JP2017527853A - 投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ - Google Patents
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Abstract
Description
−照明チャネルVI、VIII、III、
−照明チャネルIV、I、VII、及び
−照明チャネルV、II、IX.
従って、照明事前定義ファセット25への伝達ファセット21の割り当ては、絵画的に示す照明例の場合に物体視野8のテレセントリック照明がもたらされるようなものである。
31、32 照明極
341 最小σy広がりを有する瞳ロッド
343 最大σy広がりを有する瞳ロッド
Σx 照明極31、32の最大σx広がり
Claims (19)
- 下流の結像光学アセンブリ(10)の物体視野(8)が配置可能である照明視野をEUV光源(2)の照明光(3)で照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ(11)であって、
前記照明光(3)がその上に入射し、かつ照明ビーム経路内の瞳(29;37)を予め定められた瞳強度分布を有する該照明光(3)で照明するために前記照明視野内で少なくとも部分的に重ね合わされる照明チャネルを案内するためのファセット(21,25)を有する瞳照明ユニット(6,7)を含み、
前記瞳照明ユニット(6,7)は、該瞳照明ユニット(6,7)の複数の照明チャネルが前記物体視野(8)全体の一部(36)だけを照明するように具現化され、
前記瞳照明ユニット(6,7)の前記ファセット(21,25)は、
前記瞳照明ユニット(6,7)の個々の照明チャネルが、前記照明中に前記物体視野(8)を通して物体(12)が変位可能である物体変位方向(y)に沿って該物体視野(8)を部分的にのみ照明し、
少なくとも一部の照明チャネルに対して、前記物体変位方向(y)に沿った前記物体視野(8)の照明された部分視野の広がり(yF2)が、該物体変位方向(y)に沿った該物体視野(8)の全体広がり(y0)よりも小さいことが真であり、
前記瞳(29;37)において、前記物体変位方向(y)に対応する瞳座標(σy)の絶対値(|σy|)に依存する照明強度プロファイルがもたらされ、
前記瞳座標(σy)の第1の絶対値の場合の第1の照明された瞳領域(29a)の照明強度が、該瞳座標(σy)の第2の絶対値の場合の第2の照明された瞳領域(29b)の照明強度から少なくとも20%だけ異なる、
ように配置される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。 - 照明光(3)がその上に入射し、かつ照明ビーム経路内の瞳(29;37)を予め定められた瞳強度分布を有する該照明光(3)で照明するために照明視野内で少なくとも部分的に重ね合わされる照明チャネルを案内するためのファセット(21,25)を有する瞳照明ユニット(6,7)を含む、
下流の結像光学アセンブリ(10)の物体視野(8)が配置可能である照明視野をEUV光源(2)の前記照明光(3)で照明するための投影リソグラフィのための照明光学アセンブリ(11)であって、
前記瞳照明ユニット(6,7)は、該瞳照明ユニット(6,7)の複数の照明チャネルが前記物体視野(8)全体の一部(36)だけを照明するように具現化される、
ことを特徴とする照明光学アセンブリ(11)。 - 前記瞳照明ユニット(6,7)の前記ファセット(21,25)は、
前記瞳照明ユニット(6,7)の個々の照明チャネルが、前記照明中に前記物体視野(8)を通して物体(12)が変位可能である物体変位方向(y)に沿って該物体視野(8)を部分的にのみ照明し、
前記照明チャネルの全てに対して、前記物体変位方向(y)に沿った前記物体視野(8)の照明された部分視野の広がり(yF2)が、該物体変位方向(y)に沿った該物体視野(8)の全体広がり(y0)よりも小さいことが真であり、
前記照明チャネルのうちの複数のものに対して、前記物体変位方向(y)に沿った前記照明された部分視野の前記広がり(yF2)と前記物体視野(8)の前記全体広がり(y0)との間の個々の比(yF2/y0)が、該物体変位方向(y)に沿った該照明された部分視野の該広がりと該物体視野(8)の該全体広がりとの間の該照明チャネルの全てにわたって平均された平均比((yF2/y0)平均)から20%よりも小さく外れることが真である、
ように配置される、
ことを特徴とする請求項2に記載の照明光学アセンブリ。 - 前記瞳照明ユニット(6,7)の前記ファセット(21,25)は、
前記瞳照明ユニット(6,7)の個々の照明チャネルが、前記照明中に前記物体視野(8)を通して物体(12)が変位可能である物体変位方向(y)に沿って該物体視野(8)を部分的にのみ照明し、
少なくとも一部の照明チャネルに対して、前記物体変位方向(y)に沿った前記物体視野(8)の照明された部分視野の広がり(yF2)が、該物体変位方向(y)に沿った該物体視野(8)の全体広がり(y0)よりも小さいことが真であり、
前記瞳(29;37)において、前記物体変位方向(y)に対応する瞳座標(σy)の絶対値(|σy|)に依存する照明強度プロファイルがもたらされ、
前記瞳座標(σy)の第1の絶対値の場合の第1の照明された瞳領域(29a)の照明強度が、該瞳座標(σy)の第2の絶対値の場合の第2の照明された瞳領域(29b)の照明強度から少なくとも20%だけ異なる、
ように配置される、
ことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の照明光学アセンブリ。 - 前記瞳照明ユニット(6,7)は、
個々に傾斜可能である複数の個々のミラー(21)を含む第1のファセットミラー(6)と、
互いに横並びに配置され、かつ前記物体視野(8)への前記EUV照明光(3)のビームのうちの部分ビームの反射重ね合わせ案内のために寄与する複数の個々に傾斜可能なファセット(25)を含む更に別のファセットミラー(7)と、
を含み、
前記第1のファセットミラー(6)は、前記物体視野(8)に対して共役である視野平面に又はその近くに配置され、
前記更に別のファセットミラー(7)は、照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(30)から距離を置いて配置され、
各場合に前記更に別のファセットミラー(7)の更に別のファセット(25)を照明するための前記第1のファセットミラー(6)の前記ファセットは、仮想ファセット群(28)を形成するようにグループ分け可能である、
ことを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ。 - 前記瞳照明ユニット(6,7)は、
