KR20120087876A - 오브젝트 필드를 이미지 필드로 이미징하기 위한 이미징 광학 시스템 및 오브젝트 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템 - Google Patents

오브젝트 필드를 이미지 필드로 이미징하기 위한 이미징 광학 시스템 및 오브젝트 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템 Download PDF

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Abstract

이미징 광학 시스템은, 오브젝트 면(11)의 오브젝트 필드(9)를 이미지 면(14)의 이미지 필드(13)로 이미징하는 복수의 미러를 갖는다. 미러들 중 적어도 하나의 반사면이 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 곡면으로 구성되어 있다. 오브젝트 필드는 1 보다 더 큰 종횡비(x/y)를 갖고, 오브젝트 필드의 최소 횡 치수와 최대 횡 치수의 비율이 0.9보다 더 작다. 추가적인 양태에 있어서, 오브젝트 필드(9) 및/또는 이미지 필드(13)는 미러-대칭 필드 형상으로부터 일탈해 있다. 오브젝트 필드(9)를 조명하기 위한 조명 광학 시스템(10)은 대응하여 형성된 오브젝트 필드(9)를 조명하도록 설계되어 있는 조명 광(3)을 안내하는 구성 요소들을 갖는다. 결과는, 이미징 광학 시스템에 의해 이미징되는 필드에 걸치어, 이미징 오차의 교정에 대한 증가되는 요구들이 고려되는, 이미징 광학 시스템, 조명 광학 시스템 및 그와 함께 갖추어지는 투영 노광 시스템이다.

Description

오브젝트 필드를 이미지 필드로 이미징하기 위한 이미징 광학 시스템 및 오브젝트 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템 {IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD}
본 출원은 2009년 6월 24일에 출원된 미국 특허 가출원 번호 제61/219,823호의 우선권의 이익을 청구한다. 이러한 미국 특허 가출원 및 독일 특허 출원 제10 2009 030 501.7호의 내용이 참조로 통합되어 있다.
본 발명은, 오브젝트 필드(object field)를 이미지 필드(image field)에 이미징하기 위한 이미징 광학 시스템(imaging optical system), 오브젝트 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템, 이러한 타입의 조명 광학 시스템을 가진 조명 시스템, 이러한 타입의 조명 시스템 및 이러한 타입의 이미징 광학 시스템을 가진 투영 노광 시스템, 이러한 타입의 투영 노광 시스템을 이용하는 마이크로구조의 또는 나노구조의 부품에 대한 제조 방법 및 이러한 방법에 의해 제조된 마이크로구조의 또는 나노구조의 부품에 관한 것이다.
투영 노광 시스템에서 사용하기 위한 이미징 광학 시스템은 US 7,414,781 B2로부터 알려져 있다. 이것으로부터 그리고 또한 WO 2007/128407A로부터, 마이크로리소그래피(microlithography)용 투영 노광 시스템에서 사용하기 위한 조명 광학 시스템이 알려져 있다.
본 발명의 목적은, 이미징 광학 시스템에 의해 이미징되는 필드에 걸치어 이미징 오차의 교정에 대한 증가되는 요구가 고려되도록 된, 이미징 광학 시스템을 개발하는 것이다.
이러한 목적은, 청구항 1에 기술된 피쳐(feature)들을 가진 이미징 광학 시스템에 의한 제1 양태에 따른 본 발명에 따라 달성된다.
본 발명에 따른 이미징 광학 시스템에 있어서의 오브젝트 필드는, 개개의 이미징 오차들과 관련되는 오차 특정 값들보다 더 양호한, 특정 이미징 오차들에 대한 값들을 가진 개개의 이미징 광학 시스템을 사용하여 이미징될 수 있는 2차원 영역이다.
오브젝트 필드 면(object field plane)의 광학적으로 계산된 포인트 패턴(point pattern)들의 빔들의 포인트 패턴 사이즈는, 이미징 오차들에 대한 오차 특정 값으로서 사용될 수 있다. 오브젝트 필드내에서, 이러한 포인트 패턴 사이즈들(스폿(spot) 사이즈들)은, 오차 특정 값에 대한 일 예인, 1 x 10-4 mm의 rms(root mean square; 제곱 평균 제곱근) 값을 초과하지 않아야 한다. 스폿 사이즈에 대한 더 작은 오차 특정 값들, 예컨대, 0.7 x 10-4 mm, 0.5 x 10-4 mm, 0.4 x 10-4 mm, 0.3 x 10-4 mm, 0.2 x 10-4 mm 또는 심지어 0.15 x 10-4 mm가 또한 가능하다.
제1 양태에 따른, 작은 곡률 반경을 가진 고리 모양의 아크 필드(annular arc field)는, 자유 곡면의 동시 사용으로, 오브젝트 필드에 걸치어 이미징 오차의 특히 정밀한 교정의 가능성을 제공하는 이미징 광학 시스템으로 인도한다. 이러한 설명에 있어서, “면(face)”이라는 용어는 “표면(surface)”에 대한 동의어로서 사용된다. 아크 필드를 제한하는 2 부분 원들의 반경은, 250 mm일 수 있고 또는 심지어 더 작을 수 있다. 이미지 필드의 작은 부분 원 반경으로 인해서, 근사 회전 대칭 기준 면으로부터 약간만 일탈하는 그리고 따라서 상대적으로 용이하게 제조될 수 있는 그리고, 특히, 정밀하게 측정될 수 있는, 자유 곡면의 사용에 의한 이미징 오차 교정이 가능하다.
본 출원에서 사용되는 “종 치수(longitudinal dimension)” 및 “횡 치수(transverse dimension)”의 치수 표시는, 설명된 오브젝트 필드가 1.0과는 상이한 종횡비(aspect ratio)를 가짐으로써, 오브젝트 필드의 그에 횡단하여 가는 더 짧은 범위 및 더 긴 범위가 항상 정의될 수 있다는 사실에 따라 지향된다. 종 치수는 더 긴 범위 또는 종 측(longitudinal side)을 따라간다. 횡 치수는 협 측(narrow side)을 따라 이것을 횡단하여 간다.
제1 양태에 따라 형성된 필드는, 횡 치수 비율 때문에, 필드에 걸치어 변화하는 횡 치수를 갖고 따라서 최소의 횡 치수와 최대의 횡 치수를 갖는다. 이것은 이미징 광학 시스템의 설계에 그리고 또한 오브젝트 필드를 조명하는 조명 광학 시스템의 설계에 적합되는 필드 형상에 대해 사용될 수 있으며, 그러한 필드 형상에 있어서 특히 양호한 이미징 품질이 달성될 수 있다. 특히, 그것의 균일한 조명이 상대적으로 작은 비용으로 가능한, 필드 형상이 선택될 수 있다. 최소 횡 치수와 최대 횡 치수의 비율은, 0.85보다 더 작을 수 있고, 0.8보다 더 작을 수 있으며, 0.7보다 더 작을 수 있고, 0.6보다 더 작을 수 있으며, 0.5보다 더 작을 수 있고, 0.4보다 더 작을 수 있으며, 0.3보다 더 작을 수 있고 그리고, 예컨대, 오로지 0.2일 수 있다. 자유 곡면은, 이미징 광학 시스템에 의해 사용되는, 조명 광의 파장보다 더 많이 회전 대칭 기준 면으로부터 일탈할 수 있다. US 7,414,781 B2에서 이것에 관하여 언급된 바와 같은 것이, 회전 대칭 기준 면에 관하여 자유 곡면을 특징짓는 이러한 타입의 일탈에 적용된다.
자유 곡면은 정적인 자유 곡면, 환언하면, 액츄에이터(actuator)의 동적 효과에 의해 제공되지 않은 자유 곡면일 수 있다.
추가적인 양태에 따르면, 처음에 언급된 목적이, 청구항 2에 기술된 피쳐들을 가진 이미징 광학 시스템에 의한 본 발명에 따라 달성된다. 오브젝트 필드 및/또는 이미지 필드가 일탈하는 기준 필드 형상의 미러 대칭은, 여기서는, 개개의 필드 면에 수직하고 오브젝트 필드 및/또는 이미지 필드의 횡 치수에 나란한 대칭의 면에 관련한다. 이미징 광학 시스템이 스캐너로서 설계된 투영 노광 시스템에서 사용되는 경우에, 미러-대칭 필드 형상 및/또는 이미지 필드로부터 일탈하는 오브젝트 필드는 개개의 필드 면에 수직하고 특히 중앙의 횡 치수에 나란히 연장하는 면에 관련하여 미러-대칭이 아니다. 오브젝트 필드의 미러 대칭에 대한 요구의 해제 및 추가적인 자유도가, 이미징 광학 시스템의 반사면의 설계에 있어서, 이미징 광학 시스템의 유연성 있는 설계 및 이미지 오차 교정의 가능성으로 이끄는 특정 범위로, 자유 곡면의 사용이 이것을 위해 전적으로 필요하지는 않으면서, 이렇게 달성되었다는 것이 놀랍게도 발견되었다. 추가적으로 가능한 자유 곡면의 사용은, 이미징 광학 시스템의 이미징 특성의 추가적인 향상을 가능케 한다. 미러 대칭의 오브젝트로 인하여, 예컨대, 이러한 종 치수를 따라 단조롭게 변화하는 횡 치수를 가진, 예컨대, 증대하는 횡 치수를 가진 이미지 필드 및/또는 오브젝트 필드가 실현될 수 있음으로써, 예컨대, 협 에지(narrow edge)로부터 나아가는 이미지 필드 및/또는 오브젝트 필드가 대향하는 에지쪽으로 단조롭게 넓어진다.
광학 시스템의 설계에 관한 자유도는 청구항 3에 따른 적어도 하나의 자유 곡면을 사용하는 경우에 다시 증가된다.
그와 동일한 것이, 청구항 4에 따른 자유 곡면 서술이 사용되는 경우에, 적용된다.
본 발명의 추가적인 목적은, 상기한 양태들에 따라 형성된 오브젝트 필드의 조명이 가능한 조명 광학 시스템을 제공하는 것이다.
이러한 목적은, 청구항 5에 기술된 피쳐들을 가진 조명 광학 시스템에 의한 본 발명에 따라 달성된다.
본 발명에 따른 조명 광학 시스템의 조명 필드는, 개별적으로 관련된 조명 특정 값들보다 더 양호한 특정 조명 파라미터들의 값들로 조명되는 2차원 영역이다. 조명 강도가, 예컨대, 조명 파라미터로서 사용될 수 있다. 조명 특정 값은, 예컨대, 조명 필드내에 최대로 도달될 수 있는 조명 강도의 0.9배일 수 있다. 조명 필드는, 이미징 광학 시스템의 오브젝트 필드와 일치할 수 있다.
본 발명에 따른 조명 광학 시스템은, 변화하는 횡 치수를 가진 조명 또는 오브젝트 필드를 조명할 수 있다. 최소 횡 치수와 최대 횡 치수의 비율은, 0.85보다 더 작을 수 있고, 0.8보다 더 작을 수 있으며, 0.7보다 더 작을 수 있고, 0.6보다 더 작을 수 있으며, 0.5보다 더 작을 수 있고, 0.4보다 더 작을 수 있으며, 0.3보다 더 작을 수 있고, 그리고 0.2일 수 있다. 본 발명에 따른 조명 광학 시스템은, 필드 형성용 조명 광이 스톱 다운(stop down)되지 않고, 오브젝트 필드의 조명이 변화하는 횡 치수와 더불어 계속되도록, 설계될 수 있다.
청구항 6에 따른 조명 광학 구성 요소의 자유 곡면 설계의 장점은, 이미징 광학 시스템을 참조하여 앞서 이미 설명되었던 것들에 대응한다.
오브젝트 또는 조명 필드 형상의 하기의 변형 실시예들은, 이미징 광학 시스템 및/또는 조명 광학 시스템의 대응 설계들로 이끈다.
청구항 7에 따른 오브젝트 필드는 곡선, 대향하는 종선(longitudinal line) 및 각각의 경우에 이러한 2개의 대향하는 선들의 단부들을 연결하는 2개의 경계선에 의해 한정된다. 종선은 또한, 곡선, 직선으로 가는 선 또는 그 밖에 적어도 하나의 터닝 포인트(turning point)를 가진 그리고/또는 적어도 하나의 불연속 또는 불안정 포인트를 가진 선일 수 있다. 이미징 광학 시스템을 사용하는 투영 노광 시스템이 스캐너로서 설계된 경우에, 곡선은, 이미징될 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드내로 들어갈 시에 지나가는, 제1의 오브젝트 필드 제한선일 수 있다. 대안적으로, 곡선은, 이미징될 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드를 떠날 시에 지나가는 오브젝트 필드의 제한선일 수 있다. 오브젝트 필드에 관련하여, 곡선은 오목하거나 볼록한 식으로 굽어서 연장될 수 있다. 오브젝트 필드는, 오브젝트 필드에 수직하게 연장하는 기준 축으로부터 전체로서 굽어지는 아크 필드로서 구성될 수 있다. 이미징 광학 시스템이 회전 대칭 반사면을 가진 미러들로 설계된 경우에, 기준 축이 이미징 광학 시스템의 광학 축일 수 있다. 이미징 광학 시스템이 반사면으로서 적어도 하나의 자유 곡면을 갖는 경우에, 기준 축은, 적어도 하나의 자유 곡면에 근사한 회전 대칭 기준 면들의 회전 대칭의 축일 수 있다. 기준 축은, 이미징 광학 시스템의 반사면들의 형상의 수학적으로 단순한 설명(면 함수)이 가능한 축일 수 있다. 오브젝트 필드는 변화하는 횡 치수를 가질 수 있다. 광학 축 또는 대응하는 기준 축 주위에 굽어진, 종래 기술에서의 전형적인 아크 필드에 비교되는 이미징 광학 시스템의 설계에 대한 새로운 가능성들이 여기서 만들어진다. 오브젝트 필드는 또한 기준 축 주위에 굽어진 아크 필드로서 설계될 수 있으며, 이러한 오브젝트 필드가, 그것이 변화하는 횡 치수를 갖도록, 형성되는 것이 가능케 된다. 곡선에 대향하는 종선은, 볼록하게 연장하는 또는 그 밖에 오목하게 연장하는 선으로서 오브젝트 필드를 한정할 수 있다. 그러면, 곡선에 대향하는 종선은 기준 축으로부터 굽어질 수 있고 또는 기준 축 주위에 굽어질 수 있다.
청구항 8 내지 17에 따른 필드 형상 구성은, 이미징 오차의 교정에 관하여 그리고 그것들의 효율적인 조명에 관하여 특정한 명세를 충족하기에 유리한 것으로 증명되었다. 죄어진 부분을 가진, 환언하면 이러한 죄어진 영역에서 감소되는 횡 치수를 가진 오브젝트 필드 형상은, 놀랍게 나타내어진 바와 같이, 조명 광학 시스템으로, 특히 죄어진 부분에 대응하지 않는 필드 패싯 미러(field facet mirror)들로 조명될 수 있다. 이러한 경우에, 조명 광학 시스템내에서의 이미징 비율들로 인해 발생하는 서로에 관한 개별적인 필드 패싯들의 이미지들의 회전이, 오브젝트 필드에 대한 그것의 중첩(superimposition) 동안에 사용될 수 있다. 이미징 광학 시스템이, 스캐너로서 설계된 투영 노광 시스템에서 사용되는 경우에, 오브젝트 필드의 횡 치수는 스캐닝 방향에 나란하거나 실질적으로 나란하게 연장할 수 있다. 그러면, 오브젝트 필드의 최소 횡 치수와 최대 횡 치수 사이의 변화는, 조명되는 오브젝트 필드에 의해 스캔되는 레티클(reticle)상의 포인트의 상이한 조명 기간을, 레티클 포인트가 오브젝트 필드를 통해 오브젝트 필드의 더 작은 횡 치수의 레벨에서 스캔되는지 또는 더 큰 레벨에서 스캔되는지의 여부에 종속하여, 이끈다. 이것은 스캔 길이의 필드-종속 변화로도 불린다. 0.9보다 더 작은 오브젝트 필드의 최대 횡 치수와 최소 횡 치수의 비율은, 10 %보다 더 많은 만큼의 스캔 길이의 변화에 대응한다. 오브젝트 필드의 죄어진 부분, 환언하면 횡 치수의 최소의 영역은 스캐닝 방향에 나란히 연장하는 오브젝트 필드의 대칭의 축의 영역에 있을 수 있다.
청구항 18 및 19에 따른 미러 개수는, 한쪽으로는, 이미징 오차의 교정에 관하여 특히 유리한 타협이고, 다른 쪽으로는 이미징 광학 시스템을 통하는 조명 광의 총 쓰루풋(throughput)이다.
청구항 20에 따른 파면 오차(wavefront error)는 특히 광학 시스템 이미징을 잘 이끈다.
청구항 21 내지 26에 따른 조명 광학 시스템의 장점은, 이미징 광학 시스템에 관하여 그리고 변화하는 횡 치수를 가진 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템에 관하여 앞서 이미 기술되었던 것들에 대응한다. 청구항 22 내지 26에 따른 필드 패싯들의 반사면들의 경계들의 특정 형상들에 관하여, 개개의 특정 형상이 필드 패싯 미러의 필드 패싯 반사면들의 하나에, 일부에, 또는 전부에 적용될 수 있다. 필드 패싯들 중 적어도 하나는 오브젝트 필드에 기하학적으로 유사한 식으로 구성되지 않을 수 있다. 이것은, 예컨대, 아치형 필드 패싯들이 또한 아치형, 환언하면 기하학적으로 유사한 오브젝트 필드를 조명하는, 일반적인 조명 광학 시스템의 구성으로부터의 이탈이다. 본 발명에 따르면, 오브젝트 필드와 기하학적으로 유사한 방식으로 구성되지 않은 필드 패싯들과 관련하여, 서로 오버레이(overlay)하는 필드 패싯들을 오브젝트 필드에 이미징하는, 하기의 광학 시스템에 의해 유발되는, 필드 패싯 형상을 변경하는 이미징 효과들이 이것에 의해 완전하게 또는 부분적으로 보상될 수 있다는 것이 인식되었다. 필드 패싯 형상은, 필드 패싯의 외부 윤곽(필드 패싯 경계)이 그것의 구성에 있어서 오브젝트 필드의 외부 윤곽과 상이한 경우에, 오브젝트 필드 형상에 기하학적으로 유사하지 않다.
청구항 27에 따른 조명 광학 시스템에 있어서, 필드 패싯 에지들의 투영이 필드 패싯 미러의 일반적으로 존재하는 모판(carrier plate)의 법선의 방향에 있어서 동일하다는 것에 의한, 경계 조건이 또한 포기되었다. 일치되지 않게 형성된 투영 면들을 가능케 하는 새로운 자유도로 인해서, 오브젝트 필드상의 그것의 중첩 동안에 서로에 관하여 개별적인 필드 패싯들의 이미지들의, 이미징 비율들로 인해서 가능한, 회전의 사전-보상이 달성될 수 있다.
청구항 28에 따른 조명 시스템, 청구항 29에 따른 투영 노광 시스템, 청구항 32에 따른 제조 방법 및 청구항 33에 따른 마이크로구조의 또는 나노구조의 부품의 장점들은, 한쪽으로는, 본 발명에 따른 이미징 광학 시스템에 관하여, 그리고 다른 쪽으로는, 본 발명에 따른 조명 광학 시스템에 관하여 앞서 이미 언급되었던 것들에 대응한다. 청구항 30에 따른 투영 노광 시스템에 있어서, 오브젝트 필드의 완전한 조명이 보장된다. 청구항 31에 따른 면적 비율은 조명 광의 효율적인 활용으로 이끈다. 조명 필드는 사이즈의 관점에서 더욱 더 양호하게 적합될 수 있다. 조명 필드는, 예컨대, 오브젝트 필드보다 1 %만 더 클 수 있다. 조명 필드는, 오브젝트 필드보다 5 %보다 더 많이 더 클 수도 있다. 투영 광학 시스템으로도 불리는 투영 노광 시스템의 이미징 광학 시스템은 본 발명에 따른 이미징 광학 시스템일 수 있다.
본 발명의 실시예들은 도면들의 조력으로 하기에서 더욱 상세히 설명될 것이다.
도 1은 EUV 마이크로리소그래피용 투영 노광 시스템, 섹션으로 나타낸 조명 광학 시스템 및 고도로 개략적으로 나타낸 투영 광학 시스템을 개략적으로 나타낸다.
도 2는 도 1에 따른 조명 광학 시스템의 필드 패싯 미러의 평면도를 나타낸다.
도 3은 도 1에 따른 조명 광학 시스템의 필드 패싯 미러의 추가적인 구성의 평면도를 나타낸다.
도 4는 도 1에 따른 투영 노광 시스템의 투영 광학 시스템의 구성을 통해 서로 이격되는 필드 포인트들의 이미징 빔 경로들을 포함하는 섹션을 나타낸다.
도 5는 도 1에 따른 조명 광학 시스템에 의해 조명될 수 있는 그리고 도 4에 따른 투영 광학 시스템에 의해 이미징될 수 있는 오브젝트 필드의 평면도를 나타낸다.
도 6은, 도 4와 유사한 관점에서, 도 5의 그것과 유사한 오브젝트 필드를 이미징하기 위한 투영 광학 시스템의 추가적인 구성을 나타낸다.
도 7은, 도 2 및 3에 비해 고도로 확대된, 조명 광학 시스템의 필드 패싯 미러의 추가적인 구성의 패싯 블록의 세부를 또한 평면도로 나타낸다.
도 8은, 도 4와 유사한 관점에서, 도 7에 따른 구성에서의 필드 패싯들로 조명될 수 있는 오브젝트 필드를 이미징하기 위한 투영 광학 시스템의 추가적인 구성을 나타낸다.
도 9는, 도 5와 유사한 관점에서, 도 8에 따른 투영 광학 시스템에 의해 이미징될 수 있는 오브젝트 필드의 필드 형상을 나타낸다.
도 10은 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 9에 따른 오브젝트 필드를 포함하는 이미지 필드에 걸치어 스폿 사이즈(rms 값)의 형태로 도 8에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 그래프를 나타낸다.
도 11은, 도 9와 유사한 관점에서, 도 8에 따른 투영 광학 시스템의 변화로 이미징될 수 있는 오브젝트 필드의 추가적인 필드 형상을 나타낸다.
도 12는 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 11에 따른 오브젝트 필드를 포함하는 이미지 필드에 걸치어 스폿 사이즈(rms 값)의 형태로 도 8에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 도 10과 유사한 그래프를 나타낸다.
도 13은, 도 4와 유사한 관점에서, 투영 광학 시스템의 추가적인 구성을 나타낸다.
도 14는, 도 5와 유사한 관점에서, 도 13에 따른 투영 광학 시스템에 의해 이미징될 수 있는 오브젝트 필드의 필드 형상을 나타낸다.
도 15는 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 14에 따른 오브젝트 필드를 포함하는 이미지 필드에 걸치어 스폿 사이즈(rms 값)의 형태로 도 13에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 그래프를 나타낸다.
도 16은 도 2 및 3에 따른 필드 패싯 미러들을 사용하는 조명 광학 시스템으로 조명될 수 있는 추가적인 필드 형상의 개략도로, 오브젝트 필드에 있어서, 도 2 및 3의 것들의 식으로 필드 패싯들상에 배열되는 기준 포인트들의 이미징들의 중첩을 그래프로 나타낸다.
도 17은 도 1에 따른 조명 광학 시스템의 필드 패싯 미러의 추가적인 구성의 평면도를 나타낸다.
도 18은, 도 17에 따른 필드 패싯 미러들을 사용하는 조명 광학 시스템으로 조명될 수 있는 추가적인 필드 형상의 개략도로, 오브젝트 필드에 있어서, 도 7의 것들의 식으로 필드 패싯들상에 배열되는 기준 포인트들의 이미징들의 중첩의 그래프를 나타낸다.
