JP5543516B2 - Ｅｕｖリソグラフィ用照明システム及びこの種の照明システムに使用する第１及び第２の光学要素 - Google Patents

Description

本発明は、請求項１の前文によるＥＵＶリソグラフィのための照明システムに関する。
本発明はまた、この種の照明システムにおける使用のための第１及び第２光学要素に関する。

対応する第１及び第２光学要素を有する汎用照明システムは、ＵＳ６６５８０８４Ｂ２から公知である。他の照明システムは、ＤＥ１０２１９５１４Ａｌ及びＵＳ２００７／００５８２７４Ａｌから公知である。これらの公開特許は、変位可能な視野ファセット要素を用いた異なる照明設定の生成を説明している。異なる照明システム設定の各々を用いて、物体表面は、異なる照明角度分布で照らされる。この公知の照明システムは、多数の瞳ファセットを有する非常に複雑な第２光学要素を必要とする。この種の要素は、非常に高価である。

ＵＳ６６５８０８４Ｂ２ ＤＥ１０２１９５１４Ａｌ ＵＳ２００７／００５８２７４Ａｌ ＵＳ２００３／００８６５２４Ａｌ

本発明の目的は、より少ないファセット要素を有する第２光学要素が用いられる時でさえも様々な照明設定の間で変更することができるような方法で、冒頭に示した種類の照明システムを開発することである。

この目的は、請求項１の特徴付け部分に説明する特徴を有する照明システムにより、本発明によって達成される。
本発明によると、１つのかつ同じ結像領域に全ての第１ファセット要素を再現することは必ずしも必要ではなく、完全な照明視野を互いに構成する個々の部分視野のアセンブリとして構成することができることが判明した。これを行う上で、照明視野全体は、部分視野のいかなるものを通じても照らされない。この基本的な手法は、第２ファセット要素をより柔軟な方法で使用することを可能にする。これらの第２ファセット要素は、互いにある一定の空間距離に存在する複数の第１ファセット要素によって照射することができる。１つのかつ同じ第２ファセット要素に対して作用する様々な第１ファセット要素から発するＥＵＶ放射線の部分ビームは、次に、様々な部分視野内に結像される。これは、複数の第１ファセット要素に関連付けられたＥＵＶ放射線の部分ビームが、１つのかつ同じ第２ファセット要素によって結像することを可能にする。この柔軟性は、従来技術と比較して少数の第２ファセット要素を有する第２光学要素を様々な照明設定を生成するのに用いることを可能にする一方、第１ファセット要素と第２ファセット要素の１：１の割り当てが与えられる照明設定の生成をこの種の第２光学要素を用いて依然として可能にする。従って、光損失なしにかつ光学構成要素を交換することなく、異なる照明設定を生成することができる。第２光学要素を密に充填しながら、従来の設定、すなわち、第２光学要素の均一な照明を生成することができる。照明視野を少なくとも２つの部分視野に分割することにより、物体の変位方向のＥＵＶ強度プロフィールを予め設定することが可能になる。例えば、ガウス、ローレンツ、台形、又は他のプロフィールをデフォルトとして設定することができる。物体を変位させて物体表面を照明視野の部分視野分割に対して直角に予め設定することにより、各部分視野が所定の物体点を照らす役割を達成するように、物体が全ての部分視野にわたって照らされることを保証することができる。部分視野をわたる物体点のこの順次照明は、例えば、照明される物体表面の例である感光性ウェーハ層の望ましい活性化を達成するために利用することができる。

請求項２に記載の変位可能な第１ファセット要素は、様々な照明設定の間の自動変更の可能性をもたらすものである。
請求項３に記載の部分視野数は、同時に最小限必要とされる部分視野数でもある。この結果は、コンパクトな照明視野である。２つ、３つ、又はそれよりも多くの第１ファセット要素を第２ファセット要素に割り振ってそこに作用させることができる。

請求項４に記載の照明視野の分割は、比較的単純に構成された光学配置を可能にする。部分視野は、照明システムがその構成要素である投影照明設備の特に走査方向に互いに隣接する。これは、照明視野によって走査される照明すべき基板、例えばウェーハが連続して少なくとも２つの部分視野を通過することを保証する。
請求項５に記載の湾曲した第１ファセット要素又は部分視野は、光学配置に対して課せられる要件を低減する。

請求項６に記載のファセット要素の配列は、ＥＵＶ放射線の個々の部分ビームの間の大きい角度を回避することができるので、結像に対して課せられる要件を低減する。
請求項７に記載のアクチュエータによって変位させることができる第２ファセット要素は、照明システムの柔軟性を高める。
請求項８に記載の照明システムは、低い損失を有する。

請求項９に記載の配列は、第１ファセット要素の第２ファセット要素に対する１：１の割り当てを可能にする。
請求項１０から１５に記載の照明視野の部分視野間の交差部は、特に、物体表面に対する望ましい順次照明を予め設定するための照明システムの実際的な実現に有利であることが明らかにされている。
請求項１６に記載の照明システムの利点は、請求項１に記載の照明システムのものと同じである。

本発明の更に別の目的は、本発明による照明システムのための第１並びに第２光学要素を提供することである。
この目的は、請求項１７及び請求項１８に記載の光学要素により、本発明によって達成される。
これらの光学要素の利点は、本発明による照明システムを参照して既に上述したものと同じである。
以下に本発明の実施形態を図面を参照してより詳細に説明する。

