JP2020073949A - Ｅｕｖ投影リソグラフィのための照明系及び照明光学ユニット - Google Patents

Abstract

【課題】ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットは照明光を物体視野に向けて案内するように機能する。【解決手段】照明光学ユニットの視野ファセットミラーは少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換えることができる複数の個別ミラーを有し照明光学ユニットの瞳ファセットミラーは複数の静止瞳ファセットを有し照明光のビーム経路内で視野ファセットミラーの下流に配置される。瞳ファセットは群ミラー照明チャネルを通じた物体視野内への視野ファセットミラーの個別ミラーの群の少なくとも区画的な重ね合わせ結像のために機能し、個別ミラーの少なくとも一部は視野ファセットミラーの変更セクション（３６）に配置され、変更セクション（３６）内の個別ミラーは個別ミラー傾斜位置に基づき異なる瞳ファセットを通して物体視野に結像される２つの異なる個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）に割り当てることができる。【選択図】図３

Description

ドイツ特許出願第１０ ２０１３ ２１８ ７４９．１号明細書の内容が、引用によって本明細書に組み込まれている。

本発明は、リソグラフィマスクが配置可能である物体視野に向けて照明光を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットに関する。本発明は、更に、特にそのような照明光学ユニットを含む照明系、そのような照明系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細又はナノ構造化構成要素、特に半導体構成要素を生成する方法、及び本方法によって生成された微細又はナノ構造化構成要素に関する。

冒頭に示したタイプの照明光学ユニットは、ＷＯ ２０１０／９３７４５３ Ａ１、ＷＯ ２０１０／１０４１６３ Ａ、ＷＯ ２００８／１４９１７８ Ａ１、ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１、ＵＳ ２００９／００４１１８２ Ａ１、及びＤＥ １０ ２００６ ０３６ ０６４ Ａ１から公知である。

照明の目的は、照明光学ユニットの異なる照明チャネルを通じて案内された照明光を予め定められた照明パラメータを同じく予め定められた許容範囲で遵守しながら可能な限り損失のない方式で照明視野内で重ねることである。

ドイツ特許出願第１０ ２０１３ ２１８ ７４９．１号明細書 ＷＯ ２０１０／９３７４５３ Ａ１ ＷＯ ２０１０／１０４１６３ Ａ ＷＯ ２００８／１４９１７８ Ａ１ ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１ ＵＳ ２００９／００４１１８２ Ａ１ ＤＥ １０ ２００６ ０３６ ０６４ Ａ１ ＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２ ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａ ＷＯ ２００９／１００ ８５６ Ａ１ ＵＳ ６，４３８，１９９ Ｂ１ ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２

本発明の目的は、照明の最適化、特に、異なる照明チャネルを通じて案内された照明光の照明視野内での最適な重ね合わせを与える照明光学ユニットを提供することである。

本発明により、上述の目的は、請求項１に指定する特徴及び請求項８に指定する特徴を有する照明光学ユニット、並びに請求項１１に指定する特徴を有する照明系を用いて達成される。

本発明は、個別ミラー群が物体視野内に、これらの個別ミラー群の像が各々物体視野を完全に覆う（ｃｏｖｅｒ）ように結像されるという概念から離脱する。各々物体視野を完全に覆う像を有する個別ミラー群を以下では完全個別ミラー群とも呼ぶ。上述の境界条件を廃棄することにより、更に割り当てられる瞳ファセットを通して物体視野に結像される個別ミラー群への視野ファセットミラーの個別ミラーの割り当ての新しい自由度がもたらされる。本発明により、次に、物体視野を完全には覆わない像をもたらす個別ミラー群も許容される。物体視野を完全には覆わない像を有するそのような個別ミラー群を以下では分別個別ミラー群とも呼ぶ。分別個別ミラー群は、視野ファセットミラーを配置することが意図されるＥＵＶ光源の遠視野の実際のプロファイルに視野ファセットミラーの外側輪郭を非常に的確に適応させる可能性をもたらす。例えば、これらの個別ミラー群を使用すると、同一のサイズ及び形状の群を用いてそのような遠視野領域をタイル張りすることがもはや必要ではなく、従って、ここで、そのようなタイル張りを用いては回避することができない遠視野の縁部領域における損失を回避することができる。上述の境界条件を廃棄することにより、これまでには可能ではなかった方式で遠視野を利用する可能性が提供される。一例として、視野ファセットミラーの個別ミラーによって遠視野区域の８０％よりも大きい比率、例えば、８５％さえも超える比率、又はより一層大きい百分率を覆うことができる。遠視野区域を区切る縁部は、最大遠視野照明光強度の強度割合（強度比）ｋ_rが入射する遠視野の外側境界として定められる。割合（比）ｋ_rは、例えば、値０．１、０．０５、又は更に小さい値とすることができる。ｋ_rは、値１／ｅ又は１／ｅ²を有することができる。

個別ミラー群への個別ミラーの割り当てにおいて新しく与えられる柔軟性は、この割り当てを照明パラメータ及び／又は結像効果の補正又は補償に向けて使用することを可能にする。その例は、請求項１及び請求項８に記載の照明光学ユニットによって与えられる。次に、視野ファセットミラー上の与えられた個数の個別ミラーを用いて多数の個別ミラー群を形成することができ、相応に多数の瞳ファセットが同時に照明光による入射を受けることができる。それによって照明角度分布の事前定義、すなわち、物体視野照明に対する照明設定の事前定義において高い柔軟性がもたらされる。瞳ファセットも、個々の小さいファセットミラーの群として構成することができる。同時に入射を受けることができる瞳ファセットの個数に個別ミラー群毎の個別ミラーの公称個数を乗じたものが、視野ファセットミラー上の個別ミラーの実際の個数よりも多い個数をもたらすそのような照明光学ユニットが、逆方向に、すなわち、物体視野から照明される場合に、又は投影光学ユニットを用いて物体視野が像視野に結像される場合に、第１の強度を有する光による入射を受ける照明セクションと、第２のより高い、特に２倍高い強度で入射を受ける更に別の照明セクションとで構成されるパターンが像視野から視野ファセットミラー上に向けられる。そのような逆露光中により高い強度で入射を受けるこれらの視野ファセットセクション内には、照明光が同時に入射することができる異なる瞳ファセットに任意的に割り当てることができるファセットミラーの個別ミラーが配置される。より高い強度で照明される視野ファセットセクションは、個別ミラーの公称個数よりも少ない個数の個別ミラーを有する。

物体視野高さへの走査積分照明強度の依存性の補正又は補償に向けて、個別ミラー群は、例えば対応する遠視野分布に起因して内部により高い照明強度が元来存在している視野高さ領域内により小さい走査積分広がりを有する群形状が使用されるように分割することができる。これに代えて又はこれに加えて、個別ミラー群が、反射に使用することができない楔形面積領域を通して互いに隣接することを前提としない結像傾斜の補正又は補償が可能である。

原理的には視野ファセットミラーの全ての個別ミラーによって反射される光を使用することができるので、可能な限り大きい遠視野比率の使用又は照明パラメータ及び／又は結像効果の補正又は補償は、損失なく実施することができる。当然ながらこれに代えて、照明パラメータ及び／又は結像の更に別の影響に向けて選択される個別ミラーの光が物体視野の照明に寄与しないように、これらの個別ミラーの光を目標を定めた方式で遮蔽することが可能である。

請求項２に記載の少なくとも１つの変更セクションは、この変更セクションに隣接するそれぞれ望ましい他の個別ミラー群への個別ミラーの柔軟なグループ分けを可能にする。少なくとも１つの変更セクションは、物体変位方向に対して垂直な物体視野の広がりの半分よりも小さく、例えば、物体変位方向に対して垂直な物体視野の広がりの４０％、３５％、３０％、又は更に小さい百分率に対応する広がりを物体変位方向と垂直に有することができる。

