JP6889103B2 - 投影リソグラフィのための照明光学ユニットのためのファセットミラー - Google Patents

Description

本特許出願は、ドイツ特許出願ＤＥ １０ ２０１４ ２１６ ８０１．５の優先権を主張するものであり、その内容は、引用によって本明細書に組み込まれている。

本発明は、投影リソグラフィのための照明光学ユニットのためのファセットミラーに関する。更に、本発明は、そのようなファセットミラーを含む照明光学ユニット、そのような照明光学ユニットを含む光学系及び同じく照明系、そのような光学系を含む投影露光装置、微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及び同じくそのような方法によって生成された微細又はナノ構造化構成要素に関する。

投影リソグラフィのための照明光学ユニットのためのファセットミラーは、ＥＰ １ ９２７ ８９２ Ａ１、ＵＳ ７，８５８，９５７ Ｂ２、ＵＳ ２０１２／０ ２９３ ７８５ Ａ１、ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２、ＤＥ １０ ２００６ ０１４ ３８０ Ａ１、ＤＥ １０３ １７ ６６７ Ａ１、ＤＥ １０ ２０１３ ２１２ ３６３ Ａ１、及びＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ０４８ Ａ１から公知である。

ＥＰ １ ９２７ ８９２ Ａ１ ＵＳ ７，８５８，９５７ Ｂ２ ＵＳ ２０１２／０ ２９３ ７８５ Ａ１ ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２ ＤＥ １０ ２００６ ０１４ ３８０ Ａ１ ＤＥ １０３ １７ ６６７ Ａ１ ＤＥ １０ ２０１３ ２１２ ３６３ Ａ１ ＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ０４８ Ａ１ ＵＳ ２０１０／０２３１８８２ Ａ１

本発明の目的は、異なる照明幾何学形状又は照明設定を作動的に確実かつ安定に設定することができるような冒頭に言及したタイプのファセットミラーを開発することである。

この目的は、請求項１に指定の特徴を含むファセットミラーを用いて本発明によって達成される。

本発明により、複数の変更サブユニットを変更サブユニットの共通ファセット担体上に収容することが、それぞれの使用ファセットの安定で作動的に確実な位置決めを実現する可能性をもたらすことが認識された。ＥＰ １ ９２７ ８９２ Ａ１に解説されているような様々な変更サブユニット間の交換は不要になる。使用ファセットは、それらの結像特性に関して、及び／又はそれらの方向影響特性に関して、及び／又は他のパラメータに関して異なる可能性がある。その結果は、特に、熱負荷可能なファセットミラーである。変更サブユニットの個数は、使用ファセット配置の行数に正確に等しいとすることができる。これに代えて、使用ファセット配置の単にセクションに変更可能使用ファセットが装備されるように意図される場合に、より少ない個数の変更サブユニットも設けることができる。変更サブユニットは、個々に割り当てられた変位アクチュエータを有することができる。変更サブユニットの変位は、使用ファセットのうちの正確に１つが当該変更サブユニットの変更ファセットに変更され、これが次に代わりの使用ファセットになることを保証する。全ての他の使用ファセットの位置決めは、当該変更サブユニットの変位とは独立して無変化に留まる。

変更サブユニットを用いて変更可能である使用ファセットとこの変更サブユニットに属さない隣接使用ファセットとの間の距離は、最大で２ｍｍとすることができる。変更サブユニットを用いて変更可能である使用ファセットとこの変更サブユニットに属さない使用ファセットとの間のそのような距離の方向に、隣接使用ファセットは、この距離が従ってこの使用ファセット広がりの最大で２０％であるように、この距離の少なくとも５倍である広がりを有することができる。これは、ファセットミラーの全ての使用ファセットの実質的に切れ目のない充填を可能にする。

請求項２による実施形態は、変更サブユニットのファセット行に沿って実質的に制限されない個数の変更ファセットを設けることを可能にする。各場合に異なる使用ファセットが使用される事前定義可能な照明設定の数は、相応に多い可能性がある。ファセット行に沿って、変更サブユニットは、直線的に変位可能な様式で具現化することができる。

請求項３に記載のピボット回転可能変更サブユニットは、ファセットミラーの構成において、変更サブユニットの安定なかつ同時にコンパクトな全体配置をもたらす。ピボット回転可能変更サブユニットはまた、３６０°を超えて回転可能である変更サブユニットとすることができる。ピボット回転可能様式で具現化された正確に１つの変更サブユニットは、２、３、４、５、６、又は更により多い変更ファセットを有することができる。

請求項４に記載の実施形態は、特に安定である。ファセット担体は、特に、球面壁を有することができる。壁セクションの回転対称軸は、それぞれの変更サブユニットのピボット軸又は回転軸に一致することができる。これに代えてかつ特に矩形使用ファセットを含むファセットミラーの構成において、ファセット担体はまた、平面壁を有することができ、それを通じて隣接変更サブユニットを互いに対して置くことができる。

請求項５に記載の構成は、２次元アレイに配置された視野ファセットを有する従来の視野ファセットミラーを置換するのに使用することができる。この場合に、視野ファセットは、矩形又は湾曲反射面を有することができる。

ファセットミラーは、請求項７に記載の照明光学ユニットにおいて伝達ファセットミラーとして又は鏡面ファセットミラーとして、又は請求項８に記載の照明光学ユニットにおいて視野ファセットミラーとして使用することができる。

請求項９に記載の光学系、請求項１０に記載の照明系、請求項１１に記載の投影露光装置、請求項１２に記載の生成方法、及び同じく請求項１３に記載の微細又はナノ構造化構成要素の利点は、本発明によるファセットミラー及び／又は本発明による照明光学ユニットに関して上述したものに対応する。微細又はナノ構造化構成要素は、半導体構成要素、特にマイクロチップ、例えばメモリチップとすることができる。

図面を参照して本発明の例示的実施形態を下記でより詳細に説明する。

複数の変更ファセットを含む図示の変更サブユニットを各場合に含む伝達ファセットミラーと鏡面ファセットミラーとを含む照明光学ユニットを含むＥＵＶ投影露光装置のＥＵＶ照明系を示す非常に概略的な図である。 各々が複数の変更ファセットを含む合計で３つの変更サブユニットのセクションを示すファセットミラーのうちの１つからの抜粋の斜視図である。 投影露光装置のための照明光学ユニットに使用することができるファセットミラーの変更サブユニットに関する更に別の実施形態の斜視図である。 投影露光装置のための照明光学ユニットに使用することができるファセットミラーの変更サブユニットに関する更に別の実施形態の斜視図である。 投影露光装置のための照明光学ユニットに使用することができるファセットミラーの変更サブユニットに関する更に別の実施形態の斜視図である。 変更サブユニットの更に別の実施形態のこのタイプの２つの変更サブユニットを互いに横並びで例示する側面図である。 図６に記載の変更サブユニットから構成されたファセットミラーのセクションの平面図である。 視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーとを含むＥＵＶ投影露光装置のＥＵＶ照明系の更に別の実施形態を同じく非常に概略的に示す図である。

ＥＵＶ照明系１を図１のＥＵＶ光源又はＥＵＶ放射線源２と照明視野又は物体視野３の間に略示している。ＥＵＶ照明系１は、高集積半導体構成要素、特にナノメートル範囲の構造を含むメモリチップを生成するためのＥＵＶ投影露光装置４の一部である。

照明系１は、照明視野の定められた照明のために寄与する。照明視野は、その中に実際の物体視野３が配置されるようにこの物体視野３よりも大きくすることができる。これに代えて、照明視野は、物体視野３に一致することができる。更に別の変形では、照明視野は、物体又はレチクルの変位方向に沿って物体視野３よりも小さくすることができる。照明視野は、物体変位方向と垂直に物体視野３よりも大きくすることができる。

図１に記載の実施形態において、放射線源は図２に記載のものであり、自由電子レーザ（ＦＥＬ）である。光源又は放射線源２は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲に放出使用放射線を有するＥＵＶ（極紫外）光源である。ＥＵＶ投影露光に使用される波長帯域又はＥＵＶ放射線のターゲット波長範囲は、例えば、１３．５ｎｍ±１ｎｍである。以下では、ＥＵＶ放射線を照明光及び結像光とも呼ぶ。例えば、５ｎｍと１７ｎｍの間の異なるターゲット波長範囲も可能である。使用ＥＵＶ波長帯域の帯域幅は、０．１ｎｍと２ｎｍの間にあるとすることができる。光源２は、シンクロトロン光源又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）に基づく光源である。光源２は、１０^-7ｍ²ｒａｄ²よりも小さいエタンデュを有する。エタンデュは、光エネルギの９０％を閉じ込める位相空間の最小体積である。

物体視野３は矩形である。これに代えて、物体視野３はまた、リング形状様式又は円弧様式に具現化することができる。

物体視野３には、照明されて結像される物体として、リソグラフィマスクとも呼ぶ反射レチクル５が配置される。レチクル５は、レチクルホルダ５ａによって担持され、これは、次に、レチクル変位デバイス５ｂに機械的かつ作動的に接続される。

