TWI414896B - 用於極紫外光微影術之照明系統及用於此形式之照明系統之第一及第二光學元件 - Google Patents

Description

用於極紫外光微影術之照明系統及用於此形式之照明系統之第一及第二光學元件

本發明有關一用於極紫外光微影術之照明系統，用於以一第一光學元件以極紫外光輻射來照明一物表面的一預定照明場以在照明系統中產生次級光源，該第一光學元件係被紫外線輻照衝擊，該第一光學元件的經衝擊表面分成複數個第一斷面元件，其各指派予極紫外光輻射的部份束，其中一第二光學元件位於第一光學元件所產生之次級光源的區位處，該第二光學元件經由第一光學元件以極紫外光輻射作衝擊，其可衝擊表面係分成複數個第二斷面元件，其各指派予第一斷面元件的至少一者，作用在各別第二斷面元件上以產生次級光源，其係為一用以在物表面所預定的一平面中成像第一光學元件之光學配置的至少部份。本發明亦有關使用於此類型的一照明系統中之一第一及一第二光學元件。

一具有一對應第一及第二光學元件之一般性照明場係自US 6 658 084 B2得知。其他照明系統係自DE 102 19 514 A1及US 2007/0058274 A1得知。這些公開案描述利用可位移場斷面元件之不同照明設定的產生。藉由各不同照明設定，物表面以照明角度的一不同分佈被照明。此已知的照明系統需要具有大量光瞳斷面之一很複雜的第二光學元件。此類型的斷面很昂貴。

本發明之一目的係為發展在開始時所提到即便使用一具有較少斷面元件之第二光學元件時仍可能在不同照明設定之間改變之上述類型的一照明系統。

根據本發明藉由一照明系統來達成此目的，其中第一斷面元件的至少兩者係構形且定向為使其藉由用以構成整個照明場的照明場之至少兩部份場的同一者之光學配置被成像，部份場之間的一交會(若存在此交會)總是小於對於交會具有貢獻之部份場的各者。

已經發現，根據本發明，並非絕對需要複製同一影像區域中的所有第一斷面元件，而是可能將照明場構形為個別部份場的一總成而其一起構成完全的照明場。如此一來，整個照明場並未經由任何部份場被照明。此基本途徑係容許第二斷面元件以較彈性方式使用。這些第二斷面元件可被彼此處於一空間距離之複數個第一斷面元件所輻照。自作用在同一第二斷面元件上之不同第一斷面元件散發之極紫外光輻射的部份束係隨後被成像於不同部份場中。如此可能藉由指派予複數個第一斷面元件之同一第二斷面元件來成像極紫外光輻射的部份束。此彈性可容許利用一相較於先前技藝具有少量第二斷面元件之第二光學元件來產生不同照明設定，同時仍容許利用此類型的一第二光學元件之一照明設定的產生，在該照明設定中提供第一及第二斷面元件之1：1指派。因此可產生不同的照明設定而無光損失且無需更換光學組件。可產生一習知設定亦即第二光學元件的一均質性照明同時緊密地充填第二光學元件。藉由將照明場分成至少兩部份束，故可以預設物體的位移方向中之一極紫外光強烈度輪廓。譬如，可以將一高斯(Gaussian)、羅倫茲(Lorenzian)、梯形或其他輪廓設定為內定。藉由使物體位移將物表面預設成垂直於照明場的部份場區分，可以確保物體在所有部份場上方被照明，故各部份場可參與照明一預定物體點。可利用部份場上方之物體點的此順序性照明來譬如達成一敏感晶圓層之一所想要啟動，其譬如為一受照明的物表面之一範例。

可位移的第一斷面元件，其中第一斷面元件的至少選擇部分可藉由在各例中與選定第一斷面元件相關聯之致動器移動於不同設定位置之間，可移式第一斷面元件的各設定位置中，在各例中與其相關聯之部份束係被可移式第一斷面元件偏向以產生預定照明設定的一者，第二斷面元件的至少一者被定位之方式係使其可藉由預定照明設定的至少一者中之至少兩不同第一斷面元件被作用在其上，導致自動改變於不同照明設定之間的可能性。

