JP2012530367A - リソグラフィ装置および方法 - Google Patents

Abstract

【解決手段】複数の反射要素を有する照明システムであって、複数の反射要素は異なる向きの間で可動であり、複数の反射要素は放射を瞳面の異なる箇所に導くことによって異なる照明モードを形成する照明システムが開示される。各反射要素は、その反射要素が放射を内側照明箇所グループの箇所に導く第１向き、その反射要素が放射を中間照明箇所グループの箇所に導く第２向き、およびその反射要素が放射を外側照明箇所グループの箇所に導く第３向きへと動くことができる。複数の反射要素は、それらが内側、中間および外側照明箇所グループへと同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成され、かつ、それらが外側照明箇所グループへ実質的に放射を導かず内側および中間照明箇所グループへと実質的に同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成される。
【選択図】図２

Description

関連出願へのクロスリファレンス
本出願は、２００９年６月１７日に出願された米国仮出願（６１／１８７８２９）の優先権の利益を享受する。その仮出願は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
本発明はリソグラフィ装置および方法に関する。

リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板のターゲット部分に転写する機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いられる。この場合、例えばマスクまたはレチクルとも称されるパターニングデバイスが、集積回路の個々の層に対応する回路パターンを形成するために使用されうる。このパターンが基板（例えばシリコンウエハ）の（例えばひとつまたは複数のダイもしくはダイの一部を含む）ターゲット部分に転写される。パターン転写は典型的には基板に形成された放射感応性材料（レジスト）層への結像による。一般に一枚の基板にはネットワーク状に隣接する一群のターゲット部分が含まれ、これらは連続的にパターン形成される。公知のリソグラフィ装置にはいわゆるステッパとスキャナとがある。ステッパにおいては、ターゲット部分にパターン全体が一度に露光されるようにして各ターゲット部分は照射を受ける。スキャナにおいては、所与の方向（「走査」方向）にビームによりパターンを走査するとともに基板をこの方向に平行または逆平行に同期して走査するようにして各ターゲット部分は照射を受ける。

一般にリソグラフィ装置は照明システムを含む。照明システムはレーザなどのソースから放射を受け、放射ビーム（ときに「投影」ビームと称される）を提供し、その放射ビームはパターニングデバイスに入射する。放射ビームはパターニングデバイスによってパターン付与され、次に投影システムによって基板上に投影される。

放射ビームを適切な照明モードで提供することによって、基板上に投影されるパターニングデバイスのイメージを改善できることがリソグラフィの分野において知られている。したがって、典型的には、リソグラフィ装置の照明システムは、強度分布調整装置を含む。この強度分布調整装置は、放射ビームが照明モードを有するよう、照明システム内で、放射ビームを方向付け、成形し、制御するよう構成される。

種々の強度分布調整装置は所望の照明モードを獲得するために照明ビームを制御するよう構成され、そのような種々の強度分布調整装置によって所望の照明モードが提供されうる。例えば、環状照明モードを生成するためにズームアキシコンデバイス（ズームレンズとアキシコンの組み合わせ）を使用することができる。そこでは、照明モードの内側半径範囲および外側半径範囲（σ_innerおよびσ_outer）が制御可能となっている。ズームアキシコンデバイスは通常、個々に移動可能な複数の屈折光学素子を備える。したがって、ズームアキシコンデバイスは、例えば極端紫外（ＥＵＶ）放射（例えば、約１３．５ｎｍでの放射）での使用には適していない。この波長の放射は屈折材料を通過する際に大きく吸収されるからである。

空間フィルタを使用して照明モードを生成することができる。ダイポール照明モードを生成するために、ダイポールモードに対応する開口を有する空間フィルタを照明システムの瞳面に提供してもよい。異なる照明モードが望まれる場合、空間フィルタを除去し、異なる空間フィルタで置き換えてもよい。しかしながら、空間フィルタは放射ビームのかなりの割合を遮るので、放射ビームがパターニングデバイスに入射するときの放射ビームの強度は低減される。既知のＥＵＶソースは、リソグラフィ装置が効率的に動作できるようになるのに十分な強度でＥＵＶ放射を提供しようと苦労している。したがって、照明モードを形成する際に放射ビームのかなりの部分を遮るのは望ましくない。

例えば、本明細書またはいずこかで説明されるひとつ以上の短所を軽減するまたは克服するリソグラフィ装置を提供することが望ましい。

ある態様によると、複数の反射要素を有する照明システムであって、複数の反射要素は異なる向きの間で可動であり、複数の反射要素は放射を瞳面の異なる箇所に導くことによって異なる照明モードを形成し、各反射要素は、その反射要素が放射を内側照明箇所グループの箇所に導く第１向き、その反射要素が放射を中間照明箇所グループの箇所に導く第２向き、およびその反射要素が放射を外側照明箇所グループの箇所に導く第３向きへと動くことができ、複数の反射要素は、それらが内側、中間および外側照明箇所グループへと同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成され、かつ、それらが外側照明箇所グループへ実質的に放射を導かず内側および中間照明箇所グループへと実質的に同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成される、照明システムが提供される。

ある態様によると、照明モード間の切り替えを行う方法であって、複数の反射要素を、それらが瞳面の内側、中間および外側照明箇所グループへと同じ量の放射を導くよう方向付け、続いて複数の反射要素をそれらが外側照明箇所グループへ実質的に放射を導かず内側および中間照明箇所グループへと実質的に同じ量の放射を導くよう方向付けることを含む、方法が提供される。

本発明の実施の形態は、例示のみを目的として添付の模式的な図面を参照して説明される。図面では、対応する参照符号は、対応する部分を示す。

本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。

図１のリソグラフィ装置の部分をより詳細に示す模式図である。

リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作を示す図である。

リソグラフィ装置の照明システムの第１反射素子の主反射要素の動作の影響を示す図である。

図５ａおよび図５ｂは、リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作およびその結果得られるｙダイポール照明モードを示す図である。

図６ａおよび図６ｂは、リソグラフィ装置の照明システムの可動反射要素の動作およびその結果得られるｘダイポール照明モードを示す図である。

瞳面の第１象限を示す図である。

図８ａ−ｅは、本発明の実施の形態を使用して獲得可能な５つの照明モードを示す図である。

反射要素のための台を示す図である。

本発明の実施の形態における瞳面の第１象限を示す図である。

図１１ａ−ｇは、本発明の実施の形態を使用して獲得可能な７つの照明モードを示す図である。

本発明の実施の形態における瞳面の第１象限を示す図である。

図１３ａ−ｎは、本発明の実施の形態を使用して獲得可能な１４の照明モードを示す図である。

本発明の実施の形態を使用して獲得可能な照明モードを示す図である。

本明細書ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用を例として説明しているが、本明細書に記載されたリソグラフィ装置は他の用途にも適用することが可能であるものと理解されたい。他の用途としては、集積光学システム、磁区メモリ用案内パターンおよび検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどがある。これらの代替的な適用に際して、本明細書において「ウエハ」あるいは「ダイ」という用語が使用される場合はいつでも、それぞれ「基板」あるいは「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義であるとみなされうると、当業者であれば理解するであろう。本明細書で言及される基板は露光前または露光後において例えばトラック（典型的にはレジスト層を基板に塗布し、露光後のレジストを現像するツール）、メトロロジツール、及び／またはインスペクションツールにおいて処理されてもよい。適用可能であれば、本明細書の開示はこれらのまたは他の基板処理装置にも適用され得る。また、基板は例えば多層ＩＣを製造するために複数回処理されてもよく、その場合には本明細書における基板という用語は処理されている多数の層を既に含む基板をも意味してもよい。

本明細書で使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、（例えば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、または１２６ｎｍの波長を有する）紫外（ＵＶ）放射、（例えば５−２０ｎｍの範囲に含まれる波長を有する）極端紫外（ＥＵＶ）放射を含むあらゆる電磁放射、及びイオンビームまたは電子ビーム等の粒子線を含む。

本明細書で使用される「パターニングデバイス」なる用語は、例えば基板のターゲット部分にパターンを生成するために放射ビームの断面にパターンを付与するのに使用される何らかのデバイスであると広義に解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、基板のターゲット部分における所望のパターンと厳密に対応していなくてもよいことを注意しておく。一般には、放射ビームに付与されるパターンは、ターゲット部分に形成される集積回路などのデバイスの特定の機能層に対応する。

パターニングデバイスは透過型であっても反射型であってもよい。ＥＵＶリソグラフィ装置では典型的にはパターニングデバイスは反射型である。パターニングデバイスの例としては、例えばマスク（透過型）やプログラマブルミラーアレイ（反射型）、プログラマブルＬＣＤパネルなどがある。マスクはリソグラフィの分野では周知であり、バイナリマスクやレベンソン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク、更に各種のハイブリッド型マスクが含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例としては、小型のミラーがマトリックス状に配列され、各ミラーが入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個別に傾斜されるというものがある。この方法で反射ビームはパターン形成される。