個々に傾斜可能である複数の個々のミラー(21)を含む第1のファセットミラー(6)と、
互いに横並びに配置され、かつ前記物体視野(8)への前記EUV照明光(3)のビームのうちの部分ビームの反射重ね合わせ案内のために寄与する複数の瞳ファセット(25)を含む瞳ファセットミラー(7)と、
を含み、
前記瞳ファセットミラー(7)は、
前記瞳ファセットミラー(7)上のそれぞれの前記瞳ファセット(25)の位置が、前記物体視野(8)の視野点に対する照明方向を予め定め、
各場合に瞳ファセット(25)を照明するための前記第1のファセットミラー(6)の前記ファセット(21)が、仮想の第1のファセット群(28)を形成するようにグループ分け可能である、
ように照明光学アセンブリ(11)の瞳平面(30)に配置される、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ。 - 前記仮想ファセット群(28)は、部分視野(35,36)を照明するように設計され、照明光学アセンブリ(11)を用いて照明される物体(12)の物体変位方向(y)の該部分視野(36)のうちの少なくとも一部の前記広がり(yF2)は、該物体変位方向(y)の該物体視野(8)全体の前記広がり(y0)よりも小さいことを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記仮想ファセット群(28)は、部分視野(35,36)を照明するように設計され、照明光学アセンブリ(11)を用いて照明される物体(12)の物体変位方向(y)のその広がり(yF1,yF2)が、20%よりも大きく異なることを特徴とする請求項7に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記瞳(29;37)内の同じ座標(σx)で前記物体変位方向(y)に対して垂直(x)に位置する該照明瞳(29)の領域を照明する前記仮想ファセット群(28)は、該物体変位方向(y)に同じ広がり(yF1;yF2)を有する部分視野(35;36)を照明するように設計されることを特徴とする請求項8に記載の照明光学アセンブリ。
- 前記物体視野(8)の異なる視野点に対して前記瞳(29;37)にわたる異なる瞳強度分布をもたらすような前記瞳照明ユニット(6,7)の配置及び設計を特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ。
- 請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ(11)内で異なる照明強度で照明される瞳領域を決定する方法であって、
物体視野(8)を照明するのに望ましい照明角度分布、すなわち、瞳(29)にわたる照明光(3)の生の強度分布を予め定める段階と、
前記生の強度分布を形成する照明される瞳領域を識別する段階と、
前記識別された瞳領域を照明するための瞳照明ユニット(6,7)のファセット(25)の実照明強度を確定する段階と、
前記実照明強度を予め定められた最大設定値照明強度と比較する段階と、
前記ファセット(25)上の前記実照明強度を低減する段階であって、それが前記設定値照明強度よりも高い前記低減する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項5から請求項10のいずれか1項に記載の前記照明光学アセンブリ(11)内で、更に別のファセットミラー(7)の更に別のファセット(25)上の前記実照明強度は、これらの更に別のファセット(25)に照明チャネルを通じて割り当てられた第1のファセットミラー(6)の第1のファセット(21)の選択によって低減され、
前記選択された第1のファセット(21)は、前記照明光(3)の実照明強度を案内し、これは、最大でも前記設定値照明強度に対応する前記第2のファセット(25)上の実照明強度に至る、
ことを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 請求項1又は請求項3から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリ内で、前記更に別のファセットミラー(7)の前記更に別のファセット(25)上の前記実照明強度は、前記物体変位方向(y)に沿った前記物体視野(8)の部分照明によって低減され、
前記物体変位方向(y)に沿った前記物体視野(8)の全体広がり(y0)に対する該物体変位方向(y)に沿った該物体視野(8)の照明された部分視野の広がり(yF2)の比(yF2)/(y0)が、該比(yF2)/(y0)が前記更に別のファセット(25)上の実照明強度による前記設定値照明強度のオーバーシュートを補償するように選択され、そのために該照明された部分視野の該広がり(yF2)の該短縮後に、最大で該設定値照明強度に対応する該更に別のファセット(25)上の該実照明強度がもたらされる、
ことを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
物体視野(8)を像視野(17)内に結像するための投影光学アセンブリ(10)と、
を含むことを特徴とする光学系。 - 請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の照明光学アセンブリと、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする照明系。 - 20%よりも大きく異なる照明光強度が第1のファセットミラー(6)上に入射することを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の照明光学アセンブリを使用する請求項15に記載の照明系。
- 請求項14に記載の光学系と、
光源(2)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 微細構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(12)を与える段階と、
照明光(3)に対して感受性であるコーティングを有するウェーハ(19)を与える段階と、
請求項17に記載の投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(12)の少なくとも1つのセクションを前記ウェーハ(19)の上に投影する段階と、
前記ウェーハ(19)上で前記照明光(3)によって露光された前記感光層を現像する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項18に記載の方法に従って生成された構成要素。
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