少なくとも１つの変更セクションは、完全個別ミラー群の広がりの５％と８０％の間に達する広がりを有することができる。

請求項３及び請求項４に記載の像位置の差は、個別ミラー群を通じた物体視野の重ね合わせ照明中の強度及び／又は結像に影響する際の対応する自由度をもたらす。

請求項５又は請求項６に記載の変更セクションにおける個別ミラーの配置は、走査積分照明強度の典型的な視野高さ依存性の補正又は補償を可能にする。

請求項７に記載の変更セクションにおける個別ミラーの配置は、視野高さにわたる走査積分照明強度に関して中立である。

請求項９に記載の変更セクションの設計は、結像傾斜の補正又は補償に特に適することが見出されている。それぞれの個別ミラーの寸法の範囲では物体変位方向に対して垂直な座標軸において物体変位方向に沿う変更セクションの広がりにはほぼ増大がないことを除いて、物体変位方向に対して垂直な座標軸における物体変位方向に沿う変更セクションの広がりの増大は、厳密に単調なものとすることができ、特に直線的なものとすることができる。従って、個別ミラーの有限の広がりに起因する変更セクションの広がりの量子化は、この厳密に単調な増大、特に直線的な増大の場合は無視される。

上述の利点は、特に請求項１１及び請求項１２に記載の照明系に適用される。

請求項１０に記載の照明系、請求項１３に記載の光学系、請求項１４に記載の投影露光装置、及び請求項１５に記載の生成方法の利点は、照明系及び照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。この生成方法によって微細又はナノ構造化構成要素を生成することができる。そのような構成要素は、高い構造分解能で生成することができる。このようにして、例えば、高い集積又はストレージ密度を有する半導体チップを生成することができる。

図面を参照して本発明の例示的実施形態を下記でより詳細に説明する。

ＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置を通る略子午断面図である。 図１に記載の投影露光装置における使用に適する物体視野の照明のための照明光学ユニットの個別ミラーから構成される視野ファセットミラーのセグメントの概略平面図である。 個別ミラーから構成される視野ファセットミラーの各場合に照明光学ユニットの正確に１つの瞳ファセットに割り当てることができる２つの個別ミラー群の領域内にあり、両方の個別ミラー群の個別ミラー（個々には例示していない）が視野ファセットミラーの共通の変更セクションに配置され、従って、両方の個別ミラー群に割り当てることができるセグメントの概略平面図である。 図３に記載の群割り当てによる２つの個別ミラー群の個別ミラーでの反射によって生成された照明強度の投影露光装置の物体視野の視野高さにわたる依存性を示す線図である。 図３に記載の視野ファセットミラーの変更セクション内の特定の個別ミラーの像を表す個々の物体視野点を強調表示した物体視野の概略平面図である。 ２つの個別ミラー群への変更セクションに配置された個別ミラーの割り当ての変形による図３に記載の視野ファセットミラーのセグメントを示す図３と類似の図である。 図６に記載の個別ミラー群への個別ミラーの割り当てによる照明の場合の視野高さにわたる照明強度の依存性を示す図４と類似の図である。 ２つの個別ミラー群への変更セクション内の個別ミラーの更に別の割り当てを示す図３と類似の図である。 得られる個別ミラー群での反射によって生成された照明強度の視野高さ依存性に対する図８の割り当ての効果を示す図４と類似の図である。 変更セクションにおける個別ミラー割り当ての図３に記載の割り当てからの修正における視野高さへの照明強度分布の依存性を示す図４と類似の図である。 変更セクションにおける個別ミラー割り当ての図６に記載の割り当てからの修正における視野高さへの照明強度分布の依存性を示す図７と類似の図である。 傾斜の後に３つの個別ミラー群の中から２つの異なる個別ミラー群にそれぞれ割り当てることができる個別ミラーが内部に存在し、具体的には例示していない３つの可能な個別ミラー群への個別ミラーの割り当てを強調表示した視野高さ寸法に対応するセグメントの辺全体にわたって生じる２つの楔形変更セクションがもたらされる個別ミラーから構成される視野ファセットミラーのセグメントの概略平面図である。 図１２に記載の視野ファセットミラーのセグメントの変更セクション内に各場合に配置された２つの個別ミラーの像を強調表示した物体視野を示す図５と類似の図である。 図１４は、例えば図３及び図６に記載の個別ミラー群の図と比較して有意に縮小した形式で視野ファセットミラー全体を示す平面図であり、図１４ａは、各場合に照明光学ユニットの瞳ファセット上に光を反射する個別ミラーの個別ミラー群への例示的な割り当てを異なるタイプのハッチングで例示した図１４に記載の領域ＸＩＶ内のセグメント拡大図である。 各場合に互いに隣接する２つの個別ミラー群の間の定められた変更セクション内でそこに存在する個別ミラーの一方の個別ミラー群から他方の個別ミラー群への変更が行われた個別ミラー群への個別ミラーの２つの異なる割り当て構成に関して視野高さにわたる全照明強度の依存性の２つの例を示す線図である。

図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置１を子午断面図に略示している。投影露光装置１は、光源又は放射線源２を含む。投影露光装置１の照明系３は、物体平面６の物体視野５と一致する照明視野を露光するための照明光学ユニット４を有する。この場合に、物体視野５に配置され、物体ホルダ又はレチクルホルダ８によって保持されたレチクル７の形態にある物体が露光される。レチクル７をリソグラフィマスクとも呼ぶ。物体ホルダ８は、物体変位ドライブ９を用いて変位方向に沿って変位可能である。投影光学ユニット１０は、物体視野５を像平面１２の像視野１１に結像するためなどに機能する。レチクル７上の構造は、像平面１２の像視野１１の領域に配置されたウェーハ１３の感光層上に結像される。ウェーハ１３は、ウェーハホルダ（同じく例示していない）によって保持される。ウェーハホルダ１４もまた、ウェーハ変位ドライブ１５を用いて物体ホルダ８と同期方式で変位方向に沿って変位可能である。

放射線源２は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の放出使用放射線を有するＥＵＶ放射線源である。放射線源２は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）光源又はＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）光源とすることができる。放射線源２に、シンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）を利用する放射線源を使用することができる。当業者は、そのような放射線源に関する情報を例えばＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２に見出すことができるであろう。放射線源２から射出したＥＵＶ放射線１６は、コレクター１７によってフォーカスされる。対応するコレクターは、ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａから公知である。コレクター１７の下流では、ＥＵＶ放射線１６は、中間焦点面１８を通って伝播し、その後に、視野ファセットミラー１９上に入射する。視野ファセットミラー１９は、照明光学ユニット４の第１のファセットミラーである。視野ファセットミラー１９は、複数の個別ミラー（図１には例示していない）を有する。視野ファセットミラー１９は、物体平面６に対して光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。

以下ではＥＵＶ放射線１６を照明光又は結像光とも呼ぶ。

視野ファセットミラー１９の下流において、ＥＵＶ放射線１６は、瞳ファセットミラー２０によって反射される。瞳ファセットミラー２０は、照明光学ユニット４の第２のファセットミラーである。瞳ファセットミラー２０は、中間焦点面１８及び投影光学ユニット１０の瞳平面に対して光学的に共役である又はこの瞳平面と一致する照明光学ユニット４の瞳平面に配置される。瞳ファセットミラー２０は複数の瞳ファセット２０ａを有し、図１にはそのうちの２つの瞳ファセット２０ａを略示している。瞳ファセットミラー２０の瞳ファセットと、ビーム経路の順番に命名したミラー２２、２３、及び２４を含む伝達光学ユニット２１とを用いて、下記で更に詳しく説明する視野ファセットミラー１９の個別ミラー群２５（例えば、図２を参照されたい）が物体視野５に結像される。伝達光学ユニット２１の最後のミラー２４は、かすめ入射のためのミラー（「かすめ入射ミラー」）である。

位置関係の説明を容易にするために、図１は、物体平面６と像平面１２の間の投影露光装置１の構成要素の位置関係の説明のための広域座標系として直交ｘｙｚ座標系を描示している。図１では、ｘ軸は作図面と垂直に、その中に入り込むように延びている。図１では、ｙ軸は右に向けて、物体ホルダ８及びウェーハホルダ１４の変位方向と平行に延びている。ｚ軸は図１の下向きに、すなわち、物体平面６及び像平面１２と垂直に延びている。

物体視野５又は像視野１１にわたるｘ寸法を視野高さとも呼ぶ。

図２は、視野ファセットミラー１９のセグメントの構成の詳細を示している。図２に示す視野ファセットミラー１９のセグメントは、例えば、個別ミラー群２５のうちの正確に１つのものである。視野ファセットミラー１９の全体の反射面２６が、行列で個別ミラー２７の格子に再分割され、すなわち、個別ミラーアレイを構成する。それぞれの個別ミラー２７を通して照明光１６の部分ビームが案内される。特定の個別ミラー２７の個々の反射面は、凹面様式に具現化される。特定の個別ミラー２７の個々の反射面の別の可能な実施形態において、これらの反射面は平面であり、曲率を持たない。個別ミラー行２８は、互いに直接に横並びで置かれた複数の個別ミラー２７を有する。個別ミラー行２８内には数十個から数百個の個別ミラー２７を設けることができる。図２に記載の例では、個別ミラー２７は正方形である。反射面２６をいかなる間隙もなく可能な限り覆うことを可能にする他の形状の個別ミラーを使用することができる。そのような別の個別ミラー形状は、タイル張りの数学理論から公知である。この点に関しては、ＷＯ ２００９／１００ ８５６ Ａ１に示されている参考文献を参照されたい。