サポート構造はパターニングデバイスを保持する。サポート構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置のデザイン、及びパターニングデバイスが真空環境で保持されるか否か等のその他の条件に応じた方式でパターニングデバイスを保持する。サポート構造は、機械的固定、真空固定、または、真空条件下での静電固定などの他の固定技術を用いてもよい。サポート構造は、例えばフレームまたはテーブルであってもよく、これらは固定されていてもよいし必要に応じて移動可能であってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを保証してもよい。本明細書では「レチクル」または「マスク」という用語を用いた場合には、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であるとみなされるものとする。

本明細書で使用される「投影システム」なる用語は、屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システムを含む種々のタイプの投影システムを指し示すものとして広義に解釈されるべきである。投影システムは、例えば使用される露光放射に応じて、あるいは特に真空の使用や液浸液の使用などのその他の要因に応じて適切とされる投影システムであってもよい。通常、ＥＵＶ放射リソグラフィ装置では、投影システムの光学素子は反射型である。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用する場合はいつでも、より一般的な用語である「投影システム」と同義であると見なされうる。

照明システムは反射素子（および／または屈折素子）を含むことができ、またオプションで放射ビームを方向付け、成形し、および制御するための各種の他の光学素子を含むことができる。

リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（及び／または２つ以上のサポート構造）を有するタイプのものであってもよい。このような「多重ステージ」型の装置においては、追加的なテーブルが並行して使用されてもよく、あるいは１以上のテーブルが露光に使用されている間に１以上の他のテーブルで準備工程が実行されてもよい。

例えば米国特許出願公開第２００７−００１３８９０号公報に記載されるように、リソグラフィ装置は２以上のパターニングデバイス間（または制御可能パターニングデバイスに設けられる複数のパターン間）での高速切り替えが可能なタイプのものであってもよい。

また、リソグラフィ装置は、基板が比較的屈折率の高い液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムの最終要素と基板との間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。液浸液は例えばマスクと投影システムの最初の要素との間などの、リソグラフィ装置の他の空間に与えられてもよい。液浸技術は、投影システムの開口数を大きくするため技術として周知である。

図１は、本発明の実施の形態に係るリソグラフィ装置を模式的に示す図である。この装置は、
−放射ビームＢ（例えばＤＵＶ放射やＥＵＶ放射）を調整する照明システムＩＬと、
−パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持し、パターニングデバイスをアイテムＰＬに対して正確に位置決めする第１位置決め装置ＰＭに接続されているサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、
−基板（例えば、レジストでコーティングされたウエハ）Ｗを保持し、基板をアイテムＰＬに対して正確に位置決めする第２位置決め装置ＰＷに接続されている基板テーブル（例えば、ウエハテーブル）ＷＴと、
−パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの（例えば１つまたは複数のダイを含む）ターゲット部分Ｃに結像させる投影システム（例えば反射投影レンズ）ＰＬと、
を備える。

図１に示される通り、本実施の形態に係るリソグラフィ装置は（例えば、上述のタイプの反射マスクまたはプログラマブルミラーアレイを使用する）反射型の装置である。あるいはまた、装置は（例えば透過マスクを使用する）透過型の装置であってもよい。

照明システムＩＬは放射源ＳＯから放射ビームＢを受ける。例えば光源がエキシマレーザである場合には、光源とリソグラフィ装置とは別体であってもよい。この場合、光源はリソグラフィ装置の一部を構成しているとはみなされなく、放射ビームは光源ＳＯからビーム搬送系を介して照明システムＩＬへと到達する。このビーム搬送系は例えば適切な方向変更用ミラー及び／またはビームエキスパンダを含む。他の場合、例えば光源が水銀ランプである場合には、光源はリソグラフィ装置に一体に構成されていてもよい。光源ＳＯと照明システムＩＬとは、またビーム搬送系が必要とされる場合にはこれも合わせて、放射システムと称されることがある。

照明システムＩＬは、放射ビームに所望の均一性および所望の照明モードを提供するように、放射ビームを調整する。照明システムＩＬは、瞳面における放射ビームの空間強度分布を調整する（例えば、所望の照明モードを選択する）ための強度分布調整装置を含む。照明システムはインテグレータやカップリング光学素子などの種々の他の素子を有してもよい。

放射ビームＢは、照明システムＩＬを放れると、サポート構造ＭＴに保持されているパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射する。パターニングデバイスＭＡを通過した後、放射ビームＢは投影システムＰＬを通過する。投影システムＰＬはビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃに合焦させる。第２位置決めデバイスＰＷと位置センサＩＦ２（例えば、干渉計、リニアエンコーダ、静電容量センサなど）により基板テーブルＷＴは正確に移動される。例えば放射ビームＢの経路に異なる複数のターゲット部分Ｃをそれぞれ位置決めするように移動される。同様に、第１位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサＩＦ１を使用して、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイスＭＡを正確に位置決めできる。この位置決めは例えばマスクライブラリからのマスクの機械検索後や走査中に行われる。一般に対象テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、ロングストロークモジュール（粗い位置決め用）及びショートストロークモジュール（精細な位置決め用）により実現されうる。これらのモジュールは位置決めデバイスＰＭおよびＰＷの一部を形成する。しかしながら、ステッパでは（スキャナとは異なり）、サポート構造ＭＴはショートストロークのアクチュエータにのみ接続されているか、あるいは固定されていてもよい。パターニングデバイスＭＡと基板Ｗとは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を用いてアライメントされてもよい。図においては基板アライメントマークが専用のターゲット部分を占拠しているが、基板アライメントマークはターゲット部分間のスペースに配置されてもよい（これはスクライブライン・アライメントマークとして公知である）。同様に、パターニングデバイスＭＡに複数のダイがある場合にはパターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。

図１および図２の両方に示される装置は以下のモードで使用することができる。

１．ステップモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンの全体が１回の照射で１つのターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは実質的に静止状態とされる（すなわち単一の静的な露光）。そして基板テーブルＷＴがＸ方向及び／またはＹ方向に移動されて、異なるターゲット部分Ｃが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写されるターゲット部分Ｃのサイズを制限することになる。

２．スキャンモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期して走査される（すなわち１回の動的な露光）。サポート構造ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）特性及び像反転特性により定められてもよい。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光でのターゲット部分の（非走査方向の）幅を制限し、走査移動距離がターゲット部分の（走査方向の）高さを決定する。

３．別のモードにおいては、放射ビームＰＢに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影される間、サポート構造ＭＴはプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルＷＴは移動または走査される。このモードでは一般にパルス放射源が用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは走査中に基板テーブルＷＴが移動するたびに、または連続する放射パルスと放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のタイプのプログラム可能ミラーアレイなどのプログラム可能パターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。

上記の使用モードを組み合わせて動作させてもよいし、使用モードに変更を加えて動作させてもよく、さらに全く別の使用モードを用いてもよい。

上述の通り、照明システムＩＬは強度分布調整装置を備える。強度分布調整装置は、パターニングデバイスに入射する放射ビームの角強度分布を制御するために、照明システムの瞳面における放射ビームの空間強度分布を調整するよう構成される。強度分布調整装置を使用して、照明システムの瞳面において異なる照明モードを選択することができる。照明モードの選択は、例えばパターニングデバイスＭＡから基板Ｗ上へ投影されるべきパターンの性質に依存する。

照明システム瞳面における放射ビームの空間強度分布は、放射ビームがパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡに入射する前に、角強度分布に変換される。言い換えると、照明システムの瞳面とパターニングデバイスＭＡ（パターニングデバイスはフィールド面にある）との間にはフーリエ関係が存在する。照明システムの瞳面はパターニングデバイスＭＡが配置されている対物面のフーリエ変換面である。照明システムの瞳面は、投影システムの瞳面と共役となっている。

図２は、図１のリソグラフィ装置の部分をより詳細に示す模式図である。ソースＳＯは放射ビームＢを生成し、放射ビームＢは照明システムＩＬに設けられた入り口アパーチャ２０にある仮想ソース点収集フォーカス１８へと集束される。放射ビームＢは照明システムＩＬ内で第１および第２反射素子２２、２４を介して反射され、サポート構造ＭＴに保持されているパターニングデバイスＭＡへと導かれる。放射ビームＢは次に、投影システムＰＬ内で第１および第２反射素子２８、３０を介してイメージされ、基板テーブルＷＴに保持されている基板Ｗ上に投影される。