對應於能夠作用在相同第二斷面元件上之第一斷面元件的最大數量之部份場的一數量係同時身為最小需要之部份場的數量。結果係為一不佔體積的照明場。兩、三或更多個第一斷面元件係可被配置至一第二斷面元件以作用在其上。

一以部份場條片形式被分成至少兩相鄰部份場且特別是具有相同表面積之照明場係可容許一相對較簡單構造的光學配置。部份場特別在一照明系統身為其組件之投射照射裝備的一掃描方向中彼此相鄰。這確保一譬如被照明場所掃描的晶圓等之受照明基材接續地穿過至少兩部份場。

身為曲線狀的部份場及第二斷面元件之至少一者係降低對於光學配置所作之要求。

藉由其中第二斷面元件的至少一者之配置方式使其可藉由確切兩個相鄰第一斷面元件被作用在其上之照明系統的一配置，因為可在極紫外光輻射的個別部份束之間避免大角度，降低了對於成像所作之要求。

可藉由在各例中與選定第二斷面元件相關聯之一致動器被位移之第二斷面元件係增加了照明系統之彈性。

一具有被構形為反射元件之第一及第二斷面元件的至少一者之照明系統係具有低損失。

其中第一斷面元件數量與第二斷面元件數量相同之一配置係可容許第一斷面元件對於第二斷面元件之1：1指派。

具有小於對於交會具有貢獻的最小部份場之尺寸的95%及90%及80%及60%及40%及20%的至少一者之尺寸之部份場之間的交會，在照明場的部份場之間已經證實係有利於照明系統之實際實現，特別是預設對於物表面之一所想要的順序性照明尤然。

其中第一斷面元件的至少兩者經由同一第二斷面元件在照明場中被成像之照明系統的優點，係與其中第一斷面元件的至少兩者構形且定向為使其在用以構成整個照明場的照明場之至少兩部份場的同一者中被光學配置所成像之照明系統者相同，部份場之間的一交會(若存在此交會)總是小於對於交會具有貢獻之部份場的各者。

本發明之另一目的係提供根據本發明用於照明系統之一第一及一第二光學元件。藉由使用於一照明系統中的一第一及一第二光學元件根據本發明達成此目的，其中第一斷面元件的至少兩者係構形且定向為使其在用以構成整個照明場之照明場的至少兩部份場之同一者中藉由光學配置被成像，部份場之間的一交會(若存在此交會)總是小於對於交會具有貢獻之部份場的各者。

光學元件的優點係與根據本發明上文參照照明系統所已經提及者相同。

圖式簡單說明

下文參照圖式更詳細地描述本發明的實施例。

第1圖示意地顯示用於極紫外光微影術之一照明系統中的光束路徑；第2圖示意地顯示根據第1圖的照明系統之組件，更特別是一第一光學元件，其分成複數個斷面元件以在照明系統中產生次級光源，一第二光學元件，其在所產生次級光源的區位處分成複數個第二斷面元件及一物表面上的一照明場，第二斷面元件被照明以製備一均質性、習知照明設定；第3圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以製備一大直徑的一環狀設定；第4圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以製備一相較於第2圖的照明設定來說具有小照明角度之均質性照明設定；第5圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以一x偶極的方式製備一照明設定；第6圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以一y偶極的方式製備一照明設定；第7圖顯示具有曲線狀第一斷面元件的另一實施例之類似第3圖的圖式；第8圖顯示具有一不同放大的另一實施例之類似第2圖的圖式；第9圖顯示根據第8圖的實施例之類似第3圖的圖式。

第1圖顯示一用於以極紫外光(EUV)輻射4照明一物表面3的一預定照明場2之照明系統1。

使用一電漿源作為用於極紫外光輻射4之源5。極紫外光輻射的波長譬如位於10至20 nm之間。第1及2圖中使用一笛卡兒座標系(x,y,z)，下文參照座標(x,y,z)。第1圖中，x方向垂直於投射平面而延伸，y方向延伸至右側而z方向往下延伸。

