JP2011077142A - 照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供。
【解決手段】第1の照明条件を形成するエレメント群230Aと、前記第1の照明条件とは異なる第2の照明条件を形成するエレメント群230Bとを備える第2反射型インテグレータ23と、エレメント群230A及びエレメント群230Bのいずれか一方に、選択的に露光光ELを照射する照射装置40とを有する照明光学装置3を用いる。
【選択図】図2
【解決手段】第1の照明条件を形成するエレメント群230Aと、前記第1の照明条件とは異なる第2の照明条件を形成するエレメント群230Bとを備える第2反射型インテグレータ23と、エレメント群230A及びエレメント群230Bのいずれか一方に、選択的に露光光ELを照射する照射装置40とを有する照明光学装置3を用いる。
【選択図】図2
Description
本発明は、照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法に関するものである。
半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスの製造工程の1つとして設けられるフォトリソグラフィー工程では、露光対象としてのウエハにマスク又はレチクル(以下、これらを総称するときは、マスクという)に形成されたパターンを投影露光する露光装置が用いられる(例えば下記特許文献1参照)。この露光装置においては、光源から射出された露光光をフライアイレンズに入射させ、多数の光源像からなる二次光源を形成する照明光学装置を備えているものがある。
マスクに形成されたパターンは微細化されており、この微細パターンの種類に応じて、複数の照明条件を設定する必要性がある。従来の照明光学装置においては、開口絞りの開口部の大きさや形状を変化させて、通常照明のコヒーレンスファクタσ(σ値=照明光学系の射出側開口数/投影光学系の入射側開口数)、変形照明の形状(2極状、4極状や輪帯状等)といった照明条件を変更している。
しかしながら、開口絞りの開口部の大きさや形状を変化させることによって、光量が著しく損失するという問題がある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる照明光学装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供を目的とする。
本発明においては、第1の照明条件を形成する第1のエレメント群と、第1の照明条件とは異なる第2の照明条件を形成する第2のエレメント群とを備えるインテグレータ光学素子と、第1のエレメント群及び第2のエレメント群のいずれか一方に、選択的に照明光を照射する照射装置とを有する、照明光学装置が提供される。
また、本発明においては、パターンが形成されたマスクを照明する上記照明光学装置と、その照明光学装置によって照明されたマスクのパターン像をウエハに投影する投影光学系とを有する、露光装置が提供される。
また、本発明においては、上記露光装置を用いるデバイス製造方法が提供される。
本発明によれば、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる。
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態の露光光EL(照明光)として波長が100nm以下で、例えば3〜50nm程度の範囲内の11nm又は13nm等のEUV光(Extreme Ultraviolet Light)を用いる露光装置(EUV露光装置)1の全体構成を概略的に示す断面図である。図1において、露光装置1は、露光光ELを発生するレーザプラズマ光源10及び露光光ELでレチクル(マスク)Rを照明する照明光学系ILSを含む照明光学装置3と、レチクルRを保持して移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターン面(レチクル面)に形成されたパターンの像を、レジスト(感光材料)が塗布されたウエハ(感光性基板)W上に投影する投影光学系POとを備えている。さらに、露光装置1は、ウエハWを保持して移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系31等とを備えている。
以下、本発明の第1実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態の露光光EL(照明光)として波長が100nm以下で、例えば3〜50nm程度の範囲内の11nm又は13nm等のEUV光(Extreme Ultraviolet Light)を用いる露光装置(EUV露光装置)1の全体構成を概略的に示す断面図である。図1において、露光装置1は、露光光ELを発生するレーザプラズマ光源10及び露光光ELでレチクル(マスク)Rを照明する照明光学系ILSを含む照明光学装置3と、レチクルRを保持して移動するレチクルステージRSTと、レチクルRのパターン面(レチクル面)に形成されたパターンの像を、レジスト(感光材料)が塗布されたウエハ(感光性基板)W上に投影する投影光学系POとを備えている。さらに、露光装置1は、ウエハWを保持して移動するウエハステージWSTと、装置全体の動作を統括的に制御するコンピュータを含む主制御系31等とを備えている。
本実施形態では、露光光ELとしてEUV光が使用されているため、照明光学系ILS及び投影光学系POは、特定のフィルタ等(不図示)を除いて複数のミラーにより構成され、レチクルRも反射型である。これらのミラーの反射面及びレチクル面には、EUV光を反射する多層の反射膜が形成されている。レチクル面上の反射膜上には、吸収層によって回路パターンが形成されている。また、露光光ELの気体による吸収を防止するため、露光装置1はほぼ全体として箱状の真空チャンバ2内に収容され、真空チャンバ2内の空間を排気管32Aa、32Ba等を介して真空排気するための大型の真空ポンプ32A、32B等が備えられている。さらに、真空チャンバ2内で露光光ELの光路上の真空度をより高めるために複数のサブチャンバ(不図示)も設けられている。一例として、真空チャンバ2内の気圧は10−5Pa程度、真空チャンバ2内で投影光学系POを収納するサブチャンバ(不図示)内の気圧は10−5〜10−6Pa程度である。
以下、図1において、ウエハステージWSTが載置される面(真空チャンバ2の底面)の法線方向にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で図1の紙面に垂直な方向にX軸を、図1の紙面に平行な方向にY軸を取って説明する。本実施形態では、レチクル面上での露光光ELの照明領域27Rは、X方向に細長い円弧状であり、露光時にレチクルR及びウエハWは投影光学系POに対してY方向(走査方向)に同期して走査される。
先ず、レーザプラズマ光源10は、高出力のレーザ光源(不図示)と、このレーザ光源から真空チャンバ2の窓部材15を介して供給されるレーザ光を集光する集光レンズ12と、キセノン又はクリプトン等のターゲットガスを噴出するノズル14と、回転楕円面状の反射面を持つ集光ミラー13とを備えた、ガスジェットクラスタ方式の光源である。レーザプラズマ光源10から放射された露光光ELは、集光ミラー13の第2焦点に集光する。その第2焦点に集光した露光光ELは、凹面ミラー21を介してほぼ平行光束となり、露光光ELの照度分布を均一化するための一対の反射型インテグレータ22及び23からなるオプティカル・インテグレータ(フライアイ光学系)4に導かれる。なお、フライアイ光学系の基本的な構成及び作用については、例えば米国特許第6,452,661号明細書に開示されている。
オプティカル・インテグレータ4を経た露光光ELは、一度集光した後に曲面ミラー24に入射し、曲面ミラー24で反射された露光光ELは、凹面ミラー25で反射された後、ブラインド板26Aの円弧状のエッジ部で−Y方向の端部が遮光された後、レチクルRのパターン面を円弧状の照明領域27Rで下方から照明する。なお、レチクルRのパターン面を照明する円弧状の照明領域27Rは、均一な照度分布を有する。曲面ミラー24と凹面ミラー25とからコンデンサ光学系が構成されている。コンデンサ光学系によって、反射型インテグレータ23を構成するエレメント群(反射ミラー要素群)からの光がレチクル面を重畳的に照明する。なお、図1の例では、曲面ミラー24は凸面ミラーであるが、曲面ミラー24を凹面ミラーより構成し、その分だけ凹面ミラー25の曲率を小さくするようにしてもよい。凹面ミラー21、オプティカル・インテグレータ4、曲面ミラー24、及び凹面ミラー25を含んで照明光学系ILSが構成されている。なお、照明光学系ILSの構成は任意であり、例えば露光光ELのレチクル面に対する入射角をさらに小さくするために、例えば凹面ミラー25とレチクルRとの間にミラーを配置してもよい。
レチクルRの照明領域27R内で反射した露光光ELは、ブラインド板26Bの円弧状のエッジ部で+Y方向の端部が遮光された後、投影光学系POに入射する。投影光学系POを通過した露光光ELは、ウエハW上の露光領域(照明領域27Rと共役な領域)27Wに投影される。なお、ブラインド板26A,26Bは、例えば照明光学系ILS内のレチクル面との共役面の近傍に配置してもよい。
次に、レチクルRは、レチクルステージRSTの底面に静電チャックRHを介して吸着保持されている。レチクルステージRSTは、レーザ干渉計(不図示)の計測値及び主制御系31の制御情報に基づいて、真空チャンバ2の外面のXY平面に平行なガイド面に沿って、例えば磁気浮上型2次元リニアアクチュエータよりなる駆動系(不図示)によってY方向に所定ストロークで駆動されるとともに、X方向及びθz方向(Z軸回りの回転方向)等にも微小量駆動される。レチクルステージRSTを真空チャンバ2側に覆うようにパーティション8が設けられ、パーティション8内は不図示の真空ポンプによって大気圧と真空チャンバ2内の気圧との間の気圧に維持されている。
レチクルRのパターン面側には、レチクル面に対して例えば斜めに計測光を照射して、レチクル面のZ方向の位置(Z位置)を計測する光学式のレチクルオートフォーカス系(不図示)が配置されている。主制御系31は、走査露光中にレチクルオートフォーカス系の計測値に基づいて、例えばレチクルステージRST内のZ駆動機構(不図示)を用いてレチクルRのZ位置を許容範囲内に設定する。
投影光学系POは、一例として、6枚のミラーM1〜M6を不図示の鏡筒で保持することによって構成され、物体(レチクルR)側に非テレセントリックで、像(ウエハW)側にテレセントリックの反射系であり、投影倍率は1/4倍等の縮小倍率である。レチクルRの照明領域27Rで反射された露光光ELが、投影光学系POを介してウエハW上の露光領域27Wに、レチクルRのパターンの一部の縮小像を形成する。