ソース、照明システムＩＬおよび投影システムＰＬには一般に、図２に示されているよりも多くのまたは少ない要素が存在しうることは理解されるであろう。例えば、ある実施の形態では、リソグラフィ装置はひとつ以上の透過性または反射性スペクトル純度フィルタを備えてもよい。リソグラフィ装置には、より多くのまたはより少ない反射素子部分が存在してもよい。

図３は、照明システムの第１および第２反射素子を含むリソグラフィ装置の部分を模式的に示す図である。第１反射素子２２は、複数の主反射要素２２ａ−ｄ（フィールドファセットミラーとして広く知られている）を含む。第２反射素子２４は、複数の二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’（瞳ファセットミラーとして広く知られている）を含む。主反射要素２２ａ−ｄは二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射を導く（反射する）よう構成される。４つの主反射要素２２ａ−ｄのみが示されているが、任意の数の主反射要素を提供してもよい。主反射要素は、二次元アレイ（または他の二次元配列）に配列されてもよい。８つの二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’のみが示されているが、任意の数の二次反射要素を提供してもよい。二次反射要素は、二次元アレイ（または他の二次元配列）に配列されてもよい。

主反射要素２２ａ−ｄは調整可能な向きを有し、選択された二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射を導くために使用されてもよい。

第２反射素子２４は照明システムＩＬの瞳面Ｐと一致する。したがって、第２反射素子２４は、パターニングデバイスＭＡ上に放射を導く仮想放射源として作用する。第２反射素子２４とパターニングデバイスＭＡとの間にコンデンサミラー（不図示）が設けられてもよい。コンデンサミラーはミラーシステムであってもよい。コンデンサミラーは主反射要素２２ａ−ｄをパターニングデバイスＭＡ上に結像するよう構成されてもよい。

第２反射素子２４における放射ビームＢの空間強度分布は、放射ビームの照明モードを決定する。主反射要素２２ａ−ｄは調整可能な向きを有しているので、それらを使用して、瞳面Ｐに異なる空間強度分布を形成し、それによって異なる照明モードを提供することができる。

使用中、放射ビームＢは第１反射素子２２の主反射要素２２ａ−ｄに入射する。各主反射要素２２ａ−ｄは、第２反射素子２４の異なる二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に向けて放射のサブビームを反射する。第１サブビームＢａは、第１主反射要素２２ａによって第１二次反射要素２４ａに導かれる。第２、第３および第４サブビームＢｂ−ｄは、第２、第３および第４主反射要素２２ｂ−ｄによって第２、第３および第４二次反射要素２４ｂ−ｄに導かれる。

サブビームＢａ−ｄは、二次反射要素２４ａ−ｄによってパターニングデバイスＭＡに向けて反射される。それらのサブビームはまとめて単一の放射ビームＢを形成するものとみなされうる。この単一の放射ビームＢはパターニングデバイスＭＡの露光領域Ｅを照らす。露光領域Ｅの形状は、主反射要素２２ａ−ｄの形状によって決定される。露光領域Ｅは例えば矩形、湾曲バンド、または他の形状であってもよい。

各主反射要素２２ａ−ｄは、第２反射素子２４の異なる二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に、仮想ソース点収集フォーカス１８の像を形成する。実際、フォーカス１８は点ではないであろう。むしろフォーカス１８は例えば４−６ｍｍであってもよい有限の幅（例えば直径）を有する仮想ソースである。その結果、各主反射要素２２ａ−ｄは、二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に、（例えば３−５ｍｍの）有限の幅を有する仮想ソースの像を形成するであろう。二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は、像の幅よりも大きな幅を有してもよい（放射が二次反射要素間に落ちて失われないようにするためである）。図では説明を簡単とするために、フォーカス１８およびフォーカスの像は点として描かれている。

主および二次反射要素は光学パワーを有する。各主反射要素２２ａ−ｄは負の光学パワーを有する。各主反射要素２２ａ−ｄは仮想ソース１８の像を形成するのであるが、その像は仮想ソースよりも小さい。各二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は正の光学パワーを有する。各二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は主反射要素２２ａ−ｄの像を形成するのであるが、その像は主反射要素よりも大きい。上述の通り、主反射要素２２ａ−ｄの像は露光領域Ｅである。

主反射要素２２ａ−ｄの向きは、瞳面Ｐに形成される照明モードを決定する。例えば、主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームが４つの最も内側の二次反射要素２４ｃ、ｄ、ａ’、ｂ’に導かれるように方向付けられてもよい。これは、標準（ディスク形状）照明モードの１次元等価物とみなされうる照明モードを提供する。代替的な例では、主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームが第２反射素子２４の左端の２つの二次反射要素２４ａ−ｂに導かれるように、かつ、放射サブビームが第２反射素子２４の右端の２つの二次反射要素２４ｃ’−ｄ’に導かれるように、方向付けられてもよい。これは、環状照明モードの１次元等価物とみなされうる照明モードを提供する。

主反射要素２２ａ−ｄのそれぞれは、それが２つの向きすなわち第１向きおよび第２向きのうちのひとつに向けられうるように構成される。第１向きは、主反射要素が放射のサブビームを第２反射素子２４上の第１の所望の箇所に向けて反射するような向きである。第２向きは、主反射要素が放射のサブビームを第２反射素子２４上の第２の所望の箇所に向けて反射するような向きである。主反射要素は第３向きへ動くよう構成されてはおらず、代わりに第１向きと第２向きとの間でのみ可動である。

図４は、第１反射素子２２の第１主反射要素２２ａを例として使用して、主反射要素の第１および第２向き間での動きを説明する。第１主反射要素２２ａが第１向きを向いているとき、その第１主反射要素２２ａは、第２反射素子２４の第１二次反射要素２４ａに放射サブビームＢａを導く。第１主反射要素２２ａが第２向きを向いているとき、その第１主反射要素２２ａは、第２反射素子２４の第２二次反射要素２４ａ’に放射サブビームＢａ’（点線により示されている）を導く。第１主反射要素２２ａは他のどの向きへも動かないよう構成され、したがって他のどの二次反射要素２４ｂ−ｄ、ｂ’−ｄ’にも放射サブビームを導かないよう構成されている。

上記説明は、二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’に放射サブビームを導く各主反射要素２２ａ−ｄに当てはまる。任意の実施の形態において、所与のサブビームによって照らされる二次反射要素は、瞳面上のまたは第２反射素子上の単一の箇所内に全てが配置された二次要素のグループの要素であってもよい。その箇所は、照明モードに関連する。この理由で、「箇所」、「照明箇所」または「照明箇所グループ」という用語は、二次反射要素の代わりに使用されうる（「箇所」という用語は、単一の二次反射要素または複数の二次反射要素を包含することが意図されている）。

各主反射要素２２ａ−ｄは、放射サブビームを２つの異なる箇所に導くよう構成される。各主反射要素２４ａ−ｄに関連する第１箇所および第２箇所は、他の主反射要素から放射サブビームを受ける箇所とは異なる一意のものである。各主反射要素２２ａ−ｄを適切に設定することにより、所望の照明モードに対応する空間強度分布を生成するよう第２反射素子２４の瞳面Ｐにおける必要な箇所に放射を導くことができる。

図３および図４は４つの主反射要素２２ａ−ｄのみを示しているが、第１反射素子２２はより多くの主反射要素を含んでいてもよい。第１反射素子２２は例えば１００程度、２００程度または４００程度の主反射要素を含んでいてもよい。第１反射素子２２は例えば１００−８００の範囲のなかの任意の数の主反射要素を含んでいてもよい。反射要素はミラーであってもよい。第１反射素子２２は、１０２４（例えば３２ｘ３２）のミラーからなるアレイまたは４０９６（例えば６４ｘ６４）のミラーからなるアレイもしくは任意の適切な数のミラーを含んでいてもよい。主反射要素は、二次元格子形状に配列されてもよい。主反射要素は、放射ビームを横切る面に配列されてもよい。

第１反射素子２２は主反射要素のひとつ以上のアレイを含んでいてもよい。例えば、主反射要素は、複数のアレイを形成するよう配列またはグループ化されていてもよい。各アレイは例えば３２ｘ３２のミラーを有する。本明細書では、「アレイ」という用語は単一のアレイまたはアレイのグループを意味してもよい。

二次反射要素２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は二次反射要素の向きが固定されるように取り付けられてもよい。

図５および図６は、瞳面Ｐにおける空間強度分布を変更し所望の照明モードを得るために、放射を再方向付けする原理を模式的に示す。図５ｂおよび図６ｂの紙面は、図５ａおよび図６ａに示される瞳面Ｐと一致する。図の説明を容易とするため、図５ｂおよび図６ｂにおいて直交座標系が示されている。示されている直交座標系は、得られうる空間強度分布の向きに対する制限を暗示するよう意図されるものではない。空間強度分布の半径範囲はσ_inner（内側半径範囲）およびσ_outer（外側半径範囲）によって定義される。内側および外側半径範囲は円形であってもよく、または他の形状を有していてもよい。