自源5發射之極紫外光輻射係被一反射極紫外光輻射之收集器6初始地收集，就像所有下列鋼導組件。自源5發射之極紫外光輻射4係衝擊在一第一光學元件7上，其亦稱為場掃描元件。利用第一光學元件7來產生照明系統1中之次級光源。被極紫外光輻射4所衝擊之第一光學元件7的一反射表面係分成複數個第一斷面元件，第1圖中藉由範例顯示其中四個第一斷面元件8至11。後者指派予極紫外光輻射4的部份束12至15。第一斷面元件為長方形，其範圍在x方向中比y方向中實質地更大。第一斷面元件8至11的一典型尺寸比(x：y)為20：1。

第一斷面元件8至11各者可在沿平行於x方向及y方向的軸線之不同設定位置之間呈傾斜。基於此目的，第一斷面元件8至11各者連接至一相關聯的致動器。第1圖中，作為一代表物，顯示一致動器16，如17處虛線所示，其機械性連接至第一斷面元件11以使該斷面元件11沿兩軸線(x/y)的一者選擇性地傾斜。致動器16經由一控制線18連接至一中央控制裝置19。該控制裝置19經由對應控制線(未圖示)連接於與第一斷面元件8至11且與未圖示的第一斷面元件相關聯之其他致動器。

第一斷面元件的配置之範例顯示於US 2003/0086524 A1的第7至14圖中，其整體合併於本文中以供參考。

一亦稱為光瞳掃描元件之第二光學元件20係定位於第一光學元件7所產生之次級光源的區位處，亦即位於對於源5之一像平面中。該第二光學元件20經由第一光學元件7被極紫外光輻射4衝擊。第二光學元件20的可衝擊表面分成複數個第二斷面元件，第1圖中藉由範例顯示其中四個斷面元件21至24。第二斷面元件21至24各指派予第一斷面元件8至11的一者，故在各別經充載(charged)第二斷面元件21至24的區位處產生一各別次級光源。根據第1圖的圖示中，第二斷面元件21指派予第一斷面元件8，第二斷面元件23指派予第一斷面元件9，第二斷面元件22指派予第一斷面元件10且第二斷面元件24指派予第一斷面元件11。

就像第一斷面元件8至11，第二斷面元件21至24及未圖示之第二光學元件20的其他斷面元件係可沿平行於x及y方向的軸線經由致動器呈現傾斜。第1圖示意地顯示，作為一範例，一與第二斷面元件21相關聯且在26處以虛線顯示之致動器25係機械性連接至第二斷面元件21以傾斜該第二斷面元件21。致動器25亦經由一控制線18與控制裝置19呈信號連接。

第一斷面元件及第二斷面元件係為反射元件。

第二光學元件20係為一光學配置的部份，其包含複數個光學組件且在由物表面3所預定的一平面30中形成第一光學元件7的一影像。用於極紫外光輻射之另兩個反射元件28、29係屬於光學配置27，第二光學元件20下游之反射元件28以一小入射角譬如一30°入射角反射極紫外光輻射，而位於極紫外光輻射4的後續光束路徑中之反射元件29藉由掠射入射來反射極紫外光輻射。

第2圖以高度圖解方式顯示照明場2中的影像形成期間第一及第二斷面元件之間的指派關係。就此來說，第2圖的投射平面係平行於x－y平面，且這亦適用於下列第3至9圖的投射平面。為了圖示之用，第2至9圖所示的組件已旋轉至x－y平面中。這些組件實際上亦可以不同方式被定向。與上文已參照第1圖描述者相同之第2至9圖的組件係具有相同編號且將不再詳述。

