JP2016533513A - Euv投影リソグラフィのための照明系及び照明光学ユニット - Google Patents
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Abstract
Description
x1/y1=3/2 x0/y0
NPF×NN>NESP
35 視野ファセットミラーのセグメント
36 変更セクション
36a、36b 変更サブセクション
37 分離線
Claims (15)
- リソグラフィマスク(7)が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向(4)に沿って変位可能である物体視野(5)に向けて照明光(16)を案内するためのEUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野(5)に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー(27)を含む視野ファセットミラー(19)を含み、
前記照明光(16)のビーム経路内で前記視野ファセットミラー(19)の下流に配置された複数の静止瞳ファセット(20a)を含む瞳ファセットミラー(20)を含み、該瞳ファセット(20a)は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野(5)内への該視野ファセットミラー(19)の前記個別ミラー(27)の群(25)の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
前記瞳ファセット(20a)のそれぞれ1つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群(25)のうちのそれぞれ1つに割り当てられ、
前記物体視野(5)内に完全に結像可能である個別ミラー群(25)が、公称個数の個別ミラー(27)を有し、
照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット(20a)の個数に個別ミラー群(25)毎の前記個別ミラー(27)の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー(19)上の該個別ミラー(27)の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー(27)を結果として生じ、
前記個別ミラー群(25)への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体変位方向(4)に沿って積分される照明光強度の該物体変位方向(y)に対して垂直な物体視野高さ(x)への依存性の補正に使用されるようなものである、
ことを特徴とする照明光学ユニット(4)。 - 前記個別ミラー(27)の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー(19)の少なくとも1つの変更セクション(36)に配置され、該変更セクション(36;50,51)内の該個別ミラー(27)は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット(20a)を通じて前記物体視野(5)内に結像される2つの異なる個別ミラー群(25a,25b)に割り当てられ、
前記変更セクション(36)は、前記物体視野(5)に結像されて前記物体変位方向に対して垂直な該物体視野(5)の広がりの最大で半分に達する該物体変位方向に対して垂直な広がりを有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の照明光学ユニット。 - 前記変更セクション(36a,36b)は、前記変更領域(36)に配置された個別ミラー(27i)が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群(25a,25b)へのその割り当てに基づいて、走査方向(y)に対して垂直(x)な前記物体視野(5)の広がり(x0)の10%よりも大きい該走査方向(y)に対して垂直(x)な互いからの距離を有する像位置(41,42)に結像されるように配置されることを特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。
- 前記変更セクション(50,51)は、該変更セクション(50,51)内に配置された個別ミラー(27j,27k)が、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、すなわち、それぞれの前記個別ミラー群(50,51)へのその割り当てに基づいて、走査方向(y)の前記物体視野(5)の広がり(y0)の40%よりも大きい該走査方向(y)の互いからの距離を有する像位置(52,53;54,55)に結像されるように配置されることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の照明光学ユニット。
- 前記変更セクション(36)内に前記個別ミラー(27)を含む2つの前記個別ミラー群(25a,25b)が、より多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて前記物体視野の中心領域にかつ該物体視野(5)の縁部領域に該物体視野(5)上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー(19)の該変更セクション(36)内の該個別ミラーの割り当て(36a,36b)を特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記変更セクション(36)内に前記個別ミラー(27)を含む2つの前記個別ミラー群(25a,25b)が、前記物体視野(5)の中心領域内よりも多い個数の個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野(5)の縁部領域に該物体視野(5)上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー(19)の該変更セクション内の該個別ミラー(27)の割り当て(36c,36d)を特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学ユニット。