上述の通り、瞳面Ｐにおける放射ビームの空間強度分布（およびしたがって照明モード）は、主反射要素２２ａ−ｄの向きによって決定される。照明モードは、主反射要素２２ａ−ｄのそれぞれを選択し選択された主反射要素２２ａ−ｄを要求される通りにその第１向きまたは第２向きに動かすことによって制御される。

本例では１６の主反射要素が存在し、そのうちの４つのみが示されている（２２ａ−ｄ）。図５ａに示されているように、第１主反射要素２２ａ−ｄが第１向きを向いているとき、放射のサブビームは関連する第１箇所２４ａ−ｄに向けて反射される。図５ｂを参照すると、第１箇所２４ａ−ｄは図５ｂの上部にあるかまたは上部に近い。他の主反射要素（不図示）もまた第１向きにあり、放射のサブビームを第１箇所に導く。これらの第１箇所には図５ｂの上部にあるかまたは上部に近いものがあり、また図５ｂの下部にあるかまたは下部に近いものもある。放射のサブビームを受ける箇所は点線を使用して網掛けされている。図５ｂから、主反射要素２２ａ−ｄが第１向きにあるとき、極がｙ方向に分離されているダイポール照明モードが形成されることが分かる。

図６ａに示されているように、第１主反射要素２２ａ−ｄが第２向きを向いているとき、放射のサブビームは関連する第２箇所２４ａ’−ｄ’に向けて反射される。図６ｂを参照すると、第２箇所２４ａ’−ｄ’は図６ｂの右側にあるかまたは右側に近い。他の主反射要素（不図示）もまた第２向きにあり、放射のサブビームを第２箇所に導く。これらの第２箇所には図６ｂの右側にあるかまたは右側に近いものがあり、また図６ｂの左側にあるかまたは左側に近いものもある。放射のサブビームを受ける箇所は点線を使用して網掛けされている。図６ｂから、主反射要素２２ａ−ｄが第２向きにあるとき、極がｘ方向に分離されているダイポール照明モードが形成されることが分かる。

ｙ方向ダイポール照明モードからｘ方向ダイポール照明モードへの切り替えは、各主反射要素２２ａ−ｄを第１向きから第２向きへ動かすことにより達成される。同様に、ｘ方向ダイポール照明モードからｙ方向ダイポール照明モードへの切り替えは、各主反射要素２２ａ−ｄを第２向きから第１向きへ動かすことにより達成される。

以下でさらに説明されるように、主反射要素２２ａ−ｄのうちのいくつかを第１向きへと動かし、いくつかを第２向きへと動かすことによって、他のモードを形成することができる。各主反射要素の第１向きおよび第２向き（およびしたがって第１および第２関連箇所）は、生成されうる有益な照明モードの数を最大化するように選択されてもよい。

主反射要素を軸の周りで回転させることによって主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かしてもよい。アクチュエータを使用して主反射要素を動かしてもよい。

ひとつ以上の主反射要素は、同じ軸の周りに回転するよう駆動されてもよい。ひとつ以上の他の主反射要素は、ひとつ以上の他の軸の周りに回転するよう駆動されてもよい。

ある実施の形態では、主反射要素は、その主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かすよう構成されたアクチュエータを含む。アクチュエータは例えばモータであってもよい。第１および第２向きはエンドストップによって決められてもよい。第１エンドストップは、主反射要素が第１向きを越えて動くのを防ぐ機械装置を含む。第２エンドストップは、主反射要素が第２向きを越えて動くのを防ぐ機械装置を含む。エンドストップを含む、主反射要素のための適切なマウントが以下に説明される。

主反射要素の動きはエンドストップによって制限されるので、主反射要素の位置を監視する必要はなく（例えば、位置監視センサおよびフィードバックシステムを使用する必要はなく）、主反射要素を正確に第１向きまたは第２向きへ動かすことができる。パターニングデバイスから基板上へのパターンのリソグラフィ投影において使用されるのに十分な質を有する照明モードを主反射要素が形成するのに十分な正確さで、主反射要素を方向付けることができる。

アクチュエータに供給される駆動信号はバイナリ信号であってもよい。アクチュエータは主反射要素を第１エンドストップまたは第２エンドストップへ動かしさえすればよいので、可変アナログ電圧や可変デジタル電圧などのより複雑な信号を使用する必要はない。より複雑なシステムではなくむしろアクチュエータに対してバイナリ（２値）駆動信号を使用することにより、そうでない場合よりもシンプルな制御システムを使用することができる。

図５および図６に関連して上述された装置は、１６の主反射要素を含む。実際は、より多くの主反射要素が設けられてもよい。しかしながら、いくつかの異なる照明モードを得ることができる方法の説明を可能とするには、１６の主反射要素で十分である。以下の照明モードは１６の主反射要素を使用して得られうる：環状、ｃクアッド（c-quad）、クエーサー（quasar）、ダイポールｙおよびダイポールｘ。放射を照明システムの瞳面における３２の関連する箇所に適切に導くよう１６の主反射要素を構成することによって、これらの照明モードを形成することができる。

図７は、５つの異なる所望の照明モードを生成するよう構成された照明システム内の瞳面Ｑ１の第１象限を示す。第１象限の各セグメント２４ａ−ｄ、ａ’−ｄ’は照明箇所（すなわち、フィールドファセットミラーから放射サブビームを受ける箇所）に対応する。照明箇所は、瞳面を回る周状に（例えば周方向に沿って）環状に配列される。照明箇所の内側半径範囲はσ_innerと表記される。照明箇所の外側半径範囲はσ_outerと表記される。

各照明箇所に複数の二次反射要素が設けられてもよい。各照明箇所に、例えば１０から２０の間の二次反射要素が設けられてもよい。この場合、主反射要素の数はそれにしたがって増減する。例えば、所与の照明箇所に１０の二次反射要素が存在する場合、その照明箇所へ放射を導くよう構成された１０の主反射要素が存在する（各主反射要素は放射を異なる二次反射要素に導くよう構成される）。以下の説明では、「主反射要素」という用語が使用される場合、これは一斉に動くよう構成された複数の主反射要素を包含してもよい。

照明箇所の瞳面に亘る相対表面積は

になる。したがって、エタンデュ比Ｘ（すなわち、相対的に使用されている瞳面面積の逆数）は、

となる。

図７に示される象限Ｑ１には８の照明箇所２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’が存在する（瞳面全体では３２の照明箇所に対応する）。各照明箇所は、主反射要素によって反射された放射のサブビームによって照らされるようサイズが規定されまた形状が規定される。各主反射要素は、同じ象限の異なる部分から選択された２つの照明箇所を個々に照明するよう構成される。より具体的には、各主反射要素は、第１向きと第２向きとの間で動くことによって、同じ象限にある第１関連照明箇所または第２関連照明箇所のいずれかに放射を導き照らすよう構成される。

図７の同じ象限Ｑ１に一対の照明箇所２４ａ、ａ’（および他のもの）が提供されているが、これに限られる必要はない。例えば、第１照明箇所はひとつの象限に設けられ、その対は異なる象限に設けられてもよい。照明箇所の対に含まれる第１照明箇所と第２照明箇所との距離が増えると、放射サブビームをそれらの照明箇所に導くために主反射要素によって要求される回転量もまた増える。照明箇所の位置は、主反射要素に要求される回転量が最小化されるまたはどの主反射要素に対しても所定の最大回転量以上回転することが要求されないように選択されてもよい。照明箇所の位置は、照明モードの所望の組が得られうるような（例えば、図８に関連して後述されるような）ものであってもよい。

第１主反射要素２２ａ（図５および図６参照）は、第１向きを向いている場合に象限Ｑ１の第１関連照明箇所２４ａを照らし、第２向きを向いている場合にその象限の第２関連照明箇所２４ａ’を照らすよう構成される。第２主反射要素２２ｂは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｂを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｂ’を照らすよう構成される。第３主反射要素２２ｃは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｃを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｃ’を照らすよう構成される。第４主反射要素２２ｄは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所２４ｄを照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所２４ｄ’を照らすよう構成される。

他の象限（不図示）にも、照明箇所および関連する主反射領域についての同等な構成が適用されてもよい。

各主反射要素を所定の軸の周りで回転させることによってその主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かしてもよい。複数の主反射要素は、同じ軸の周りに回転するよう構成されてもよい。例えば、瞳面の同じ象限の隣接する照明箇所に関連する主反射要素は、同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。説明されている例では、第１および第２主反射要素２２ａ、２２ｂは第１軸ＡＡの周りで回転するよう構成され、第３および第４主反射要素２２ｃ、２２ｄは第２軸ＢＢの周りで回転するよう構成される。第１軸ＡＡはＱ１のｘ軸に対して５６．２５°をなすよう設けられ、第２軸ＢＢはＱ１のｘ軸に対して３３．７５°をなすよう設けられる。図７の面には第１および第２軸ＡＡ、ＢＢが示されているが、これは説明の容易化のみを目的とする。それらの軸は主反射要素２２ａ−ｄの面に存在するであろう。