投影光学系POにおいて、レチクルRからの露光光ELは、ミラーM1で上方(+Z方向)に反射され、続いてミラーM2で下方に反射された後、ミラーM3で上方に反射され、ミラーM4で下方に反射される。次にミラーM5で上方に反射された露光光ELは、ミラーM6で下方に反射されて、ウエハW上にレチクルRのパターンの一部の像を形成する。一例として、ミラーM1,M2,M3,M4,M6は凹面鏡であり、他のミラーM5は凸面鏡である。
一方、ウエハWは、静電チャック(不図示)を介してウエハステージWST上に吸着保持されている。ウエハステージWSTは、XY平面に沿って配置されたガイド面上に配置されている。ウエハステージWSTは、レーザ干渉計(不図示)の計測値及び主制御系31の制御情報に基づいて、例えば磁気浮上型2次元リニアアクチュエータよりなる駆動系(不図示)によってX方向及びY方向に所定ストロ−クで駆動され、必要に応じてθz方向等にも駆動される。
ウエハステージWST上のウエハWの近傍には、例えばレチクルRのアライメントマークの像を検出する空間像計測系29が設置され、空間像計測系29の検出結果が主制御系31に供給されている。主制御系31は、空間像計測系29の検出結果から投影光学系POの光学特性(諸収差、あるいは波面収差等)を求めることができる。なお、その光学特性は、テストプリント等で求めることも可能である。
露光の際には、ウエハW上のレジストから生じるガスが投影光学系POのミラーM1〜M6に悪影響を与えないように、ウエハWはパーティション7の内部に配置される。パーティション7には露光光ELを通過させる開口が形成され、パーティション7内の空間は、真空ポンプ(不図示)により真空排気されている。
ウエハW上の1つのショット領域(ダイ)を露光するときには、露光光ELが照明光学系ILSによりレチクルRのパターン面を円弧状の照明領域27Rで照明し、レチクルRとウエハWとは投影光学系POに対して投影光学系POの縮小倍率に従った所定の速度比でY方向に同期して移動する(同期走査)。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の一つのショット領域に露光される。その後、ウエハステージWSTを駆動してウエハWをステップ移動した後、ウエハW上の次のショット領域に対してレチクルRのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハW上の複数のショット領域に対して順次レチクルRのパターンの像が露光される。
ウエハW上の1つのショット領域(ダイ)を露光するときには、露光光ELが照明光学系ILSによりレチクルRのパターン面を円弧状の照明領域27Rで照明し、レチクルRとウエハWとは投影光学系POに対して投影光学系POの縮小倍率に従った所定の速度比でY方向に同期して移動する(同期走査)。このようにして、レチクルパターンはウエハW上の一つのショット領域に露光される。その後、ウエハステージWSTを駆動してウエハWをステップ移動した後、ウエハW上の次のショット領域に対してレチクルRのパターンが走査露光される。このようにステップ・アンド・スキャン方式でウエハW上の複数のショット領域に対して順次レチクルRのパターンの像が露光される。
次に、本実施形態の照明光学装置3におけるオプティカル・インテグレータ4の特徴的な構成について説明する。
図2は、本発明の第1実施形態における照明光学装置3のオプティカル・インテグレータ4を示す構成図である。オプティカル・インテグレータ4は、被照射面としてのレチクルRと光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ22と、投影光学系POの瞳と光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ23を有する。なお、以下の説明では、反射型インテグレータ22を第1反射型インテグレータ(反射光学素子)22と、反射型インテグレータ23を第2反射型インテグレータ(インテグレータ光学素子)23と称して説明する場合がある。
図2は、本発明の第1実施形態における照明光学装置3のオプティカル・インテグレータ4を示す構成図である。オプティカル・インテグレータ4は、被照射面としてのレチクルRと光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ22と、投影光学系POの瞳と光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ23を有する。なお、以下の説明では、反射型インテグレータ22を第1反射型インテグレータ(反射光学素子)22と、反射型インテグレータ23を第2反射型インテグレータ(インテグレータ光学素子)23と称して説明する場合がある。
図3は、本発明の第1実施形態における第2反射型インテグレータ23を示す平面図である。本実施形態の第2反射型インテグレータ23は、基準平面(例えば、照明光学装置3の光軸と直交する面)に沿って2次元に配置された多数のエレメント231を備えている。本実施形態におけるエレメント231は、輪郭(外形)が矩形状に形成されているが、その輪郭は、矩形状に限定されず、円形状など他の形状であってもよい。また、エレメント231の反射面は、所定の曲率を備える。また、第2反射型インテグレータ23には、エレメント231を任意に組み合わせて構成した複数のエレメント群230が形成されている。本実施形態の第2反射型インテグレータ23に形成された複数のエレメント群230は、第1のエレメント群230A、第2のエレメント群230B、第3のエレメント群230Cを備える。本実施形態において、複数のエレメント群230は、それぞれエレメント231の配列によって略円形状となるように構成されている。
そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230を構成する複数のエレメント231の反射面には、第1反射型インテグレータ22によって、光学像がそれぞれ形成される。この第2反射型インテグレータ23のエレメント群230は、多数の光源像からなる二次光源を形成するフィールドミラー群として機能する。
そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230を構成する複数のエレメント231の反射面には、第1反射型インテグレータ22によって、光学像がそれぞれ形成される。この第2反射型インテグレータ23のエレメント群230は、多数の光源像からなる二次光源を形成するフィールドミラー群として機能する。
本実施形態の第1のエレメント群230Aは、1つの円形状の照明領域を備える。また、本実施形態の第2のエレメント群230Bは、エレメント群230Aの照明領域を挟んで対称の位置関係(エレメント群230Aの照明領域に対して3時、9時の位置関係)にある2つの照明領域を備える。そして、本実施形態の第3のエレメント群230Cは、エレメント群230Aの照明領域を挟んで対照の位置関係(エレメント群230Aの照明領域に対して6時、12時の位置関係)にある2つの照明領域を備える。
図2に戻り、第1反射型インテグレータ22は、入射した露光光ELを複数の光束に分割して、各光束を第2反射型インテグレータ23に入射させる機能を備える。第1反射型インテグレータ22は、複数のエレメント(反射エレメント素子)221が基準平面(例えば、照明光学装置3の光軸と直交する面)に沿って2次的に配置されて構成されている。また、第1反射型インテグレータ22は、エレメント221の配列によって略円形状となるように構成されている。本実施形態のエレメント221は、輪郭(外形)が円弧状に形成されている。また、エレメント221の反射面は、所定の曲率を備える構成となっている。そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面には、光源の光学像が形成される。第1反射型インテグレータ22によって分割できる光束の数は、エレメント221の数と同数となる。図2においては、第1反射型インテグレータ22のエレメント221を代表して、4個のエレメント221A、221B、221C、221Dを図示しているが、実際の第1反射型インテグレータ22は、例えば400個のエレメント221を備え、露光光ELを400本の光束に分割する機能を備える。
図1に戻り、照明光学装置3は、第1反射型インテグレータ22を含む照明装置40を備える。照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、マスクに形成されたパターンの種類に応じて、第2反射型インテグレータ23の各エレメント群230を任意に選択する機能を備える。本実施形態の照明装置40は、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる駆動装置5を備え、この駆動装置5は、主制御系31に接続されてエレメント221の変位駆動の制御を行うミラー駆動系41を備える。
駆動装置5は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き及び位置を変位させる第1アクチュエータ42を備える(図2参照)。本実施形態の第1アクチュエータ42は、各エレメント221のそれぞれを独立的に駆動すべく、各エレメント221のそれぞれに設けられている。本実施形態のアクチュエータ42は、例えばピエゾアクチュエータから構成される。エレメント221は、アクチュエータ42の伸縮によって、一軸方向あるいは多軸方向、さらには、それらの軸周りの変位駆動が可能となっている。なお、エレメント221は、アクチュエータ42を介して、所定位置に固定されたフレーム43に支持されている。本実施形態の第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、エレメント221の反射面の傾きを変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置(入射位置)を切り替える駆動を行う。
図4は、本発明の第1実施形態における第1反射型インテグレータ22のエレメント221を示す断面図である。駆動装置5は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の曲率を変位させる第2アクチュエータ44を備える。
本実施形態の第2アクチュエータ44は、エレメント221の反射面側に対して裏面側に形成された複数の溝部222の底面に沿ってそれぞれ設けられている。溝部222の底面は、反射面に対し略平行な平面を備える。本実施形態の第2アクチュエータ44は、例えば薄膜型のピエゾアクチュエータから構成される。エレメント221の反射面は、第2アクチュエータ44の伸縮によって応力を与えられ、その曲率が所定の曲率に変位する構成となっている。本実施形態の第2アクチュエータ44は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1アクチュエータ42による露光光ELの照明位置を変更した際に、2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面に対する光路長の変化に伴う光学像への影響を相殺するように、エレメント221の反射面の曲率を変位させて焦点距離を調節する。
本実施形態の第2アクチュエータ44は、エレメント221の反射面側に対して裏面側に形成された複数の溝部222の底面に沿ってそれぞれ設けられている。溝部222の底面は、反射面に対し略平行な平面を備える。本実施形態の第2アクチュエータ44は、例えば薄膜型のピエゾアクチュエータから構成される。エレメント221の反射面は、第2アクチュエータ44の伸縮によって応力を与えられ、その曲率が所定の曲率に変位する構成となっている。本実施形態の第2アクチュエータ44は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1アクチュエータ42による露光光ELの照明位置を変更した際に、2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面に対する光路長の変化に伴う光学像への影響を相殺するように、エレメント221の反射面の曲率を変位させて焦点距離を調節する。
ミラー駆動系41は、第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44のそれぞれに対して個別に可変の電圧を印加してエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる電圧供給部を備える。また、ミラー駆動系41は、第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44に印加する電圧と、その電圧によるエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率の変位量との関係を示すテーブルデータを記憶している記憶部を備える。また、記憶部には、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230が形成可能な複数の照明条件と、各照明条件に対応するエレメント群230へ露光光ELの照明位置を切り替えるための第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率との関係を示すテーブルデータを記憶している。このミラー駆動系41は、主制御系31によって複数の照明条件のうちの一つが選択されると、記憶部のテーブルデータに基づいて、該照明条件に対応する第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を求める。次に、ミラー駆動系41は、記憶部のテーブルデータに基づいて、求めた各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率に対応する第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44のそれぞれに対する電圧印加の制御値を求める。そして、ミラー駆動系41は、該制御値に基づいて電圧印加部を駆動させることによって、第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を、選択された照明条件に応じて変位させる構成となっている。
次に、図2及び図5〜図9を参照して本実施形態の照明光学装置3による照明条件の切り替え(変更)動作について説明する。
照明光学装置3は、照明条件として、第2反射型インテグレータ23における二次光源の形状を変形させる変形照明によってσ値を所望の値(例えば0.1〜0.9の値)に切り替える動作を実施する。具体的に図2及び図5〜図9では、第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aにおいて形成される通常照明(コンベント照明:第1の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第2エレメント群230Bにおいて形成される2極照明(第1のダイポール照明:第2の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第3エレメント群230Cにおいて形成される2極照明(第2のダイポール照明であり、第1のダイポール照明に対して直交する方向に2極が形成された照明条件:第3の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第2、第3エレメント群230B、230Cにおいて形成される4極照明(クワトラポール照明:第4の照明条件)を例示する。なお、図7〜図9における黒色プロットは、第1反射型インテグレータ22によって複数の光束に分割された露光光ELの第2反射型インテグレータ23に対する照明位置を示す。
ちなみに、図7〜図9において露光光ELの光束は、16個の黒色プロットで示すが、実際には400本に分割された露光光ELの光束が第2反射型インテグレータ23に対して入射する。
照明光学装置3は、照明条件として、第2反射型インテグレータ23における二次光源の形状を変形させる変形照明によってσ値を所望の値(例えば0.1〜0.9の値)に切り替える動作を実施する。具体的に図2及び図5〜図9では、第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aにおいて形成される通常照明(コンベント照明:第1の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第2エレメント群230Bにおいて形成される2極照明(第1のダイポール照明:第2の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第3エレメント群230Cにおいて形成される2極照明(第2のダイポール照明であり、第1のダイポール照明に対して直交する方向に2極が形成された照明条件:第3の照明条件)、第2反射型インテグレータ23の第2、第3エレメント群230B、230Cにおいて形成される4極照明(クワトラポール照明:第4の照明条件)を例示する。なお、図7〜図9における黒色プロットは、第1反射型インテグレータ22によって複数の光束に分割された露光光ELの第2反射型インテグレータ23に対する照明位置を示す。
ちなみに、図7〜図9において露光光ELの光束は、16個の黒色プロットで示すが、実際には400本に分割された露光光ELの光束が第2反射型インテグレータ23に対して入射する。
図2及び図7は、通常照明の場合の照明光学装置3の様子を示す図である。
これらの図に示すように、主制御系31によって第1の照明条件として通常照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aに対して入射させる。第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aは1つの照明領域を備え、該照明領域を構成するエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成されている。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、エレメント群230Aを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、第1エレメント群230Aの照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して入射することとなる。
これらの図に示すように、主制御系31によって第1の照明条件として通常照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aに対して入射させる。第2反射型インテグレータ23の第1エレメント群230Aは1つの照明領域を備え、該照明領域を構成するエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成されている。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、エレメント群230Aを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、第1エレメント群230Aの照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して入射することとなる。
ミラー駆動系41は、記憶部のテーブルデータに基づいて、第1の照明条件に対応する第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44のそれぞれの制御値を求める。そして、ミラー駆動系41は、該制御値に基づいて電圧印加部を駆動させることによって、第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を、第1の照明条件に応じて変位させる。図2のように、第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、独立的に駆動して各エレメント221(エレメント221A、221B、221C及び221D)の反射面の傾きを変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を第1エレメント群230Aの照明領域へと切り替える。
そして、第2アクチュエータ44は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1アクチュエータ42の露光光ELの照明位置を変更した際に、第2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面に対する光路長の変化に伴う光学像への影響を相殺するように、エレメント221の反射面の曲率を変位させて焦点距離を調節する。なお、第1アクチュエータ42は、エレメント221の反射面の傾きと共に反射面の位置を所定軸方向に微動させ、エレメント231の反射面に形成される光学像の位置を微調節する駆動を行ってもよい。
照明光学装置3は、このような動作によって図7に示す通常照明に切り替えてσ値を変更する。