도 19는, 도 5와 유사한 관점에서, 도 13에 따른 투영 광학 시스템의 변화로 이미징될 수 있는 도 18과 유사한 오브젝트 필드 형상을 나타낸다.
도 20은, 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 19에 따른 오브젝트 필드를 포함하는, 도 13에 따른 투영 렌즈 시스템의 그 변화에 대해서, 이미지 필드에 걸치어 도 13에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 그래프를 나타낸다.
도 21은, 도 2 및 3에 비해 고도로 확대된, 조명 광학 시스템의 필드 패싯 미러의 추가적인 구성의 패싯 블록의 세부를 또한 평면도로서 나타낸다 - 이러한 필드 패싯 구성은 도 13에 따른 투영 광학 시스템의 추가적인 변화로 이미징될 수 있는 오브젝트 필드 형상에 적합함 -.
도 22는, 도 9와 유사한 관점에서, 도 21에 따른 필드 패싯으로 조명될 수 있는 오브젝트 필드 형상을 나타낸다.
도 23은 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 22에 따른 오브젝트 필드를 포함하는, 도 13에 따른 투영 렌즈 시스템의 그 변화, 또는 이미지 필드에 걸치어 도 13에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 그래프를 나타낸다.
도 24는 도 17에 따른 필드 패싯 미러들을 사용하는 조명 광학 시스템에 의해 조명될 수 있는 추가적인 필드 형상의 개략도로, 오브젝트 필드에 있어서, 도 17의 것들의 식으로 필드 패싯들상에 배열되는 기준 포인트들의 이미징들의 중첩의 그래프를 나타낸다.
도 25는, 도 4와 유사한 관점에서, 도 24에 따른 오브젝트 필드 형상이 이미징될 수 있는, 투영 광학 시스템의 추가적인 구성을 나타낸다.
도 26은, 도 9와 유사한 관점에서, 도 25에 따른 투영 광학 시스템에 의해 이미징될 수 있는 도 24와 유사한 오브젝트 필드 형상을 나타낸다.
도 27은 투영 광학 시스템에 의해 이미징되는 도 26에 따른 오브젝트 필드를 포함하는, 도 25에 따른 투영 렌즈 시스템의 그 변화에 대해, 이미지 필드에 걸치어 도 25에 따른 투영 광학 시스템의 이미징 품질을 재현하는 그래프를 나타낸다.
도 28은, 도 4와 유사한 관점에서, 추가적인 오브젝트 필드 형상이 이미징될 수 있는 투영 광학 시스템의 추가적인 구성을 나타낸다.
도 29는, 도 9와 유사한 관점에서, 도 28에 따른 투영 광학 시스템의 구성으로 이미징될 수 있는 오브젝트 필드 형상을 나타낸다.
도 30은 도 29에 따른 오브젝트 필드 형상의 2분의 1의, 이러한 오브젝트 필드 절반에 걸치어 있는 텔레센트리시티(telecentricity) 값 분포가 있는, 그래프를 나타낸다.
도 31은 도 29에 따른 오브젝트 필드 형상의 2분의 1의, 이러한 오브젝트 필드 절반에 걸치어 있는 왜곡 값 분포가 있는, 그래프를 나타낸다.
도 32는 도 29에 따른 오브젝트 필드 형상의 2분의 1의, 이러한 오브젝트 필드 절반에 걸치어 있는 파면 값 분포가 있는, 그래프를 나타낸다.
도 1은 EUV 마이크로리소그래피용 투영 노광 시스템(1)을 개략적으로 나타낸다. EUV 방사원(radiation source)이 광원(2)으로서 사용된다. 이러한 경우에 있어서, 이것은 LPP(Laser Produced Plasma) 방사원 또는 DPP(Discharge Produced Plasma) 방사원일 수 있다. 신코트론(synchotron) 또는 자유 전자 레이저(free electron laser; “FEL”)가 또한 가능성 있는 광원이다. 광원(2)은 5 nm와 30 nm 사이의 범위의 파장을 가진 EUV 유용한 방사(3)를 방출한다. 유용한 방사(3)는 또한 하기의 지정된 조명 또는 이미징 광일 것이다.
광원에 의해 방출되는 조명 광(3)은 컬렉터(collector)(4)에 의해 먼저 컬렉팅된다. 광원(2)의 타입에 따라, 이것은 타원형 미러 또는 네스트화된(nested) 컬렉터일 수 있다. 컬렉터(4)의 후에, 조명 광(3)이 중간 초점 면(3)을 통과하고, 그 다음에 필드 패싯 미러(6)에 충돌한다. 필드 패싯 미러(6)의 실시예들이 하기에서 상세히 설명될 것이다. 필드 패싯 미러(6)로부터, 조명 광(3)이 동공 패싯 미러(7)쪽으로 반사된다. 조명 광 다발은, 한쪽으로는 필드 패싯 미러(6)의, 그리고 다른 쪽으로는 동공 패싯 미러(7)의 패싯들에 의해 복수의 조명 채널들로 분할된다 - 필드 패싯 또는 동공 패싯을 가진 정확히 하나의 패싯 쌍이 각각의 조명 채널과 관련됨 -.
동공 패싯 미러(7)의 하류에 배열된 하기의 광학 시스템(8)은 조명 광(3), 환언하면, 모든 조명 채널의 광을 오브젝트 필드(9)쪽으로 안내한다. 필드 패싯 미러(6), 동공 패싯 미러(7) 및 하기의 광학 시스템(8)은, 오브젝트 필드(9)와 일치하고 따라서 하기에서 오브젝트 필드로도 불릴, 조명 필드를 조명하기 위한 조명 광학 시스템(10)의 구성 요소이다. 오브젝트 필드(9)는 조명 광학 시스템(10)의 하류에 배열되는 투영 노광 시스템(1)의 투영 광학 시스템(12)의 오브젝트 면(11)에 놓인다. 오브젝트 필드(9)의 형상은, 한쪽으로는 후술되는 조명 광학 시스템(10)의, 그리고 다른 쪽으로는 투영 광학 시스템(12)의 구성에 좌우된다. 글로벌 데카르트 xyz-좌표계(global Cartesian xyz-coordinate system)가 도 1에 따른 전체의 투영 노광 시스템(1)에 대해 사용되고, 로컬 데카르트 xyz-좌표계가 도 2(이하의 페이지)에서 투영 노광 시스템(1)의 개별적인 구성 요소들에 대해 사용된다. 도면에 도시되지 않은 레티클상의, 환언하면 투영될 마스크상의 오브젝트 필드(9)에 배열되는 구조는, 축척에 의해 감소된 투영 광학 시스템(12)에 의해, 이미지 면(image plane)(14)의 이미지 필드(image field)(13)에 이미징된다. 투영 광학 시스템(12)의 축척은 4x이다. 다른 축척, 예컨대, 5x, 6x, 8x 또는 10x도 가능하다. 도면에 또한 도시되어 있지 않은 웨이퍼가 이미지 필드(13)의 사이트(site)에 배열되어 있고, 그 웨이퍼상으로 레티클의 구조가 전사되어 마이크로구조의 또는 나노구조의 부품, 예컨대, 반도체 칩을 생성한다.
동공 패싯 미러(7)와 오브젝트 필드(9) 사이의 하기의 광학 시스템(8)은 3개의 추가적인 EUV 미러들(15, 16, 17)을 갖는다. 오브젝트 필드(9) 전의 최종 EUV 미러(17)는 그레이징 입사 미러(grazing incidence mirror)로서 구성되어 있다. 조명 광학 시스템(10)의 대안적인 실시예들에 있어서, 하기의 광학 시스템(8)은 또한 더 많은 또는 더 적은 미러들을 갖거나 완전히 고르게 분배될 수 있다. 후자의 경우에, 조명 광(3)은 동공 패싯 미러(7)로부터 직접 오브젝트 필드(9)로 안내된다.
위치적 관계의 예시를 촉진하기 위해, xyz-좌표계가 하기에서 사용된다. 도 1에 있어서, x-방향은 도면의 평면에 수직하게 그리고 그것내로 연장한다. 도 1에서 y-방향은 우측으로 연장하고 z-방향은 도 1에서 아래쪽으로 간다. 로컬 데카르트 좌표계가 도 2(이하의 페이지)에서 사용되므로, 후자는 각각의 경우에 있어서 도시된 구성 요소의 반사면에 걸친다. x-방향은 그러면 각각의 경우에 있어서 도 1에서의 x-방향에 나란하다. 개별적인 반사면의 y-방향 대 도 1에서의 y-방향의 각도 관계는 개개의 반사면의 방위에 좌우된다.
도 2는 필드 패싯 미러(6)를 보다 상세하게 나타낸다. 도 2에 따른 필드 패싯 미러(6)는 굽어진 필드 패싯(18)을 가진 필드 패싯 배열을 갖는다. 이러한 필드 패싯들(18)은 도 2에서 좌측으로부터 우측으로 연속적으로 번호가 매겨져 있는, 총 5개의 컬럼(column)(S1, S2, S3, S4 및 S5)으로 배열되어 있다. 복수의 필드 패싯 그룹(19)은, 필드 패싯 블록으로도 불리는, 5개의 컬럼(S1 내지 S5)의 각각에 존재한다. 필드 패싯들(18)의 배열은, 필드 패싯 미러(6)의, 도 2에서 원 형상으로 도시된 모판(carrier plate)(20)에 의해 실려진다. 필드 패싯 배열은 모판(20)의 원 경계에 내접되어 있다. 모판(20)에 대한 법선은 xy-평면에 수직하게 연장한다. 조명 광(3)의 원거리 필드(far field)의 에징(edging)은 이러한 원 경계와 일치한다. 도 2에 따른 필드 패싯 미러(6)의 아치형 필드 패싯(18)은 모두 동일 면적 및 x-방향의 폭과 y-방향의 높이의 동일 비율을 갖는다, 환언하면, 그것들은 모두 동일한 x-y 종횡비를 갖는다.
도 3은 투영 노광 시스템(1)에 있어서 도 2에 따른 필드 패싯 미러(6) 대신에 사용되는 필드 패싯 미러(6)의 추가적인 구성을 나타낸다. 도 3에 따른 필드 패싯 미러(6)는 도 3에서 좌측에서 우측으로 연속적으로 번호가 매겨진 컬럼들(S1, S2, S3, S4)로 배열되어 있는 총 4개의 개별적인 필드 패싯들(18)을 갖는다. 2개의 중앙의 컬럼들(S2, S3)은, y-방향으로 연장하고 일정한 x-범위를 갖는, 설치 공간(21)에 의해 서로 분리되어 있다. 설치 공간(21)은 결국, 광원(2)의 그리고 컬렉터(4)의 대응 구조에 의해 구조적으로 유발되는 조명 광 다발의 원거리 필드 셰도잉(shadowing)에 대응한다. 4개의 패싯 컬럼(S1 내지 S4)은 각각의 경우에 있어서, 모든 4개의 패싯 컬럼(S1 내지 S4)이 조명 광(3)의 원형으로 한정되는 원거리 필드(22)내에 놓이는 것을 보장하는, y-범위를 갖는다. 필드 패싯(18)용 모판(20)의 에지는 원거리 필드(22)의 에징과 일치한다.
필드 패싯들(18)은 xy-평면상으로의 투영에 관련하여, 환언하면, 도 6에 따른 필드 패싯 미러로 조명될 수 있는 오브젝트 필드(9)의 형상과 유사할 수 있는, 필드 패싯 미러(6)의 주 반사면과 관련하여, 상호 조화하는 아크 또는 부분 링 형상을 갖는다.
오브젝트 필드(9)(또한 도 5를 참조)는 13/1의 x/y-종횡비를 갖는다. 필드 패싯들(18)의 x/y 종횡비는 13/1보다 더 클 수 있다. 구성에 따라, 필드 패싯들(18)의 x/y 종횡비는, 예컨대, 26/1이고 일반적으로 20/1보다 더 크다.