追加的にまたは代替的に、瞳面の対向する象限において対応する照明箇所に関連する主反射要素は同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。例えば、第１象限Ｑ１に関連する主反射要素２２ａ、ｂおよび第３象限に関連する対応する主反射要素は第１軸ＡＡの周りで回転するよう構成されてもよい。同様に、第１象限Ｑ１に関連する主反射要素２２ｃ、ｄおよび第３象限に関連する対応する主反射要素は第２軸ＢＢの周りで回転するよう構成されてもよい。

第２象限に関連する主反射要素および第４象限に関連する主反射要素は第３軸（例えば、ｘ軸に対して１２３．７５°をなすよう設けられた軸）の周りで回転してもよい。加えて、第２象限に関連する主反射要素および第４象限に関連する主反射要素は第４軸（例えば、ｘ軸に対して１４６．２５°をなすよう設けられた軸）の周りで回転してもよい。これらの象限のいずれも図７に示されていない。

主反射要素は、同じ軸の周りで同じ向きまたは反対の向きに回転するよう構成されてもよい。

主反射要素が一緒に同じ軸の周りで同じ向きに回転するようグループ化されている場合、主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かすよう構成されたアクチュエータは単純化されうる。例えば、同じ軸の周りで回転するようグループ化された主反射要素に関連するアクチュエータは、それらの主反射要素を一斉に動かすよう構成されてもよい。したがって、４つの回転軸が存在する実施の形態では、４つのアクチュエータが存在する。

図８は、５つの異なる照明モードが、説明された装置を使用して（すなわち１６の主反射要素および４つの回転軸を使用して）、照明システムの瞳面においてどのように形成されうるかを示す。照明モードは以下の通りである：環状照明モード（図８ａ）、ダイポールｘ照明モード（図８ｂ）、ダイポールｙ照明モード（図８ｃ）、クエーサー照明モード（図８ｄ）、ｃクアッド照明モード（図８ｅ）。

図８ａに示されるような環状照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素２２ａ−ｄは、照明箇所２４ｂ、２４ｄ、２４ａ’、２４ｃ’（図７参照）が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図８ｂ（図６ｂも参照）に示されるようなダイポールｘ照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ｂ’、２４ａ’２４ｄ’、２４ｃ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図８ｃ（図５ｂも参照）に示されるようなダイポールｙ照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ａ、２４ｂ、２４ｃ、２４ｄが照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図８ｄに示されるようなクエーサー照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ｃ、２４ｄ、２４ｂ’、２４ａ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第２向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第１向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図８ｅに示されるようなｃクアッド照明モードを生成するために、第１象限に関連する主反射要素は、照明箇所２４ａ、２４ｂ、２４ｄ’、２４ｃ’が照らされるように方向付けられる。これは、第１主反射要素２２ａを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第２主反射要素２２ｂを第１軸ＡＡの周りで第１向きへ回転させ、第３主反射要素２２ｃを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させ、第４主反射要素２２ｄを第２軸ＢＢの周りで第２向きへ回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図８に示される照明モードの上記説明では、第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は第１象限のそれと同様に方向付けられることは言及された。以下にこれがどのようになされるかが説明される。図８から、ダイポール、クエーサーおよびｃクアッドモードはｘおよびｙ軸について対称であることが分かる。しかしながら、図８の環状モードはｘ軸、ｙ軸のいずれについても対称ではない。環状モードは（９０°またはその倍数の回転について）回転対称である。

照明モードが同じ対称性を共有しないという事実により、照明箇所の位置に対して制限が課される。その制限とは、照明箇所の各対は照明箇所の関連する対を有しており、その２つの対は象限を二等分する線ＳＳ（図７参照）について対称となっていることである。例えば、照明箇所２４ａ、ａ’の第１対は、照明箇所２４ｃ、ｃ’の第３対に関連する。これら２つの対は線ＳＳについて対称となっている。照明箇所２４ｂ、ｂ’の第２対は、照明箇所２４ｄ、ｄ’の第４対に関連する。これら２つの対もまた線ＳＳについて対称となっている。他の象限に対しても同じ制限が課される。

第２象限は第１象限の鏡像である。第３および第４象限は第１および第２象限の鏡像である。照明箇所をこのように配置することにより、図８に示される全ての照明モードを得ることが可能となる。図８ｂ−ｄに示される照明モードのいずれかが生成されるとき、各象限の対応する主反射要素の向きは同じである。図８ａの環状モードが生成されるとき、第１および第３象限の主反射要素の向きは、第２および第４象限の主反射要素に適用される向きと反対である。

主反射要素は、２つの軸の周りでの回転を許すマウンティング上に設けられてもよい。図９に、使用されてもよいマウンティング４０が示される。マウンティングを説明するのを助けるために、図９には直交座標系が示される。主反射要素２２ａはマウンティング４０に保持される。マウンティング４０は、ｘ方向に延びる２つのレバーアーム４１ａ，４１ｂと、ｙ方向に延びる２つのレバーアーム４２ａ，４２ｂと、を有する。柱部４３はｚ方向に延び、板バネを介してレバーアーム４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂの内側の端部を互いに接続する。レバーアーム４１ａ、ｂの第１対の外側の端部は第１ロッド４４によって接続され、第１ロッド４４はそれらの外側の端部の間を一定距離に保つ。レバーアーム４２ａ、ｂの第２対の外側の端部は第２ロッド４５によって接続され、第２ロッド４５はそれらの外側の端部の間を一定距離に保つ。

レバーアーム４１ａ、ｂの第１対は、主反射要素２２ａを第１軸の周りで回転させるよう構成される。エンドストップ４６ａ、ｂは、レバーアーム４１ａ、ｂの第１対の移動範囲を制限する。エンドストップ４６ａ、ｂは２つの位置を確立し、最下部のレバーアーム４１ｂはそれら２つの位置の間で動きうる。２つの位置は、高位置（Ｈ１と称される）および低位置（Ｌ１と称される）である。最下部のレバーアーム４１ｂが高位置Ｈ１にあるとき、そのレバーアームは上側エンドストップ４６ａと接触する。最下部のレバーアーム４１ｂが低位置Ｌ１にあるとき、そのレバーアームは下側エンドストップ４６ｂと接触する。

第１ロッド４４によって提供される、最上部のレバーアーム４１ａと最下部のレバーアーム４１ｂとの間の接続は、最上部および最下部のレバーアームの動きを一緒にしてリンクさせる。したがって、最上部のレバーアーム４１ａの動きはエンドストップ４６ａ、ｂによって制限される。主反射要素２２ａは最上部のレバーアーム４１ａと接続されているので、これは第１軸の周りでの主反射要素２２ａの回転がエンドストップ４６ａ、ｂによって制限されることを意味する。したがって、第１軸の周りでの主反射要素２２ａの回転は、最下部のレバーアーム４１ｂが上側エンドストップ４６ａと接触する位置および最下部のレバーアーム４１ｂが下側エンドストップ４６ｂと接触する位置へと制限される。

レバーアーム４２ａ、ｂの第２対は、主反射要素２２ａを第１軸と直交する第２軸の周りで回転させるよう構成される。エンドストップ４７ａ、ｂは、レバーアーム４２ａ、ｂの第２対の動きを制限するために使用される。レバーアームの第２対は、高位置（Ｈ２）と低位置（Ｌ２）との間を動く。したがって、第２軸の周りでの主反射要素２２ａの回転は、最下部のレバーアーム４２ｂが上側エンドストップ４７ａと接触する位置および最下部のレバーアーム４２ｂが下側エンドストップ４７ｂと接触する位置へと制限される。

レバーアーム４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂの両方の対が同じ向きに同じ量だけ動いた場合、ｘ軸の周りでの主反射要素２２ａの回転が得られる。レバーアーム４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂの対が反対の向きに同じ量だけ動いた場合、ｙ軸の周りでの主反射要素２２ａの回転が得られる。

フレキシブルロッド５０はリジッドアーム５１から延びる。リジッドアーム５１はレバーアーム４１ａ、ｂの第１対によって定義される面内にある。等価なフレキシブルロッド（符号は付されていない）はリジッドアーム（符号は付されていない）から延びる。リジッドアームはレバーアーム４２ａ、ｂの第２対によって定義される面内にある。フレキシブルロッドはマウンティングのピボット点を定めるために使用される。ピボット点はフレキシブルロッドが交差する位置に設けられる。