第2圖顯示四個斷面元件8至11，其代表第一光學元件7的所有第一斷面元件。代表第二光學元件20的所有第二斷面元件，第二斷面元件21至24為了示範用在第2圖中配置如下：第二斷面元件21及24係為由第二斷面元件所組成之一內環的組件。第二斷面元件22及23係為第二斷面元件的一外環之組件。整體圓形第二光學元件20具有複數個此等同心配置之第二斷面元件的環。第二斷面元件可以一平均分佈的x/y光柵方式作配置。US 2003/0086524 A1的第15圖提供其一範例。

第一斷面元件8至11對於第二斷面元件21至24之指派係使其產生一均質性、習知照明設定。連同未圖示的其他第二斷面元件，第二光學元件20的所有第二斷面元件，亦即不只所顯示的第二斷面元件21至24亦包括相關聯光柵的所有其他第二斷面元件係被一各別第一斷面元件所照明。第二光學元件20因此被均質性地照明。

第一斷面元件8及10的構形及定向方式係使其藉由第2圖的配置中之光學配置27被成像於照明場2的一下部份場31中。第一斷面元件9及11的構形及定向方式係使其藉由光學配置27被成像於照明場2的上部份場32中。兩部份場31、32具有相同表面積。部份場31、32具有與第一斷面元件8至11相同之尺寸比。兩部份場31、32由於光學配置27的成像性質而略微呈拱形曲線狀。兩部份場31、32構成完全的照明場2。第2圖所示之理想化範例中，兩部份場31、32係緊鄰於彼此，而無重疊。實際上，兩部份場31、32的重疊方 式係使得兩部份場31、32亦即重疊區的交會總是小於各部份場31、32的面積。

根據第2圖的實施例中，第一斷面元件8至11係以一負放大率在像平面30中被成像。

照明場2區分成兩部份束31、32係導致每第二斷面元件的一部分在部份場31、32各者中被照明，故在各部份場中，照明係發生於根據第2圖的照明設定中所出現之所有照明角的選定照明角。兩部份場31、32的唯一疊置係導致物表面3在照明設定的所有照明角度被照明。藉由使物表面3在y方向中位移來進行此疊置。此位移可連續地或步進式進行，在該例中一步的長度必須不大於一部份場的y範圍。利用此方式，物表面3上的各點(該點穿過部分場31、32)係整合其中所輻射之極紫外光輻射的曝露效應，故通過之後，已經從照明設定中可能的所有照明角進行一照明。

第3圖顯示第1圖的配置所可能之另一照明段。此另一照明設定係為所謂大環狀設定者。從根據第2圖的情況開始，藉由使第一斷面元件8沿其平行於x方向的縱軸線傾斜且藉由使第二斷面元件23沿其平行於y方向的縱軸線傾斜來設定此大環狀設定。由於這些傾斜作用之故，第一斷面元件8此時作用在第二斷面元件23上且第一斷面元件11作用在第二斷面元件22上。第二斷面元件22因此被指派予兩第一斷面元件，更確切來說為第一斷面元件10及11。為此，第二斷面元件23被指派予第一斷面元件8及9。第二斷面元件22、23的配置方式係在根據第3圖的照明設定中使其因此 分別藉由兩不同相鄰第一斷面元件被作用在其上，更確切來說一方面在第一斷面元件10及11上且另一方面藉由第一斷面元件8及9。第二斷面元件21、24並未藉由第一光學元件7被作用在其上。

第3圖中，如根據第2圖的設定中，下部份場31係被來自第一斷面元件8及10的輻射所衝擊。上部份場32被來自第一斷面元件9及11的輻射所衝擊。

當在第2及3圖所示者之間改變照明設定時不需使第二斷面元件22、23位移。

根據第3圖的環狀設定中，照明角度在一不為零的最小照明角與一最大照明角之間變動。

第4圖顯示可以根據第1及2圖的配置所產生之另一照明設定。這是所謂習知小環狀設定者，其具有小於根據第3圖的環狀設定的最小照明角之一最大照明角。

相較於第2圖的設定，第4圖中，兩第一斷面元件9及10分別在x及y方向中傾斜。第一斷面元件9連同第一斷面元件8此時係作用在第二斷面元件21上。第一斷面元件10連同第一斷面元件11此時衝擊於第二斷面元件24上。第二斷面元件22、23並未被第一光學元件7作用於其上。

如根據第2圖的設定，第4圖中，下部份場31係被來自第一斷面元件8及10之輻射所衝擊。上部份場32被來自第一斷面元件9及11的輻射所衝擊。

當在根據第2及4圖的照明設定之間改變時並不需要使第二斷面元件21及24位移。

第5圖顯示可以根據第1及2圖的配置所產生之另一照明設定。這是所謂一x偶極的方式之一種照明設定。在此例中，照明係發生在對應於根據第2圖的習知設定之一照明角範圍上方的x－z平面中。與其垂直地，y－z平面中，照明係發生在可能往外增大之較小照明角的一區中。

根據第5圖的設定中，從第一斷面元件10、11開始之光束路徑係對應於根據第3圖的設定之光束路徑。從第一斷面元件8及9散發之輻射係共同地衝擊第二斷面元件24，從第一斷面元件8散發之輻射在下部份場31中被衝擊，從第一斷面元件9散發之輻射在上部份場32中被衝擊。

在根據第2及5圖的照明設定之間轉折的期間，需要傾斜第二斷面元件24以確保從第一斷面元件8及9散發的輻射事實上在照明場2中被正確地成像。

第6圖顯示可在根據第1及2圖的配置中產生之另一照明設定。這是所謂y偶極模式的方式之一照明設定。根據連同第5圖的設定所進行者，照明場中的照明角在第6圖的設定中分佈的方式係如根據第2圖的習知設定在y－z平面中具有一角度分佈並對應於根據第5圖的設定之y－z平面中者在x－z平面中具有一照明角分佈。

相較於第2圖的設定，為了調整根據第6圖的設定，不只第一斷面元件8、10及11必須傾斜而且第二斷面元件21亦然，故從第一斷面元件10、11散發之輻射在照明場3中被正確地成像。

根據第6圖的設定中，第一斷面元件8、9共同地放射第二斷面元件23且第一斷面元件10、11共同地放射第二斷面元件21。

第7圖顯示就像第1及2圖的照明系統之一照明系統的另一實施例，其調整成就像第3圖的設定之一照明設定。對應於上文已參照第1至6圖描述者之組件係具有相同編號且不再詳述。不同於根據第1及2圖的實施例之長方形第一斷面元件，根據第7圖的配置之第一光學元件7具有略微呈拱形曲線狀第一斷面元件8至11。

曲線狀第一斷面元件8至11係藉由光學配置27在曲線狀部份場31、32中被成像。

第8及9圖顯示一照明系統1的另一實施例。對應於已參照第1至7圖所述者之組件係具有相同編號而不再詳述。

不同於根據第1至7圖的實施例，第二光學元件20及就像元件28及29(未圖示)等其他折射元件所屬於之根據第8及9圖的實施例之光學配置27係具有一正放大率。根據第8及9圖的實施例中，這導致第一斷面元件9及11此時在照明場2的下部份場31中被成像。第一斷面元件8及10在上部份場32中被成像。

第8圖顯示對應於第2圖者之一習知設定。就部份束12至15的引導來說，第一斷面元件8被指派予第二斷面元件23，第一斷面元件9被指派予第二斷面元件21，第一斷面元件10被指派予第二斷面元件22且第一斷面元件11被指派予第二斷面元件24。

根據第8圖的配置中，第9圖顯示第一斷面元件9及11傾斜所產生之另一照明設定，故產生就像第3圖的設定之一大環狀設定。第二斷面元件23藉由兩第一斷面元件8及9被共同地作用於其上。第二斷面元件22藉由兩第一斷面元件10及11被共同地作用在其上。

照明系統1係為一用於微影術的投射照明裝備之部份，藉以將一具有物表面之物體(亦即，譬如一罩幕或主光罩)成像在一晶圓上以產生經整合組件，譬如微處理器或記憶體晶片。

第一光學元件7可構形為使得只有特定第一斷面元件可被致動器所傾斜，而其他第一斷面元件則為靜態。第二光學元件20亦可依此配備有可傾斜及靜態第二斷面元件。亦可能使第二光學元件20一般配備有靜態第二斷面元件，易言之，不在該處提供一傾斜選擇。