전체로, 도 3에 따른 필드 패싯 미러는 416개의 필드 패싯들(18)을 갖는다. 예컨대, 도 2에 따른 필드 패싯 미러(6)와 같은, 이러한 타입의 필드 패싯 미러들(6)의 대안적인 구성들은 수십 내지, 예컨대, 천 사이의 범위의 필드 패싯들(18)의 개수를 가질 수 있다.
도 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯들(18)은 약 3.4 mm의 y-방향에 있어서의 범위를 갖는다. y-방향에 있어서의 필드 패싯들(18)의 범위는, 특히, 2 mm보다 더 크다. 필드 패싯들(18) 중 몇몇은 더 큰 x-범위를 갖고, 도면에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯들(18) 중 몇몇은 더 작은 x-범위를 갖도록, x-방향에 있어서의 필드 패싯들(18)의 범위가 변화한다. 도 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯들(18)은 따라서, 그것들의 사이즈에 관하여, 그리고 개별적인 필드 패싯 쌍들이 z-축에 나란한 축에 관하여 회전에 의해 서로 전사될 수 있는 경우에, 그것들의 방위에 관하여, 필드 패싯 미러의 xy-베이스 면상으로의 그것들의 투영에 관하여 상이하다.
필드 패싯 미러(6)의 베이스 면, 환언하면 또한 xy-평면상으로의 적어도 2개의 필드 패싯들(18)의 반사면들의 투영 면들은, 그것들의 x-방향을 따르는, 그것들이 이동할 수 있는 아크 각에 관하여 변화하는 범위로 인해서 또한 상이하다. 다르게 설명하면, 도 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯(18) 모두가 그것들의 아크 곡률의 동일한 방위각의 범위를 갖는 것은 아니다.
xy-베이스 평면상으로의 적어도 2개의 필드 패싯들(18)의 반사면들의 투영들이 그것들의 형상에 관하여 상이한, 필드 패싯 미러(6)의 구성이 또한 가능하다. 따라서, 예컨대, 상이한 y-범위를 가진 필드 패싯들(18)이 사용될 수 있다.
도 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 모든 416개의 필드 패싯들(18)의 전체가 73 %의 패킹 밀도(packing density)를 갖는다. 패킹 밀도는, 모판(21)상에 조명되는 총 면적에 관한 모든 필드 패싯들(18)의 면적의 합으로서 정의된다.
도 4는, 이미지 필드(13)와 오브젝트 필드(9)의 중앙들을 포함하고 개개의 오브젝트 필드의 협 측들에 나란히 연장하는, 투영 광학 시스템(12)의 제1 구성의 광학 설계를 섹션으로 나타낸다. 도 1에 관하여 앞서 이미 설명되었던 것들에 대응하는 구성 요소들은 동일한 참조 번호들을 갖고 상세하게 다시 논의되지 않을 것이다.
빔 경로는, 도 4에 있어서 하나 위에 하나가 위치되는 5개의 오브젝트 필드 포인트들로부터 진행하고 y-방향으로 서로 이격되는 3개의 개개의 개별적인 빔들(23)로 나타내어져 있고, 이러한 5개의 오브젝트 필드 포인트들 중 하나에 속하는 3개의 개별적인 빔들(23)은, 각각의 경우에, 5개의 오브젝트 필드 포인트들에 대한 3개의 상이한 조명 방향들과 관련된다.
9개의 오브젝트 필드 포인트들 중 하나에 속하는 이러한 3개의 개별적인 빔들(23)은 각각의 경우에, 상위 및 하위의 코마 빔(coma beam)과 참조 번호 24로 도 4에 또한 지정되어 있는 메인 빔(main beam)이다.
오브젝트 면(11)으로부터 나아가서, 개별적인 빔들(23)은 먼저 제1 미러(M1)에 의해 반사되고 그 다음에 추가적인 미러들(M2 내지 M6)에 의해 반사된다. 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)은 따라서 6개의 반사 미러들을 갖는다. 미러들(M1 내지 M6)은 따라서, 오브젝트 필드(9)와 이미지 필드(13) 사이에 이미징 빔 경로에 있어서의 그것들의 순서에 따라 연속하여 번호가 매겨져 있다. 도 4는 미러들(M1 내지 M6) 중 계산된 반사면들만을 나타낸다. 미러들(M1 내지 M6)의 기판 및 캐리어 구성요소는 도시되지 않았다. 이러한 미러들은, 이것이, 예컨대, EUV에 있어서의, 파장에 기초하여 필요한 것이라면, 조명 광의 파장에 대하 고도의 반사성 코팅을 수반한다. 조명 광학 시스템(10) 및 투영 광학 시스템(12)에 있어서, 서로 매우 상이한 파장을 가진 방사들이, 이러한 광학 시스템들이 실질적으로 무색의 특성들을 가지므로, 또한 안내될 수 있다. 따라서, 예컨대, 이러한 광학 시스템들(10, 12)에 있어서의 조정 레이저(adjusting laser)를 안내하는 것, 또는 조명 광에 대해서 동시에 협력하는 그것의 작업 파장(working wavelength)과는 매우 상이한 파장을 가진 오토-포커싱(auto-focussing) 시스템을 동작시키는 것이 가능하다. 따라서, 조정 레이저는 632.8 nm에서, 248 nm에서 또는 193 nm에서 동작할 수 있고, 동시에 5와 30 nm 사이의 범위에 있어서의 조명 광이 협력한다.
미러들(M2, M3 및 M5)은 볼록한 기본 형상을 갖는다, 환언하면, 볼록 최적합 면에 의해 나타내어질 수 있다. 미러들(M2)의 곡률 반경은, 후자가, 도 4에 따른 관점에 있어서 평면 미러로서 실제적으로 나타나도록 크다. 미러들(M1, M4 및 M6)은 오목한 기본 형상을 갖는다, 환언하면 오목 최적합 면에 의해 나타내어질 수 있다. 하기의 설명에 있어서, 이러한 타입의 미러들은 단지 볼록 또는 오목과 같은 간략화된 방식으로 지정될 것이다. 오목한 미러(M3)는 투영 광학 시스템(12)에 있어서의 이미지 필드 곡률의 양호한 교정을 보장한다.
투영 광학 시스템(12)의 6개의 미러(M1 내지 M6) 모두는, 회전 대칭 함수에 의해 설명될 수 없는 자유 곡면으로서 구성되어 있다. 미러들(M1 내지 M6) 중 적어도 하나가 이러한 타입의 자유 반사 곡면을 갖는, 투영 광학 시스템(12)의 다른 구성들이 또한 가능하다.
이러한 타입의 자유 곡면의 생성은 EP 1 950 594 A1에 기술되어 있다.
자유 곡면은 하기의 식에 의해 수학적으로 설명될 수 있다:
Figure pct00001
여기서:
Figure pct00002
Z는 자유 곡면의 시상 높이(arrow height)이다. r2 = x2 + y2가 적용된다.
c는 대응 비구면체(asphere)의 정점 곡률(vertex curvature)에 대응하는 상수이다. k는 대응하는 비구면체의 원추 상수에 대응한다. Cj는 단항식 XmYn의 계수이다. 일반적으로, c, k 및 Cj의 값들은 투영 광학 시스템(12)내의 미러의 요구되는 광학 특성에 기초하여 결정된다. 단항식의 차수, m + n은 요구에 따라 변화될 수 있다. 더 높은 차수의 단항식은, 더 양호한 이미지 오차 교정을 가진 투영 광학 시스템의 설계로 이끌 수 있지만, 계산하기에 더 복잡하다. m + n은 3과 20보다 더 많은 수 사이의 값을 채택할 수 있다.
자유 곡면들은, 예컨대, 광학 설계 프로그램 CODE V?의 설명서에 설명되어 있는, 제르니케 다항식(Zernike polynomial)에 의해 수학적으로 또한 기술될 수 있다. 대안적으로, 자유-곡면들은 2차원 스플라인(spline) 표면들의 조력으로 기술될 수 있다. 이것의 예들은, 베지에 곡선(Bezier curve) 또는 비-균일 회전 기초 스플라인(non-uniform rational basis splines; “NURBS”)이다. 2차원 스플라인 표면들은, 예컨대, xy-평면에서의 포인트들의 네트워크 및 관련 z-값들에 의해 또는 이러한 포인트들 및 그것들과 관련된 피치(pitch)들에 의해 기술될 수 있다. 스플라인 표면의 개개의 타입에 따라서, 완전한 표면이, 예컨대, 그것들의 연속성 및 미분 가능성에 관하여 특정 특성들을 갖는, 다항식 또는 함수를 이용하여 네트워크 포인트들간의 보간(interpolation)에 의해 획득된다. 이것의 예들은 해석 함수들이다.
오브젝트 필드 포인트들로부터 진행하는 개별적인 빔들 - 이러한 오브젝트 필드 포인트들로부터 진행하는 메인 빔들(24)에 관하여 각각의 경우에 있어서 동일한 조명 각도와 관련됨 - 이 교차하는, 투영 광학 시스템(12)의 빔 경로에 있어서의 영역이 동공(pupil)으로서 지정된다. 개별적인 빔들(23)의 이러한 교차 포인트들이 위치되는 또는 이러한 교차 포인트들의 공간적인 분포에 최근접한, 절대적으로 평면상에 정확히 놓여야하는 것은 아닌 평면이 동공 면(pupil plane)으로 불릴 수 있다.
이격된 오브젝트 필드 포인트들로부터 진행하는 그리고 동일한 조명 방향과 관련되는 이러한 개별적인 빔들(23)은 오브젝트 면(11)와 제1 미러(M1) 사이에서 투영 광학 시스템(12)내로 발산적으로 간다. 이것은, 하기의 투영 광학 시스템(12)의 입사동(entry pupil)의 네거티브 후 초점(negative back focus)으로도 불릴 것이다. 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 입사동은 투영 광학 시스템(12)내에 놓이지 않고, 오브젝트 필드(9)의 전방의 빔 경로에 놓인다. 이것은, 예컨대, 조명 광학 시스템(10)의 동공 구성 요소, 환언하면, 예컨대, 동공 패싯 미러(7)를, 추가적인 이미징 광학 구성 요소들이 이러한 동공 구성 요소 및 오브젝트 면(11) 사이에 존재해야하지 않으면서, 투영 광학 시스템(12)의 전방의 빔 경로에, 투영 광학 시스템(12)의 입사동에 배열할 수 있게 한다. 이러한 경우에, 조명 광학 시스템(10)에서 후속하는 광학 시스템(8)을 필요 없게 한다.
이것에 대한 대안으로서, 투영 광학 시스템(12)의 입사동의 포지티브 후 초점(positive back focus)이 또한 가능하다, 또는 추가적인 대안으로서, 투영 광학 시스템(12)의 오브젝트-측 텔레센트릭(telecentric) 빔 경로가 또한 가능하다.
9개의 오브젝트 필드 포인트들의 특정 조명 방향에 속하는 개별적인 빔들(23)은, 미러들(M2 및 M3)사이에서 투영 광학 시스템(12)의 동공 면(25)에서 교차한다. 동공 면(25)이 기계적으로 접근될 수 있어서, 애퍼쳐 조리개(aperture stop)가, 오브젝트 필드(9)와 이미지 필드(13) 사이에서 조명 광(3)의 다른 빔 경로를 셰도잉하거나 방해하지 않고, 거기에 배열될 수 있다.
미러들(M1 내지 M4)은 오브젝트 필드(9)를, 미러들(M4 및 M5) 사이에 배열된 중간의 이미지 면(intermediate image plane)(26)에 이미징한다.
미러(M6)와 함께, 중간의 이미지 면(26)으로부터의 조명 또는 이미징 광(3)을 이미지 필드(13)로 이미징하는 미러(M5)가, 투영 광학 시스템(12)의, 동공 면(25)과 결합된, 추가적인 동공 면에 가까이 배열된다. 이러한 추가적인 동공 면은, 미러(M5)와 미러(M6) 사이에 이미징 광(3)의 빔 경로에 위치된다.