マウンティング４０のこの構成によると、主反射要素２２ａの４つの可能な第１向きおよび対応する４つの第２向きを得ることができる。これらは以下のようなものである。

瞳面Ｐ（図３−６参照）において照らされる箇所は、主反射要素２２ａの向きによって変わる。これにより、上述された通り、異なる照明モードを選択することが可能となる。

４つの主反射要素２２ａ−ｄのそれぞれが図９のマウンティングを使用して回転される場合、レバーアームの位置は以下の通りであってもよい。

エンドストップ４６ａ、ｂ、４７ａ、ｂ、５０の位置を調整することによって、第１主反射要素２２ａの回転軸を調整することが可能である。例えば、第１主反射要素の回転軸が図７の軸ＡＡに対応するようにエンドストップを配置してもよい。同様に、例えば、第３主反射要素２２ｃの回転軸が図７の軸ＢＢに対応するようにエンドストップを配置してもよい。

レバーアーム４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂはアクチュエータ（不図示）によって駆動されてもよい。アクチュエータは例えばモータであってもよい。各レバーアーム対４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂは異なる専用のアクチュエータによって駆動されてもよい。したがって、図７の象限Ｑ１の照明箇所２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’に関連する４つの主反射要素２２ａ−ｄを回転させるようにレバーアームを駆動するために、８つのアクチュエータが使用されてもよい。

あるいはまた、両方のレバーアーム対４１ａ、ｂ、４２ａ、ｂは単一のアクチュエータによって駆動されてもよく、この場合単一のアクチュエータは例えば順方向および逆方向動作の両方を提供するよう構成されてもよい。この場合、図７の象限Ｑ１の照明箇所２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’に関連する４つの主反射要素２２ａ−ｄを回転させるようにレバーアームを駆動するために、４つのモータが使用されてもよい。

第１主反射要素２２ａの代わりに複数の主反射要素が使用されてもよい。この場合、複数の主反射要素のそれぞれはマウンティング４０上に設けられてもよい。マウンティング４０はアクチュエータによって駆動されてもよく、そのアクチュエータは、複数の主反射要素が一斉に動くように構成されてもよい。他の主反射要素２２ｂ−ｄにも同じことが当てはまる。

アクチュエータには主反射要素を２つの位置に向けて駆動することのみが求められるので、アクチュエータをシンプルにすることが可能である。反射要素をより多くの位置へと駆動するアクチュエータはより正確な制御を要求する。アクチュエータには主反射要素を２つの位置に向けて駆動することのみが求められるので、主反射要素の向きを決定するためのセンシングシステムは不要である。さらに、反射要素の位置を制御するために、多値（アナログ）信号を使用するのではなくむしろバイナリ信号を使用することができる。

アクチュエータは例えば圧電アクチュエータ、静電アクチュエータ、バイメタルアクチュエータまたはモータであってもよい。

主反射要素を、従来一般の反射要素のアレイよりも密に配列することが可能である。これは、各主反射要素が２つの位置の間でのみで動かされるものであり、したがって他の異なる位置へと動くものであったならばそれを可能としたであろう周囲のスペース、を必要としないからである。主反射要素のこのより密な配列は、リソグラフィ装置における放射損失を低減する。これは、放射が通過してしまうような主反射要素間のスペースがより小さくなるからである。

上述の実施の形態では、放射サブビームによって照らされる照明箇所は全て同じ内側半径範囲（σ_inner）および外側半径範囲（σ_outer）を有する（例えば、それらはすべて単一のリング上に存在する）。これは例えば図７において示されており、そこでは象限Ｑ１の全ての照明箇所２４ａ−ｄ、２４ａ’−ｄ’は同じ内側および外側半径範囲と共に示されている。加えて、主反射要素の回転軸は全て象限の原点（すなわち、照明システムの光軸）を通過する。

別の実施の形態では、放射サブビームによって照らされる照明箇所は例えばディスクおよびリングとして提供されてもよい。リングはディスクに隣接して設けられる。図１０は、照明箇所のこの配置での瞳面の第１象限Ｑ１を示す。象限Ｑ１には２４の照明箇所Ａ１、Ａ２〜Ｌ１、Ｌ２が存在する（瞳面全体では９６の照明箇所となる）。１２の主反射要素Ａ〜Ｌ（不図示）は、象限Ｑ１の関連する２４の照明箇所を照らすよう構成される（４８の主反射要素が全ての照明箇所を照らすよう構成される）。

各照明箇所に複数の二次反射要素が設けられてもよい。各照明箇所に、例えば１０から２０の間の二次反射要素が設けられてもよい。この場合、主反射要素の数はそれにしたがって増減する。例えば、所与の照明箇所に１０の二次反射要素が存在する場合、その照明箇所へ放射を導くよう構成された１０の主反射要素が存在する（各主反射要素は放射を異なる二次反射要素に導くよう構成される）。本説明では、「主反射要素」という用語が使用される場合、これは一斉に動くよう構成された複数の主反射要素を包含してもよい。

照明箇所は、内側照明箇所グループと外側照明箇所グループとに分類されてもよい。内側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第１向きにあるときに照らされる。外側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第２向きにあるときに照らされる。

内側照明箇所グループは内側半径範囲σ_innerおよび外側半径範囲σ_２を有する。外側照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３を有する。

照明箇所の瞳面に亘る相対表面積は

になる。したがって、エタンデュ比Ｘ（すなわち、相対的に使用されている瞳面面積の逆数）は、

となる。

各主反射要素は、同じ象限（例えば、Ｑ１）の異なる部分から選択された２つの照明箇所を個々に照明するよう構成される。より具体的には、各第１反射要素は、第１向きと第２向きとの間で動くよう構成される。第１反射要素が第１向きを向いているとき、放射サブビームは外側照明箇所グループの第１関連照明箇所に導かれる。第１反射要素が第２向きを向いているとき、放射サブビームは内側照明箇所グループの第２関連照明箇所に導かれる（両方の箇所は同じ象限にある）。

図３および図１０を参照すると、主反射要素２２ａは第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所Ａ１を照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所Ａ２を照らすよう構成されてもよい。異なる主反射要素２２ｂは、第１向きを向いている場合に第１関連照明箇所Ｂ１を照らし、第２向きを向いている場合に第２関連照明箇所Ｂ２を照らすよう構成されてもよい。他の主反射要素も同様に構成されてもよい。

照明箇所の位置に対して制限が課される。その制限とは、照明箇所の各対は照明箇所の関連する対を有しており、その２つの対は象限を二等分する線ＳＳについて対称となっていることである。例えば、照明箇所Ａ１、Ａ２の第１対は、照明箇所Ｇ１、Ｇ２の第７対に関連する。これら２つの対は線ＳＳについて対称となっている。第２の例では、照明箇所Ｂ１、Ｂ２の第２対は、照明箇所Ｈ１、Ｈ２の第４対に関連する。これら２つの対もまた線ＳＳについて対称となっている。照明箇所の他の対に対しても同じ制限が課される。さらに、他の象限に対しても同じ制限が課される。

照明箇所および関連する主反射領域の構成は、瞳面の各象限について同じであってもよい。例えば、第２象限は第１象限の鏡像であってもよい。第３および第４象限は第１および第２象限の鏡像であってもよい。

各主反射要素を軸の周りで回転させることによってその主反射要素を第１向きと第２向きとの間で動かしてもよい。回転はエンドストップによって制限されてもよい。外側照明グループの照明箇所および内側照明グループの照明箇所を照らすために、軸は照明システムの光軸を通過しなくてもよい。

図３および図１０を参照すると、第１主反射要素２２ａは第１関連照明箇所Ａ１、Ａ２を照らし、第１軸ＡＡの周りで回転してもよい。第２主反射要素２２ｂは第２関連照明箇所Ｌ１、Ｌ２を照らし、第２軸ＢＢの周りで回転してもよい。他の主反射要素は他の軸（不図示）の周りで回転してもよい。第１象限Ｑ１には全部で１２の回転軸が存在する。第３象限の回転軸は第１象限の回転軸と平行である。第２象限には１２の回転軸が存在し、これらの回転軸は第４象限の回転軸と平行である。したがって、全部で２４の回転軸が存在する。

瞳面の対向する象限において対応する照明箇所に関連する主反射要素は同じ軸の周りで回転するよう構成されてもよい。図１０に示される例では、例えば全部で１２の回転軸が存在してもよい。これは、Ｑ１およびＱ３に亘って延びる６つの軸とＱ２およびＱ４に亘って延びる６つの軸とを含む。

主反射要素は７つの異なる照明モードを生成するために使用されてもよい。図１１に照明モードが示される。照明モードは、通常（ディスク）モード、環状モード、第２ディスクモード、ダイポールモードおよび四極モードである。