物体視野３は、投影レンズ６を用いて像視野７に結像される。物体視野３の下流のビーム経路には、投影光学ユニット６の入射瞳を置くことができる。放射線源２によって生成されたＥＵＶ照明光９に対して感光性を有する層を有するウェーハ８のセクションは、像視野７に配置される。物体視野３に位置するレチクル５のセクションは、ウェーハ８の上に結像される。ウェーハ８を基板とも呼ぶ。ウェーハ８は、ウェーハ変位デバイス８ｂに機械的に接続されたウェーハホルダ８ａによって担持される。

ＥＵＶ投影露光装置４は、中央制御デバイス４ａを有し、かつスキャナの方式に具現化される。この場合に、走査方向は、物体視野３及び照明視野７の短辺と平行に延びる。

図１の平面図には、投影露光装置４の構成要素を全て概略的に例示している。この平面図では、物体視野３及び像視野７は、直交座標系の座標ｘ、ｙによって張られる。ｘ方向は、図１の右に向けて延びる。ｙ方向は図１の上方に延びる。放射線源２によって生成された照明光９の実際の主ビーム方向は、投影露光装置４内でｘｙ平面に対して実質的に垂直に延びる。

放射線源２によって放出された照明光９は、最初にビーム成形デバイス１０によって成形される。ビーム成形デバイス１０は、放射線源２によって低い発散で放出された照明ビームをｘ方向とｙ方向の両方に広げるｘｙスキャナを含むことができる。ビーム成形デバイス１０は、照明光９のビームがビーム成形デバイス１０の下流でどの程度の有効ｘ広がり及び有効ｙ広がりを有するかを個々に選択することを可能にする。ビーム成形デバイス１０の駆動は、照明光９のビーム経路内で続く光学要素のうちの１つ、特にビーム経路内の次の光学要素及び／又は物体視野５が照明光９によって均一に照明されるように選択することができる。

代替の実施形態において、ビーム成形デバイス１０は、照明光９を広げる少なくとも１つの静止ミラーを含む。この広がりは、照明光９のビーム経路内で続く光学要素のうちの１つ、特にビーム経路内の次の光学要素及び／又は物体視野５が照明光９によって均一に照明されるように選択することができる。

ビーム成形デバイス１０がｘｙスキャナとして具現化される限り、この実施形態は、照明光９のビーム経路内でビーム成形デバイス１０に続く光学要素のうちの１つの小さい領域のみが一時点で照明されるようなものとすることができる。その結果、非常にコヒーレントな光源が使用される時に、特にＦＥＬが使用される時に、スペックルを低減することができる。

照明光９のビーム経路内でビーム成形デバイス１０の下流には、伝達ファセット１２を含む伝達ファセットミラー１１が配置される。伝達ファセットミラー１１は、物体視野３の物体平面に対して光学的に共役な照明系１の視野平面に配置される。伝達ファセット１２は矩形である。物体視野３の境界形状は、伝達ファセット１２の境界形状に対応する必要はない。伝達ファセット１２のｘ／ｙアスペクト比は、物体視野３のｘ／ｙアスペクト比に対応する必要はない。

伝達ファセット１２のそれぞれのものによって反射された照明光部分ビーム９_iは、伝達ファセットミラー１１の下流の照明光９のビーム経路に配置された鏡面ファセットミラー１４の鏡面ファセット１３上に入射する。鏡面ファセットミラー１４は、照明系１の鏡面反射器を構成する。伝達ファセットミラー１１及び鏡面ファセットミラー１４は、物体視野又は照明視野３を照明するための照明系１の照明光学ユニットの一部である。照明光学ユニット及び投影光学ユニット６は、投影露光装置４の光学系の一部である。

投影露光中にそれぞれ使用される鏡面ファセット１３は、鏡面ファセットミラー１４のｘｙ配置平面内で互いにｙ方向に横並びで配置される。鏡面ファセット１３は、照明光９のビーム全体のうちの部分ビーム９_iの物体視野３に向けた反射性重ね合わせ案内のために寄与する。照明チャネルが、伝達ファセット１２と照明部分ビーム９_iの反射性ビーム案内を通じて割り当てられた下流鏡面ファセット１３とを通じて各場合に予め定められる。これらの照明チャネルを通じて、物体視野３全体は、照明光９によって各場合に照明可能である。物体視野照明チャネルのそれぞれのものには、各場合に正確に１つの伝達ファセット１２と、各場合に正確に１つの鏡面ファセット１３とが割り当てられる。これに代えて、伝達ファセットのそれぞれを複数の照明チャネル、従って、複数の鏡面ファセット１３に割り当てることができる。

