JP5485384B2 - 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 - Google Patents
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Description
9 物体視野
10 照明光学系
11 物体平面
13 像視野
14 像平面
Claims (38)
- 物体平面(11)の物体視野(9)を像平面(14)の像視野(13)内に結像する複数のミラー(M1からM6;M1からM8)を備えた結像光学系(12;32;38;44;69;70)であって、
前記物体視野(9)は、1×10-4mmのrms(二乗平均平方根)値を超えない点パターンサイズで結像されることができる2次元領域であり、
ミラー(M1からM6;M1からM8)のうちの少なくとも1つの反射面が、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成され、
物体視野(9)が、1よりも大きいアスペクト比(x/y)を有し、長手寸法(x)が、長手辺に沿って延び、横手寸法(y)が、短幅辺に沿って延び、
前記物体視野(9)の最小横手寸法YSmimと最大横手寸法YSmaxとの0.9よりも小さい比、
を特徴とする結像光学系。 - 前記物体視野(9)は、
曲線(41;46;63)と、
前記曲線(41;46;63)に相対する長手線(40;45;64)と、
前記曲線(41;46;63)と前記長手線(40;45;64)の2つの端部を各場合に接続する2つの境界線(29,30)と、
によって境界が定められる、
ことを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。 - 前記曲線(41;46;63;27;43;45)は、部分円の形態を有することを特徴とする請求項2に記載の結像光学系。
- 前記曲線(27,28;45,46,53,54)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項3に記載の結像光学系。
- 前記曲線(41;43)に相対する前記長手線(40;42)は、真っ直ぐに延びることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記曲線(27;45;53;63)に相対する前記長手線(28;46;54,64)は、湾曲に延びることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 湾曲に延びる前記長手線(28;45;53;63)は、弓形に延びることを特徴とする請求項6に記載の結像光学系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、部分円の形態で延びることを特徴とする請求項7に記載の結像光学系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項8に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(9)は、楔形態を有することを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(9)は、2つの台形の半視野(74,75)から構成されることを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(9)は、狭窄部を有することを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像光学系(12;32;38;44;69;70)は、少なくとも6つのミラー(M1からM6;M1からM8)を有することを特徴とする請求項1から請求項12のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像光学系(38)は、厳密に8つのミラー(M1からM6;M1からM8)を有することを特徴とする請求項13に記載の結像光学系。
- 最大で1nm(rms値)である前記物体視野(9)内の波面誤差を特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 物体平面(11)の照明視野(9)を照明するための照明光学系(10)であって、
照明視野(9)が1よりも大きいアスペクト比を有し、かつ長手寸法(x)が長手辺に沿って延び、かつ横手寸法(y)が短幅辺に沿って延びるようなに照明光(3)を誘導する照明光学系(10)の構成要素の構成を備え、
前記照明視野(9)の最小横手寸法YS mim と最大横手寸法YS max との比が0.9よりも小さく、
前記照明光学系は、視野形成のための照明光を絞ることなく、上記のような前記横手寸法の変化を生じるように設計されている照明光学系(10)と、
EUV光源(2)と、
を有する照明系と、
物体視野(9)を像視野(13)に結像するための請求項1に記載の結像光学系(12;32;38;44;69;70)と、
を有することを特徴とする投影露光系。 - 前記照明光(3)を誘導する照明光学系(10)の前記構成要素のうちの少なくとも1つの反射面が、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成されることを特徴とする請求項16に記載の投影露光系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、
曲線(41;46;63)と、
前記曲線(41;46;63)に相対する長手線(40;45;64)と、
前記曲線(41;46;63)と前記長手線(40;45;64)の2つの端部を各場合に接続する2つの境界線(29,30)と、
によって境界が定められる、
ことを特徴とする請求項16又は請求項17に記載の投影露光系。 - 前記曲線(41;46;63;27;43;45)は、部分円の形態を有することを特徴とする請求項18に記載の投影露光系。
- 前記曲線(27,28;45,46,53,54)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項19に記載の投影露光系。
- 前記曲線(41;43)に相対する前記長手線(40;42)は、真っ直ぐに延びることを特徴とする請求項18から請求項20のいずれか1項に記載の投影露光系。
- 前記曲線(27;45;53;63)に相対する前記長手線(28;46;54,64)は、湾曲に延びることを特徴とする請求項18から請求項20のいずれか1項に記載の投影露光系。
- 湾曲に延びる前記長手線(28;45;53;63)は、弓形に延びることを特徴とする請求項22に記載の投影露光系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、部分円の形態で延びることを特徴とする請求項23に記載の投影露光系。
- 前記曲線(46;27)に相対する前記長手線(45;28)は、最大で300mmである半径を有することを特徴とする請求項24に記載の投影露光系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、楔形態を有することを特徴とする請求項16又は請求項17に記載の投影露光系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、2つの台形の半視野(74,75)から構成されることを特徴とする請求項16又は請求項17に記載の投影露光系。
- 前記物体又は照明視野(9)は、狭窄部を有することを特徴とする請求項16から請求項27のいずれか1項に記載の投影露光系。
- 反射面を備えた複数の視野ファセット(18;50)を有する視野ファセットミラー(6;49)と、
前記視野ファセットミラー(6;49)の前記視野ファセット(18;50)の結像を前記照明視野(9)において重ねるための後続光学系(7,8)と、
を特徴とする請求項16から請求項28のいずれか1項に記載の投影露光系。 - 前記視野ファセット(18;33;50;56)のうちの少なくとも1つの前記反射面は、前記照明視野(9)と幾何学的に類似した方式で構成されないことを特徴とする請求項29に記載の投影露光系。
- 前記視野ファセット(50)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、矩形であることを特徴とする請求項29又は請求項30に記載の投影露光系。
- 前記視野ファセット(18)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、弓形であることを特徴とする請求項29又は請求項30に記載の投影露光系。
- 前記視野ファセット(56)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、樽形であることを特徴とする請求項29又は請求項30に記載の投影露光系。
- 前記視野ファセット(33)のうちの少なくとも1つの前記反射面の境界が、真っ直ぐに延びる長手辺(36)と弓形に延びる長手辺(37)とで構成されることを特徴とする請求項29又は請求項30に記載の投影露光系。
- 前記視野ファセットミラー(6)のベース平面(xy)上への前記視野ファセット(18)のうちの少なくとも2つの前記反射面の投影面が、以下のパラメータ:
サイズ、
形態、
向き、
のうちの少なくとも1つに関して異なることを特徴とする請求項29から請求項34のいずれか1項に記載の投影露光系。 - 前記照明光学系(10)は、該照明光学系(10)によって照明される照明視野(9)が、前記結像光学系(12;32;38;44;69;70)の物体視野(9)を完全に包含するように構成されることを特徴とする請求項16から請求項35のいずれか1項に記載の投影露光系。
- 前記照明視野(9)は、前記物体視野(9)の面積よりも最大で5%大きい面積を有することを特徴とする請求項36に記載の投影露光系。
- 微細構造化構成要素を製造する方法であって、
レチクルとウェーハを準備する段階と、
請求項16から請求項37のいずれか1項に記載の投影露光系(1)を用いて前記レチクル上の構造を前記ウェーハの感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ上に微細構造を製造する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US21982309P | 2009-06-24 | 2009-06-24 | |
DE102009030501A DE102009030501A1 (de) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
DE102009030501.7 | 2009-06-24 | ||
US61/219,823 | 2009-06-24 | ||
PCT/EP2010/057971 WO2010149487A2 (en) | 2009-06-24 | 2010-06-08 | Imaging optical system for imaging an object field in an image field and illumination optical system for illuminating an object field |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013252435A Division JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012531055A JP2012531055A (ja) | 2012-12-06 |
JP5485384B2 true JP5485384B2 (ja) | 2014-05-07 |
Family
ID=43298912
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012516619A Active JP5485384B2 (ja) | 2009-06-24 | 2010-06-08 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
JP2013252435A Pending JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013252435A Pending JP2014059584A (ja) | 2009-06-24 | 2013-12-05 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9182578B2 (ja) |
EP (1) | EP2446313A2 (ja) |
JP (2) | JP5485384B2 (ja) |
KR (1) | KR101473536B1 (ja) |
CN (1) | CN102483516B (ja) |
DE (1) | DE102009030501A1 (ja) |
WO (1) | WO2010149487A2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009030501A1 (de) | 2009-06-24 | 2011-01-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
DE102011080437A1 (de) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie |
DE102012207866A1 (de) * | 2012-05-11 | 2013-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie |
DE102012208064A1 (de) * | 2012-05-15 | 2013-11-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie |
DE102013213564A1 (de) | 2013-07-11 | 2015-01-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Hohlwellenleiter-Baugruppe |
DE102013218749A1 (de) | 2013-09-18 | 2015-03-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem sowie Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie |
DE102014203187A1 (de) * | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie |
DE102014217612A1 (de) * | 2014-09-03 | 2016-03-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungoptik für die Projektonslithograpfie |
DE102015221984A1 (de) * | 2015-11-09 | 2017-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik |
DE102017118438A1 (de) * | 2017-08-14 | 2019-02-14 | Valeo Schalter Und Sensoren Gmbh | Optisches System für eine Empfängereinheit einer Laserabtastvorrichtung, Empfängereinheit, Laserabtastvorrichtung und Fahrzeug |
US11042097B1 (en) | 2019-12-31 | 2021-06-22 | Soulnano Limited | Multi-mirror UV-LED optical lithography system |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5315629A (en) | 1990-10-10 | 1994-05-24 | At&T Bell Laboratories | Ringfield lithography |
JP3348928B2 (ja) * | 1993-08-26 | 2002-11-20 | 株式会社ニコン | 走査露光方法、走査型露光装置、及び露光量制御装置 |
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DE102005034829A1 (de) * | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Leica Microsystems (Schweiz) Ag | Mikroskop mit einer Operationsspaltlampe mit Laserlichtquelle |
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JP4990287B2 (ja) * | 2005-10-18 | 2012-08-01 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 波長が193nm以下の照明システム用集光器 |
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EP1950594A1 (de) | 2007-01-17 | 2008-07-30 | Carl Zeiss SMT AG | Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik |
JP2008258461A (ja) | 2007-04-06 | 2008-10-23 | Canon Inc | 反射型縮小投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP5077724B2 (ja) | 2007-06-07 | 2012-11-21 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィツール用の反射照明システム |
DE102007033967A1 (de) * | 2007-07-19 | 2009-01-29 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv |
US20090040493A1 (en) * | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Hideki Komatsuda | Illumination optical system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
DE102009030501A1 (de) | 2009-06-24 | 2011-01-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Objektfeldes |
-
2009
- 2009-06-24 DE DE102009030501A patent/DE102009030501A1/de not_active Ceased
-
2010
- 2010-06-08 CN CN201080037247.0A patent/CN102483516B/zh active Active
- 2010-06-08 EP EP10730395A patent/EP2446313A2/en not_active Withdrawn
- 2010-06-08 KR KR1020127001177A patent/KR101473536B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-08 WO PCT/EP2010/057971 patent/WO2010149487A2/en active Application Filing
- 2010-06-08 JP JP2012516619A patent/JP5485384B2/ja active Active
-
2011
- 2011-12-15 US US13/326,516 patent/US9182578B2/en active Active
-
2013
- 2013-12-05 JP JP2013252435A patent/JP2014059584A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9182578B2 (en) | 2015-11-10 |
JP2014059584A (ja) | 2014-04-03 |
JP2012531055A (ja) | 2012-12-06 |
CN102483516B (zh) | 2015-09-30 |
CN102483516A (zh) | 2012-05-30 |
US20120147347A1 (en) | 2012-06-14 |
KR20120087876A (ko) | 2012-08-07 |
KR101473536B1 (ko) | 2014-12-16 |
WO2010149487A3 (en) | 2011-02-17 |
DE102009030501A1 (de) | 2011-01-05 |
EP2446313A2 (en) | 2012-05-02 |
WO2010149487A2 (en) | 2010-12-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130531 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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