視野ファセットミラー１９の実施形態に基づいて、個別ミラー列２９も同じく複数の個別ミラー２７を有する。一例として、個別ミラー列２９毎に数十個又は数百個の個別ミラー２７が設けられる。

位置関係の説明を容易にするために、図２は、視野ファセットミラー１９の局所座標系として直交ｘｙｚ座標系を描示している。ファセットミラー又はそのセグメントを平面図に示すその後の図においても、対応する局所ｘｙｚ座標系を示している。図２では、ｘ軸は、右に向けて個別ミラー行２８と平行に水平に延びている。図２では、ｙ軸は、個別ミラー列２９と平行に上方に延びている。ｚ軸は、図２の作図面に対して垂直であり、そこから出るように延びている。

図１に記載の広域座標系のｙ方向、すなわち、走査方向とも呼ぶレチクル７及びウェーハ１３に対する変位方向と、図２に記載の局所座標系のｙ方向、すなわち、各場合に広域座標系のｘｙ平面に投影された個別ミラーアレイの列方向とは、互いに対して正確に平行に延びる必要はなく、互いに対してある角度、例えば、小さい角度を取ることができる。ミラー２４による視野成形効果は、局所座標系のｙ方向と広域座標系のｙ方向の間の偏向を局所的にもたらす可能性もある。

個別ミラー群２５の反射面２６は、ｘ方向にｘ₀の広がりを有する。ｙ方向には、個別ミラー群２５の反射面２６はｙ₀の広がりを有する。

視野ファセットミラー１９の実施形態に基づいて、個別ミラー２７は、例えば５００μｍ×５００μｍから例えば２ｍｍ×２ｍｍの範囲のｘ／ｙ広がりを有する。個別ミラー２７は、照明光１６に対してフォーカス効果を有するように成形することができる。個別ミラー２７のそのようなフォーカス効果は、照明光１６によるファセットミラー１９の発散照明を使用する場合に特に有利である。視野ファセットミラー１９全体は、実施形態に基づいて、例えば、３００ｍｍ×３００ｍｍ又は６００ｍｍ×６００ｍｍのｘ／ｙ広がりを有する。個別ミラー群２５（図７を参照されたい）は、８０ｍｍ×６ｍｍ、６５ｍｍ×５ｍｍ、２５ｍｍ×４ｍｍ、又は１０４ｍｍ×８ｍｍの標準ｘ₀／ｙ₀広がりを有する。個別ミラー群２５が物体視野５内に完全に結像される限り、個別ミラー群２５のｘ₀／ｙ₀アスペクト比は、物体視野５のｘ／ｙアスペクト比に対応することができる。実際には、個別ミラー群のアスペクト比は物体視野のアスペクト比から外れ、物体視野のアスペクト比よりも大きい場合がある。それぞれの個別ミラー群２５のサイズと、個別ミラー群２５を構成する個別ミラー２７のサイズとの比に基づいて、個別ミラー群２５の各々は、対応する個数の個別ミラー２７を有する。個別ミラー群の像が物体視野５を完全に覆う程多くの個別ミラー２７を個別ミラー群が含む場合に限り、個別ミラー群を以下では完全個別ミラー群とも呼ぶ。

入射照明光１６の個々の偏向に向けて、図２で反射面２６の左下コーナに配置された２つの個別ミラー２７を基に破線に示すように、個別ミラー２７の各々は、アクチュエータ３０にそれぞれ接続される。アクチュエータ３０は、個別ミラー２７の各々の反射側から離れる方向に向く側面上に配置される。アクチュエータ３０は、例えば、圧電アクチュエータとして具現化することができる。そのようなアクチュエータの構成は、マイクロミラーアレイの構造から公知である。

個別ミラー行２８のアクチュエータ３０は、それぞれ行信号バス３２に信号線を通して接続される。個別ミラー行２８は、各場合に行信号バス３２のうちの１つに割り当てられる。個別ミラー行２８の行信号バス３２自体は、主信号バス３３に接続される。主信号バス３３は、視野ファセットミラー１９の制御デバイス３４に信号接続される。制御デバイス３４は、特に個別ミラー２７を直列に互いに、すなわち、行毎又は列毎に駆動するように設計される。個別ミラー行２８内及び個別ミラー列２９内であっても個別ミラー２７の個々の駆動が可能である。

個別ミラー２７の各々は、２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに個々に傾斜可能であり、これらの傾斜軸のうちの第１のものは、ｘ軸と平行に延び、これら２つの傾斜軸のうちの第２のものは、ｙ軸と平行に延びている。２つの傾斜軸は、それぞれの個別ミラー２７の個々の反射面内で延びている。

視野ファセットミラー１９の個別ミラー構成の更なる詳細に関しては、ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１を参照されたい。

既に上述のように、少なくとも２つの個別ミラー２７から各々構成される個別ミラー群２５への個別ミラー２７の予め定められた傾斜グループ分けは、制御デバイス３４を用いたアクチュエータ３０の個々の駆動によって設定することができる。個別ミラー群２５は、照明光１６に対する少なくとも１つの専用群ミラー照明チャネルを通じて個別ミラー群２５を物体視野５に結像するための瞳ファセットミラー２０の少なくとも１つの専用瞳ファセット２０ａにそれぞれ割り当てられる。この割り当ては、それぞれの個別ミラー２７上に入射する照明光１６の部分ビームが、当該の個別ミラー２７から瞳ファセットミラー２０の割り当て瞳ファセットに向けて、更にそこから物体視野５に向けて反射されるような個別ミラー群２５に属する個別ミラー２７のそれぞれの傾斜位置又は切り換え位置の事前定義によって達成される。この場合に、群ミラー照明チャネルは、照明視野又は物体視野５を照明するための瞳ファセット２０ａを経由する結像に起因して互いに相補し合うそれぞれの個別ミラー群２５の全ての個別ミラー照明チャネルの全体である。従って、個別ミラー群２５の各々は、照明視野５の少なくとも１つのセクションの原像と見なすことができる。この場合に、照明視野５の原像は、結像収差に考慮した上で像視野５内に正確に結像される構造形態である。この構造形態を実原像とも呼ぶ。それとは対照的に、照明視野５の理想的な原像は、結像収差を考慮せずに像視野５内に正確に結像される構造形態を表している。

照明視野又は物体視野５の全体照明は、次に、これらの原像の重ね合わせを構成する。

従って、基本的に個別ミラー群２５の各々は、ＵＳ ６，４３８，１９９ Ｂ１又はＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２に開示されているもののような視野ファセットミラーのファセットの機能を有する。

図３は、視野ファセットミラー１９のセグメント３５を平面図に示している。セグメント３５の範囲にある個別ミラー（個々には例示していない）は、異なる瞳ファセット２０ａを通して物体視野５に結像される２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂに割り当てられる。図３では、セグメント３５の範囲にある２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂを異なるハッチングで例示している。

セグメント３５は、ｘ方向にｘ₁という広がりを有し、ｙ方向にｙ₁という広がりを有する。アスペクト比ｘ₁／ｙ₁に関して次式が成り立つ。
ｘ₁／ｙ₁＝３／２ ｘ₀／ｙ₀

従って、２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂを有するセグメント３５のｘ／ｙアスペクト比は、物体視野５のｘ／ｙアスペクト比よりも５０％大きい。

視野ファセットミラー１９のセグメント３５は、走査方向ｙに対して垂直なｘ方向に３つのセクションに再分割される。これらのセクションの各々は、以下で［ｘ_i；ｘ_j］とも説明する２つの視野高さｘ_iとｘ_jの間の領域を構成する。

セクション［０；ｘ₁／３］内では、セグメント３５の全ての個別ミラーは、正確に１つの第１の瞳ファセット２０ａに割り当てられる。同じくセクション［２／３ ｘ₁；ｘ₁］、すなわち、そこに配置された個別ミラー２７は、他の瞳ファセット２０ａに割り当てられる。セクション［０；ｘ₁／３］の範囲にあるセグメント３５の全ての個別ミラーを傾斜させることにより、例えば、照明設定が変更された時に、これらの個別ミラーを第１の瞳ファセット２０ａの定義群に対して異なる第１の瞳ファセット２０ａに割り当てることができる。この割り当て変更は、セグメント３５のセクション［０；ｘ₁／３］の範囲にある全ての個別ミラーに対して常に一緒に行われる。相応に同じことは、セクション［２／３ ｘ₁；ｘ₁］内の個別ミラーにも適用され、第１の瞳ファセット２０ａの異なる群がここで関わっている。

これらの２つのセクションの間には、視野ファセットミラー１９のセグメント３５の変更セクション３６が領域［１／３ ｘ₁；２／３ ｘ₁］に位置する。変更セクション３６は、（ｘ，ｙ）座標（ｘ₁／３，ｙ₁）と（２／３ ｘ₁，０）の間の分離線３７を用いて２つの変更サブセクション３６ａ、３６ｂに再分割される。変更サブセクション３６ａは、ｘ座標［０；１／３ ｘ₁］を有するセクションと共に、個別ミラー群２５ａを形成する。変更サブセクション３６ｂは、ｘ座標［２／３ ｘ₁；ｘ₁］を有するセクションと共に個別ミラー群２５ｂを形成する。変更サブセクション３６ａ、３６ｂへの変更セクション３６のこの再分割は、そこに配置された個別ミラー２７の傾斜位置を用いて行われる。この場合に、個別ミラー２７は、個別ミラー群２５ａ、２５ｂとの関係に基づいて、２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂのそれぞれの１つ内の全ての個別ミラー２７が共通の瞳ファセット２０ａを通して照明光１６を案内するように傾斜される。

変更セクション３６は、ｘ方向、すなわち、物体変位方向ｙと垂直に広がりｘ₁／３を有し、すなわち、広がりｘ₀／２に結像スケールβを乗じた広がりで物体視野５に結像される。以下では簡略化の目的で、例えば、それぞれの個別ミラー群２５の広がりｘ₀が物体視野広がりｘ₀に等しくなるように、この結像スケールβがβ＝１であると仮定する。従って、物体変位方向ｙに対して垂直な変更セクション３６の広がりは、物体変位方向ｙに対して垂直な物体視野５の広がりｘ₀の半分で物体視野５に結像される。

図４は、照明強度分布Ｉに対する２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂへのセグメント３５の再分割の効果を視野高さ範囲［−ｘ₀／２；＋ｘ₀／２］の物体視野５の視野高さｘの関数として示している。この場合に、個別ミラー群２５ａの強度寄与３８を破線形式で例示しており、個別ミラー群２５ｂの強度寄与３９を一点鎖線形式で例示している。視野高さｘにわたる全強度寄与４０を実線形式で例示している。強度寄与３８から４０は、走査方向ｙにわたって積分されるそれぞれの視野高さｘの場所に例示したものである。この場合に、視野ファセットミラー１９のセグメント３５が一定の照明強度Ｉ₀で入射を受けると仮定している。

範囲［−ｘ₀／２；０］内の個別ミラー群２５ａの強度寄与３８は、最初に値Ｉ₀において一定であるように推移する。走査方向ｙにわたって積分されるこれらの視野高さでは、セグメント３５の全体のｙ幅が物体視野照明に寄与する。

視野高さ範囲［０；ｘ₀／２］内では、強度寄与３８は、値Ｉ₀から値０まで直線的に減少する。この減少は、個別ミラー群２５ａの変更サブセクション３６ａのｙ広がりが、ｘ＝２／３ ｘ₁における個別ミラー群２５ａの縁部領域に至るまで相応に直線的に値０まで減少することでもたらされる。

個別ミラー群２５ｂの強度寄与３９は、相応に鏡像反転されたものである。変更サブセクション３６ｂは、物体視野内で直線的に増大する強度寄与がもたらされるように視野高さ範囲［ｘ₀／２；０］内で物体視野照明に寄与する。視野高さ範囲［０；ｘ₀／２］内では、Ｉ＝Ｉ₀において一定の強度寄与３９がもたらされる。

分離線３７による変更セクション３６の再分割に起因して、視野高さｘ＝０において最大照明強度２Ｉ₀を有し、両方の縁部−ｘ₀／２、ｘ₀／２に向けて照明強度Ｉ₀まで直線的に減少する屋根形推移を有する全強度寄与４０が２つの強度寄与３８、３９の和としてもたらされる。

従って、図３に記載の変更セクション３６の再分割は、物体視野５の中心領域内、すなわち、ｘ＝０の領域内で物体視野５の縁部領域、すなわち、ｘ＝│ｘ₀／２│の領域内よりも多い個別ミラー照明チャネルにわたる物体変位方向ｙに沿って積分される物体視野５の照明光入射を生成する。

物体視野５全体を覆う像を有する個別ミラー群２５内の個別ミラー２７の全個数を以下では個別ミラー群２５毎の個別ミラー２７の公称個数とも呼ぶ。

結像によって物体視野５を完全に覆うそのような個別ミラー群を以下では完全個別ミラー群とも呼ぶ。従って、図２に記載の個別ミラー群２５は、完全個別ミラー群である。

物体視野５の一部分しか覆わない像を有する個別ミラー群を以下では分別個別ミラー群とも呼ぶ。従って、図３に記載の個別ミラー群２５ａ、２５ｂは分別個別ミラー群である。

分別個別ミラー群２５ａ、２５ｂ内の個別ミラー２７の全個数は、物体視野５全体を覆う像を有する図２に記載の完全個別ミラー群２５内の個別ミラー２７の全個数よりも少ない。これは、分別個別ミラー群２５ａ、２５ｂが、各場合に全体の変更セクション３６を含まず、各場合に変更セクション３６のサブセクション３６ａ、３６ｂのみを含むことに起因する。従って、個別ミラー群２５ａ、２５ｂの像は、物体視野５の一部分、図示の実施形態の場合は物体視野５の全面積の正確に７５％を覆う。視野ファセットミラー１９上の個別ミラー群２５ａ、２５ｂに対応する分別個別ミラー群の面積要件は、物体視野５全体を覆う像を有する図２に記載の個別ミラー群２５に対応する完全個別ミラー群の面積要件よりも相応に小さい。全体的な視野ファセットミラー１９の反射面２６の与えられた面積、又は全体的な視野ファセットミラー１９の個別ミラー２７の与えられた全個数を仮定し、変更サブセクション３６ａ、３６ｂに対応する変更サブセクションを部分的に有するそのような分別個別ミラー群を使用すると、照明光１６は、各場合に物体視野５全体を覆う像を有する完全個別ミラー群２６への再分割の場合よりも多い個数の瞳ファセット２０ａ上に入射することができる。この場合に、視野ファセットミラー１９の個別ミラー群２５を経由した照明光１６による入射を同時に受けることができる瞳ファセット２０ａの個数に完全個別ミラー群２５の公称個数を乗じたものは、結果として視野ファセットミラー１９上の個別ミラー２７の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー２７の個数をもたらす。

従って、次式が成り立つ。
Ｎ_PF×Ｎ_N＞Ｎ_ESP

この場合に、Ｎ_PFは、瞳ファセットミラー２０の同時に使用される瞳ファセット２０ａの個数である。

Ｎ_Nは、完全個別ミラー群２５毎の個別ミラー２７の公称個数である。

Ｎ_ESPは、視野ファセットミラー１９全体の個別ミラー２７の個数である。

視野高さｘへの全強度寄与４０の依存性、及び分別個別ミラー群２５ａ、２５ｂへの個別ミラー２７の対応する割り当ては、物体変位方向ｙに沿って積分される照明光強度の物体視野高さｘへの依存性の補正に使用することができる。

図５は、物体視野５の平面図を略示している。物体視野５は、視野高さ寸法ｘ内に範囲［−ｘ₀／２；ｘ₀／２］内にあるｘ₀の広がりを有する。ｙ方向、すなわち、走査方向には、物体視野５は、ｙ＝ｙ₀の広がりを有する。第１に図２に記載の完全個別ミラー群２５のｘ方向及びｙ方向の広がりと、第２に物体視野５のｘ方向及びｙ方向の広がりとは、当然ながら個別ミラー群が物体視野５内に１という結像スケールで結像される場合にのみ同一である。この場合に、ｙ₁＝ｙ₀及びｘ₁＝ｘ₀が成り立つ。他の場合に、第１にそれぞれの完全個別ミラー群２５の寸法と、第２に物体視野５の寸法とは、当然ながら各場合にｘ方向及びｙ方向の結像スケールだけ異なる。

図５は、変更セクション３６の中心にある選択された個別ミラー２７_iの個別ミラー像４１、４２を示している。個別ミラー２７_iは、それが変更セクション部分群３６ａ又は変更セクション部分群３６ｂのいずれに属するかに基づいて、個別ミラー像４１又は個別ミラー像４２のいずれかの上に結像される。個別ミラー像４１、４２は、同じｙ座標、すなわち、ｙ₀／２を有する。

視野座標（−ｘ₀／４，ｙ₀／２）及び（＋ｘ₀／４，ｙ₀／２）を有する個別ミラー像４１、４２は、ｘ方向に互いからｘ₀／２の距離、すなわち、物体視野５のｘ広がりの半分に対応する距離の場所にある。

変更サブセクション３６ｃ、３６ｄへの変更セクション３６の分割の変形を図６及び図７を参照して下記で説明する。図１から図５、特に図３及び図４を参照して上述した構成要素及び機能は同じ参照符号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図６に記載の変更セクション３６の再分割の場合に、分離線３７は、座標（ｘ₁／３，０）と（２／３ ｘ₁，ｙ₁）との間で直線的に延びている。ここでもまた、２つの三角形変更サブセクション３６ｃ、３６ｄがもたらされる。この場合に、ここでもまた、同じハッチングに示すように、変更サブセクション３６ｃは個別ミラー群２５ａに属し、変更サブセクション３６ｄは個別ミラー群２５ｂに属する。

得られる個別ミラー群２５ａ、２５ｂの各々は、矩形の形状と、それに１つの点を通して接続した直角三角形の形状とを有する。図６に記載の２つの個別ミラー群２５ａ、２５ｂも、図３に記載の個別ミラー群２５ａ、２５ｂと同様に、互いに合同の形状を有する。

図７は、ここでもまた、視野高さｘに依存して走査方向ｙにわたって積分される照明強度に対する図６に記載の個別ミラー群２５ａ、２５ｂの成形の効果を示している。ここでもまた、個別ミラー群２５ａの強度寄与４３を破線形式で例示し、個別ミラー群２５ｂの強度寄与４４を一点鎖線形式で例示し、両方の強度寄与４３、４４の和としてもたらされる全強度寄与４５を実線形式で例示している。

図６に記載の配置の場合にも、変更セクション３６の外側の個別ミラー群２５ａ、２５ｂのセクションの各々は、視野高さｘにわたって図３に記載の実施形態の場合の照明強度への強度寄与と同じ強度寄与を有する。強度寄与４３、４４の水平推移セクションは、それぞれ視野高さ範囲［−ｘ₀／２；０］及び範囲［０；ｘ₀／２］内でもたらされる。

変更サブセクション３６ｃは、ｘ寸法と共に直線的に増大するｙ広がりを有するので、Ｉ＝０とＩ＝Ｉ₀との間で直線的に増大する強度寄与４３が、物体視野領域［０；ｘ₀／２］内にもたらされる。従って、Ｉ＝Ｉ₀とＩ＝０との間で直線的に減少する強度寄与４４が、視野高さ範囲［−ｘ₀／２；０］に対する変更サブセクション３６ｄの相補形状に起因してもたらされる。

従って、変更サブセクション３６ｃ、３６ｄの配置の場合に、物体変位方向ｙに沿って積分される物体視野５の照明光入射は、物体視野５の中心領域（ｘ＝０）内よりも多い個数の個別ミラー照明チャネルにわたって物体視野５の縁部領域内で発生する。

全体として、これは、逆さ屋根形状を有し、範囲［−ｘ₀／２；０］内で最初にＩ＝２Ｉ₀からＩ＝Ｉ₀に減少し、次いで、再度これらの値の間で直線的に増大する全強度寄与４５をもたらす。

従って、視野ファセットミラー１９上で第１に図３に記載のセグメント３５に対応する個別ミラー割り当てを用い、第２に図６に記載のセグメント３５に対応する個別ミラー割り当てを用いて、例えば、縁部における照明強度が中心におけるものよりも大きく、又は中心における照明強度が縁部におけるものよりも大きい視野高さｘにわたる照明強度の依存性を補償することができる。

変更サブセクション３６ｅ、３６ｆへの変更セクション３６の分割の変形を図８及び図９を参照して下記で説明する。図１から図７、特に図３から図６を参照して上述した構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図８に記載のセグメント３５の場合に、変更セクション３６は、範囲［０；ｙ₁／２］内のｙ値に対して変更サブセクション３６ｅに再分割され、ｙ範囲［ｙ₁／２；ｙ₁］内で変更サブセクション３６ｆに再分割される。

図９は、この場合の視野高さｘへの照明強度Ｉの依存性に対する効果を示している。ｙ方向に各場合に個別ミラー群２５ａ、２５ｂの他のセクションと比較して半分の個数の個別ミラー２７を有する変更サブセクション３６ｅ、３６ｆを経由する照明は、各々視野高さ範囲［０；ｘ₀／２］内に強度寄与４６をもたらし、Ｉ＝Ｉ₀／２である視野高さ範囲［−ｘ₀／２；０］内に強度寄与４７をもたらす。それによって加算された場合に、全体の視野高さ範囲［−ｘ₀／２；ｘ₀／２］にわたってＩ＝１．５Ｉ₀において一定の全強度寄与４８がもたらされる。従って、変更サブセクション３６ｅ、３６ｆの配置の場合に、物体変位方向ｙに沿って積分される物体視野５の照明光入射は、物体視野５の中心領域（ｘ＝０）におけるものと同じ本数の個別ミラー照明チャネルを通じて物体視野５の縁部領域内で発生する。従って、変更サブセクション３６ｅ、３６ｆによるセグメント３５の再分割は、視野高さｘにわたって依存しない物体視野５の強度入射をもたらす。

図１０及び図１１は、図３及び図６に記載の再分割と同様であるが、この場合は直線的に推移する分離線３７ではなく、湾曲して、例えば、放物線状に推移する分離線３７による変更セクション３６の再分割の場合の視野高さｘにわたる照明強度Ｉの強度依存性の変形を示している。

第１に強度寄与３８から４０に対する参照符号と、第２に強度寄与４１から４５に対する参照符号とは、図４及び図７を参照して上述したものに対応する。

個別ミラー群２５ｃ、２５ｄ、及び２５ｅへの視野ファセットミラー１９のセグメント４９の更に別の再分割を図１２及び図１３を参照して下記で説明する。図１から図１１、特に図３及び図５を参照して上記で既に解説したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照符号を伴い、これらに対して再度詳細に説明することはしない。

セグメント４９は、３つの個別ミラー群２５ｃから２５ｅに再分割される。これらの個別ミラー群が完全個別ミラー群である場合に、これらの個別ミラー群は、ｘ₀というｘ広がりとｙ₀というｙ広がりとを有する。

任意的に個別ミラー群２５ｃ又は２５ｄに割り当てることができる個別ミラー２７は、セグメント４９内の第１の変更セクション５０に配置される。

任意的に個別ミラー群２５ｄ又は２５ｅに割り当てることができる個別ミラー２７は、セグメント４９内の第２の変更セクション５１に配置される。

図３、図６、及び図８に記載の実施形態の変更セクション３６とは異なり、２つの変更セクション５０、５１は、セグメント４９の全体のｘ広がりにわたって、すなわち、長さｘ₀にわたって延びている。

変更セクション３６、５０、５１は、完全個別ミラー群の広がりの５％と８０％の間に達する広がりを有することができる。

変更セクション５０、５１は、各場合に三角形である。変更セクション５０のｙ広がりは、ｙ＝０からｙ＝ｙ₁／４まで正のｘ方向に直線的に増大する。任意的に個別ミラー群２５ｃ又は２５ｄに割り当てることができる個別ミラー２７は、セグメント４９内の第１の変更セクション５０に配置される。

相応に、変更セクション５１のｙ広がりは、広がりｙ＝０から広がりｙ＝ｙ₁／４まで負のｘ方向に増大する。任意的に個別ミラー群２５ｄ又は２５ｅに割り当てることができる個別ミラー２７は、セグメント４９内の更に別の変更セクション５１に配置される。