鏡面反射器に関する文献、例えば、ＤＥ １０３ １７ ６６７ Ａ１又はＵＳ ２０１０／０２３１８８２ Ａ１から一般に知られているように、鏡面ファセットミラー１４は、鏡面ファセットミラー１４上のそれぞれの鏡面ファセット１３の位置と、鏡面ファセットミラー１４のそれぞれの鏡面ファセット１３上への照明光部分ビーム９_iの入射場所とが物体視野３の視野点に対する照明方向を予め定めるように配置される。

同時に、鏡面ファセットミラー１４のそれぞれの鏡面ファセット１３上の照明光部分ビーム９_iの入射領域の縁部輪郭、すなわち、鏡面ファセット１３上への全体入射の場合は鏡面ファセット１３自体の縁部輪郭は、物体視野３の視野形状を予め定めることができる。従って、鏡面ファセットミラー１４上の鏡面ファセット１３の輪郭構成及び同じく配置は、物体視野３の照明に関する「照明角度」情報と「視野形状」情報との両方を含むことができる。

鏡面ファセット１３の各々は、連続静的反射面１５を有する。鏡面ファセット１３自体は、複数の個々のミラーに再分割されず、むしろ各場合に単一モノリシックミラーを構成する。

鏡面ファセットミラー１４は、投影露光装置４の瞳内又は投影露光装置４の視野平面内のいずれにも配置されない。

鏡面ファセット１３は、小さい角度帯域幅を有する入射角による入射を受ける。この角度帯域幅は、２°よりも小さいとすることができる。この角度帯域幅は、照明光部分ビーム９_iがそれぞれの鏡面ファセット１３上で有する入射角の合計角度帯域幅の半分に等しい。一例として、照明光部分ビーム９_iが鏡面ファセット１３のうちの１つの上に３°と７°の間の入射角で入射する場合に、合計角度帯域幅は４°であり、この場合に、この鏡面ファセット１３上の角度帯域幅は２°である。

鏡面ファセット１３上への入射角の角度帯域幅は、局所入射角に関連付けることができる。鏡面ファセット１３のうちのそれぞれのものの上の各場所に対して、照明光９の最大入射角及び最小入射角が次に決定される。２°と４°の間の入射角を有する照明光部分ビーム９_iが、鏡面ファセット１３のうちの１つの上の１つの場所に入射し、１０°と１２°の間の入射角を有する照明光部分ビーム９_iが、同じ鏡面ファセット１３上の別の場所に入射する場合に、この鏡面ファセット１３上の局所合計角度帯域幅は２°であり、局所角度帯域幅は、次に、１°である。これらの局所帯域幅値は、鏡面ファセット１３上の他の非隣接場所における角度帯域幅の大きさに対しては何も語らない。鏡面ファセット上の何らかの他の角度帯域幅が、この鏡面ファセットの特定の場所に存在する角度帯域幅よりも有意に大きい場合に、この鏡面ファセット１３の高反射コーティングの特性は、この鏡面ファセット１３上の場所に依存する方式で選択することができる。この場合に、鏡面ファセット１３全体にわたって決定された角度帯域幅ではなく、局所角度帯域幅に依存する鏡面ファセット反射率を達成することが可能である。

図１に記載の照明系１の実施形態の場合に、鏡面ファセットミラー１４は、照明光９を物体視野３の上流の照明系１内で案内する最後の光学構成要素である。照明系１の他の実施形態（例示していない）の場合に、鏡面ファセットミラー１４と物体視野の間の照明光９のビーム経路には、伝達光学ユニット、例えば、かすめ入射ミラーが置かれる。このかすめ入射ミラーは、屈折力を持たない平面ミラーとして具現化することができるが、これに代えて、凸又は凹湾曲ミラーとしても具現化することができる。

図１は、照明部分ビーム９_iを用いてそれぞれの伝達ファセット１２によって照明される鏡面ファセットミラー１４の鏡面ファセット１３への伝達ファセットミラー１１の伝達ファセット１２の割り当てを対応するハッチング記号を用いて示している。図１には４つの伝達ファセット１２を示すので、図１に示す合計で８つの鏡面ファセット１３のうちの４つは、これらを照明している伝達ファセット１２と同じ手法でハッチングしている。他の鏡面ファセット１３は、他の伝達ファセット１２（例示していない）によって照明されていないか又は照明されているかのいずれかである。各場合に照明光９による入射の結果として使用される伝達ファセット１２及び鏡面ファセット１３は、それぞれ以下では使用ファセットとも呼ぶ。