도 5는, 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 오브젝트 필드(9)의 평면도를 확대된 방식으로 나타낸다. 관련된 이미지 필드(13)는, 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 축척만큼 감소되었다는 사실에 관계없이, 정확히 동일한 형상을 갖는다. 오브젝트 필드(9)는 간격 YS(스캔 슬롯 길이)만큼 y-방향으로 서로 나란히 변위되어 있는, 2개의 부분 원(27, 28)에 의해 한정되는 아크 필드의 형상을 갖는다. 2개의 부분 원 중 안쪽의 것, 원(27)은 반경 R을 갖는다. 오브젝트 필드(9)에 있어서, 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 제1 구성에 있어서의 반경 R은 400 mm이다. 축척에 따른 투영 광학 시스템(12)에 있어서의 이미지 필드(13)의 대응 반경 R은 100 mm이다.
y-방향을 따르는 이미지 필드(13) 또는 오브젝트 필드(9)의 범위가 또한, 이미지 필드(13)의 또는 오브젝트 필드(9)의 횡 치수로 불린다.
오브젝트 필드(9)는, 각각의 경우에 부분 원들(27, 28)의 2 단부들을 연결하는 2개의 경계선(29, 30) 및 xy-평면에 대해 수직한 오브젝트 필드(9)의 대칭의 미러 평면(31)에 나란한 범위에 의해 또한 한정된다. 2개의 경계선(29, 30)은 서로에 관하여 간격 XS, 소위 스캔 슬롯 폭을 갖는다.
도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 설계 데이터는 하기의 표들로부터 추론될 수 있다. 이러한 표들 중 제1의 표는, 광학 구성 요소들에 대해서 그리고 애퍼쳐 조리개에 대해서, 각각의 경우에, 정점 곡률의 역수 값(반경) 및 오브젝트 면(11)으로부터 진행하는, 빔 경로에 있어서의 인접한 요소들의 z-간격에 대응하는 간격치(두께)을 준다. 제2의 표는 미러들(M1 내지 M6)에 대하서 앞서 주어진 자유 곡면 방정식에 있어서의 단항식 XmYn의 계수 Cj를 준다.
N-반경은, 다음과 같이 면적 기술에 대해서 앞서 도입된 식에 삽입되는 표준화 값 Rm+n을 지정한다:
Figure pct00003
Figure pct00004
Figure pct00005
도 6은 투영 노광 시스템(1)에 있어서 투영 광학 시스템(12) 대신에 사용될 수 있는 투영 광학 시스템(32)의 추가적인 구성을 나타낸다. 도 1 내지 5를 참조하여 앞서 이미 설명되었던 것들에 대응하는 구성 요소들 또는 참조 변수들은 동일한 참조 번호들을 갖고 다시 상세히 논의되지 않을 것이다.
기본적으로, 도 6에 대응하는 투영 광학 시스템(32)의 구조는 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)의 그것에 대응한다. 실질적인 차이는, 투영 광학 시스템(32)에 있어서 오브젝트 필드(9)의 반경 R이 250 mm라는 것이다. 이미지 필드(13)의 반경은 대응되게 62.5 mm이다. 오브젝트 필드(9) 및 이미지 필드(13)는 따라서, 투영 광학 시스템(12)에서보다 투영 광학 시스템(32)에서 실질적으로 더욱 강하게 굽어져 있다.
투영 광학 시스템(32)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 설계 데이터는, 도 4에 따른 투영 광학 시스템에 대한 표에 대응하는 하기의 표들로부터 추론될 수 있다.
Figure pct00006
Figure pct00007
도 7은 도 2 또는 3에 따른 필드 패싯 미러(6) 대신에 조명 광학 시스템(10)의 변형에서 사용될 수 있는 추가적인 필드 패싯 미러의 패싯 블록(19)의 세부를 나타낸다. 오브젝트 필드의 채널-와이즈(channel-wise) 조명에 대한 도 2 또는 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 구성의 필드 패싯들(18)에 따라 사용되는 3개의 필드 패싯들(33)이 나타내어져 있다. 필드 패싯 미러들(2 및 3)과 결합되어 이미 앞서 기술된 것들에 대응하는 구성 요소들은 동일한 참조 번호를 갖고 다시 상세히는 논의되지 않을 것이다.
필드 패싯들(33)은 y-방향에 나란히 연장하는 2개의 곧은 협 측(34, 35)에 의해 한정된다. 또한, 각각의 필드 패싯들(33)은 곧게 가는 종 측(36)에 의해 그리고 아치식으로 오목하게 연장하는 종 측(37)에 의해 한정된다. 전체적으로, 필드 패싯들(33)의 도 7에 도시된 뷰(view) 단일 브릿지 아크를 가진 브릿지의 사이드 뷰(side view)를 생각나게 한다.
필드 패싯들(33)의 x/y 종횡비는, 도 2 및 3에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯들(18)과 결합하여 앞서 이미 기술되었던 종횡비에 대응한다.
도 8은 투영 노광 시스템(1)에 있어서 투영 광학 시스템(12) 대신에 사용될 수 있는 투영 광학 시스템(38)의 2개의 추가적인 구성에 속하는 섹션을 나타낸다. 도 8에 따른 섹션은, 이미지 필드(13) 및 오브젝트 필드(9)의 중앙들을 포함하고 또한 개개의 오브젝트 필드의 협 측들에 나란히 연장한다. 도 1 내지 7을 참조하여 앞서 이미 기술되었던 것들에 대응하는 구성 요소들 또는 참조 변수들은 동일한 참조 번호들을 갖고 다시 상세히 기술되지 않을 것이다. 투영 광학 시스템(38)의 2개의 구성은, 미러들의 반사면들의 정확한 형상의 묘사의 세부에 관해서만 상이하며, 이러한 세부적인 변경들은, 도 8에 따른 뷰에서는 나타내어질 수 없는, 형상 변경을 만든다.
투영 광학 시스템(38)은 전체적으로, 조명 광(3)의 빔 경로의 순차로 오브젝트 필드(9)로부터 진행하는 미러들(M1 내지 M8)로 지정되는 8개의 반사 미러들을 갖는다. 미러들(M1 내지 M8)은 모두, 전체적으로, 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 반사 곡면을 또한 갖는다. 미러(M1)는, 도 8의 뷰에서 실제적으로 평면 미러인 것으로 나타나도록 큰 곡률 반경을 갖는다. 미러들(M2, M4, M5 및 M8)은 오목한 기본 형상을 갖는다. 미러들(M3, M6 및 M7)은 볼록한 기본 형상을 갖는다.
한쪽으로, 미러들(M1 내지 M8)은, 그리고, 다른 쪽으로, 미러들(M3 내지 M8)은 백 투 백(back to back)으로 배열되어 있다. 한쪽으로, 미러들(M2 및 M4), 그리고 다른 쪽으로, 미러들(M1 내지 M3)은 그것들의 z-위치에 관하여 인접한 높이에 배열되어 있다.
투영 광학 시스템(38)은 입사동의 포지티브 후 초점을 갖는다. 투영 광학 시스템(38)의 제1 동공 면은 미러(M2)의 영역에 배열되어 있다. 미러(M2)의 반사면은, 미러(M2)가 투영 광학 시스템(38)에 있어서 애퍼쳐 조리개의 기능을 실질적으로 채택하도록, 설계될 수 있다. 투영 광학 시스템(38)의 중간 이미지 영역(39)은 미러들(M4 및 M5)의 사이에 위치되어 있다. 투영 광학 시스템(38)의 추가적인 동공 면이 미러들(M7 및 M8) 사이에 위치되어 있다.
하기의 표들은, 도 9에 나타내어진 오브젝트 필드(9)의 자유 형상이 이미징될 수 있는, 앞서 주어진 자유 곡면 식에 따른 투영 광학 시스템(38)의 미러들(M1 내지 M8)의 반사면들의 광학 설계 데이터를 준다. 이러한 표들은 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)에 대한 표들에 대한 구조에 관하여 대응한다.
Figure pct00008
Figure pct00009
도 9에 따른 오브젝트 필드(9)는, 필드 패싯들(33)의 형상에 유사한 필드 형상을 갖는다. 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)는 y-방향에 나란히 연장하고 범위 YS를 갖는 2개의 경계선(29, 30)에 의해 한정된다. 또한, 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)는, 곧게 연장하고 x-방향에 나란히 연장하며 범위 XS를 갖는 추가적인 경계선(40)에 의해 한정된다. 오브젝트 필드(9)의 다른 형상에 관하여 앞서 이미 언급되었던 것이 XS/YS-종횡비에 적용된다.
도 9에 따른 오브젝트 필드(9)는, -300 mm의 곡률 반경을 갖는 부분 원(41)의 형상으로 곡선에 의해 4번째 측쪽으로 한정된다. 이러한 곡률 반경의 네거티브 부호로 이끄는 부호 컨벤션(sign convention)은, 부분 원(41)이, 오브젝트 필드(9)를 가진 이미징 광학 시스템을 이용할 경우, 한쪽으로, 오브젝트 필드(9)를 볼록하게 연장하는 곡선으로 한정하고, 다른 쪽으로, 오브젝트 필드(9)에 의해 y-방향으로 스캔되는 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드(9)를 떠날 시에 지나가는 오브젝트 필드 제한 선인 것을 의미한다. 자유 곡면을 나타내는데 기준 축으로서 동시에 사용되는, 기준 축으로부터 진행하여 반경 절대치가 계산된다.
도 10은, 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)에 걸치어 광학적으로 계산된 포인트 패턴들의 빔들의 포인트 패턴 사이즈에 대한 rms(제곱 평균 제곱근) 값을, X/Y-그래프에 있어서의 이미징 품질의 척도로서, 나타낸다. 이러한 포인트 패턴들이 또한 스폿 사이즈로도 불린다. rms 스폿 사이즈의 값은 도 10에 나타낸 원들의 직경에 의해 주어진다.
Y-방향에 있어서, 도 10에 따른 뷰는 X-방향에서보다 실질적으로 더 길어져 있다. 최소 rms 스폿 사이즈는 0.40011x10-4 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드의 외측에 놓이는 최대 rms 스폿 사이즈는 4.5856x10-4 mm이다.
도 10은, 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)가 그 내부에서 추론되는, 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역에 있어서의 rms 스폿 사이즈를 나타낸다. rms 스폿 사이즈의 사이즈가 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에 있어서 정확히 매우 작다는 것이 도 10에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 9에 따른 오브젝트 필드(9)는, 도 7에 따른 필드 패싯(33)으로 조명될 수 있다.
도 11에 따른 필드 형상이 이미징될 수 있는 투영 광학 시스템(38)의 추가적인 구성의 미러들(M1 내지 M8)의 반사면들의 광학 설계 데이터에 대한 표들이 하기에서 재현된다. 이러한 표들은 결국 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)에 대한 표들에 대응한다.
Figure pct00010
Figure pct00011
도 11에 따른 오브젝트 필드(9)는, 도 9에 따른 오브젝트 필드(9)와 일치하는 형상을 갖는다. 도 11에 따른 오브젝트 필드(9)는 y-방향에 나란히 연장하는 경계선들(29, 30)과 함께, 곧고 x-방향에 나란히 또한 연장하는 경계선(42)에 의해 다시 한정된다.
4번째 측 쪽으로, 도 11에 따른 오브젝트 필드(9)는, R = 300 mm의 반경을 갖는 부분 원(43)의 형상으로 곡선에 의해 한정된다. 이러한 곡률 반경의 부호는 포지티브이다. 이것은, 부분 원(43)이, 한쪽으로 오브젝트 필드(9)를 오목한 식으로 한정하고, 다른 쪽으로, 스캐너로서 설계된 투영 노광 시스템내에서의 사용 동안에, y-방향으로 스캔되는 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드(9)로 들어갈 시에 지나치는 오브젝트 필드 제한선을 나타낸다. 자유 곡면을 나타내기 위해 기준축으로 동시에 사용되는 기준축으로부터 진행하여 반경의 절대치가 계산된다.
도 11에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상은 도 7에 따른 필드 패싯(33)으로 또한 조명될 수 있다.
도 12는, 도 10과 유사한 관점에서, 도 11에 따른 필드 형상이 이미징될 수 있는, 투영 광학 시스템(38)의 개개의 변형에 대한 rms 스폿 사이즈의 X/Y-분포를 나타낸다.
최소 rms 스폿 사이즈는 0.39618x10-4 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드(9) 외측에 놓이는 최대 rms 스폿 사이즈는 3.932x10-4 mm이다.
도 12는 도 11에 따른 오브젝트 필드(9)가 내접되는, 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역의 rms 스폿 사이즈를 나타낸다. rms 스폿 사이즈의 사이즈가 도 11에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에 있어서 정확히 매우 작다는 것이 도 12에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 13은, 후술될, 개개의 오브젝트 필드의 협측에 나란히 또한 연장하는 그리고 이미지 필드(13) 및 오브젝트 필드(9)의 중앙들을 포함하는 섹션을 나타낸다. 도 1 내지 12를 참조하여 앞서 이미 기술되었던 구성 요소들 및 참조 번호들이 동일한 참조 번호들을 갖고 다시 상세히 기술되지 않을 것이다.
도 3에 따른 투영 광학 시스템(44)은, 기본 구조에 관하여, 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12) 또는 도 6에 따른 투영 광학 시스템(32)에 대응하고 결국 6개의 미러(M1 내지 M6)를 갖는다.
도 14에 따른 오브젝트 필드(9)가 조명될 수 있는 투영 광학 시스템(44)의 제1 구성의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 설계 데이터는 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)에 대한 표들에 대응하는 하기의 표들로부터 추론될 수 있다.
Figure pct00012
Figure pct00013
도 14에 따른 오브젝트 필드(9)는, 2개의 협 측 경계선들(29, 30)에 의해 그리고 곡선으로 구성된 2개의 종 측 부분 원들(45, 46)에 의해 한정된다. 2개의 부분 원들(45, 46)은 서로로부터의 간격 YS을 갖는다. 2개의 협 측 경계선들(29, 30)은 서로로부터 간격 XS을 갖는다.
2개의 부분 원들(45, 46)은 각각의 경우에 100 mm의 곡률 반경을 갖는다. 이러한 곡률 반경의 부호는 포지티브이고, 이것은 부분 원(45)이 오브젝트 필드(9)를 볼록하게 한정하고 부분 원(46)이 오브젝트 필드(9)를 오목하게 한정한다는 것을 의미하여, 여기서, 동시에, 스캐너로서 설계된 투영 노광 시스템에서의 사용 동안에, y-방향으로 스캔되는 오브젝트 포인트가, 오브젝트 필드(9)로 들어갈 시에 부분 원(45)을 지나가고 오브젝트 필드(9)를 떠날 시에 부분 원(46)을 지나간다.
도 15는, 도 10과 유사한 관점에서, 도 14에 따른 오브젝트 필드(9)에 걸치어 이미징 품질의 척도로서 rms 스폿 사이즈들을 나타낸다. rms 스폿 사이즈들이 도 14에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에서 최소라는 것을 여기서 또한 알게 된다.
최소의 rms 스폿 사이즈들은 0.13621x10-4 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드(9) 외측에 놓이는 최대 rms 스폿 사이즈는 8.0063x10-4 mm이다.
도 15는 도 14에 따른 오브젝트 필드(9)가 내접되는 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역에 있어서의 rms 스폿 사이즈들을 나타낸다. rms 스폿 사이즈의 사이즈가 도 14에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에 있어서 정확히 매우 작다는 것이 도 15에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 16은 오브젝트 필드(9)의 형상의 추가적인 변형을 나타낸다. 도 16에 따른 오브젝트 필드(9)는 도 2 및 3에 따른 필드 패싯 미러(6)로 조명될 수 있고, US 5,315,629의 도 4에 따른 이미징 광학 시스템으로 이미징될 수 있다.
도 16에 따른 오브젝트 필드(9)는 변화하는 횡 치수 YS를 가진 아치형이다. 도 16에 따른 오브젝트 필드(9)는, 협 측 경계선(29, 30)의 사이트에서, 최대 횡 치수 YSmax를 갖고, 오브젝트 필드(9)의 대칭의 미러 평면(31)의 사이트에서, 최소 횡 치수 YSmin를 갖는다. 비율 YSmin /YSmax은 약 0.65이다.
도 16에 따른 뷰에 있어서, x-치수에 비해서 y-치수는 고도로 신장되게 나타내어져 있다. 실제로, 도 16에 따른 오브젝트 필드(9)의 x/y-종횡비는 도 16에 따른 뷰에 나타난 것보다 매우 훨씬 더 크다.
도 16에 따른 오브젝트 필드(9)를 조명하는 필드 패싯들(18)은 y-방향으로 일정한 범위를 갖는다. 변화하는 횡 치수를 가진 도 16에 따른 오브젝트 필드(9)는 조명 광학 시스템(10)내의 개별적인 조명 채널들의 상이한 이미징 효과들을 기초로 이러한 필드 패싯들(18)에 의해 조명된다. 이러한 개별적인 조명 채널들은 개별적인 필드 패싯들(18)의 동공 패싯 미러(7)의 동공 패싯들에 대한 할당으로부터 생성된다.
이러한 상이한 이미징 효과가 개개의 필드 패싯들(18)에 대한 기준 포인트들(48)의 패밀리들(47)에 의해 분명히 이루어지며, 그 이미지들이 도 16에 있어서 오브젝트 면(11)에 입사된다. 기준 포인트들(48)은 그 종 측 에지들을 따라 등거리로 필드 패싯들(18)에 배열되어 있다. 11개의 그러한 기준 포인트들(48)이 종 측 에지들 중 하나를 따라 배열되어 있다. 조명 채널들의 상이한 이미징 효과들로 인해서, 기준 포인트들(48)이, 대칭의 미러 평면(31)으로부터의 그것들의 간격에 따라, y-방향으로 증가하는 범위를 갖는 포인트 패밀리들(47)에 이미징된다. 동공 패싯 미러(7)의 동공 패싯들이, 대칭의 미러 평면(31)의 영역에서의 기준 포인트들(48)의 중첩이 가능한 한 양호하도록, 지향되어 있다.
대칭의 미러 평면(31)으로부터의 증가하는 간격을 가진 포인트 패밀리들(47)의 이러한 증가하는 y-범위로 인해서, 도 16에 따른 오브젝트 필드(9)의 형상이 외향하여 증가하는 횡 치수 YS를 가진 아크 필드로서 생성된다.
y-방향으로의 포인트 패밀리들(47)의 범위는 대칭의 미러 평면(31)으로부터 그것들의 간격을 가지고 직선으로 증가한다.
도 16에 따른 오브젝트 필드(9)에 중첩되어 있는 필드 패싯들(18)의 개별적인 이미지들은, 개개의 조명 채널에 걸치는 이미징에 따라, 경로 YSmin의 중앙들에 놓이는 축 B에 대해 회전된다.
도 17은 조명 광학 시스템(10)에 있어서의 필드 패싯 미러(6) 대신에 사용될 수 있는 필드 패싯 미러(49)의 추가적인 구성을 나타낸다. 도 17에 따른 필드 패싯 미러(49)는, 필드 패싯들(50)의 배열 및 형상에 관하여 도 2 및 3에 따른 필드 패싯 미러(6)와는 상이하다. 필드 패싯들(50)은 직사각형이고 각각의 경우에 있어서, 도 2 및 3에 따른 필드 패싯들(18)의 종횡비에 대응하는 동일한 x/y-종횡비를 갖는다. 필드 패싯들(50)은, 필드 패싯들(18)처럼, 필드 패싯 미러(49)의 반사면을 미리 결정하고, 4개의 컬럼들(S1, S2, S3 및 S4)로 그룹화되어 있다. 컬럼들(S1 내지 S4)내에서, 필드 패싯들(50)은 차례차례로, 도 2에 따른 필드 패싯 미러(6)의 필드 패싯 그룹들(19)의 식으로 블록들(51) 또는 필드 패싯 그룹들로 배열되어 있다. 2개의 중앙의 패싯 컬럼들(S2, S3) 사이에 그리고 중앙으로 배열된 패싯 선들 사이에, 필드 패싯 미러(49)의 패싯 배열은, 광원(2)의 원거리 필드의 이러한 영역들이 대응 형성된 컬렉터(4)의 스포크(spoke)들을 홀드(hold)하는 것에 의해 셰도잉됨에 따라, 패싯들이 배열되어 있지 않은 중간의 공간들(52)을 갖는다.
도 18은, 도 16과 유사한 뷰에 있어서, 도 17에 따른 필드 패싯 미러(49)에 의해 조명될 수 있는, 오브젝트 필드(9)의 추가적인 필드 형상을 나타낸다.
도 18에 따른 오브젝트 필드(9)는 대략 나비의 형상을 갖는다. 협 측에서, 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)는 결국 경계선들(29, 30)에 의해 한정된다. 종 측에서, 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)는 오목하게 연장하는 곡선들(53, 54)에 의해 한정된다. 도 19에 따른 오브젝트 필드(9)는 또한, yz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 미러 평면(31)에 대해 대칭이다.
도 18에 따른 오브젝트 필드(9)의 횡 치수는, 대칭의 미러 평면(31)의 높이에서의 최소 값 YSmin과 2개의 경계선들(29, 30)의 높이에서의 최대 값 YSmax까지의 사이에서 변화한다. 비율 YSmin/YSmax은 약 0.65이다.
도 18은, 이번에는, 오브젝트 필드(9)에 이미징되는 필드 패싯들(50)에 대한 기준 포인트들(48)의 패밀리들(47)을 나타낸다. 종-측 에지들을 따라 마련되는 기준 포인트들은 별문제로 하고, 필드 패싯들(50)의 종 측들 사이에 중앙에 배열되는 기준 포인트들의 이미지들(48m)이 또한, 분명히 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)에 대한 이미징 비율들을 만들도록 나타내어져 있다. 오브젝트 필드(9)에 대한 개별적인 필드 패싯들(50)의 이미지들의 중첩은, 개개의 필드 패싯들의 이미지들의 중앙의 포인트들이 따라서 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)의 중앙의 포인트 B에 중첩되도록, 동공 패싯 미러(7)의 동공 패싯들의 틸팅 각(tilting angle)들에 의해 조정된다. 이러한 포인트 B는, yz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 미러 평면(31)에 위치되고, xz-평면에 나란히 연장하는 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)의 대칭의 추가적인 미러 평면(55)상에서 추가적으로 연장한다.
개개의 동공 패싯들에 대한 필드 패싯들(50)의 할당으로 인한 개별적인 조명 채널들에 있어서의 이미징 비율에 의해 유발되어 결과적으로, 중앙의 포인트 B에 대한 개별적인 필드 패싯들의 틸팅이 모든 필드 패싯 이미지들의 중첩이 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)의 나비-형상의 구성을 생성하도록 만들어져 있다. y-방향으로의 포인트 패밀리들(47)의 범위는, 대칭의 미러 평면(31)으로부터의 포인트 패밀리들(47)의 간격을 가지고 여기에서 직선으로 증가한다. 필드 패싯들(50)의 형상은 조명되는 오브젝트 필드(9)의 형상과 기하학적으로 유사하지 않다.
도 19는 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)와 유사한 필드를 일정한 비례로 나타낸다. 도 19에 따른 오브젝트 필드(9)의 종 측들을 한정하는 2개의 오목한 곡선(53, 54)은, 각각의 경우에, 200 mm의 곡률 반경을 갖는다. 이러한 경우에, 앞서 이미 기술된 부호 컨벤션에 따라, 곡선(53)은 +200 mm의 곡률 반경을 갖고 곡선(54)은 -200 mm의 곡률 반경을 갖는다. 이것은, 곡선(53)이 오브젝트 필드(9)를 오목하게 한정하기 때문에, 스캐너로서 구성된 투영 노광 시스템에서의 사용 동안에, y-방향으로 스캔되는 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드(9)로 들어갈 시에 지나치는 오브젝트 필드 제한선이며, 동시에, 곡선(54)이 오브젝트 필드(9)를 또한 오목하게 한정하기 때문에, 스캔되는 오브젝트 포인트가 오브젝트 필드(9)를 떠날 시에 지나가는 오브젝트 필드 제한선이다.
