JP6683688B2 - 投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ - Google Patents
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Description
[当初請求項1]
物体視野(8)を通って物体変位方向(y)に投影露光中に変位される結像すべき物体(12)が配置可能である該物体視野(8)を照明するための投影リソグラフィのための照明系の一部としての照明光学アセンブリであって、
照明光(3)の反射案内のための第1のファセット(21)を有する第1のファセットミラー(6)を含み、
前記物体視野(8)に向けての、前記第1のファセットミラー(6)によって反射された前記照明光(3)の反射案内のための第2のファセットミラー(7)を含み、
前記第2のファセットミラー(7)は、それぞれの照明光部分ビーム(3 i )を前記物体視野(8)内に案内するための第2のファセット(25)を有し、
前記第2のファセットミラー(7)は、照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(12b)から距離を置かれ、
照明光学アセンブリ(11)が、前記照明光部分ビーム(3 i )を生成するためのEUV光源(2)を使用して前記瞳平面(12b)内の入射瞳(12a)が、複数の第2のファセット(25)を通じて前記照明光(3)がその上に入射する少なくとも1つの拡張された照明される瞳領域を有し、該照明される瞳領域内で該瞳領域の10%よりも小さい区域が、該瞳領域上に入射する平均照明強度の10%未満である限界照明強度によって入射されるように具現化される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ。
[当初請求項2]
照明光(3)の反射案内のための第1のファセット(21)を有する第1のファセットミラー(6)を含み、
物体視野(8)に向けての、前記第1のファセットミラー(6)によって反射された前記照明光(3)の反射案内のための第2のファセットミラー(7)を含み、
前記第2のファセットミラー(7)が、それぞれの照明光部分ビーム(3 i )を前記物体視野(8)内に案内するための第2のファセット(25)を有し、
前記第2のファセットミラー(7)が、該第2のファセットミラー(7)に最も近い(closest adjacent)照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(12b)から瞳距離(PA)にある、
物体変位方向(y)に沿って走査長(y 0 )を有する前記物体視野(8)を通って該物体変位方向(y)に投影露光中に変位される結像すべき物体(12)が配置可能である該物体視野(8)を照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ(11)であって、
前記第2のファセット(25)は、格子(grid:グリッド)に配置され、該格子の少なくとも1つの格子定数(d;d x ,d y )が、前記瞳距離(PA)によって、そして前記走査長(y 0 )によって事前定義される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。
[当初請求項3]
前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その行(Z)及び列が、前記物体変位方向に対して垂直(x)及び平行(y)に延びることを特徴とする当初請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項4]
前記物体変位方向(y)に対して垂直(x)に延びる前記第2のファセット(25)のそれぞれ隣接する行が、前記格子定数(d)の約数だけ互いに対してシフトされることを特徴とする当初請求項3に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項5]
前記第2のファセット(25)は、六角格子に配置されることを特徴とする当初請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項6]
前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その行及び列が、前記物体変位方向(y)に対して10°と80°の間の角度で延びることを特徴とする当初請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項7]
前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その前記行及び列は、前記物体変位方向(y)に対して45°の角度で延びることを特徴とする当初請求項6に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項8]
前記格子は、1よりも多い格子定数(d x ,d y )を有することを特徴とする当初請求項2から当初請求項7のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ。
[当初請求項9]
当初請求項1から当初請求項8のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする照明系。
[当初請求項10]
当初請求項1から当初請求項8のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
物体視野(8)を像視野(17)内に結像するための投影光学アセンブリ(10)と、 を含むことを特徴とする光学系。
[当初請求項11]
当初請求項10に記載の光学系と、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。
[当初請求項12]
微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(12)を与える段階と、
照明光(3)に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ(19)を与える段階と、
当初請求項11に記載の投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(12)の少なくとも1つのセクションを前記ウェーハ(19)の上に投影する段階と、
前記ウェーハ(19)上で前記照明光(3)によって露光された前記感光層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
[当初請求項13]
当初請求項12に記載の方法に従って生成された構成要素。
−照明チャネルVI、VIII、III、
−照明チャネルIV、I、VII、及び
−照明チャネルV、II、IX。
従って、照明事前定義ファセット25への伝達ファセット21の割り当ては、絵画的に示す照明例の場合に物体視野8のテレセントリック照明がもたらされるようなものである。