実際には、投影露光中に各場合に使用される伝達ファセット１２の個数及び投影露光中に各場合に使用される鏡面ファセット１３の個数は、図１に記載の概略図における個数よりも有意に多い。

ファセットミラー１１及び１４は、各場合に全体的に又は少なくとも区分的に変更サブユニット１６から構成され、これらの変更サブユニットの基本構成は同一である。そのような変更サブユニット１６の例示的実施形態を図２から図６を参照してファセットミラー１１の例に基づいて下記でより詳細に説明する。それぞれの使用ファセットの寸法決定に関して、それぞれの変更サブユニット１６は、照明系１内におけるその使用場所に適応される。

図２は、各場合に３つの変更サブユニット１６₁、１６₂、及び１６₃を含むファセットミラー１１のうちの１つからの抜粋を示している。図２には、これらの変更サブユニット１６の配置を図１に記載の伝達ファセットミラー１１の例に基づいて表しており、このファセットミラーの使用ファセット１２の列毎のファセット配置１７も同じく例示している。これらの使用ファセット１２の各々には、変更サブユニット１６₁、１６₂、１６₃のタイプに従って変更サブユニット１６_iが割り当てられる。変更サブユニット１６_iの各々は、複数の変更ファセット、すなわち、伝達ファセットミラー１１のための使用例では複数の伝達ファセット１２_iを有し、これらの伝達ファセット１２_iは、これに代えて、正確に１つの使用ファセット１２の使用場所、すなわち、この変更サブユニット１６_iに割り当てられたファセット配置１７の行に配置することができる。図２に示す変更サブユニット１６₁から１６₃の配置の場合に、図２の左端に示す変更サブユニット１６₁、１６₂のファセット１２、及び右端に示す変更サブユニット１６₃のファセット１２が使用ファセット配置１７に配置され、照明光９のそれぞれの部分ビーム９_iによる入射の結果として使用される。

変更サブユニット１６_iのうちの１つの中にあるファセット１２の各々は、その傾斜角又はその結像面形状、特にその曲率半径に関して異なる反射面構成を有する。従って、ファセット１２は、様々な面トポグラフィを有する。従って、変更サブユニット１６_iのうちの１つのもののファセット１２の各々は、個々の割り当て反射幾何学形状に向けて設計され、従って、特定の照明設定に向けて設計される。

使用ファセット１２は、ファセット配置１７内で行毎にｙ方向に沿って延びる正確に１つのファセット列内に配置される。変更サブユニット１６_iの各々は、正確に１つのファセット行を含む。変更サブユニット１６_iの各々の変更ファセット１２は、このファセット行に沿って配置され、すなわち、互いにｘ方向に横並びで配置される。変更サブユニット１６_iの各々は、２個、３個、４個、５個、６個、７個、８個、９個、１０個、又は更に多くの変更ファセット１２を有することができる。変更サブユニット１６_iのファセット１２は、共通のファセット担体上に配置される。

ｙ方向には、２つの隣接使用ファセット１２の間の距離は最大で２ｍｍである。この距離は、２ｍｍよりも短いとすることができ、１．５ｍｍよりも短いとすることができ、１ｍｍよりも短いとすることができ、更に０．５ｍｍよりも短いとすることができる。隣接使用ファセット１２の間のこのｙ方向距離は、使用ファセットのｙ広がりの最大で２０％である。隣接使用ファセット１２の間のｙ距離は、それぞれの使用ファセット１２のｙ広がりの２０％末端とすることができ、このｙ広がりの１５％末端とすることができ、１０％末端とすることができ、又は５％末端とすることができる。

変更サブユニット１６_iの各々は、図２に双方向矢印１８に示すようにｘ方向と平行な変位方向に沿って個々に他の変更サブユニット１６_jとは独立して変位可能である。この変位に関して、変更サブユニット１６_iの各々の共通ファセット担体は、図２に略示するように、専用変位アクチュエータ１９に接続される。変位方向１８に沿ったそれぞれの変更サブユニット１６_iの変位は、対応する直線ガイド（具体的な詳細は例示していない）を用いて案内される。

図２に記載の位置では、変更サブユニット１６₁の使用ファセット１２は、照明光９を例えば図１の鏡面ファセット１３₁の方向に反射する。伝達ファセット１２のｘファセット広がりだけの変更サブユニット１６₁のｘ方向変位の後に、この変位に従って使用ファセット配置１７内に移され、図２の右に示す伝達ファセット１２₁’は、今度は、例えば、鏡面ファセットミラー１４の鏡面ファセット１３₁’の方向に照明光９による入射を受ける。

代替の実施形態において、変更サブユニット１６のそれぞれは、複数のファセット行、例えば、２本、３本、４本、５本、又は更により多くの本数のファセット行を含む。

鏡面ファセットミラー１４の場合に、図１から明らかなように、使用ファセット配置は、ｙ方向に厳密に列で配置されるわけではない。鏡面ファセットミラー１４の場合に、変更サブユニット１６の配置は、図１に示すように、ｘ方向に互いに対してオフセットされた使用ファセット１３の配置が維持されるようなものである。鏡面ファセットミラー１４の場合にも、使用ファセット１３は、行毎に配置された変更ファセット１３の行方向ｘに対して横向きに、すなわち、ｙ方向に配置される。

湾曲の、すなわち、円弧のファセット１２及びそれぞれ１３を含むファセットミラーの場合に、変更サブユニットの概念を同じく使用することができる。これを図３を参照して下記で説明する。この説明をここでもまた伝達ファセットミラー１１の例に基づいて与える。図１及び図２を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図３に記載のファセットミラー１１は、図１及び図２に記載の変更サブユニット１６の代わりに使用することができる複数の変更サブユニット２０から構成される。図３は、これらの変更サブユニット２０のうちの正確に１つを示している。変更サブユニット２０は、ピボット軸又は回転軸２１の周りにピボット回転可能又は回転可能である。円弧変更ファセット１２は、軸２１の周りで周方向に配置され、かつ球面壁セクション２３、２４を有するファセット担体２２の周辺横壁セクションを形成する。全ての変更サブユニット２０の使用ファセット１２が、ここでもまた使用ファセット配置１７に位置付けられるように、隣接変更サブユニット２０は、この球面壁セクション２３，２４を通じて互いに対して配置することができる。この配置は、それ以外は例示していない隣接変更サブユニット２０の別の２つの使用ファセット１２に関して示している。使用ファセット配置内にあるこれら２つの更に別の使用ファセット１２は、破線及び一点鎖線で略示している。球面構成に対する代替として、縁部セクション２３、２４は、何らかの他の方法で軸２１に関して回転対称なものとして具現化することもできる。

変更サブユニット２０の各々は、ここでもまた、図３にピボット回転矢印２５に示すように、軸２１の周りにこの変更サブユニット２０をピボット回転又は回転させるための個々の変位アクチュエータ１９を有する。変更サブユニット２０の各々は、２個、３個、４個、５個、６個、７個、８個、又は更に多くの変更ファセット１２を有することができる。

ここでもまた、変更サブユニット２０のうちの１つの異なる変更ファセット１２は、互いに異なる面トポグラフィ、すなわち特に、反射面の異なる傾斜角及び曲率半径を有する。

図４は、図３に記載のタイプの変更サブユニット２０による合計で３つの変更サブユニット２０₁から２０₃を含む伝達ファセットミラー１１からの抜粋の変形を示している。図１から図３、特に図３を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を有し、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図４は、互いに対面する球面壁面セクション２３、２４を通じた隣接変更サブユニット２０_iの実質的に切れ目のない支持を示している。

図４では、ファセット担体２２は、依然として空所として、すなわち、その横壁面セクションに変更ファセットが実施されずに例示されている。

図５は、図３及び図４のタイプの変更サブユニット２０の更に別の実施形態を示している。図１から図４、特に図３及び図４を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図５は、２つの変更サブユニット１２₁、１２₁’がファセット担体２２の横壁内に組み込まれた後に、オリジナルの生の横壁の対応する突起２６が依然として残っている場合を示している。

図６は、図７に４×３アレイの例に基づいて略示する使用ファセット配置２７内に伝達ファセット１２を有する伝達ファセットミラー１１の更に別の変形を示している。実際には、そのようなｘ／ｙアレイ内の使用ファセット１２の個数は極めて多い。そのような視野ファセットアレイ配置の例は、ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２（矩形視野ファセット）及びＵＳ ２０１２／０ ２９３ ７８５ Ａ１（円弧視野ファセット）に見出される。図６及び図７では、図１から図５を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図６は、各場合に専用ピボット軸又は回転軸２１の周りに個々に回転可能であり、同じくこの図に示すように、この目的のためにここでもまた各場合に変位アクチュエータ１９に接続された２つの変更サブユニット２８の側面図を示している。変更サブユニット２８の各々は、そのそれぞれのピボット軸２１の周りで周方向に配置され、図６の概略図にある正三角形の辺の位置を占有する３つのファセット１２を有する。それぞれの使用ファセット１２を図６の上部に例示しており、これらのファセットは、図６の作図面に対して垂直な伝達ファセットミラー１１の面配置平面２９内に一緒に位置する。一方で図６は、実際に使用されるファセット１２の面トポグラフィを示しておらず、平面の生のトポグラフィを略示している。

変更サブユニット２８は、ｘ方向とｙ方向に同時に沿って互いに横並びで実質的に連続方式で配置することができる。図７に記載の図は、配置平面２９内の使用ファセット１２の４×３アレイ配置を示している。図７に記載のこの使用ファセット配置２７は、対応する４×３アレイ配置からなる合計で１２個の変更サブユニット２８によって形成される。

変更サブユニット２８の場合にも、それぞれのファセット担体２２の回転軸又はピボット軸２１の周りのこのファセット担体２２のピボット回転又は回転により、使用ファセットの変更が発生する。図６には、ファセット担体２２の最外側コーナの移動経路を破線に示している。２つのファセット担体２２の一方が、図６に示す使用位置に静止状態に留まる限り、２つのファセット担体２２のうちの他方は、移動中に２つのファセット担体が互いを妨害することなく回転させることができる。このようにして、例えば、図６の右にあるファセット担体２２の時計方向（矢印２５）のピボット回転を用いて、図６の上部の使用ファセット１２を図６の左下に示す異なる面トポグラフィを有するファセット１２’と交換することができる。

図６に記載の実施形態のファセット担体２２は、平面端部側横壁３１を有することができ、その上で、ｙ方向に互いに隣接する変更サブユニット２８が互いに対して支持している。これに代えて、特に、湾曲ファセット１２を含む変更サブユニット２８の変形の場合に、ファセット担体２２は、ここでもまた、球面壁セクション３１又は何らかの他の方法で軸２１に関して回転対称に湾曲した壁セクション３１を有することができる。

例示していない実施形態において、鏡面ファセットミラーではなく伝達ファセットミラーのみが、少なくとも１つの変更サブユニット１６、２０、２８を用いて構成される。

伝達ファセットミラー１１のファセットの起動可能性は、鏡面ファセットミラーの機械的に単純な実施形態を維持すると同時に物体視野３上に入射する照明光９の方向分布を変更することを可能にする。

上述の変更サブユニット１６、２０、２８の概念はまた、視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーとを有するフライアイコンデンサーの方式に構成することができる照明系に使用することができる。特に変更サブユニット２８のこのタイプに則して相応に設計された変更サブユニットは、視野ファセットに関してそこに使用することができる。そのようなフライアイコンデンサーの例は、ＵＳ ２０１２／０ ２９３ ７８５ Ａ１及びＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２に見出される。

そのようなフライアイコンデンサー構成の場合にも、伝達ファセット１２のこのタイプに則したものであってｙ方向に上下に重なって位置する視野ファセットの単一列を含む視野ファセットミラーを使用することができる。これを図８を参照して下記で説明する。図８は、微細構造又はナノ構造化半導体構成要素を生成するために投影露光装置４の代わりに使用することができる投影露光装置の更に別の実施形態３２を示している。図１から図７に記載の投影露光装置４及びその構成要素を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。

図８に記載の例示的実施形態の場合に示すように、ビーム成形デバイス１０は、反射ミラーを有することができる。ビーム成形デバイス１０のビーム成形面、特に反射ミラーは、自由曲面として具現化することができる。

照明系１の代わりに使用することができる投影露光装置３２の照明系３３は、視野ファセットミラー３４と瞳ファセットミラー３５とを有する。

視野ファセットミラー３４は、互いの上に重なる方式で物体視野３に結像される複数の視野ファセット１２を有する。

投影露光装置３２の瞳平面の領域に配置された瞳ファセットミラー３５は、複数の瞳ファセット３６を有する。これらの瞳ファセット３６は、視野ファセット１２の対応する傾斜調節を用いて形成することができる対応する物体視野照明チャネルに沿って放射線源２の像として生じる可能な瞳スポットの場所に配置される。各場合に照明光部分ビーム９_iで照明される瞳ファセット３６の場所分布は、物体視野３内の照明光９の照明角度分布を予め定める。図１に記載の照明系１とは対照的に、図８に記載の照明系３３の場合に、反射光学構成要素、すなわち、瞳ファセットミラー３５が瞳平面に配置される。