ＥＵＶマイクロリソグラフィのための照明システムにおけるビーム経路の概略図である。 図１による照明システムの構成要素、より具体的には、照明システム内に２次光源を生成する複数のファセット要素に分割された第１光学要素、発生した２次光源の位置並びに物体表面上の照明視野で均一な従来の照明設定を準備するように照らされる複数の第２ファセット要素に分割された第２光学要素の概略図である。 第２ファセット要素が大きい直径の環状設定を準備するように照らされる図２のものと同様の図である。 第２ファセット要素が図２の照明設定に比較して小さい照明角度を有する均一な照明設定を準備するように照らされる図２のものと同様の図である。 第２ファセット要素がｘ双極子の方法で照明設定を準備するように照らされる図２のものと同様の図である。 第２ファセット要素がｙ双極子の方法で照明設定を準備するように照らされる図２のものと同様の図である。 湾曲した第１ファセット要素を有する別の実施形態の図３のものと同様の図である。 異なる倍率を有する別の実施形態の図２のものと同様の図である。 図８による実施形態の図３のものと同様の図である。

図１は、極紫外線（ＥＵＶ）放射線４を用いて、物体表面３の所定の照明視野２を照らすための照明システム１を示している。
ＥＵＶ放射線４の光源としてプラズマ光源が用いられる。ＥＵＶ放射線の波長は、例えば、１０ｎｍと２０ｎｍの間にある。
図１及び２では、直交座標系（ｘ、ｙ、ｚ）を用いており、以下では座標（ｘ、ｙ、ｚ）で参照する。図１では、ｘ方向は、投影図平面に対して直角に延び、ｙ方向は右手側に、ｚ方向は下向きに延びている。

光源５から放出されたＥＵＶ放射線は、まず全てのその後のスチール製誘導構成要素と同様にＥＵＶ放射線を反射する集光装置６によって集光される。光源５から放出されたＥＵＶ放射線４は、視野走査要素とも呼ぶ第１光学要素７に当たる。第１光学要素７は、照明システム１内に２次光源を生成するために用いられる。ＥＵＶ放射線４によって照射される第１光学要素７の反射面は、複数の第１ファセット要素に分割され、そのうちの４つの第１ファセット要素８から１１を図１に例示的に示している。これらの４つの第１ファセット要素８から１１は、ＥＵＶ放射線４の部分ビーム１２から１５と関連付けられる。第１ファセット要素は矩形であり、その範囲は、ｙ方向よりもｘ方向において長い。第１の面要素８から１１のアスペクト比（ｘ：ｙ）は、２０：１である。

第１ファセット要素８から１１の各々は、ｘ方向及びｙ方向に対して平行な軸に対して様々な設定位置の間で傾斜させることができる。これを目的として、第１ファセット要素８から１１の各々は、関連付けられたアクチュエータに接続される。図１では、これらのアクチュエータの代表例として、選択的に２つの軸（ｘ／ｙ）のうちの１つに対して上記ファセット要素１１を傾斜させるために１７に破線で示すように第１ファセット要素１１に機械的に接続したアクチュエータ１６を示している。アクチュエータ１６は、制御線１８を通じて中央制御デバイス１９に接続される。この制御デバイス１９は、第１ファセット要素８から１１、及び示していない第１ファセット要素に、対応する制御線（示していない）を通じて関連付けられた全ての他のアクチュエータに接続される。

第１ファセット要素の配列の例は、ＵＳ２００３／００８６５２４Ａｌの図７から１４に示されており、この文献はその全てを参照する。
瞳走査要素とも呼ぶ第２光学要素２０は、第１光学要素７によって発生する２次光源の位置、すなわち、光源５に対する像平面内に配置される。この第２光学要素２０は、第１光学要素７を通じてＥＵＶ放射線４によって衝撃を受ける。第２光学要素２０の衝撃可能表面は、複数の第２ファセット要素に分割され、これらのうちの４つのファセット要素２１から２４を図１に例示的に示している。第２ファセット要素２１から２４の各々は、それぞれの２次光源が、それぞれに放射線が印加された第２ファセット要素２１から２４の位置で発生するように、第１ファセット要素８から１１のうちの１つに割り当てられる。図１による具体例では、第２ファセット要素２１は、第１ファセット要素８に割り当てられ、第２ファセット要素２３は、第１ファセット要素９に割り当てられ、第２ファセット要素２２は、第１ファセット要素１０に割り当てられ、第２ファセット要素２４は、第１ファセット要素１１割り当てられる。

第１ファセット要素８から１１と同様に、第２ファセット要素２１から２４、及び第２光学要素２０の示していない他のファセット要素は、アクチュエータによってｘ及びｙ方向に対して平行な軸に対して傾斜させることができる。図１は、この例として、第２ファセット要素２１と関連付けられて、２６に破線で示すように第２ファセット要素２１を傾斜させるために第２ファセット要素２１に機械的に接続したアクチュエータ２５を概略的に示している。また、アクチュエータ２５は、制御線１８を通じて制御デバイス１９と信号接続状態にある。

第１ファセット要素、並びに第２ファセット要素は、反射要素である。
第２光学要素２０は、複数の光学構成要素を含んで物体表面３によって所定の平面３０内に第１光学要素７の像を形成する光学配置２７の一部である。ＥＵＶ放射線のための２つの反射要素２８、２９は、光学配置２７に属し、第２光学要素２０の下流にある反射要素２８は、小さい入射角、例えば、入射角３０°のＥＵＶ放射線を反射し、ＥＵＶ放射線４のその後のビーム経路内に配置された反射要素２９は、浅い入射によるