JP2012531055A - 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
9 物体視野
10 照明光学系
11 物体平面
13 像視野
14 像平面
Claims (33)
- 物体平面(11)の物体視野(9)を像平面(14)の像視野(13)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8)を備えた結像光学系(12;32;38;44;69;70)であって、
ミラー(M1からM6;M1からM8)のうちの少なくとも1つの反射面が、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成され、
物体視野(9)が、1よりも大きいアスペクト比(x/y)を有し、長手寸法(x)が、長手辺に沿って延び、横手寸法(y)が、短幅辺に沿って延び、
前記物体視野(9)の最小横手寸法YSmimと最大横手寸法YSmaxとの0.9よりも小さい比、
を特徴とする結像光学系。 - 物体平面(11)の物体視野(9)を像平面(14)の像視野(13)に結像する複数のミラー(M1からM6)を備えた結像光学系(69)であって、
物体視野(9)及び/又は像視野(13)が、鏡面対称視野形態から逸脱する、
ことを特徴とする結像光学系。 - 前記ミラー(M1からM6)のうちの少なくとも1つに関する反射面が、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成されることを特徴とする請求項2に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(9)は、アスペクト比を有し、
前記物体視野(9)は、1よりも大きいアスペクト比(x/y)を有し、長手寸法(x)が、長手辺に沿って延び、横手寸法(y)が、短幅辺に沿って延び、
前記ミラー(M1からM6)の前記反射面は、前記物体視野(9)の前記長手寸法(x)において奇数のべき数を有する項を有する面関数によって記述することができる、
ことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の結像光学系。 - 物体平面(11)の照明視野(9)を照明するための照明光学系(10)であって、
照明視野(9)が1よりも大きいアスペクト比を有し、かつ長手寸法(x)が長手辺に沿って延び、かつ横手寸法(y)が短幅辺に沿って延びるようなに照明光(3)を誘導する照明光学系(10)の構成要素の構成を備え、
物体視野(9)の最小横手寸法YSmimと最大横手寸法YSmaxとの0.9よりも小さい比、
を特徴とする照明光学系。 - 前記照明光(3)を誘導する照明光学系(10)の前記構成要素のうちの少なくとも1つの反射面が、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成されることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、
曲線(41;46;63)と、
前記曲線(41;46;63)に相対する長手線(40;45;64)と、
前記曲線(41;46;63)と前記長手線(40;45;64)の2つの端部を各場合に接続する2つの境界線(29,30)と、
によって境界が定められる、
ことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。 - 前記曲線(41;46;63;27;43;45)は、部分円の形態を有することを特徴とする請求項7に記載の光学系。
- 前記曲線(27,28;45,46,53,54)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項8に記載の光学系。
- 前記曲線(41;43)に相対する前記長手線(40;42)は、真っ直ぐに延びることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記曲線(27;45;53;63)に相対する前記長手線(28;46;54,64)は、湾曲に延びることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の光学系。
- 湾曲に延びる前記長手線(28;45;53;63)は、弓形に延びることを特徴とする請求項11に記載の光学系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、部分円の形態で延びることを特徴とする請求項12に記載の光学系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項13に記載の光学系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、楔形態を有することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、2つの台形の半視野(74,75)から構成されることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、狭窄部を有することを特徴とする請求項1から請求項16のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記結像光学系(12;32;38;44;69;70)は、少なくとも6つのミラー(M1からM6;M1からM8)を有することを特徴とする請求項1から請求項4又は請求項7から請求項17のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記結像光学系(38)は、厳密に8つのミラー(M1からM6;M1からM8)を有することを特徴とする請求項18に記載の光学系。
- 最大で1nm(rms値)である前記物体視野(9)内の波面誤差を特徴とする請求項1から請求項4又は請求項6から請求項19のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 反射面を備えた複数の視野ファセット(18;50)を有する視野ファセットミラー(6;49)と、
前記視野ファセットミラー(6;49)の前記視野ファセット(18;50)の結像を前記照明視野(9)において重ねるための後続光学系(7,8)と、
を特徴とする請求項5から請求項17のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 前記視野ファセット(18;33;50;56)のうちの少なくとも1つの前記反射面は、前記照明視野(9)と幾何学的に類似した方式で構成されないことを特徴とする請求項21に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセット(50)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、矩形であることを特徴とする請求項21又は請求項22に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセット(18)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、弓形であることを特徴とする請求項21又は請求項22に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセット(56)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、樽形であることを特徴とする請求項21又は請求項22に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセット(33)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、真っ直ぐに延びる長手辺(36)と弓形に延びる長手辺(37)とで構成されることを特徴とする請求項21又は請求項22に記載の照明光学系。