照明光学装置3は、このような動作によって図7に示す通常照明に切り替えてσ値を変更する。
図5及び図8は、2極照明(第2の照明条件)の場合の照明光学装置3の様子を示す図である。
これらの図に示すように、主制御系31によって第2の照明条件として2極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bに対して入射させる。第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bは2つの照明領域を備え、該2つの照明領域を構成するエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成されている。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、エレメント群230Bを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、エレメント群230Bの2つ照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が2分され、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して露光光ELが入射することとなる。
これらの図に示すように、主制御系31によって第2の照明条件として2極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bに対して入射させる。第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bは2つの照明領域を備え、該2つの照明領域を構成するエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成されている。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、エレメント群230Bを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、エレメント群230Bの2つ照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が2分され、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して露光光ELが入射することとなる。
ミラー駆動系41は、記憶部のテーブルデータに基づいて、第2の照明条件に対応する第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44のそれぞれの制御値を求める。そして、ミラー駆動系41は、該制御値に基づいて電圧印加部を駆動させることによって、第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を、第2の照明条件に応じて変位させる。図5のように、第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、エレメント221A及びエレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの一方の照明領域(9時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替える。また、第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、エレメント221C及びエレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの他方の照明領域(3時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替える。
そして同様に、第2アクチュエータ44は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1アクチュエータ42の露光光ELの照明位置を変更した際に、第2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面に対する光路長の変化に伴う光学像への影響を相殺するように、エレメント221の反射面の曲率を変位させて焦点距離を調節する。また同様に、第1アクチュエータ42は、エレメント221の反射面の傾きと共に反射面の位置を所定軸方向に微動させ、エレメント231の反射面に形成される光学像の位置を微調節する駆動を行ってもよい。
なお、照明光学装置3は、エレメント221A及びエレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの他方の照明領域(9時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替え、また、エレメント221C及びエレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの一方の照明領域(3時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。
また、照明光学系装置3は、2極照明(第3の照明条件)を形成するように、エレメント221A及びエレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Cの一方の照明領域(12時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替え、また、エレメント221C及びエレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Cの他方の照明領域(6時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。
さらに、照明光学系装置3は、その他の2極照明として、エレメント群230Bの一方(3時の照明領域)、エレメント群230Cの一方(12時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えたり、エレメント群230Bの他方(9時の照明領域)、エレメント群230Cの他方(6時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。 照明光学装置3は、このような動作によって図8に示す2極照明に切り替えてσ値を変更する。
なお、照明光学装置3は、エレメント221A及びエレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの他方の照明領域(9時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替え、また、エレメント221C及びエレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Bの一方の照明領域(3時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。
また、照明光学系装置3は、2極照明(第3の照明条件)を形成するように、エレメント221A及びエレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Cの一方の照明領域(12時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替え、また、エレメント221C及びエレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、エレメント群230Cの他方の照明領域(6時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。
さらに、照明光学系装置3は、その他の2極照明として、エレメント群230Bの一方(3時の照明領域)、エレメント群230Cの一方(12時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えたり、エレメント群230Bの他方(9時の照明領域)、エレメント群230Cの他方(6時の照明領域)へと露光光ELの照明位置を切り替えてもよい。 照明光学装置3は、このような動作によって図8に示す2極照明に切り替えてσ値を変更する。
図6及び図9は、4極照明の場合の照明光学装置3の様子を示す図である。
これらの図に示すように、主制御系31によって第3の照明条件として4極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23の第2エレメント群230Bと、第3エレメント群230Cに対して入射させる。第2エレメント群230Bの2つの照明領域及び第3エレメント群230Cの2つの照明領域は、それぞれ100個のエレメント221を備える。すなわち、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cによって形成される4つの照明領域のエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成される。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cの4つ照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が4分され、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して入射することとなる。
これらの図に示すように、主制御系31によって第3の照明条件として4極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、第2反射型インテグレータ23の第2エレメント群230Bと、第3エレメント群230Cに対して入射させる。第2エレメント群230Bの2つの照明領域及び第3エレメント群230Cの2つの照明領域は、それぞれ100個のエレメント221を備える。すなわち、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cによって形成される4つの照明領域のエレメント231の総数は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221の総数と同数で構成される。駆動装置5は、第1反射型インテグレータ22を構成するエレメント221のそれぞれと、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cを構成するエレメント231のそれぞれとが、1対1の関係となるように、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を変位させる。すなわち、第2エレメント群230B及び第3エレメント群230Cの4つ照明領域に対しては、400本の露光光ELの光束が4分され、総数400個のエレメント231の反射面のそれぞれに対して入射することとなる。
ミラー駆動系41は、記憶部のテーブルデータに基づいて、第3の照明条件に対応する第1アクチュエータ42及び第2アクチュエータ44のそれぞれの制御値を求める。そして、ミラー駆動系41は、該制御値に基づいて電圧印加部を駆動させることによって、第1反射型インテグレータ22の各エレメント221の反射面の傾き、位置及び曲率を、第3の照明条件に応じて変位させる。図6のように、第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、エレメント221Aの反射面の傾きを変位させて、第2エレメント群230Bの9時の照明領域へと露光光ELの照明位置を切り替えるとともに、エレメント221Bの反射面の傾きを変位させて、第3エレメント群230Cの6時の照明領域へと露光光ELの照明位置を切り替える。また、第1アクチュエータ42は、ミラー駆動系41の制御のもと、エレメント221Cの反射面の傾きを変位させて、第3エレメント群230Cの12時の照明領域へと露光光ELの照明位置を切り替えるとともに、エレメント221Dの反射面の傾きを変位させて、第2エレメント群230Bの3時の照明領域へと露光光ELの照明位置を切り替える。
そして同様に、第2アクチュエータ44は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1アクチュエータ42の露光光ELの照明位置を変更した際に、第2反射型インテグレータ23のエレメント231の反射面に対する光路長の変化に伴う光学像への影響を相殺するように、エレメント221の反射面の曲率を変位させて焦点距離を調節する。また同様に、第1アクチュエータ42は、エレメント221の反射面の傾きと共に反射面の位置を所定軸方向に微動させ、エレメント231の反射面に形成される光学像の位置を微調節する駆動を行ってもよい。
照明光学装置3は、このような動作によって図9に示す4極照明に切り替えてσ値を変更する。
なお、照明光学装置3は、エレメント221A、221B、221C、221Dと、エレメント郡230B、230Cとは、任意に組み合わせることができる。
照明光学装置3は、このような動作によって図9に示す4極照明に切り替えてσ値を変更する。
なお、照明光学装置3は、エレメント221A、221B、221C、221Dと、エレメント郡230B、230Cとは、任意に組み合わせることができる。
以上説明したように、本実施形態の照明光学装置3によれば、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる。
また、本実施形態によれば、上記効果を奏する照明光学装置3を備える露光装置1と、露光装置1を用いたデバイス製造方法を提供することができる。
また、本実施形態によれば、上記効果を奏する照明光学装置3を備える露光装置1と、露光装置1を用いたデバイス製造方法を提供することができる。
なお、上記実施形態では、第1アクチュエータ42がミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の傾きを変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行うと説明したが、この構成に限定されるものではない。
例えば、図10に示すように、第1アクチュエータ42がミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の位置を変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。第1アクチュエータ42によって、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の位置が、例えば所定軸方向に変位すると、露光光ELが入射する領域の曲率が変化し、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置が切り替わる。したがって、この構成により、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。
また、エレメント221の露光光ELが入射する領域の曲率を変化させれば、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置が切り替わるので、例えば、第2アクチュエータ44がミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の曲率を変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。
例えば、図10に示すように、第1アクチュエータ42がミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の位置を変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。第1アクチュエータ42によって、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の位置が、例えば所定軸方向に変位すると、露光光ELが入射する領域の曲率が変化し、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置が切り替わる。したがって、この構成により、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。
また、エレメント221の露光光ELが入射する領域の曲率を変化させれば、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置が切り替わるので、例えば、第2アクチュエータ44がミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22のエレメント221の反射面の曲率を変位させて、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う構成であってもよい。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
図11は、本発明の第2実施形態における照明光学装置3のオプティカル・インテグレータ4を示す構成図である。第2実施形態のオプティカル・インテグレータ4は、被照射面としてのレチクルRと光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ22a、及び投影光学系POの瞳と光学的に共役な位置またはその共役な位置近傍にある反射型インテグレータ23を有する。反射型インテグレータ23は、上述の実施形態における第2反射型インテグレータ23と同一の構成となっている。なお、以下の説明では、反射型インテグレータ22aを第1反射型インテグレータ(第2の反射光学部材)22aと、反射型インテグレータ22bを第1反射型インテグレータ(第1の反射光学部材)22bと、反射型インテグレータ23を第2反射型インテグレータ23と称して説明する場合がある。
第2実施形態では、第1反射型インテグレータ22aと第1反射型インテグレータ22bとが協働して、上述の実施形態における第1反射型インテグレータ22と同一の機能を奏する構成となっている。
第2実施形態では、第1反射型インテグレータ22aと第1反射型インテグレータ22bとが協働して、上述の実施形態における第1反射型インテグレータ22と同一の機能を奏する構成となっている。
図12は、本発明の第2実施形態における第1反射型インテグレータ22bを示す平面図である。本実施形態の第1反射型インテグレータ22bは、基準平面に沿って2次元に配置された多数のエレメント221bを備える。また、第1反射型インテグレータ22bは、エレメント221bの配列によって略円形状となるように構成されている。本実施形態のエレメント221bは、輪郭(外形)が矩形状に形成されている。また、エレメント221bの反射面は、所定の曲率を備える構成となっている。
第1反射型インテグレータ22bは、エレメント221bを任意に組み合わせ、入射した露光光ELを第2反射型インテグレータ23の各エレメント群230に対応した照射位置に反射する複数のエレメント群220bを備えている。本実施形態の第1反射型インテグレータ22bは、エレメント群220bA、220bB、220bCを備える。第1反射型インテグレータ22bは、直入射型ミラーとして機能する。
第1反射型インテグレータ22bは、エレメント221bを任意に組み合わせ、入射した露光光ELを第2反射型インテグレータ23の各エレメント群230に対応した照射位置に反射する複数のエレメント群220bを備えている。本実施形態の第1反射型インテグレータ22bは、エレメント群220bA、220bB、220bCを備える。第1反射型インテグレータ22bは、直入射型ミラーとして機能する。
第1反射型インテグレータ22bのエレメント群(第1の反射領域)220bAは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Aに対応した反射特性(反射面の傾き、位置及び曲率からなる特性)を有するエレメント221bA(図12中、A記号を付す)を複数備える。第1反射型インテグレータ22bのエレメント群(第2の反射領域)220bBは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bに対応した反射特性を有するエレメント221bB(図12中、B記号を付す)を複数備える。第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bCは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Cに対応した反射特性を有するエレメント221bC(図12中、C記号を付す)を複数備える。本実施形態の第1反射型インテグレータ22bは、エレメント221bAが400個、エレメント221bBが400個、エレメント221bCが400個で、総数1200個のエレメント221bを備える。