第一光學元件7之第一斷面元件的數量係與第二光學元件20之第二斷面元件的數量相同。或者，可以提供一第二光學元件20，其斷面元件的數量係大於或小於第一光學元件之第一斷面元件的數量。

上述實施例中，兩第一斷面元件8至11的一最大值係指派予第二斷面元件21至24。亦可能使大於兩個第一斷面元件在各例中與一第二斷面元件相關聯。構成照明場之部份場的最小值數量係依此增加。

原則上，亦可能將照明系統之至少個別組件構形為透射性組件。

1．．．照明系統

2．．．預定照明場

3．．．物表面

4．．．極紫外光(EUV)輻射

5．．．源

6．．．收集器

7．．．第一光學元件

8－11．．．第一斷面元件

12－15．．．部份束

16,25．．．致動器

18．．．控制線

19．．．中央控制裝置

20．．．第二光學元件

21－24．．．第二斷面元件

27．．．光學配置

28,29．．．反射元件

30．．．平面

31．．．下部份場

32．．．上部份場

第1圖示意地顯示用於極紫外光微影術之一照明系統中的光束路徑；第2圖示意地顯示根據第1圖的照明系統之組件，更特別是一第一光學元件，其分成複數個斷面元件以在照明系統中產生次級光源，一第二光學元件，其在所產生次級光源的區位處分成複數個第二斷面元件及一物表面上的一照明場，第二斷面元件被照明以製備一均質性、習知照明設定；第3圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以製備一大直徑的一環狀設定；第4圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以製備一相較於第2圖的照明設定來說具有小照明角度之均質性照明設定；第5圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以一x偶極的方式製備一照明設定；第6圖顯示類似第2圖的圖式，第二斷面元件被照明以一y偶極的方式製備一照明設定；第7圖顯示具有曲線狀第一斷面元件的另一實施例之類似第3圖的圖式；第8圖顯示具有一不同放大的另一實施例之類似第2圖的圖式；第9圖顯示根據第8圖的實施例之類似第3圖的圖式。

2．．．預定照明場

7．．．第一光學元件

8－11．．．第一斷面元件

20．．．第二光學元件

21－24．．．第二斷面元件

31．．．下部份場

32．．．上部份場

Claims (18)