２つの個別ミラー群２５ｃと２５ｅの間に置かれた個別ミラー群２５ｄが、２つの変更セクション５０、５１を完全に使用する場合に、すなわち、これらの変更サブセクション５０、５１内の全ての個別ミラーが個別ミラー群２５ｄに割り当てられる場合に、アスペクト比ｘ₀／ｙ₀を有する完全個別ミラー群としての個別ミラー群２５ｄは、角度αだけ傾斜された完全個別ミラー群に対応する形状を有する。この傾斜した完全個別ミラー群２５ｄは、次に、群ミラー照明チャネルの経路を通して物体視野５に結像することができ、完全個別ミラー群２５の傾斜した輪郭によって高精度で補償される結像傾斜がもたらされる。結像傾斜の補償がもたらされる。

変更セクション５０が、図１２の上側個別ミラー群２５ｄに完全に割り当てられる場合に、完全個別ミラー群２５ｃがもたらされる。変更セクション５１が図１２の下側個別ミラー群２５ｅに割り当てられる場合に、今度は完全個別ミラー群２５ｅがもたらされる。

図１３は、選択される２つの個別ミラー２７_j、２７_kの個別ミラー群割り当てに依存する変更セクション５０及び５１内のこれらの個別ミラーの像を物体視野５内に示している。

個別ミラー群２５ｃへの割り当ての場合の個別ミラー２７_jの像５２は、物体視野５内の右下象限内にもたらされる。個別ミラー群２５ｄへの遠視野２７_jの割り当ての場合に、この視野ファセット２７_jの像５３が、物体視野５の右上象限内にもたらされる。これら２つの像５２、５３の間のｙ距離ｙ_jは、走査方向ｙに沿って４０％よりも大きく、例えば、０．７ｙ₀である。

個別ミラー群２５ｂ又は２５ｄへの個別ミラー２７ｋの割り当ての場合に、その像５４、５５が相応にもたらされる。像５４と５５の間のｙ方向の距離ｙ_kは、この場合にも０．７ｙ₀である。距離ｙ_j、ｙ_kは、個別ミラー２７_j、２７_kが変更セクション５０、５１内でどのｘ座標を有するかに依存する。

図１４は、個別ミラー群２５への視野ファセットミラー１９全体の分割を示している。この場合に、視野ファセットミラー１９の各個別ミラー２７は、正確に１つの個別ミラー群２５に割り当てられる。個別ミラー群２５は、第１に完全個別ミラー群であり、第２に分別個別ミラー群である。視野ファセットミラー１９の個別ミラー２７は、光源２の遠視野５６（図１も参照されたい）内に、遠視野５６の面積の少なくとも８０％が個別ミラー２７によって覆われて個別ミラー２７が照明光１６を反射するように配置される。

図１５は、完全個別ミラー群と分別個別ミラー群とへの視野ファセットミラー１９の分割に依存して達成することができる視野高さｘにわたる走査積分照明強度の２つの異なる分布を例示している。この図は、各場合に視野ファセットミラー１９の全ての個別ミラー２７の使用により、第１に大きいｘ依存性を有する強度分布５７及び第２に事実上消失するｘ依存性を有する強度分布５８を達成することができることを示している。これら２つの異なる強度分布５７、５８を達成するために、特定の個別ミラー２７は、各場合に他の個別ミラー群に視野ファセットミラー１９のセグメント内の対応する変更セクション内だけにおいて割り当てられる。

原理的には、変更セクション構成は、個別ミラーの変更の場合に、個別ミラー傾斜位置に基づいて、この個別ミラーが物体視野の異なる視野高さに結像されるようなものとすることができる。一般的に、これは、物体視野高さにわたる強度分布の補正に使用することができる。これに代えて、変更セクションに配置された個別ミラーの変更は、個別ミラー群の間のこの個別ミラーの傾斜位置に基づいて、物体視野内のこの個別ミラーの視野高さ位置のいかなる変更ももたらされないように構成することができる。これは、物体視野内への個別ミラー群の結像の補正に使用することができ、この補正は、照明強度分布の視野高さ依存性に影響を及ぼさない。

記述した補正又は補償機構は、個別ミラー照明チャネルを通じて案内される光が失われることなく補正を実施することができるので損失不在である。

投影露光装置１を用いた投影露光中に、最初に照明系３が設定され、視野ファセットミラー１９は、使用すべき遠視野面積の少なくとも８０％を個別ミラー２７によって覆うように設計及び配置される。次いで、定められた変更セクションを含む個別ミラー群への視野ファセットミラー１９の個別ミラーアレイの再分割が予め定められる。これには、予め定められた照明設定、すなわち、与えられた照明角度分布に関する走査積分照明強度のｘ依存性を測定する段階を含む較正測定が次に続く。それによって例えば強度分布５７に対応するｘ依存性をもたらすことができる。その後に、変更セクションに配置された個別ミラー２７の割り当てを各場合に他の個別ミラー群に適切に変更することにより、走査積分照明強度のｘ依存性の補償は、例えば、強度分布５８のタイプの分布がもたらされるまで実施される。例示的に、強度分布５７のタイプの分布を補償するために、図６及び図７のタイプの変更セクション内の個別ミラー２７は、視野中心（領域ｘ＝０）においてより高い強度が補償されるように個別ミラー群に割り当てることができる。

照明系３のこの設定が実施された後に、微細又はナノ構造化構成要素、特に半導体構成要素、例えば、マイクロチップのリソグラフィ生成に向けて、物体視野５内のレチクル７の少なくとも一部は、像視野１１内のウェーハ１３上の感光層の領域上に結像される。この場合に、レチクル７とウェーハ１３は、時間同期方式でｙ方向に連続的にスキャナ作動で移動される。

２５ａ、２５ｂ 個別ミラー群
３５ 視野ファセットミラーのセグメント
３６ 変更セクション
３６ａ、３６ｂ 変更サブセクション
３７ 分離線

冒頭に示したタイプの照明光学ユニットは、ＷＯ ２０１０／０３７４５３ Ａ１、ＷＯ ２０１０／１０４１６３ Ａ、ＷＯ ２００８／１４９１７８ Ａ１、ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１、ＵＳ ２００９／００４１１８２ Ａ１、及びＤＥ １０ ２００６ ０３６ ０６４ Ａ１から公知である。

ドイツ特許出願第１０ ２０１３ ２１８ ７４９．１号明細書 ＷＯ ２０１０／０３７４５３ Ａ１ ＷＯ ２０１０／１０４１６３ Ａ ＷＯ ２００８／１４９１７８ Ａ１ ＵＳ ２０１１／０００１９４７ Ａ１ ＵＳ ２００９／００４１１８２ Ａ１ ＤＥ １０ ２００６ ０３６ ０６４ Ａ１ ＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２ ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａ ＷＯ ２００９／１００ ８５６ Ａ１ ＵＳ ６，４３８，１９９ Ｂ１ ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２

本発明により、上述の目的は、当初請求項１に指定する特徴及び当初請求項８に指定する特徴を有する照明光学ユニット、並びに当初請求項１１に指定する特徴を有する照明系を用いて達成される。

個別ミラー群への個別ミラーの割り当てにおいて新しく与えられる柔軟性は、この割り当てを照明パラメータ及び／又は結像効果の補正又は補償に向けて使用することを可能にする。その例は、当初請求項１及び当初請求項８に記載の照明光学ユニットによって与えられる。次に、視野ファセットミラー上の与えられた個数の個別ミラーを用いて多数の個別ミラー群を形成することができ、相応に多数の瞳ファセットが同時に照明光による入射を受けることができる。それによって照明角度分布の事前定義、すなわち、物体視野照明に対する照明設定の事前定義において高い柔軟性がもたらされる。瞳ファセットも、個々の小さいファセットミラーの群として構成することができる。同時に入射を受けることができる瞳ファセットの個数に個別ミラー群毎の個別ミラーの公称個数を乗じたものが、視野ファセットミラー上の個別ミラーの実際の個数よりも多い個数をもたらすそのような照明光学ユニットが、逆方向に、すなわち、物体視野から照明される場合に、又は投影光学ユニットを用いて物体視野が像視野に結像される場合に、第１の強度を有する光による入射を受ける照明セクションと、第２のより高い、特に２倍高い強度で入射を受ける更に別の照明セクションとで構成されるパターンが像視野から視野ファセットミラー上に向けられる。そのような逆露光中により高い強度で入射を受けるこれらの視野ファセットセクション内には、照明光が同時に入射することができる異なる瞳ファセットに任意的に割り当てることができるファセットミラーの個別ミラーが配置される。より高い強度で照明される視野ファセットセクションは、個別ミラーの公称個数よりも少ない個数の個別ミラーを有する。