物体視野３内の視野ファセット１２の重ね合わせ結像は、瞳ファセット３６を通じて実施される。

ナノ構造化又は微細構造化構成要素、例えば、半導体メモリチップを生成するために、レチクル５と、照明光９に対して感光性を有するコーティングを有するウェーハ８とが最初に与えられる。次に、投影露光装置４を用いてレチクル５のうちの少なくとも１つのセクションがウェーハ８上に投影される。その後に、照明光９で露光されたウェーハ８上の感光層が現像される。

レチクル５上の構造配置に依存して又は要求される分解能機能に依存して、対応する照明設定は、照明される鏡面ファセット１３又は瞳ファセット２５の対応する選択によって選択される。これは、変更サブユニット１６又は２０又は２８の使用ファセットの対応する位置決めにより、すなわち、中央制御デバイス４ａを用いた変位アクチュエータ１９の対応する駆動によって実施される。

１１ 伝達ファセットミラー
１２ 伝達ファセット
１７ 使用ファセット配置
１８ 変位方向
１９ 変位アクチュエータ

Claims (11)

1. 投影リソグラフィのための照明光学ユニットのためのファセットミラー（１１；１４；３４）であって、
   照明光部分ビーム（９_i）を各場合に反射する複数の使用ファセット（１２）を含み、 変更ファセットを前記使用ファセット（１２；１２，１３）のうちの正確に１つのものの使用の場所に交替的に位置決めすることができるファセット担体（２２）上に一緒に配置された複数の変更ファセット（１２，１２’；１２_i，１２_i’；１３）を有する少なくとも１つの変更サブユニット（１６；２０；２８）を含み、
   前記変更サブユニット（１６；２０；２８）を通じて変更可能な第１の使用ファセット（１２）に対し、
   ある方向に沿って、前記第１の使用ファセット（１２）と、前記変更サブユニットを通じて変更可能ではない使用ファセットとの間に、距離が存在し、
   前記方向に沿って、前記第１の使用ファセット（１２）に隣接する使用ファセットが、前記距離の少なくとも５倍である幅を有する、
   ことを特徴とするファセットミラー（１１；１４；３４）。
2. 前記変更サブユニット（１６）は、行方向（ｘ）に少なくとも１つのファセット行を含み、前記変更ファセット（１２₁，１２₁’）は、該ファセット行に沿って配置され、ファセットミラー（１１；１４；３４）の前記使用ファセット（１２）は、該ファセット行の該行方向（ｘ）に対して横断方向（ｙ）に配置される、
   ことを特徴とする請求項１に記載のファセットミラー。
3. 前記変更サブユニット（２０；２８）は、ピボット回転可能様式に具現化され、前記変更ファセット（１２，１２’）は、ピボット軸（２１）の周りで周方向に配置されることを特徴とする請求項１に記載のファセットミラー。
4. 前記変更サブユニットは、隣接変更サブユニット（２０；２８）をそれを通じて互いに対して置くことができる回転対称壁セクション（２３，２４）を有するファセット担体（２２）を有することを特徴とする請求項３に記載のファセットミラー。
5. 前記ピボット回転可能変更サブユニット（２８）は、２次元アレイに配置されることを特徴とする請求項３及び請求項４のいずれか１項に記載のファセットミラー。
6. 投影リソグラフィのための照明光学ユニットであって、
   請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のファセットミラー（１１；１４；３４）、
   を含むことを特徴とする照明光学ユニット。
7. 視野ファセットミラー（３４）と、
   瞳ファセットミラー（３５）と、
   を含むことを特徴とする請求項６に記載の照明光学ユニット。
8. 投影リソグラフィのための光学系であって、
   照明される物体を配置することができる物体視野（３）を照明するための請求項６又は請求項７に記載の照明光学ユニットを含み、
   前記物体視野（３）を像視野（７）内に結像するための投影光学ユニット（６）を含む、
   ことを特徴とする光学系。
9. 請求項６又は請求項７のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
   ＥＵＶ光源（２）を含む、
   ことを特徴とする照明系。
10. 請求項８に記載の光学系と、
    ＥＵＶ光源（２）と、
    を含むことを特徴とする投影露光装置。
11. 構造化構成要素を生成する方法であって、
    請求項１０に記載の投影露光装置（４）を与える段階と、
    レチクル（５）を与える段階と、
    物体視野（３）に配置された前記レチクル（５）の面をウェーハ（８）の感光層の上に投影する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。

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