(2)
図14から図16は、第2のファセット25の別の格子配置を有する第2のファセットミラー7の使用の場合の条件を図8から図10に相応に示している。図1から図13、特に図8から図13を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に説明することはしない。
6 第1のファセットミラー
11 照明光学アセンブリ
PA1 第2のファセットミラーと物体平面の間のz距離
y0 走査長
Claims (12)
- 物体視野(8)を通って物体変位方向(y)に投影露光中に変位される結像すべき物体(12)が配置可能である該物体視野(8)を照明するための投影リソグラフィのための照明系の一部としての照明光学アセンブリであって、
照明光(3)の反射案内のための第1のファセット(21)を有する第1のファセットミラー(6)を含み、
前記物体視野(8)に向けての、前記第1のファセットミラー(6)によって反射された前記照明光(3)の反射案内のための第2のファセットミラー(7)を含み、
前記第2のファセットミラー(7)は、それぞれの照明光部分ビーム(3i)を前記物体視野(8)内に案内するための第2のファセット(25)を有し、
前記第2のファセットミラー(7)は、前記照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(12b)から距離を置かれ、
前記照明光学アセンブリ(11)が、前記照明光部分ビーム(3i)を生成するためのEUV光源(2)を使用して前記瞳平面(12b)内の入射瞳(12a)が、複数の第2のファセット(25)を通じて前記照明光(3)がその上に入射する少なくとも1つの拡張された照明される瞳領域を有し、該照明される瞳領域内で該瞳領域の10%よりも小さい区域が、該瞳領域上に入射する平均照明強度の10%未満である限界照明強度によって入射されるように具現化され、
前記瞳領域は、前記物体視野(8)を通った前記物体変位方向(y)の前記物体(12)の変位中に該物体視野(8)上の特定の点上に入射すると考えられる照明強度で照明され、
前記照明強度は、前記物体変位方向(y)に対応する瞳寸法内でそれに対して垂直な方向(x)に対応する瞳寸法内よりも大きい広がりを有する瞳ロッド(34)の形態にある瞳部分構造の間で前記瞳(12a)内に分配され、
前記瞳ロッド(34)の各々が、第1のファセットの厳密に1つのグループと厳密に1つの第2のファセットとが属する正確に1つの照明光照明チャネルを通じて照明される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ。 - 照明光(3)の反射案内のための第1のファセット(21)を有する第1のファセットミラー(6)を含み、
物体視野(8)に向けての、前記第1のファセットミラー(6)によって反射された前記照明光(3)の反射案内のための第2のファセットミラー(7)を含み、
前記第2のファセットミラー(7)が、それぞれの照明光部分ビーム(3i)を前記物体視野(8)内に案内するための第2のファセット(25)を有し、
前記第2のファセットミラー(7)が、該第2のファセットミラー(7)に最も近い照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(12b)から瞳距離(PA)にある、
物体変位方向(y)に沿って走査長(y0)を有する前記物体視野(8)を通って該物体変位方向(y)に投影露光中に変位される結像すべき物体(12)が配置可能である該物体視野(8)を照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ(11)であって、
前記第2のファセット(25)は、格子(grid:グリッド)に配置され、該格子の少なくとも1つの格子定数(d;dx,dy)が、前記瞳距離(PA)によって、そして前記走査長(y0)によって事前定義される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。 - 前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その行(Z)及び列が、前記物体変位方向に対して垂直(x)及び平行(y)に延びることを特徴とする請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記物体変位方向(y)に対して垂直(x)に延びる前記第2のファセット(25)のそれぞれ隣接する行が、前記格子定数(d)の約数だけ互いに対してシフトされることを特徴とする請求項3に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記第2のファセット(25)は、六角格子に配置されることを特徴とする請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その行及び列が、前記物体変位方向(y)に対して10°と80°の間の角度で延びることを特徴とする請求項2に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記第2のファセット(25)は、デカルト格子に配置され、その前記行及び列は、前記物体変位方向(y)に対して45°の角度で延びることを特徴とする請求項6に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記格子は、1よりも多い格子定数(dx,dy)を有することを特徴とする請求項2から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ。
- 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする照明系。 - 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
物体視野(8)を像視野(17)内に結像するための投影光学アセンブリ(10)と、 を含むことを特徴とする光学系。 - 請求項10に記載の光学系と、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(12)を与える段階と、
照明光(3)に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ(19)を与える段階と、
請求項11に記載の投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(12)の少なくとも1つのセクションを前記ウェーハ(19)の上に投影する段階と、
前記ウェーハ(19)上で前記照明光(3)によって露光された前記感光層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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