当初請求項２に記載の少なくとも１つの変更セクションは、この変更セクションに隣接するそれぞれ望ましい他の個別ミラー群への個別ミラーの柔軟なグループ分けを可能にする。少なくとも１つの変更セクションは、物体変位方向に対して垂直な物体視野の広がりの半分よりも小さく、例えば、物体変位方向に対して垂直な物体視野の広がりの４０％、３５％、３０％、又は更に小さい百分率に対応する広がりを物体変位方向と垂直に有することができる。

当初請求項３及び当初請求項４に記載の像位置の差は、個別ミラー群を通じた物体視野の重ね合わせ照明中の強度及び／又は結像に影響する際の対応する自由度をもたらす。

当初請求項５又は当初請求項６に記載の変更セクションにおける個別ミラーの配置は、走査積分照明強度の典型的な視野高さ依存性の補正又は補償を可能にする。

当初請求項７に記載の変更セクションにおける個別ミラーの配置は、視野高さにわたる走査積分照明強度に関して中立である。

当初請求項９に記載の変更セクションの設計は、結像傾斜の補正又は補償に特に適することが見出されている。それぞれの個別ミラーの寸法の範囲では物体変位方向に対して垂直な座標軸において物体変位方向に沿う変更セクションの広がりにはほぼ増大がないことを除いて、物体変位方向に対して垂直な座標軸における物体変位方向に沿う変更セクションの広がりの増大は、厳密に単調なものとすることができ、特に直線的なものとすることができる。従って、個別ミラーの有限の広がりに起因する変更セクションの広がりの量子化は、この厳密に単調な増大、特に直線的な増大の場合は無視される。

上述の利点は、特に当初請求項１１及び当初請求項１２に記載の照明系に適用される。

当初請求項１０に記載の照明系、当初請求項１３に記載の光学系、当初請求項１４に記載の投影露光装置、及び当初請求項１５に記載の生成方法の利点は、照明系及び照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。この生成方法によって微細又はナノ構造化構成要素を生成することができる。そのような構成要素は、高い構造分解能で生成することができる。このようにして、例えば、高い集積又はストレージ密度を有する半導体チップを生成することができる。
［当初請求項１］
リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（４）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）であって、
少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野（５）に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された複数の静止瞳ファセット（２０ａ）を含む瞳ファセットミラー（２０）を含み、該瞳ファセット（２０ａ）は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野（５）内への該視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）の群（２５）の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
前記瞳ファセット（２０ａ）のそれぞれ１つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群（２５）のうちのそれぞれ１つに割り当てられ、
前記物体視野（５）内に完全に結像可能である個別ミラー群（２５）が、公称個数の個別ミラー（２７）を有し、
照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット（２０ａ）の個数に個別ミラー群（２５）毎の前記個別ミラー（２７）の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー（１９）上の該個別ミラー（２７）の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー（２７）を結果として生じ、
前記個別ミラー群（２５）への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体変位方向（４）に沿って積分される照明光強度の該物体変位方向（ｙ）に対して垂直な物体視野高さ（ｘ）への依存性の補正に使用されるようなものである、
ことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
［当初請求項２］
前記個別ミラー（２７）の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー（１９）の少なくとも１つの変更セクション（３６）に配置され、該変更セクション（３６；５０，５１）内の該個別ミラー（２７）は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット（２０ａ）を通じて前記物体視野（５）内に結像される２つの異なる個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）に割り当てられ、
前記変更セクション（３６）は、前記物体視野（５）に結像されて前記物体変位方向に対して垂直な該物体視野（５）の広がりの最大で半分に達する該物体変位方向に対して垂直な広がりを有する、
ことを特徴とする当初請求項１に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項３］
前記変更セクション（３６ａ，３６ｂ）は、前記変更領域（３６）に配置された個別ミラー（２７_i）が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）へのその割り当てに基づいて、走査方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）な前記物体視野（５）の広がり（ｘ₀）の１０％よりも大きい該走査方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）な互いからの距離を有する像位置（４１，４２）に結像されるように配置されることを特徴とする当初請求項２に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項４］
前記変更セクション（５０，５１）は、該変更セクション（５０，５１）内に配置された個別ミラー（２７_j，２７_k）が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群（５０，５１）へのその割り当てに基づいて、走査方向（ｙ）の前記物体視野（５）の広がり（ｙ₀）の４０％よりも大きい該走査方向（ｙ）の互いからの距離を有する像位置（５２，５３；５４，５５）に結像されるように配置されることを特徴とする当初請求項２又は当初請求項３に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項５］
前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、より多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて前記物体視野の中心領域にかつ該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション（３６）内の該個別ミラーの割り当て（３６ａ，３６ｂ）を特徴とする当初請求項２から当初請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項６］
前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、前記物体視野（５）の中心領域内よりも多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション内の該個別ミラー（２７）の割り当て（３６ｃ，３６ｄ）を特徴とする当初請求項２から当初請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項７］
前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、前記物体視野（５）の中心領域内よりもいくつかの個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション（３６）内の該個別ミラー（２７）の割り当て（３６ｅ，３６ｆ）を特徴とする当初請求項２に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項８］
リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（４）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）であって、
少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野（５）に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された複数の静止瞳ファセット（２０ａ）を含む瞳ファセットミラー（２０）を含み、該瞳ファセット（２０ａ）は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野（５）内への該視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）の群（２５）の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
前記瞳ファセット（２０ａ）のそれぞれ１つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群（２５）のうちのそれぞれ１つに割り当てられ、
前記物体視野（５）内に完全に結像可能である個別ミラー群（２５）が、公称個数の個別ミラー（２７）を有し、
照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット（２０ａ）の個数に個別ミラー群（２５）毎の前記個別ミラー（２７）の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー（１９）上の該個別ミラー（２７）の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー（２７）を結果として生じ、
前記個別ミラー群（２５）への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体視野（５）内へのそれぞれの該個別ミラー群（２５）の結像傾斜の補正に使用されるようなものである、
ことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
［当初請求項９］
前記個別ミラー（２７）の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー（１９）の変更セクション（５０，５１）に配置され、該変更セクション（５０，５１）内の該個別ミラー（２７）は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット（２０ａ）を通じて前記物体視野（５）内に結像される２つの異なる個別ミラー群（２５ｃ／ｄ，２５ｄ／ｅ）に割り当てられ、
前記変更セクション（５０，５１）は、前記物体変位方向に対して垂直な寸法において単調に増大する該物体変位方向に沿った広がりを有する、
ことを特徴とする当初請求項８に記載の照明光学ユニット。
［当初請求項１０］
当初請求項１から当初請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
ＥＵＶ光源（２）を含む、
ことを特徴とする照明系（３）。
［当初請求項１１］
リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（ｙ）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）を含む照明系（３）であって、
照明系（３）のＥＵＶ光源（２）の遠視野（５６）に配置され、少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換え可能であって前記物体視野（５）に向けて照明光部分ビームを案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
前記個別ミラー（２７）は、割り当てられる瞳ファセット（２０ａ）を通じてそれぞれの個別ミラー群（２５）を前記物体視野（５）内に結像する目的に対して、前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された瞳ファセットミラー（２０）の該瞳ファセット（２０ａ）に各場合に割り当てられる該個別ミラー群（２５）にグループ分け可能であり、
前記個別ミラー群（２５）のこのようにして生成された像が、前記物体視野（５）内で少なくとも部分的に重ね合わせられ、
前記視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）は、前記遠視野（５６）の面積の少なくとも８０％の比率が該個別ミラー（２７）によって覆われ（ｃｏｖｅｒｅｄ）、そのために後者が前記照明光（１６）を反射するように前記光源（２）の該遠視野（５６）に配置される、
ことを特徴とする照明系（３）。
［当初請求項１２］
前記照明光（１６）を反射する前記個別ミラー（２７）は、前記物体視野（５）内に結像されることを特徴とする当初請求項１１に記載の照明系。
［当初請求項１３］
当初請求項１から当初請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
物体視野（５）を像視野（１１）内に結像するための投影光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする光学系。
［当初請求項１４］
当初請求項１０から当初請求項１２のいずれか１項に記載の照明系（３）を含み、
ＥＵＶ光源（２）を含み、
物体（７）を物体視野（５）に据えつける（ｍｏｕｎｔ）ためのものであって、物体変位ドライブ（９）を用いて変位方向（ｙ）に沿って変位可能である物体ホルダ（８）を含み、
ウェーハ（１３）を像視野（１１）に据えつける（ｍｏｕｎｔ）ためのものであって、ウェーハ変位ドライブ（１５）を用いて前記変位方向（ｙ）に沿って変位可能であるウェーハホルダ（１４）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置（１）。
［当初請求項１５］
投影露光の方法であって、
当初請求項１４に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
ウェーハ（１３）を与える段階と、
リソグラフィマスク（７）を与える段階と、
前記投影露光装置（１）の投影光学ユニット（１０）を用いて前記リソグラフィマスク（７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（１３）の感光層の領域の上に投影する段階と、 を含むことを特徴とする方法。

Claims (15)

1. リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（４）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）であって、
   少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野（５）に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
   前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された複数の静止瞳ファセット（２０ａ）を含む瞳ファセットミラー（２０）を含み、該瞳ファセット（２０ａ）は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野（５）内への該視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）の群（２５）の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
   前記瞳ファセット（２０ａ）のそれぞれ１つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群（２５）のうちのそれぞれ１つに割り当てられ、
   前記物体視野（５）内に完全に結像可能である個別ミラー群（２５）が、公称個数の個別ミラー（２７）を有し、
   照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット（２０ａ）の個数に個別ミラー群（２５）毎の前記個別ミラー（２７）の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー（１９）上の該個別ミラー（２７）の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー（２７）を結果として生じ、
   前記個別ミラー群（２５）への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体変位方向（４）に沿って積分される照明光強度の該物体変位方向（ｙ）に対して垂直な物体視野高さ（ｘ）への依存性の補正に使用されるようなものである、
   ことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
2. 前記個別ミラー（２７）の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー（１９）の少なくとも１つの変更セクション（３６）に配置され、該変更セクション（３６；５０，５１）内の該個別ミラー（２７）は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット（２０ａ）を通じて前記物体視野（５）内に結像される２つの異なる個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）に割り当てられ、
   前記変更セクション（３６）は、前記物体視野（５）に結像されて前記物体変位方向に対して垂直な該物体視野（５）の広がりの最大で半分に達する該物体変位方向に対して垂直な広がりを有する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の照明光学ユニット。
3. 前記変更セクション（３６ａ，３６ｂ）は、前記変更領域（３６）に配置された個別ミラー（２７_i）が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）へのその割り当てに基づいて、走査方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）な前記物体視野（５）の広がり（ｘ₀）の１０％よりも大きい該走査方向（ｙ）に対して垂直（ｘ）な互いからの距離を有する像位置（４１，４２）に結像されるように配置されることを特徴とする請求項２に記載の照明光学ユニット。
4. 前記変更セクション（５０，５１）は、該変更セクション（５０，５１）内に配置された個別ミラー（２７_j，２７_k）が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群（５０，５１）へのその割り当てに基づいて、走査方向（ｙ）の前記物体視野（５）の広がり（ｙ₀）の４０％よりも大きい該走査方向（ｙ）の互いからの距離を有する像位置（５２，５３；５４，５５）に結像されるように配置されることを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の照明光学ユニット。
5. 前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、より多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて前記物体視野の中心領域にかつ該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション（３６）内の該個別ミラーの割り当て（３６ａ，３６ｂ）を特徴とする請求項２から請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
6. 前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、前記物体視野（５）の中心領域内よりも多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション内の該個別ミラー（２７）の割り当て（３６ｃ，３６ｄ）を特徴とする請求項２から請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
7. 前記変更セクション（３６）内に前記個別ミラー（２７）を含む２つの前記個別ミラー群（２５ａ，２５ｂ）が、前記物体視野（５）の中心領域内よりもいくつかの個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野（５）の縁部領域に該物体視野（５）上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー（１９）の該変更セクション（３６）内の該個別ミラー（２７）の割り当て（３６ｅ，３６ｆ）を特徴とする請求項２に記載の照明光学ユニット。
8. リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（４）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）であって、
   少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野（５）に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
   前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された複数の静止瞳ファセット（２０ａ）を含む瞳ファセットミラー（２０）を含み、該瞳ファセット（２０ａ）は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野（５）内への該視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）の群（２５）の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
   前記瞳ファセット（２０ａ）のそれぞれ１つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群（２５）のうちのそれぞれ１つに割り当てられ、
   前記物体視野（５）内に完全に結像可能である個別ミラー群（２５）が、公称個数の個別ミラー（２７）を有し、
   照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット（２０ａ）の個数に個別ミラー群（２５）毎の前記個別ミラー（２７）の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー（１９）上の該個別ミラー（２７）の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー（２７）を結果として生じ、
   前記個別ミラー群（２５）への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体視野（５）内へのそれぞれの該個別ミラー群（２５）の結像傾斜の補正に使用されるようなものである、
   ことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
9. 前記個別ミラー（２７）の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー（１９）の変更セクション（５０，５１）に配置され、該変更セクション（５０，５１）内の該個別ミラー（２７）は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット（２０ａ）を通じて前記物体視野（５）内に結像される２つの異なる個別ミラー群（２５ｃ／ｄ，２５ｄ／ｅ）に割り当てられ、
   前記変更セクション（５０，５１）は、前記物体変位方向に対して垂直な寸法において単調に増大する該物体変位方向に沿った広がりを有する、
   ことを特徴とする請求項８に記載の照明光学ユニット。
10. 請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
    ＥＵＶ光源（２）を含む、
    ことを特徴とする照明系（３）。
11. リソグラフィマスク（７）が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向（ｙ）に沿って変位可能である物体視野（５）に向けて照明光（１６）を案内するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４）を含む照明系（３）であって、
    照明系（３）のＥＵＶ光源（２）の遠視野（５６）に配置され、少なくとも２つの傾斜位置の間で切り換え可能であって前記物体視野（５）に向けて照明光部分ビームを案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー（２７）を含む視野ファセットミラー（１９）を含み、
    前記個別ミラー（２７）は、割り当てられる瞳ファセット（２０ａ）を通じてそれぞれの個別ミラー群（２５）を前記物体視野（５）内に結像する目的に対して、前記照明光（１６）のビーム経路内で前記視野ファセットミラー（１９）の下流に配置された瞳ファセットミラー（２０）の該瞳ファセット（２０ａ）に各場合に割り当てられる該個別ミラー群（２５）にグループ分け可能であり、
    前記個別ミラー群（２５）のこのようにして生成された像が、前記物体視野（５）内で少なくとも部分的に重ね合わせられ、
    前記視野ファセットミラー（１９）の前記個別ミラー（２７）は、前記遠視野（５６）の面積の少なくとも８０％の比率が該個別ミラー（２７）によって覆われ（ｃｏｖｅｒｅｄ）、そのために後者が前記照明光（１６）を反射するように前記光源（２）の該遠視野（５６）に配置される、
    ことを特徴とする照明系（３）。
12. 前記照明光（１６）を反射する前記個別ミラー（２７）は、前記物体視野（５）内に結像されることを特徴とする請求項１１に記載の照明系。
13. 請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
    物体視野（５）を像視野（１１）内に結像するための投影光学ユニット（１０）を含む、
    ことを特徴とする光学系。
14. 請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の照明系（３）を含み、
    ＥＵＶ光源（２）を含み、
    物体（７）を物体視野（５）に据えつける（ｍｏｕｎｔ）ためのものであって、物体変位ドライブ（９）を用いて変位方向（ｙ）に沿って変位可能である物体ホルダ（８）を含み、
    ウェーハ（１３）を像視野（１１）に据えつける（ｍｏｕｎｔ）ためのものであって、ウェーハ変位ドライブ（１５）を用いて前記変位方向（ｙ）に沿って変位可能であるウェーハホルダ（１４）を含む、
    ことを特徴とする投影露光装置（１）。
15. 投影露光の方法であって、
    請求項１４に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
    ウェーハ（１３）を与える段階と、
    リソグラフィマスク（７）を与える段階と、
    前記投影露光装置（１）の投影光学ユニット（１０）を用いて前記リソグラフィマスク（７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（１３）の感光層の領域の上に投影する段階と、 を含むことを特徴とする方法。

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