又はミラー領域を網羅することを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のファセットミラー。
10. 前記個別ミラー（２１）の各々は、平面反射面を有することを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のファセットミラー。
11. 前記個別ミラー（２１）は、ファセットミラーの反射面（２０）に対する法線（ｚ）に沿った変位に向けて個別に作動可能であることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のファセットミラー。
12. 個別ファセット（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６；５０）又はミラー領域（４８；４９；６０；６１）の前記個別ミラーは、行と列に配列されることを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載のファセットミラー。
13. 前記制御デバイス（２８）は、信号バス（２６，２７）を通じて前記アクチュエータ（２４）に接続されることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のファセットミラー。
14. 前記制御デバイス（２８）は、行内の前記個別ミラー（２１）の集合的作動に向けて構成されることを特徴とする請求項１３に記載のファセットミラー。
15. 前記制御デバイス（２８）は、１つの個別ミラー群（１９；３１；３２、３３；３４から３７；３８から４５；４６；５０；６０；６１）の個々の個別ミラー（２１）の作動が、該個別ミラー群の残りの個別ミラー（２１）のものと個々に異なることができるような方法で構成されることを特徴とする請求項３から請求項１４のいずれか１項に記載のファセットミラー。
16. 全ての個別ミラー（２１；６９）が、共通の平面支持体（６８）上に配置されることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載のファセットミラー。
17. マイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）のための照射光学系（４）であって、
    請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の少なくとも１つのファセットミラー、
    を含むことを特徴とする照射光学系。
18. 請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の２つのファセットミラー（１３，１４）を特徴とする請求項１７に記載の照射光学系。
19. 個別ミラー群（７４，７５）が、物体視野（５）内で隣接する物体視野部分（７３；７６）を照射し、かつ組み合わされて該物体視野全体を形成する個別ミラー照射チャンネルに割り当てられることを特徴とする請求項１７又は請求項１８に記載の照射光学系。
20. 前記ファセットミラー（１３）は、照射光学系（４）の視野平面に配置されることを特徴とする請求項１７から請求項１９のいずれか１項に記載の照射光学系。
21. 請求項１７から請求項２０のいずれか１項に記載の照射光学系（４）と、
    照射及び結像光（１０）を発生させるための放射線源（３）と、
    投影露光装置の物体視野（５）を像視野（８）内に結像するための投影光学系（７）と、
    を含むことを特徴とする投影露光装置。
22. 前記放射線源（３）は、ＥＵＶ放射線源であることを特徴とする請求項２１に記載の投影露光装置。
23. ファセットミラーが、前記放射線源（３）と前記物体視野（５）の間の前記照射光（１０）のビーム経路に配置された鏡面反射器（６４；７０）であることを特徴とする請求項２１又は請求項２２に記載の投影露光装置。
24. 前記鏡面反射器（７０）が、該鏡面反射器（７０）の個別ミラー（２１）に割り当てられた前記放射線源（３）の複数の像（７２）で個別に照射されるような方法による該鏡面反射器（７０）の上流の前記照射光（１０）の光束形成を特徴とする請求項２３に記載の投影露光装置。
25. 前記ファセットミラー（６７）は、前記放射線源（３）と鏡面反射器（６４；７０）の間に配置されることを特徴とする請求項２１から請求項２４のいずれか１項に記載の投影露光装置。
26. 前記放射線源（３）と鏡面反射器（７０）の間に配置された前記ファセットミラー（６７）は、該鏡面反射器（７０）よりも少ない個数の個別ミラー（６９）を含むことを特徴とする請求項２４及び請求項２５のいずれか１項に記載の投影露光装置。
27. 前記照射光（１０）のための集光器（６６）が、前記放射線源（３）と前記少なくとも１つのファセットミラー（６７）の間に配置されることを特徴とする請求項２１から請求項２６のいずれか１項に記載の投影露光装置。
28. 前記集光器（６６）は、連続的、言い換えれば、非ファセットのミラー面を有することを特徴とする請求項２７に記載の投影露光装置。
29. 投影露光中に、パターンを投影されるウェーハを保持するためのウェーハホルダが、投影される該パターンを含むレチクルを保持するためのレチクルホルダと同期して変位される走査方向（ｙ_scan）が、物体視野（５）及び投影露光装置（１）の像視野（８）の長視野軸（ｘ）に対する法線（ｙ）に対して角度（α）で延びることを特徴とする請求項２１から請求項２８のいずれか１項に記載の投影露光装置。
30. 微細構造化又はナノ構造化構成要素を製造する方法であって、
    少なくとも一部に対して感光材料の層が付加されたウェーハを準備する段階と、
    結像される構造を含むレチクルを準備する段階と、
    請求項２１から請求項２９のいずれか１項に記載の投影露光装置（１）を準備する段階と、
    前記投影露光装置（１）の投影光学系（７）を用いて、前記レチクルの少なくとも一部を前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
31. 請求項３０に記載の方法によって製造された微細構造化構成要素。

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