도 19에 따른 오브젝트 필드는, 도 19에 따른 오브젝트 필드(9)가 0.2인, 최대 횡 치수 YSmax와 최소 횡 치수 YSmin 사이의 비율만큼 도 18에 따른 오브젝트 필드와는 상이하다.
도 18 및 19에 따른 오브젝트 필드 형상이 이미징될 수 있는, 도 13에 따른 투영 광학 시스템(44)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 데이터는, 구조에 관하여 도 4에 따른 투영 광학 시스템에 대한 표들에 대응하는, 하기의 표들로부터 추론될 수 있다.
Figure pct00014
Figure pct00015
도 20은, 도 10과 유사한 관점에서, 도 19에 따른 오브젝트 필드(9)에 걸쳐서의 rms 스폿 사이즈의 진로를 나타낸다.
최소 rms 스폿 사이즈는 0.12567x10-4 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드(9) 외측에 놓이는 최대 rms 스폿 사이즈는 4.0369x10-4 mm이다.
도 20은, 도 19에 따른 오브젝트 필드가 내접되는, 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역에서의 rms 스폿 사이즈를 나타낸다. rms 스폿 사이즈의 값들이 도 19에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에 정확히 매우 작다는 것이 도 20에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 21은, 도 7에 유사한 관점에서, 조명 광학 시스템(10)에 있어서 필드 패싯 미러(6, 49) 대신에 사용될 수 있는, 필드 패싯 미러의 추가적인 변형의 필드 패싯 블록의 세부를 나타낸다. 도 21에 따른 필드 패싯 블록(19)은 배럴-형상의 반사면을 가진 필드 패싯(56)을 갖는다. 필드 패싯들(56)은 각각의 경우에 동일한 형상을 갖고, 동일 길이를 가지고 곧게 연장하는 협 측들(57, 58) 및 아치식으로 볼록하게 연장하는 종 측들(59, 60)에 의해 한정된다. 필드 패싯들(56)의 각각은, yz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 제1 미러 평면(61)에 관련하여, 그리고 다른 쪽으로는, xz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 추가적인 미러 평면(62)에 관련하여, 그것의 반사면 형상에 관하여 미러-대칭이다. 2개의 아치형 종 측들(59, 60)은 동일한 곡률 반경을 갖는다.
도 22에 나타낸 오브젝트 필드(9)가 이미징될 수 있는, 차례차례로, 도 21에 따른 필드 패싯들(56)을 가진 필드 패싯 미러에 의해 조명될 수 있는, 투영 광학 시스템(44)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 설계 데이터는 구조에 관하여 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)에 대한 표들에 관하여, 하기의 표들로부터 추론될 수 있다.
Figure pct00016
Figure pct00017
도 22에 따른 오브젝트 필드는 그 자신의 형상에 관하여 필드 패싯들(56)의 형상에 대응하며, 각각의 경우에 500 mm의 곡률 반경을 갖는, 볼록한 부분 원들의 형상의 곡선들(63, 64) 및 협-측 경계선(29, 30)에 의해 한정된다. 도 22에 따른 오브젝트 필드(9)는 이번에는, 변화하는 횡 치수, 에지에, 환언하면, 경계선들(29, 30)의 고지에 존재하는 최소 값 YSmin 및 중앙, 환언하면, 대칭의 미러 평면(31)의 레벨에 존재하는 최대 값 YSmax을 갖는다. 도 22에 따른 오브젝트 필드(9)의 경우에 있어서 YSmin 대 YSmax의 비율은 0.57이다.
도 23은 도 22에 따른 오브젝트 필드(9)에 걸쳐서의 rms 스폿 사이즈를 도 10과 유사한 그래프로 나타낸다.
최소 rms 스폿 사이즈는 0.82307x10-5 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드(9) 외측에 놓이는 최대 rms 스폿 사이즈는 1.8553x10-4 mm이다.
도 23은, 도 22에 따른 오브젝트 필드(9)가 내접되는, 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역에서의 rms 스폿 사이즈들을 나타낸다. rms 스폿 사이즈들의 값들이 도 22에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에서 정확히 매우 작다는 것이 도 23에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 24는, 도 16과 유사한 관점에서, 도 17에 따른 필드 패싯 미러(49)에 따른 직사각형 필드 패싯들(50)에 의해 조명될 수 있는 오브젝트 필드(9)의 추가적인 형상을 나타낸다.
도 24에 따른 오브젝트 필드(9)는 쐐기 형상이다. 도면들과 결합하여 이제까지 기술된 모든 다른 오브젝트 필드 형상들과는 대조적으로, 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)는 yz-평면에 나란히 연장하는 중앙의 평면(31)에 관하여 미러-대칭이 아니다. 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)는 범위 YSmin을 가진 짧은 협-측 경계선(65)과 범위 YSmax를 가진 긴 협-측 경계선(66)에 의해 한정된다. 2개의 경계선들(65, 66)은 y-방향에 나란히 연장한다. 또한, 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)는, 대략 곧게 하지만 x-축에 관하여 각도가 있게 연장을 또한 하는 2개의 경계선(67, 68)에 의해 한정된다. 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)의 YSmin 대 YSmax의 비율은 0.49이다.
도 24에 따른 오브젝트 필드(9)의 조명이 이번에는, 필드 패싯(50)의 이미지들의 중첩에 의해 일어난다. 관련된 동공 패싯들의 대응하는 틸팅 조정에 의해, 필드 패싯 이미지들이 도 24에서의 좌측 경계선(65)의 영역에서 중첩되어 있다. 오브젝트 면의 개별적인 필드 패싯들(50)이 중첩되는 것에 의해, 다양한 조명 채널들의 상이한 이미징 효과(포인트 B에 대한 틸팅)로 인해, 중첩의 직선으로 증가한 y-일탈은 우측 에지쪽으로, 환언하면, 이번에는 필드 패싯들(50)의 종 측을 따라 배열되는 기준 포인트들(48)의 패밀리들(47)에 의해 나타내어지는 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)의 경계선(66)쪽으로 생성된다 - 그 패턴들이 이번에는 도 24에 들어감 -. 이러한 패밀리들(47)의 y-범위는 우측으로 직선으로 증가한다. 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)의 쐐기 형상이 그 결과이다.
도 25는, 도 24에 따른 쐐기-형상의 오브젝트 필드 형상이 이미징될 수 있는 투영 광학 시스템(69)을 나타낸다. 도 25에 따른 투영 광학 시스템(69)은 기본 구조에 관하여 도 4에 따른 것에 대응한다.
하기의 표들에 나타내어진 것은 이번에는, 쐐기-형상의 오브젝트 필드 형상이 이미징될 수 있는 투영 광학 시스템(69)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들의 광학 설계 데이터이다 - 이미지 면(14)의 그 이미지 범위는 도 26에 나타내어져 있음 -. 구조에 관하여, 투영 광학 시스템(49)에 대한 이러한 하기의 표들은 이번에는, 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)에 대한 표들에 대응한다.
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
이제까지 기술된 투영 렌즈 시스템들에 대한 광학 설계 데이터와는 대조적으로, 투영 광학 시스템(69)의 설계 데이터에 있어서, x-치수에 있어서의 홀수승(uneven power)을 가진, 환언하면, 오브젝트 필드(9)의 종 치수에 있어서의 또는 도 25에 따른 도면의 평면에 수직한 치수에 있어서의 홀수승을 가진 단항식 XnYm의 계수가 또한 존재한다.
도 26에 다른 오브젝트 필드(9)는, 쐐기 형상에 관하여, 도 24에 따른 오브젝트 필드(9)에 대응한다. 이미지 면(14)에 있어서의 경계선(65)의 이미지는, 1 mm의 범위 YSmin를 갖는다. 경계선(66)의 이미지는, 이미지 면(14)에 있어서, 3 mm의 범위 YSmax를 갖는다. 관련 이미지 필드(13)에 있어서 그리고 도 26에 따른 오브젝트 필드(9)에 있어서 YSmin 대 YSmax의 비율은, 따라서 0.33이다. 2개의 경계선들(65, 66)의 이미지들은, 이미지 면(14)에 있어서, 서로에 관하여 26 mm의 간격 XS를 갖는다.
도 27은 이번에는, 도 10과 유사한 그래픽적인 관점에서, 도 26에 따른 오브젝트 필드(9)에 걸치어 rms 스폿 사이즈들의 진로를 나타낸다.
최소 rms 스폿 사이즈는 0.11318x10-4 mm이다. 사용되는 오브젝트 필드(9)의 외측에 놓이는, 최대 rms 스폿 사이즈는 0.65788x10-4 mm이다.
도 27은, 도 26에 따른 오브젝트 필드(9)가 내접되는, 오브젝트 면(11)의 직사각형 영역에 있어서의 rms 스폿 사이즈들을 나타낸다. rms 스폿 사이즈에 대한 값들이 도 26에 따른 오브젝트 필드(9)의 필드 형상의 영역에 있어서 정확히 매우 작다는 것이 도 27에 따른 그래프로부터 추론될 수 있다.
도 28은 도 29에서 평면도로 나타낸 오브젝트 필드(9)가 이미징될 수 있는 투영 광학 시스템(70)의 추가적인 구성을 나타낸다. 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는, 도시된 평면도에 있어서, 남성용 목 장식으로서 매어지는 나비 넥타이(bow tie)와 유사하고, 직사각형 필드 패싯들의 틸트된 이미지들의 도 18에 나타내어진 중첩에 적합된다.
기본 구조에 관하여, 투영 광학 시스템(70)은 이번에는 도 4에 따른 투영 광학 시스템(12)과 유사하지만, 6개의 미러들(M1 내지 M6)의 보다 정밀한 배열에 관하여 이것과는 약간의 차이들을 갖는다.
따라서, 투영 광학 시스템(70)에서의 미러(M1)와 오브젝트 필드(9) 사이의 빔 경로는, 투영 광학 시스템(12)에서보다, 오브젝트 면(11)과 이미지 면(14) 사이의 간격에 비해 현저히 더 짧다. 또한, 투영 광학 시스템(70)에 있어서, 도 28에 따른 뷰에서의 미러(M2)는 이미 분명히 가시적으로 오목하다. 투영 광학 시스템(70)은 입사동의 포지티브 후 초점을 갖는다. 투영 광학 시스템(70)내의 제1 동공 면은 미러(M2)의 영역에 배열되고, 그래서 미러(M2)의 반사면이 또한 애퍼쳐 조리개의 형상을 또한 채택할 수 있다.
투영 광학 시스템(70)의 중간 이미지 면(71)은 미러(M6)에 인접하여 배열되어 있다.
한쪽으로, 미러들(M1 및 M6)은, 그리고 다른 쪽으로, 미러들(M3 및 M6)은 백 투 백으로 배열되어 있다.
투영 광학 시스템(70)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면의 광학 데이터는, 도 4에 따른 투영 광학 시스템에 대한 표들에 대응하는, 대응 표들로부터 추론될 수 있다.
Figure pct00021
Figure pct00022
Figure pct00023
투영 광학 시스템(70)에 의해 이미징되는 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)가 yz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 미러 평면(31)에 관하여 다시 미러-대칭이므로, x에 있어서의 짝수승을 가진 항들이 이번에는 투영 광학 시스템(70)의 미러들(M1 내지 M6)의 반사면의 자유 곡면 묘사에 독점적으로 기여한다.
도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)와 유사하다. 거기에 아치식으로 연장하는 종 측 한정과는 대조적으로, 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)에 있어서, 굽어지는 식으로 연장하는 종 측 경계선들(72, 73)이 존재한다. 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는 따라서, 2개의 사다리꼴 절반 필드(trapezoidal half field)들(74, 75)의 구성으로서 이해될 수 있다 - 도 29에서의 절반 필드(74)는 대칭의 미러 평면(31)의 좌측에 나타내어져 있고 절반 필드(75)는 대칭의 미러 평면(31)의 우측에 나타내어져 있다. 도 18에 따른 오브젝트 필드(9)에 유사한 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는 xz-평면에 나란히 연장하는 대칭의 미러 평면(55)에 대해 또한 미러-대칭이다.