図11に戻り、第1反射型インテグレータ22aは、入射した露光光ELを複数の光束に分割して、各光束を第1反射型インテグレータ22bに入射させる機能を備える。第1反射型インテグレータ22aは、複数のエレメント221aが基準平面に沿って2次的に配置されて構成されている。また、第1反射型インテグレータ22aは、エレメント221aの配列によって略円形状となるように構成されている。本実施形態のエレメント221aは、輪郭(外形)が円弧状に形成されている。また、エレメント221aの反射面は、所定の曲率を備える構成となっている。したがって、第1反射型インテグレータ22bのエレメント221bの反射面には、光源の光学像が形成される。第1反射型インテグレータ22aによって分割できる光束の数は、エレメント221aの数と同数となる。第1反射型インテグレータ22aは、400個のエレメント221aを備え、露光光ELを400本の光束に分割する機能を備える。第1反射型インテグレータ22aは、斜入射型ミラーとして機能する。なお、第1反射型インテグレータ22aに対して入射する露光光ELは、凹面ミラー21からの反射光であってもよいし、第1反射型インテグレータ22aを設ける代わりに凹面ミラー21を取り外し、集光ミラー13からの反射光が第1反射型インテグレータ22に入射する構成であってもよい。
照明光学装置3は、第1反射型インテグレータ22a及び第1反射型インテグレータ22bを含む照明装置40を備える。本実施形態の照明装置40は、第1反射型インテグレータ22bの各エレメント群220bのいずれか一方に向けて、第1反射型インテグレータ22aに入射した露光光ELを反射するように、第1反射型インテグレータ22aを駆動する駆動装置(第2の駆動装置)5を備え、この駆動装置5は、上述の実施形態と同様に、主制御系31に接続されて駆動の制御を行うミラー駆動系41を備える(図1参照)。
駆動装置5は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22aを所定軸(図11において、記号Oを付す)周りに駆動させるアクチュエータ45を備える。本実施形態のアクチュエータ45は、例えばピエゾアクチュエータから構成される。第1反射型インテグレータ22aは、アクチュエータ45の伸縮によって、O軸周り(例えばX軸周り)の変位駆動が可能となっている。本実施形態のアクチュエータ45は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22aの傾きをO軸周りに変位させて、第1反射型インテグレータ22bに対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う。
また、駆動装置5は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22aのエレメント221aの反射面の曲率を変位させるアクチュエータ44を備える(図4参照)。
また、駆動装置5は、ミラー駆動系41の制御のもと、第1反射型インテグレータ22aのエレメント221aの反射面の曲率を変位させるアクチュエータ44を備える(図4参照)。
ミラー駆動系41は、アクチュエータ45に対して可変の電圧を印加して第1反射型インテグレータ22aを駆動させる電圧供給部を備える。また、ミラー駆動系41は、アクチュエータ45に印加する電圧と、その電圧による第1反射型インテグレータ22aのO軸周りの傾きとの関係を示すテーブルデータを記憶している記憶部を備える。また、記憶部には、第1反射型インテグレータ22bの各エレメント群220bの位置と、各エレメント群220bへ露光光ELの照明位置を切り替えるための第1反射型インテグレータ22aのO軸周りの傾きとの関係を示すテーブルデータを記憶している。このミラー駆動系41は、主制御系31によって複数の照明条件のうちの一つが選択されると、該照明条件に対応する反射特性を備える第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bの位置を求め、記憶部のテーブルデータに基づいて、その位置に対応する第1反射型インテグレータ22aのO軸周りの傾きを求める。次に、ミラー駆動系41は、記憶部のテーブルデータに基づいて、求めた第1反射型インテグレータ22aのO軸周りの傾きに対応するアクチュエータ45に対する電圧印加の制御値を求める。そして、ミラー駆動系41は、該制御値に基づいて電圧印加部を駆動させることによって、第1反射型インテグレータ22aのO軸周りの傾きを、選択された照明条件に応じて変位させる構成となっている。
次に、本実施形態の照明光学装置3による照明条件の切り替え(変更)動作について説明する。
照明光学装置3は、照明条件として、第2反射型インテグレータ23における二次光源の形状を変形させる変形照明によってσ値を所望の値(例えば0.1〜0.9の値)に切り替える動作を実施する。なお、図12における黒色プロットは、第1反射型インテグレータ22aによって複数の光束に分割された露光光ELの第1反射型インテグレータ22bに対する照明位置を示す。ちなみに、図12において露光光ELの光束は、16個の黒色プロットで示すが、実際には400本に分割された露光光ELの光束が第1反射型インテグレータ22bに対して入射する。
照明光学装置3は、照明条件として、第2反射型インテグレータ23における二次光源の形状を変形させる変形照明によってσ値を所望の値(例えば0.1〜0.9の値)に切り替える動作を実施する。なお、図12における黒色プロットは、第1反射型インテグレータ22aによって複数の光束に分割された露光光ELの第1反射型インテグレータ22bに対する照明位置を示す。ちなみに、図12において露光光ELの光束は、16個の黒色プロットで示すが、実際には400本に分割された露光光ELの光束が第1反射型インテグレータ22bに対して入射する。
主制御系31によって第1の照明条件として通常照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22aに入射した露光光ELを、第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bAに対して入射させる。第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bAは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Aに対応した反射特性を有するエレメント221bAからなるため、エレメント群220bAに対して入射した露光光ELは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Aに向けて反射する。そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Aは、図7に示す、通常照明の2次光源を形成する。
主制御系31によって第2の照明条件として2極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22aに入射した露光光ELを、第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bBに対して入射させる。第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bBは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bに対応した反射特性を有するエレメント221bBからなるため、エレメント群220bBに対して入射した露光光ELは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bに向けて反射する。そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Bは、図8に示す、2極照明の2次光源を形成する。
主制御系31によって第3の照明条件として4極照明が選択された場合、照明光学装置3は、照明装置40を駆動させ、第1反射型インテグレータ22aに入射した露光光ELを、第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bCに対して入射させる。第1反射型インテグレータ22bのエレメント群220bCは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Cに対応した反射特性を有するエレメント221bCからなるため、エレメント群220bCに対して入射した露光光ELは、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Cに向けて反射する。そして、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230Cは、図9に示す、4極照明の2次光源を形成する。
以上説明したように、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の第1実施形態と同様に、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる。
さらに、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の第1実施形態の照明光学装置3に比べて、第1反射型インテグレータを駆動するアクチュエータの数を低減できる。このため、第1反射型インテグレータの駆動を制御する制御系のプログラム等を単純化させることができ、制御系の負担を低減するとともに、第1反射型インテグレータの駆動を高精度で制御することができる。また、コスト安に寄与させることができる。
さらに、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の第1実施形態の照明光学装置3に比べて、第1反射型インテグレータを駆動するアクチュエータの数を低減できる。このため、第1反射型インテグレータの駆動を制御する制御系のプログラム等を単純化させることができ、制御系の負担を低減するとともに、第1反射型インテグレータの駆動を高精度で制御することができる。また、コスト安に寄与させることができる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
図13は、本発明の第3実施形態における第2反射型インテグレータ23を示す平面図である。図14は、本発明の第3実施形態における第2反射型インテグレータ23を示す模式図である。図13に示すように、本実施形態の第2反射型インテグレータ23は、複数のエレメント231が基準平面に沿って2次的に配置されて構成されている。また、第2反射型インテグレータ23は、エレメント231の配列によって略円形状となるように構成されている。本実施形態の第2反射型インテグレータ23は、所定の照明条件の外形(輪郭)を描画する図14に示すような複数の境界線D(境界線D1〜D5)で囲まれた複数のエレメント群230を備え、この各エレメント群230が所定の照明条件を形成する構成となっている。