図１１ａに示されるような通常（ディスク）モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｌ１が照らされるように方向付けられる。これは、全ての主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。内側半径範囲σ_innerがゼロでなく代わりに有限値である場合、このモードは通常（ディスク）モードではなくむしろ環状モードとなるであろう。

図１１ｂに示されるような環状照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２〜Ｌ２が照らされるように方向付けられる。これは、全ての主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図１１ｃに示されるような第２ディスク照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２、Ｂ１、Ｃ２、Ｄ１、Ｅ２、Ｆ１、Ｇ２、Ｈ１、Ｉ２、Ｊ１、Ｋ２およびＬ１が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｇ、ＩおよびＫに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させ、照明箇所Ｂ、Ｄ、Ｆ、Ｈ、ＪおよびＬに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図１１ｄに示されるようなｙダイポールモード照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ２〜Ｆ２およびＧ１〜Ｌ１が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜Ｆに関連する主第１反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図１１ｅに示されるようなｘダイポール照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｆ１およびＧ２〜Ｌ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜Ｆに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図１１ｆに示されるような四極照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する第１反射要素は、照明箇所Ｄ１〜Ｉ１、Ｊ２〜Ｌ２およびＡ２〜Ｃ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ｄ〜Ｉに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｊ〜ＬおよびＡ〜Ｃに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

図１１ｇに示されるような代替的な四極照明モードを生成するために、象限Ｑ１に関連する主反射要素は、照明箇所Ａ１〜Ｃ１、Ｇ２〜Ｉ２、Ｊ１〜Ｌ１およびＤ２〜Ｆ２が照らされるように方向付けられる。これは、照明箇所Ａ〜ＣおよびＪ〜Ｌに関連する主反射要素をその軸の周りで第１向きへと回転させ、照明箇所Ｇ〜ＩおよびＤ〜Ｆに関連する主反射要素をその軸の周りで第２向きへと回転させることにより達成される。第２、第３および第４象限の照明箇所に関連する主反射要素は同様に方向付けられる。

瞳面において他の所望の照明モードを生成するために主反射要素を方向付けてもよい。

別の実施の形態では、放射サブビームによって照らされる照明箇所はディスク、第１リングおよび第２リングとして提供されてもよい。第１リングはディスクに隣接し、第２リングは第１リングに隣接してもよい。図１２は、照明箇所のこの配置での瞳面の第１象限Ｑ１を示す。象限Ｑ１には３６の照明箇所が存在する（瞳面全体では１４４の照明箇所となる）。１２の主反射要素（不図示）は、象限Ｑ１の関連する３６の二次反射要素を照らすよう構成される（４８の主反射要素が全ての照明箇所を照らすよう構成される）。

各照明箇所に複数の二次反射要素が設けられてもよい。各照明箇所に、例えば１０から２０の間の二次反射要素が設けられてもよい。この場合、主反射要素の数はそれにしたがって増減する。例えば、所与の照明箇所に１０の二次反射要素が存在する場合、その照明箇所へ放射を導くよう構成された１０の主反射要素が存在する（各主反射要素は放射を異なる二次反射要素に導くよう構成される）。以下の説明では、「主反射要素」という用語が使用される場合、これは一斉に動くよう構成された複数の主反射要素を包含してもよい。

各主反射要素は、放射を3つの異なる照明箇所に導くために、３つの異なる向きの間で可動となるよう構成される。例えば、第１主反射要素は、放射を第１照明箇所Ａ１に導く第１向きと、放射を第２照明箇所Ａ２に導く第２向きと、放射を第３照明箇所Ａ３に導く第３向きと、の間で可動となるよう構成される。他の主反射要素は同様に動作する。しかしながら、図を過度に複雑とすることを避けるために、図１２では大抵の照明箇所に符号は付されていない。

照明箇所の各トリオは照明箇所の関連するトリオを有しており、その２つのトリオは象限を二等分する線ＳＳについて対称となっている。例えば、第１トリオＡ１−３は第１２トリオＬ１−Ｌ３に関連する。このトリオの対は線ＳＳについて対称である。他のトリオは同様にして対とされる。

照明箇所および関連する主反射領域の構成は、瞳面の各象限について同じであってもよい。第２象限は第１象限の鏡像であってもよい。第３および第４象限は第１および第２象限の鏡像であってもよい。

照明箇所は、内側照明箇所グループと中間照明箇所グループと外側照明箇所グループとに分類されてもよい。内側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第１向きにあるときに照らされる。中間照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第２向きにあるときに照らされる。外側照明箇所グループの照明箇所は、関連する主反射要素が第３向きにあるときに照らされる。

内側照明箇所グループは内側半径範囲σ_innerおよび外側半径範囲σ_２を有する。中間照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３を有する。外側照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_outerを有する。

照明箇所の瞳面に亘る相対表面積は

になる。したがって、エタンデュ比Ｘ（すなわち、相対的に使用されている瞳面面積の逆数）は、

となる。

図１２に示される構成では、内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_innerはゼロである。内側照明グループの照明箇所は中心点まで延び、ディスクを形成する。他の構成では、内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_innerはゼロでない数であってもよく、この場合、内側照明グループの照明箇所はディスクではなくむしろ環を形成する。

主反射要素は３つの異なる向きの間で動く。このため、この主反射要素の向きの制御は、主反射要素が２つの異なる向きのみの間で動く場合のものよりも難しくなりうる。例えば、主反射要素は複数のミラーを有してもよく、これらのミラーは２つの異なる軸の周りで独立に回転しうるように取り付けられる。例えば、ミラーを支持する基板上に設けられたプレートに電圧を印加することによって、ミラーの向きを制御してもよい。この種のミラーやそのようなミラーを制御するために使用される制御システムは周知であり、したがってここでは詳述しない。

図１２に示される実施の形態は、図１３に示されるような種々の照明モードを生成するために使用されてもよい。主反射要素に要求される向きについては非常に長い説明となるので説明しない。図１２および図１３を組み合わせて参照することにより向きを決定してもよい。図１３に示される照明モードは以下の通りである：
異なる直径の通常（ディスク）照明モード（図１３ａ−ｃ）；
異なる内側半径範囲σ_innerおよび外側半径範囲σ_outerを有する環状照明モード（図１３ｄ−ｆ）；
異なる内側半径範囲σ_innerおよび外側半径範囲σ_outerを有するダイポール照明モード（図１３ｇ−ｊ）；
四極照明モード（図１３ｋ−ｌ）；
Ｃクアッド照明モード（図１３ｍ−ｎ）。

上述された通り、３つの異なる向きに可動な主反射要素のアレイを提供することのコストおよび複雑さは、２つのみの向きに可動な主反射要素のアレイを提供することのコストおよび複雑さよりもはるかに大きい。さらに、２つの向きに可動な主反射要素のアレイを提供することのコストは、固定された主反射要素のアレイを提供することのコストおよび複雑さよりもはるかに大きい。したがって、リソグラフィ装置のユーザは、固定された主反射要素のアレイを有するリソグラフィ装置を購入し、後にそのリソグラフィ装置を２つの向きの間で可動な主反射要素のアレイを有するものに「アップグレード」することを望む場合がある。次に、そのユーザは、リソグラフィ装置を３つの向きの間で可動な主反射要素のアレイを有するものにアップグレードすることを望むかもしれない。したがって、リソグラフィ装置のユーザがしたがうであろう「アップグレード経路」が提供されうる。

アップグレード経路の第１ポイントは、固定された主反射要素のアレイを含んでもよい。この主反射要素は、図１４に示される通常（ディスク形状）照明モードを生成するよう方向付けられる。

各照明箇所は、図１０から１３に関連して上述された各照明箇所の表面積の２倍の表面積を有する。このため、各二次反射要素は、図１０から１３に関連して説明された実施の形態で提供された二次反射要素の表面積の２倍の表面積を有してもよい。二次反射要素はより大きいので、放射を二次反射要素に導くために必要な、主反射要素が方向付けられるときの正確さは低減される。

一例では、アップグレード経路の第１ポイントにおいて、３５０の二次反射要素が使用される。これは３５０の主反射要素に対応する。

アップグレード経路の第２ポイントは、第１向きと第２向きとの間で可動な主反射要素のアレイである。これらの主反射要素は、図１１に示される種々の照明モードを形成するために使用されてもよい。可動主反射要素を使用して得られうる照明モードのひとつは、図１１ｃに示される通常（ディスク形状）照明モード（すなわち、アップグレード経路の第１ポイントの固定主反射要素によって提供されるモード）である。これは以下の理由により有利である。

図１１ｃの照明モードは、図１４に示される照明モードと同じ外側半径範囲σ_３を有する。このモードの全ての照明箇所が照らされる訳ではない。しかしながら、この照明モードは図１４の照明モードと事実上同じ性質を有する。