- 前記視野ファセットミラー(6)のベース平面(xy)上への前記視野ファセット(18)のうちの少なくとも2つの前記反射面の投影面が、以下のパラメータ:
サイズ、
形態、
向き、
のうちの少なくとも1つに関して異なることを特徴とする請求項21から請求項26のいずれか1項に記載の照明光学系。 - 請求項5から請求項27のいずれか1項に記載の照明光学系(10)と、
EUV光源(2)と、
を有することを特徴とする照明系。 - 請求項28に記載の照明系と、
物体視野(9)を像視野(13)に結像するための請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系(12;32;38;44;69;70)と、
を有することを特徴とする投影露光系。 - 前記照明光学系(10)は、該照明光学系(10)によって照明される照明視野(9)が、前記結像光学系(12;32;38;44;69;70)の物体視野(9)を完全に包含するように構成されることを特徴とする請求項29に記載の投影露光系。
- 前記照明視野(9)は、前記物体視野(9)の面積よりも最大で5%大きい面積を有することを特徴とする請求項30に記載の投影露光系。
- 微細構造化構成要素を製造する方法であって、
レチクルとウェーハを準備する段階と、
請求項29から請求項31のいずれか1項に記載の投影露光系(1)を用いて前記レチクル上の構造を前記ウェーハの感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ上に微細構造を製造する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項32に記載の方法に従って生成された微細構造化構成要素。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US21982309P | 2009-06-24 | 2009-06-24 | |
DE102009030501A DE102009030501A1 (de) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
DE102009030501.7 | 2009-06-24 | ||
US61/219,823 | 2009-06-24 | ||
PCT/EP2010/057971 WO2010149487A2 (en) | 2009-06-24 | 2010-06-08 | Imaging optical system for imaging an object field in an image field and illumination optical system for illuminating an object field |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013252435A Division JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012531055A true JP2012531055A (ja) | 2012-12-06 |
JP5485384B2 JP5485384B2 (ja) | 2014-05-07 |
Family
ID=43298912
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012516619A Active JP5485384B2 (ja) | 2009-06-24 | 2010-06-08 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
JP2013252435A Pending JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013252435A Pending JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9182578B2 (ja) |
EP (1) | EP2446313A2 (ja) |
JP (2) | JP5485384B2 (ja) |
KR (1) | KR101473536B1 (ja) |
CN (1) | CN102483516B (ja) |
DE (1) | DE102009030501A1 (ja) |
WO (1) | WO2010149487A2 (ja) |
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-
2009
- 2009-06-24 DE DE102009030501A patent/DE102009030501A1/de not_active Ceased
-
2010
- 2010-06-08 EP EP10730395A patent/EP2446313A2/en not_active Withdrawn
- 2010-06-08 WO PCT/EP2010/057971 patent/WO2010149487A2/en active Application Filing
- 2010-06-08 KR KR1020127001177A patent/KR101473536B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-08 JP JP2012516619A patent/JP5485384B2/ja active Active
- 2010-06-08 CN CN201080037247.0A patent/CN102483516B/zh active Active
-
2011
- 2011-12-15 US US13/326,516 patent/US9182578B2/en active Active
-
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- 2013-12-05 JP JP2013252435A patent/JP2014059584A/ja active Pending
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US9182578B2 (en) | 2015-11-10 |
CN102483516A (zh) | 2012-05-30 |
KR101473536B1 (ko) | 2014-12-16 |
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JP2014059584A (ja) | 2014-04-03 |
WO2010149487A2 (en) | 2010-12-29 |
WO2010149487A3 (en) | 2011-02-17 |
KR20120087876A (ko) | 2012-08-07 |
JP5485384B2 (ja) | 2014-05-07 |
DE102009030501A1 (de) | 2011-01-05 |
CN102483516B (zh) | 2015-09-30 |
EP2446313A2 (en) | 2012-05-02 |
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