도 29에 따른 오브젝트 필드(9)의 최소 횡 범위 YSmin은 대칭의 미러 평면(31)의 높이에 존재한다. 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는 2개의 경계선(29, 30)의 높이에서 최대 횡 범위 YSmax를 갖는다. 도 29에 따른 오브젝트 필드(9)에 있어서의 YSmin 대 YSmax의 비율은 0.5이다.
도 29에 따른 오브젝트 필드(9)는, 필드 패싯 미러(49)의 직사각형 필드 패싯들(50)에 의해 대략적으로 조명될 수 있다.
도 30은, 각각의 경우에 있어서 높이 선 진로에서의 절반 필드(75)에 걸치어 텔레센트리시티 값의 진로를 나타낸다 - 상대 값들이 개별적인 높이 선들과 관련됨 -. 최대 텔레센트리시티 값은 약 3이다. 텔레센트리시티 값은, mrad로 측정되는, 이미지 면(14)으로의 수직 입사로부터의 조명 광(3)의 다발 초점 포인트의 일탈로서 정의된다.
도 31은 높이 선 뷰에 있어서, 또한 절반 필드(75)에 걸치어, 왜곡 값을 나타낸다. 왜곡은 0 mm 후의 최소 값과 약 2.2 mm의 최대 값 사이에서 변화한다.
도 32는, 또한 높이 선 뷰에서의, 절반 필드(75)에 걸치어 파면 값을 나타낸다. 이러한 파면 값은 약 12 mλ의 최소 값과 약 28 mλ의 최대 값 사이에서 변화한다 - λ는 13.5 nm의 조명 광(3)의 파장을 나타냄 -.
텔레센트리시티, 왜곡 및 파면의 진로는, 대칭의 미러 평면(31)에 대한 절반 필드(74)에 있어서, 도 30 내지 32에 도시된 것에 대해 미러-대칭으로 나타내어져 있다.
마이크로구조의 또는 나노구조의 부품을 제조하기 위해, 투영 노광 시스템(1)은 다음과 같이 사용된다: 먼저, 레티클 및 웨이퍼가 마련된다. 레티클상의 구조가 그 다음으로, 투영 노광 시스템(1)의 조력으로 웨이퍼의 감광층상으로 투영된다. 감광층을 현상하는 것에 의해, 마이크로구조가 그 다음으로 웨이퍼상에 생성되며 따라서 마이크로구조의 부품이 제조된다.
투영 노광 시스템(1)이 스캐너로서 구현되어 있다. 레티클은, 이러한 경우에, 투영 노광 동안에 y-방향으로 연속적으로 변위된다. 대안적으로, 레티클이 y-방향으로 순차적으로 변위되는 스테퍼(stepper)로서의 구성도 또한 가능하다.
투영 노광 시스템(1)이 스캐너로서 구성되어 있는 경우에, 스캐닝 방향은 오브젝트 필드(9)의 횡 치수에 나란히 연장한다.

Claims (33)

  1. 오브젝트 면(object plane)(11)의 오브젝트 필드(object field)(9)를 이미지 면(14)의 이미지 필드(13)로 이미징(image)하는, 복수의 미러(M1 내지 M6; M1 내지 M8)를 가진 이미징 광학 시스템(12; 32; 38; 44; 69; 70)으로서,
    - 미러들(M1 내지 M6; M1 내지 M8) 중 적어도 하나의 반사면이, 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 곡면(free form face)으로 구성되어 있으며,
    - 오브젝트 필드(9)는, 종 측(longitudinal side)을 따라 연장하는 종 치수(longitudinal dimension)(x)와 협 측(narrow side)을 따라 연장하는 횡 치수(transverse dimension)(y)의, 1 보다 큰 종횡비(aspect ratio)(x/y)를 갖고,
    0.9보다 작은, 오브젝트 필드(9)의 최소 횡 치수 YSmin와 최대 횡 치수 YSmax의 비율을 특징으로 하는, 이미징 광학 시스템.
  2. 오브젝트 면(11)의 오브젝트 필드(9)를 이미지 면(14)의 이미지 필드(13)로 이미징하는, 복수의 미러(M1 내지 M6)를 가진 이미징 광학 시스템(69)으로서,
    - 오브젝트 필드(9) 및/또는 이미지 필드(13)는 미러-대칭 필드 형상(mirror-symmetrical field form)으로부터 일탈하는, 이미징 광학 시스템.
  3. 청구항 2에 있어서,
    미러들(M1 내지 M6) 중 적어도 하나의 반사면이, 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 곡면으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 이미징 광학 시스템.
  4. 청구항 2 또는 3에 있어서,
    오브젝트 필드(9)가 종횡비를 갖는 것을 특징으로 하며,
    - 오브젝트 필드(9)는, 종 측을 따라 연장하는 종 치수(x)와 협 측을 따라 연장하는 횡 치수(y)의, 1 보다 큰 종횡비(x/y)를 갖고,
    - 미러들(M1 내지 M6)의 반사면들은, 오브젝트 필드(9)의 종 치수(x)에 있어서의 홀수승(uneven power)들을 가진 항(term)들을 갖는 면 함수(face function)에 의해 나타내어질 수 있는, 이미징 광학 시스템.
  5. 오브젝트 면(11)의 조명 필드(9)를 조명하기 위한 조명 광학 시스템(10)으로서,
    - 조명 필드(9)가, 종 측을 따라 연장하는 종 치수(x)와 협 측을 따라 연장하는 횡 치수(y)의, 1 보다 큰 종횡비를 갖도록,
    - 조명 광(3)을 안내하는 조명 광학 시스템(10)의 구성 요소들의 구성을 갖고,
    0.9보다 작은, 오브젝트 필드(9)의 최대 횡 치수 YSmax와 최소 횡 치수 YSmin의 비율을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  6. 청구항 5에 있어서,
    조명 광(3)을 안내하는 조명 광학 시스템(10)의 구성 요소들 중 적어도 하나의 반사면이 회전 대칭 함수에 의해 나타내어질 수 없는 자유 곡면으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  7. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    오브젝트 또는 조명 필드(9)가,
    - 곡선(41; 46; 63),
    - 곡선(41; 46; 63)에 대향하는 종선(longitudinal line)(40; 45; 64),
    - 곡선(41; 46; 63)과 종선(40; 45; 64)의 2 단부들을 각각의 경우에 연결하는 2개의 경계선(29, 30)에 의해 한정되는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  8. 청구항 7에 있어서,
    곡선(41; 46; 63; 27; 43; 45)은 부분 원 형상(part circle form)을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  9. 청구항 8에 있어서,
    곡선(27, 28; 45, 46, 53, 54)은 최대 300 mm인 반경을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  10. 청구항 7 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,
    곡선(41; 43)에 대향하는 종선(40; 42)이 곧게 연장하는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  11. 청구항 7 내지 9 중 어느 한 항에 있어서,
    곡선(27; 45; 53; 63)에 대향하는 종선(28; 46; 54, 64)이 굽어지는 식으로 연장하는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  12. 청구항 11에 있어서,
    굽어지는 식으로 연장하는 종선(28; 45; 53; 63)이 아치 식으로 연장하는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  13. 청구항 12에 있어서,
    곡선(46; 27)에 대향하는 종선(45; 28)이 부분 원 형상으로 연장하는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  14. 청구항 13에 있어서,
    곡선(46; 27)에 대향하는 종선(45; 28)이 최대 300 mm인 반경을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  15. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    오브젝트 또는 조명 필드(9)가 쐐기 형상을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  16. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    오브젝트 또는 조명 필드(9)가 2개의 사다리꼴 절반 필드(trapezoidal half field)들(74, 75)로 구성되는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  17. 청구항 1 내지 16 중 어느 한 항에 있어서,
    오브젝트 또는 조명 필드(9)가 죄어진 부분(constriction)을 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  18. 청구항 1 내지 4, 또는 7 내지 17 중 어느 한 항에 있어서,
    이미징 광학 시스템(12; 32; 38; 44; 69; 70)가 적어도 6개의 미러(M1 내지 M6; M1 내지 M8)를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  19. 청구항 18에 있어서,
    이미징 광학 시스템(38)이 정확히 8개의 미러(M1 내지 M6; M1 내지 M8)를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학 시스템.
  20. 청구항 1 내지 4 또는 6 내지 19 중 어느 한 항에 있어서,
    최대 1 nm(rms 값)인 오브젝트 필드(9)내의 파면 오차(wavefront error)를 특징으로 하는, 이미징 광학 시스템.
  21. 청구항 5 내지 17 중 어느 한 항에 있어서,
    - 반사면들을 가진 복수의 필드 패싯(field facet)(18; 50)을 갖는 필드 패싯 미러(6; 49),
    - 조명 필드(9)의, 필드 패싯 미러(6; 49)의 필드 패싯들(18; 50)의 이미징을 중첩(superimposing)하기 위한 후속 광학 시스템(7, 8)을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  22. 청구항 21에 있어서,
    필드 패싯들(18; 33; 50; 56) 중 적어도 하나의 반사면이 조명 필드(9)와 기하학적으로 유사한 식으로 구성되어 있지 않은 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  23. 청구항 21 또는 22에 있어서,
    필드 패싯들(50) 중 적어도 하나의 반사면의 경계가 직사각형인 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  24. 청구항 21 또는 22에 있어서,
    필드 패싯들(18) 중 적어도 하나의 반사면의 경계가 아치형인 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  25. 청구항 21 또는 22에 있어서,
    필드 패싯들(56) 중 적어도 하나의 반사면의 경계가 배럴(barrel) 형상인 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  26. 청구항 21 또는 22에 있어서,
    필드 패싯들(33) 중 적어도 하나의 반사면의 경계가, 곧게 연장하는 종 측(36)과 아치 식으로 연장하는 종 측(37)으로 구성되는 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  27. 청구항 21 내지 26 중 어느 한 항에 있어서,
    필드 패싯 미러(6)의 베이스 면(base plane)(xy)상으로의, 적어도 2개의 필드 패싯들(18)의 반사면들의 투영면(projection face)들이,
    - 사이즈(size),
    - 형상(form),
    - 방위(orientation)
    의 파라미터들 중 적어도 하나에 관하여 상이한 것을 특징으로 하는, 조명 광학 시스템.
  28. 청구항 5 내지 27 중 어느 한 항에 기재된 조명 광학 시스템(10) 및 EUV 광원(2)을 가진 조명 시스템.
  29. 청구항 28에 기재된 조명 시스템, 및 오브젝트 필드(9)를 이미지 필드(13)로 이미징하기 위한 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 이미징 광학 시스템(12; 32; 38; 44; 69; 70)을 가진 투영 노광 시스템.
  30. 청구항 29에 있어서,
    조명 광학 시스템(10)은, 그에 의해 조명되는 조명 필드(9)가 이미징 광학 시스템(12; 32; 38; 44; 69; 70)의 오브젝트 필드(9)를 완전히 포함하도록, 구성되어 있는 것을 특징으로 하는, 투영 노광 시스템.
  31. 청구항 30에 있어서,
    조명 필드(9)가, 오브젝트 필드(9)의 면적보다 최대 5 % 더 큰 면적을 갖는 것을 특징으로 하는, 투영 노광 시스템.
  32. 마이크로구조의 부품을 제조하기 위한 방법으로서,
    - 레티클(reticle) 및 웨이퍼를 마련하는 단계,
    - 상기 레티클상의 구조를 청구항 29 내지 31 중 어느 한 항에 기재된 투영 노광 시스템(1)의 조력으로 상기 웨이퍼의 감광층상으로 투영하는 단계, 및
    - 상기 웨이퍼상의 마이크로구조를 생성하는 단계를 포함하는, 마이크로구조의 부품 제조 방법.
  33. 청구항 32에 기재된 방법에 따라 제조된 마이크로구조의 부품.
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