1. 一種用於極紫外光(EUV)微影術的照明系統，其以極紫外光輻射來照明一物表面的一預定照明場，a)藉由一第一光學元件用以在該照明系統中產生次級光源，aa)該第一光學元件係被該極紫外光輻射所衝擊，ab)該第一光學元件的經衝擊表面係分成複數個第一斷面元件，其各被指派予該極紫外光輻射的部份束，b)藉由該第一光學元件所產生之該次級光源的區位處之一第二光學元件，ba)經由該第一光學元件，該第二光學元件被極紫外光輻射所衝擊，bb)其該可衝擊表面被分成複數個第二斷面元件，其各被指派予該等第一斷面元件的至少一者，該等第一斷面元件作用在該各別第二斷面元件上以產生該等次級光源，bc)其係為一光學配置的至少部份，其用以將該第一光學元件成像在一由該物表面所預定的平面中，其特徵在於c)該等第一斷面元件的至少兩者係構形且定向為使其在用以構成該整個照明場之該照明場的至少兩部份場的同一者中藉由該光學配置被成像，該等部份場之間之一若有存在的交會係總是小於對於該交會具有貢 獻之該等部份場的各者。
2. 如申請專利範圍第1項之照明系統，用以在選自不同可預定照明設定的一設定中藉由極紫外光輻射選擇性照明一物表面的一預定照明場，其中bc)該等第一斷面元件的至少選擇部分可藉由在各例中與該等選定第一斷面元件相關聯之致動器被移動於不同設定位置之間，bd)該可移式第一斷面元件的各設定位置中，在各例中與其相關聯之該部份束係藉由該可移式第一斷面元件被偏向以產生該等預定照明設定的一者，e)該等第二斷面元件的至少一者被定位的方式使其可在該等預定照明設定的至少一者中藉由至少兩不同第一斷面元件被作用於其上。
3. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中其組態使得該等部份束的數量對應於能夠作用在該相同第二斷面元件上之該等第一斷面元件的最大值數量。
4. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該照明場分成部份場條片形式之至少兩相鄰部份場，其特別是具有相同表面積。
5. 如申請專利範圍第4項之照明系統，其中該等部份場及該等第一斷面元件的至少一者為曲線狀。
6. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等第二斷面 元件的至少一者之排列方式係使其可藉由確切兩個相鄰第一斷面元件被作用於其上。
7. 如申請專利範圍第2項之照明系統，其中該等第二斷面元件的至少一者可利用在各例中與該等選定第二斷面元件相關聯之致動器被位移於不同設定位置之間。
8. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等第一及第二斷面元件的至少一者構形為反射元件。
9. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等第一斷面元件的數量係與該等第二斷面元件的數量相同。
10. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的95%。
11. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的90%。
12. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的80%。
13. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的60%。
14. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的40%。
15. 如申請專利範圍第1項之照明系統，其中該等部份場之間的交會係小於對於該交會具有貢獻之該最小部份場的20%。
16. 一種用於極紫外光(EUV)微影術的照明系統，其用於以極紫外光輻射來照明一物表面的一預定照明場，a)藉由一第一光學元件用以在該照明系統中產生次級光源，aa)該第一光學元件係被該極紫外光輻射所衝擊，ab)該第一光學元件的經衝擊表面係分成各指派予該極紫外光輻射的部份束之複數個第一斷面元件，b)藉由該第一光學元件所產生之該次級光源的區位處之一第二光學元件，ba)其經由該第一光學元件被極紫外光輻射所衝擊，bb)其該可衝擊表面被分成複數個第二斷面元件，其各指派予該等第一斷面元件的至少一者，其作用在該各別第二斷面元件上以產生該等次級光源，bc)其係為一光學配置的至少部份，其用以將該第一光學元件成像在一由該物表面所預定的平面中，其特徵在於該等第一斷面元件的至少兩者係經由同一第二斷 面元件在該照明場中被成像。
17. 一種第一光學元件，其使用於一極紫外光(EUV)微影術的照明系統中，其以極紫外光輻射來照明一物表面的一預定照明場，其中藉由該第一光學元件用以在該照明系統中產生次級光源，該第一光學元件係被該極紫外光輻射所衝擊，該第一光學元件的經衝擊表面係分成複數個第一斷面元件，其各被指派予該極紫外光輻射的部份束該等第一斷面元件的至少兩者係構形且定向為使其在用以構成該整個照明場之該照明場的至少兩部份場的同一者中藉由一光學配置被成像，該等部份場之間之一若有存在的交會係總是小於對於該交會具有貢獻之該等部份場的各者。
18. 一種第二光學元件，其使用於一極紫外光(EUV)微影術的照明系統中，其以極紫外光輻射來照明一物表面的一預定照明場，其中藉由該第一光學元件所產生之該次級光源的區位處之該第二光學元件，經由該第一光學元件，該第二光學元件被極紫外光輻射所衝擊，其該可衝擊表面被分成複數個第二斷面元件，其各被指派予第一斷面元件的至少一者，該等第一斷面 元件作用在該各別第二斷面元件上以產生該等次級光源，其係為一光學配置的至少部份，其用以將該第一光學元件成像在一由該物表面所預定的平面中，該等第一斷面元件的至少兩者係構形且定向為使其在用以構成該整個照明場之該照明場的至少兩部份場的同一者中藉由該光學配置被成像，該等部份場之間之一若有存在的交會係總是小於對於該交會具有貢獻之該等部份場的各者。