第3実施形態では、各エレメント群230を構成するエレメント231の一部は、所定の照明条件下で共用される構成となっている。また、エレメント231の反射面の大きさは、統一されておらず、各エレメント群230の位置(照明条件)に応じて異なっている。また、エレメント231の密集度は、各エレメント群230の位置(照明条件)に応じて異なっている。
第3実施形態では、各エレメント群230を構成するエレメント231の一部は、所定の照明条件下で共用される構成となっている。また、エレメント231の反射面の大きさは、統一されておらず、各エレメント群230の位置(照明条件)に応じて異なっている。また、エレメント231の密集度は、各エレメント群230の位置(照明条件)に応じて異なっている。
次に、図15〜図20を参照して本実施形態の第2反射型インテグレータ23によって形成可能な照明条件の一例について説明する。以下の説明では、第2反射型インテグレータ23に対する露光光ELの照明位置を切り替える駆動を行う照明装置40としては、例えば上述した第1実施形態の照明装置40を用いることができる。図15〜図20において示す境界線D1〜D5で囲まれた領域には、少なくとも第1反射型インテグレータ22のエレメント221の総数と同数のエレメント231が配置されている。なお、図15〜図20における黒色プロットは、第1反射型インテグレータ22によって複数の光束に分割された露光光ELの第2反射型インテグレータ23に対する照明位置を示す。ちなみに、図15〜図20において露光光ELの光束は、16個の黒色プロットで示すが、実際には400本に分割された露光光ELの光束が第2反射型インテグレータ23に対して入射する。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図15に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D1で囲まれた領域のエレメント群(第1のエレメント群)230A1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A1は、第1の照明条件として、通常照明の2次光源を形成することができる。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図16に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D2で囲まれた領域のエレメント群(第2のエレメント群)230A2に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A2は、第2の照明条件として、第1の照明条件より小径の通常照明の2次光源を形成することができる。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図17に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D3で囲まれた領域のエレメント群(第3のエレメント群)230B1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230B1は、第3の照明条件として、2極照明の2次光源を形成することができる。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図18に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D3及びD4で囲まれた領域のエレメント群230C1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230C1は、第4の照明条件として、4極照明の2次光源を形成することができる。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図19に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D1及びD2で囲まれた領域のエレメント群230D1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230D1は、第5の照明条件として、輪帯照明(アニュラ照明)の2次光源を形成することができる。
照明装置40は、第1反射型インテグレータ22に入射した露光光ELを、図20に示す第2反射型インテグレータ23の境界線D1及びD5で囲まれた領域のエレメント群230D2に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230D2は、第6の照明条件として、第5の照明条件より内径が大きい輪帯照明の2次光源を形成することができる。
以上説明したように、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の実施形態と同様に、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる。
さらに、本実施形態の照明光学装置3によれば、あるエレメント群230を構成するエレメント231の一部が、所定の照明条件下で共用されるため、第2反射型インテグレータ23を構成するエレメント231の総数を低減させることができる。このため、コスト安に寄与させることができる。
さらに、本実施形態の照明光学装置3によれば、あるエレメント群230を構成するエレメント231の一部が、所定の照明条件下で共用されるため、第2反射型インテグレータ23を構成するエレメント231の総数を低減させることができる。このため、コスト安に寄与させることができる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。また、上述の実施形態で用いた図面を参照して説明することがある。
図21は、本発明の第4実施形態における照明装置40の要部を示す平面図である。図22は、本発明の第4実施形態における照明光学装置3のオプティカル・インテグレータ4を示す構成図である。図22に示すように、第4実施形態のオプティカル・インテグレータ4は、第2反射型インテグレータ23として、第3実施形態の第2反射型インテグレータ23を備える。第4実施形態のオプティカル・インテグレータ4は、第1反射型インテグレータ22として、図21に示すように、第2反射型インテグレータ23のエレメント群(第1のエレメント群)230A1に対応する反射特性を有する第1反射型インテグレータ(第1の反射光学素子)22A1と、第2反射型インテグレータ23のエレメント群(第2のエレメント群)230B1に対応する反射特性を有する第1反射型インテグレータ(第2の反射光学素子)22B1と、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230C1に対応する反射特性を有する第1反射型インテグレータ22C1と、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230D1に対応する反射特性を有する第1反射型インテグレータ22D1とを備える。第1反射型インテグレータ22A1、第1反射型インテグレータ22B1、第1反射型インテグレータ22C1、第1反射型インテグレータ22D1は、所定方向に延びる回転軸51周りに回転自在なターレット(挿入離脱機構)52に設けられている。
照明光学装置3は、ターレット52を含む照明装置40を備える。
照明装置40は、ターレット52を回転させて、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22A1を挿入することで、露光光ELを第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A1は、第1の照明条件として、通常照明の2次光源を形成することができる(図15参照)。
照明装置40は、ターレット52を回転させて、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22A1を挿入することで、露光光ELを第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230A1は、第1の照明条件として、通常照明の2次光源を形成することができる(図15参照)。
照明装置40は、ターレット52を回転させて、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22A1を離脱させると共に、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22B1を挿入することで、露光光ELを第2反射型インテグレータ23のエレメント群230B1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230B1は、第2の照明条件として、2極照明の2次光源を形成することができる(図17参照)。
照明装置40は、ターレット52を回転させて、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22B1を離脱させると共に、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22C1を挿入することで、露光光ELを第2反射型インテグレータ23のエレメント群230C1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230C1は、第3の照明条件として、4極照明の2次光源を形成することができる(図18参照)。
照明装置40は、ターレット52を回転させて、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22C1を離脱させると共に、露光光ELの光路上に対して第1反射型インテグレータ22D1を挿入することで、露光光ELを第2反射型インテグレータ23のエレメント群230D1に向けて反射する。これにより、第2反射型インテグレータ23のエレメント群230D1は、第4の照明条件として、輪帯照明の2次光源を形成することができる(図19参照)。
以上説明したように、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の実施形態と同様に、照明条件の変更による照明光の光量の損失を抑制できる。さらに、本実施形態の照明光学装置3によれば、上述の実施形態の照明光学装置3に比べて、第1反射型インテグレータを駆動するアクチュエータの数を低減できる。このため、第1反射型インテグレータの駆動を制御する制御系のプログラム等を単純化させることができ、制御系の負担を低減するとともに、第1反射型インテグレータの駆動を高精度で制御することができる。