アップグレード経路の第２ポイントにおいて、各照明箇所は、図１４に関連して上述された各照明箇所の表面積の２分の１の表面積を有する。このため、各二次反射要素は、図１４に関連して説明された実施の形態で提供された二次反射要素の表面積の２分の１の表面積を有してもよい。二次反射要素はより小さいので、放射を二次反射要素に導くために必要な、主反射要素が方向付けられるときの正確さは増大する。

一例では、アップグレード経路の第２ポイントにおいて、７００の二次反射要素が使用される。これは３５０の主反射要素に対応する。

アップグレード経路の第３ポイントは、３つの向きの間で可動な主反射要素のアレイである。これらの主反射要素は、図１３に示される種々の照明モードを形成するために使用されてもよい。得られうる照明モードは、第１向きと第２向きとの間で可動な主反射要素のアレイを使用して得られうる照明モードを含む。これは後述の理由により有利である。

アップグレード経路の第３ポイントには、アップグレード経路の第２ポイントでは照らされなかった追加的な照明箇所が存在する。このため、追加的な二次反射要素が存在してもよい。

一例では、アップグレード経路の第３ポイントにおいて、１０５０の二次反射要素が使用される。これは３５０の主反射要素に対応する。

リソグラフィ装置のユーザにとって、種々の異なるパターン（例えば、異なるマスクに設けられた各パターン）を形成するようリソグラフィ装置を使用することは一般的である。ユーザは、特定のパターンを結像するとき、使用すべき最も良い照明モードを決定してもよい。いったんこの決定がなされると、ユーザはそのパターンを結像するときはいつでもその照明モードを使用し続けるであろう。ユーザはその照明モードの性質を変えないであろう。仮にユーザが照明モードの性質を変えたとすると、これはパターンが基板上に投影される態様を変えることとなる。照明モードの性質を変えると、例えば基板上に形成されるパターンフィーチャの厚さが変わりうる。ユーザは常に同じパターンフィーチャ厚さでパターンを形成したいと望むものであるから、これは望ましくない。

ユーザは、例えば２つの向きの間で可動な主反射要素のアレイから３つの向きへ可動な主反射要素のアレイへ（すなわち、アップグレード経路の第２ポイントからアップグレード経路の第３ポイントへ）と変えることによって、リソグラフィ装置をアップグレードすることを望むかもしれない。このアップグレードにより、ユーザは例えばより広い直径を有する照明モードを提供することによって、より小さなクリティカルディメンジョンを有するフィーチャを有する新たなパターンを投影することができる。しかしながら、新たなパターンを投影することに加えて、ユーザは、そのリソグラフィ装置を使用して過去に投影されていた（すなわちアップグレード前の）パターンを投影することを望む可能性がある。したがって、アップグレードされたリソグラフィ装置は、アップグレード前に使用されていた照明モードと同じ照明モードを提供することができる必要がある。本発明の実施の形態はこの能力を提供する。これにより、ユーザはアップグレードされた主反射要素のアレイを使用して新たなパターンを投影できるだけでなく、アップグレード前に投影されていたパターンを投影することもできる。

上記の例はアップグレード経路の第２ポイントからアップグレード経路の第３ポイントへとアップグレードすることに関するが、同じことが、アップグレード経路の第１ポイントからアップグレード経路の第２ポイントへとアップグレードする場合にも当てはまる。例えば、３つの向きに可動な主反射要素のアレイを、固定された主反射要素のアレイによって提供されていた照明モードを形成するために使用してもよい。

照明モードの内側および外側半径範囲を適切に選択することにより、アップグレード前に達成可能であった照明モードを提供する能力を失わずにリソグラフィ装置をアップグレードすることが可能となる。

中間箇所グループの内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３は、各照明箇所グループに等量の放射が提供されるように選択される。放射が瞳面において一様なエネルギ密度を有する場合、各照明箇所グループは同じ面積を有すべきである。これは以下のように表現される。

式（１）の用語をまとめる。内側照明箇所グループは内側半径範囲σ_innerおよび外側半径範囲σ_２を有する。中間照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３を有する。外側照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_outerを有する。

中間箇所グループの内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３の計算を提供するために、式（１）を再構成してもよい。

説明される実施の形態では、内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_innerはゼロであり、外側照明箇所グループの外側半径範囲σ_outerは１に規格化されている。この場合、式（２）は以下の値を与える。

上述の通り、内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_innerがゼロとなる必要はない。ゼロでない値を有することにより、中間箇所グループの内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３について異なる値が導かれるであろう。

σ_２およびσ_outをσ_inおよびσ_３で表すことが可能である。

本発明の説明された実施の形態は、１６の主反射要素または４８の主反射要素について言及したが、任意の適切な数の主反射要素が使用されてもよい。同様に、任意の適切な数の二次反射要素が使用されてもよい。アップグレード経路の第２ポイントでは、主反射要素の２倍の数の二次反射要素が存在する。アップグレード経路の第３ポイントでは、主反射要素の３倍の数の二次反射要素が存在する。

上記説明は反射型の照明システム（例えば、ＥＵＶリソグラフィ装置の一部を含む）について言及した。しかしながら、本発明の実施の形態は、屈折要素を含む照明システムに提供されてもよい。例えば、本発明の実施の形態はＤＵＶリソグラフィ装置に提供されてもよい。反射光学素子に代えてまたは加えて、屈折光学素子が照明システムの瞳面に提供されてもよい。

本発明の具体的な実施の形態が上述のように説明されたが、本発明は上述の形式以外の形式でも実施可能であると理解されたい。説明は本発明を限定することを意図するものではない。

本明細書で説明された特徴は本発明の全ての態様に適用可能であり、任意の組み合わせで使用可能である。

Claims (13)

1. 複数の反射要素を有する照明システムであって、
   前記複数の反射要素は異なる向きの間で可動であり、前記複数の反射要素は放射を瞳面の異なる箇所に導くことによって異なる照明モードを形成し、
   各反射要素は、その反射要素が放射を内側照明箇所グループの箇所に導く第１向き、その反射要素が放射を中間照明箇所グループの箇所に導く第２向き、およびその反射要素が放射を外側照明箇所グループの箇所に導く第３向きへと動くことができ、
   前記複数の反射要素は、それらが内側、中間および外側照明箇所グループへと同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成され、かつ、それらが外側照明箇所グループへ実質的に放射を導かず内側および中間照明箇所グループへと実質的に同じ量の放射を導くことができるよう方向付けられるよう構成される、照明システム。
2. 内側照明箇所グループ、中間照明箇所グループおよび外側照明箇所グループは全て同じ表面積を有する、請求項１に記載の照明システム。
3. 内側照明箇所グループは内側半径範囲σ_inおよび外側半径範囲σ_２を有し、中間照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３を有し、外側照明箇所グループは内側半径範囲σ_３および外側半径範囲σ_outを有し、それらの照明箇所グループの半径範囲は、
   

   

   および
   

   

   の関係を有する、請求項１または２に記載の照明システム。
4. 半径範囲は円形である、請求項３に記載の照明システム。
5. 内側、中間および外側照明箇所グループは環状である、請求項４に記載の照明システム。
6. 内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_inはゼロであり、他の半径範囲は円形であり、内側照明箇所グループはディスクであり、中間および外側照明箇所グループは環状である、請求項３に記載の照明システム。
7. 請求項１から６のいずれかに記載の照明システムを備えるリソグラフィ装置。
8. 照明モード間の切り替えを行う方法であって、複数の反射要素を、それらが瞳面の内側、中間および外側照明箇所グループへと同じ量の放射を導くよう方向付け、続いて前記複数の反射要素をそれらが外側照明箇所グループへ実質的に放射を導かず内側および中間照明箇所グループへと実質的に同じ量の放射を導くよう方向付けることを含む、方法。
9. 内側照明箇所グループ、中間照明箇所グループおよび外側照明箇所グループは全て同じ表面積を有する、請求項８に記載の方法。
10. 内側照明箇所グループは内側半径範囲σ_inおよび外側半径範囲σ_２を有し、中間照明箇所グループは内側半径範囲σ_２および外側半径範囲σ_３を有し、外側照明箇所グループは内側半径範囲σ_３および外側半径範囲σ_outを有し、それらの照明箇所グループの半径範囲は、
    

    

    および
    

    

    の関係を有する、請求項８または９に記載の方法。
11. 半径範囲は円形である、請求項１０に記載の照明システム。
12. 内側、中間および外側照明箇所グループは環状である、請求項１１に記載の照明システム。
13. 内側照明箇所グループの内側半径範囲σ_inはゼロであり、他の半径範囲は円形であり、内側照明箇所グループはディスクであり、中間および外側照明箇所グループは環状である、請求項１０に記載の照明システム。

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