- 前記変更セクション(36)内に前記個別ミラー(27)を含む2つの前記個別ミラー群(25a,25b)が、前記物体視野(5)の中心領域内よりもいくつかの個別ミラー照明チャネルを通じて該物体視野(5)の縁部領域に該物体視野(5)上への前記物体変位方向に沿って積分された照明光入射をもたらすような前記視野ファセットミラー(19)の該変更セクション(36)内の該個別ミラー(27)の割り当て(36e,36f)を特徴とする請求項2に記載の照明光学ユニット。
- リソグラフィマスク(7)が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向(4)に沿って変位可能である物体視野(5)に向けて照明光(16)を案内するためのEUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット(4)であって、
少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換えることができ、かつ照明光部分ビームを前記物体視野(5)に向けて案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー(27)を含む視野ファセットミラー(19)を含み、
前記照明光(16)のビーム経路内で前記視野ファセットミラー(19)の下流に配置された複数の静止瞳ファセット(20a)を含む瞳ファセットミラー(20)を含み、該瞳ファセット(20a)は、各場合に、群ミラー照明チャネルを通じた前記物体視野(5)内への該視野ファセットミラー(19)の前記個別ミラー(27)の群(25)の少なくとも区画的な重ね合わせ結像に寄与し、
前記瞳ファセット(20a)のそれぞれ1つが、結像されることになる前記個別ミラーの前記群(25)のうちのそれぞれ1つに割り当てられ、
前記物体視野(5)内に完全に結像可能である個別ミラー群(25)が、公称個数の個別ミラー(27)を有し、
照明光が前記個別ミラー群を通じて同時に入射することができる前記瞳ファセット(20a)の個数に個別ミラー群(25)毎の前記個別ミラー(27)の前記公称個数を乗じたものが、前記視野ファセットミラー(19)上の該個別ミラー(27)の実際の個数よりも多い個数の個別ミラー(27)を結果として生じ、
前記個別ミラー群(25)への前記個別ミラーの割り当てが、この割り当てが前記物体視野(5)内へのそれぞれの該個別ミラー群(25)の結像傾斜の補正に使用されるようなものである、
ことを特徴とする照明光学ユニット(4)。 - 前記個別ミラー(27)の少なくとも一部が、前記視野ファセットミラー(19)の変更セクション(50,51)に配置され、該変更セクション(50,51)内の該個別ミラー(27)は、前記個別ミラー傾斜位置に基づいて、異なる瞳ファセット(20a)を通じて前記物体視野(5)内に結像される2つの異なる個別ミラー群(25c/d,25d/e)に割り当てられ、
前記変更セクション(50,51)は、前記物体変位方向に対して垂直な寸法において単調に増大する該物体変位方向に沿った広がりを有する、
ことを特徴とする請求項8に記載の照明光学ユニット。 - 請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含み、
EUV光源(2)を含む、
ことを特徴とする照明系(3)。 - リソグラフィマスク(7)が、配置可能であり、かつ投影露光中に物体変位方向(y)に沿って変位可能である物体視野(5)に向けて照明光(16)を案内するためのEUV投影リソグラフィのための照明光学ユニット(4)を含む照明系(3)であって、
照明系(3)のEUV光源(2)の遠視野(56)に配置され、少なくとも2つの傾斜位置の間で切り換え可能であって前記物体視野(5)に向けて照明光部分ビームを案内するための個別ミラー照明チャネルを与える多数の個別ミラー(27)を含む視野ファセットミラー(19)を含み、
前記個別ミラー(27)は、割り当てられる瞳ファセット(20a)を通じてそれぞれの個別ミラー群(25)を前記物体視野(5)内に結像する目的に対して、前記照明光(16)のビーム経路内で前記視野ファセットミラー(19)の下流に配置された瞳ファセットミラー(20)の該瞳ファセット(20a)に各場合に割り当てられる該個別ミラー群(25)にグループ分け可能であり、
前記個別ミラー群(25)のこのようにして生成された像が、前記物体視野(5)内で少なくとも部分的に重ね合わされ、
前記視野ファセットミラー(19)の前記個別ミラー(27)は、前記遠視野(56)の面積の少なくとも80%の比率が該個別ミラー(27)によって覆われ、そのために後者が前記照明光(16)を反射するように前記光源(2)の該遠視野(56)に配置される、
ことを特徴とする照明系(3)。 - 前記照明光(16)を反射する前記個別ミラー(27)は、前記物体視野(5)内に結像されることを特徴とする請求項11に記載の照明系。
- 請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学ユニットを含み、
物体視野(5)を像視野(11)内に結像するための投影光学ユニット(10)を含む、
ことを特徴とする光学系。 - 請求項10から請求項12のいずれか1項に記載の照明系(3)を含み、
EUV光源(2)を含み、
物体(7)を物体視野(5)に装着するためのものであって、物体変位ドライブ(9)を用いて変位方向(y)に沿って変位可能である物体ホルダ(8)を含み、
ウェーハ(13)を像視野(11)に装着するためのものであって、ウェーハ変位ドライブ(15)を用いて前記変位方向(y)に沿って変位可能であるウェーハホルダ(14)を含む、
ことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 投影露光の方法であって、
請求項14に記載の投影露光装置(1)を与える段階と、
ウェーハ(13)を与える段階と、
リソグラフィマスク(7)を与える段階と、
前記投影露光装置(1)の投影光学ユニット(10)を用いて前記リソグラフィマスク(7)の少なくとも一部を前記ウェーハ(13)の感光層の領域の上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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