なお、上述の各実施形態のウエハ(基板)としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。
本発明の照明光学装置を備える露光装置としては、マスクと基板とを同期移動してマスクのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクと基板とを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明は基板上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
また、例えば米国特許第6,611,316号に開示されているように、2つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、1回の走査露光によって基板上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。
露光装置の種類としては、基板に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)、マイクロマシン、MEMS、DNAチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
また、本実施形態においては、露光光ELがEUV光である場合を例にして説明したが、露光光ELとして、例えば水銀ランプから射出される輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF2レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)等を用いることもできる。
また、本発明は、基板ステージ(ウエハステージ)が複数設けられるツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば特開平10−163099号公報及び特開平10−214783号公報(対応米国特許6,341,007号、6,400,441号、6,549,269号及び6,590,634号)、特表2000−505958号(対応米国特許5,969,441号)或いは米国特許6,208,407号に開示されている。
以上のように、本実施形態の露光装置は、本願請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図23に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理(露光処理)を含む基板処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
1…露光装置、
3…照明光学装置、
4…オプティカル・インテグレータ、
5…駆動装置(第2の駆動装置)、
22…第1反射型インテグレータ(反射光学部材)、
22a…第1反射型インテグレータ(第2の反射光学部材)、
22b…第1反射型インテグレータ(第1の反射光学部材)、
22A1…第1反射型インテグレータ(第1の反射光学素子)、
22B1…第1反射型インテグレータ(第2の反射光学素子)、
22C1…第1反射型インテグレータ、
22D1…第1反射型インテグレータ、
23…第2反射型インテグレータ(インテグレータ光学素子)、
40…照明装置、
52…ターレット(挿入離脱機構)、
220b…エレメント群、
220bA…エレメント群(第1の反射領域)、
220bB…エレメント群(第2の反射領域)、
220bC…エレメント群、
221…エレメント(反射エレメント素子)、
221A…エレメント、
221B…エレメント、
221C…エレメント、
221D…エレメント、
221a…エレメント、
221b…エレメント、
221bA…エレメント、
221bB…エレメント、
221bC…エレメント、
230…エレメント群、
230A…エレメント群(第1のエレメント群)、
230B…エレメント群(第2のエレメント群)、
230C…エレメント群(第3のエレメント群)、
230A1…エレメント群(第1のエレメント群)、
230A2…エレメント群(第2のエレメント群)、
230B1…エレメント群(第3のエレメント群、(第2のエレメント群))、
230C1…エレメント群、
230D1…エレメント群、
230D2…エレメント群、
231…エレメント、
O…所定の軸、
R…レチクル(マスク)、
W…ウエハ、
EL…露光光(照明光)
PO…投影光学系。
3…照明光学装置、
4…オプティカル・インテグレータ、
5…駆動装置(第2の駆動装置)、
22…第1反射型インテグレータ(反射光学部材)、
22a…第1反射型インテグレータ(第2の反射光学部材)、
22b…第1反射型インテグレータ(第1の反射光学部材)、
22A1…第1反射型インテグレータ(第1の反射光学素子)、
22B1…第1反射型インテグレータ(第2の反射光学素子)、
22C1…第1反射型インテグレータ、
22D1…第1反射型インテグレータ、
23…第2反射型インテグレータ(インテグレータ光学素子)、
40…照明装置、
52…ターレット(挿入離脱機構)、
220b…エレメント群、
220bA…エレメント群(第1の反射領域)、
220bB…エレメント群(第2の反射領域)、
220bC…エレメント群、
221…エレメント(反射エレメント素子)、
221A…エレメント、
221B…エレメント、
221C…エレメント、
221D…エレメント、
221a…エレメント、
221b…エレメント、
221bA…エレメント、
221bB…エレメント、
221bC…エレメント、
230…エレメント群、
230A…エレメント群(第1のエレメント群)、
230B…エレメント群(第2のエレメント群)、
230C…エレメント群(第3のエレメント群)、
230A1…エレメント群(第1のエレメント群)、
230A2…エレメント群(第2のエレメント群)、
230B1…エレメント群(第3のエレメント群、(第2のエレメント群))、
230C1…エレメント群、
230D1…エレメント群、
230D2…エレメント群、
231…エレメント、
O…所定の軸、
R…レチクル(マスク)、
W…ウエハ、
EL…露光光(照明光)
PO…投影光学系。
Claims (15)
- 第1の照明条件を形成する第1のエレメント群と、前記第1の照明条件とは異なる第2の照明条件を形成する第2のエレメント群とを備えるインテグレータ光学素子と、
前記第1のエレメント群及び前記第2のエレメント群のいずれか一方に、選択的に照明光を照射する照射装置とを有することを特徴とする照明光学装置。 - 前記照射装置は、入射した前記照明光を前記第1のエレメント群及び前記第2のエレメント群のいずれか一方に、選択的に反射する反射光学素子を有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。
- 前記反射光学素子は、反射面を有する複数の反射エレメント素子と、
前記反射面の傾き、前記反射面の位置及び前記反射面の曲率の少なくとも一方を変位させる駆動装置とを有することを特徴とする請求項2に記載の照明光学装置。 - 前記駆動装置は、前記複数の反射エレメント素子の反射面のそれぞれを独立的に駆動することを特徴とする請求項3に記載の照明光学装置。
- 前記駆動装置は、前記複数の反射エレメント素子のうち、少なくとも一部の反射エレメントの反射面の曲率を変位させることを特徴とする請求項3または4に記載の照明光学装置。
- 前記照射装置は、前記第1のエレメント群に対応する第1の反射光学素子と、
前記第2のエレメント群に対応する第2の反射光学素子と、
前記第1の反射光学素子と前記第2の反射光学素子のいずれか一方を前記照明光の光路に対して挿入又は離脱する挿入離脱機構とを備えることを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。 - 前記照射装置は、入射した前記照明光を前記第1のエレメント群に反射する第1の反射領域と、入射した前記照明光を前記第2のエレメント群に反射する第2の反射領域とを備える第1の反射光学部材と、
入射した前記照明光を前記第1の反射光学部材に反射する第2の反射光学部材と、
前記第1の反射領域及び前記第2の反射領域のいずれか一方に向けて前記照明光を反射するように、前記第2の反射光学部材を駆動する第2の駆動装置とを有することを特徴とする請求項1に記載の照明光学装置。 - 前記第2の駆動装置は、前記第2の反射光学部材を所定の軸周りに駆動することを特徴とする請求項7に記載の照明光学装置。
- 前記第2の駆動装置は、前記第1の反射領域及び前記第2の反射領域のいずれか一方に向けて前記照明光を反射するように、前記第2の反射光学部材の反射面のうち、少なくとも一部の反射面の曲率を変位させることを特徴とする請求項7または8に記載の照明光学装置。
- 前記インテグレータ光学素子は、前記第1の照明条件と前記第2の照明条件とは異なる第3の照明条件を形成する第3のエレメント群を備え、
前記照射装置は、前記第1のエレメント群、前記第2のエレメント群、前記第3のエレメント群のいずれか一方に、選択的に照明光を照射することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の照明光学装置。 - 前記第1のエレメント群を構成するエレメントの一部と、前記第2のエレメント群を構成するエレメントの一部と、前記第3のエレメント群を構成するエレメントの一部とは、前記第1の照明条件、前記第2の照明条件、前記第3の照明条件のうちの少なくとも一つの条件で共用されることを特徴とする請求項10に記載の照明光学装置。
- 前記第1のエレメント群及び前記第2のエレメント群の大きさは、互いに異なっていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の照明光学装置。
- 前記第3のエレメント群の大きさは、前記第1のエレメント群の大きさ及び前記第2のエレメント群の大きさの少なくとも一方と異なっていることを特徴とする請求項10または請求項11に記載の照明光学装置
- パターンが形成されたマスクを照明する請求項1〜13のいずれか一項に記載の照明光学装置と、
前記照明光学装置によって照明された前記マスクのパターン像をウエハに投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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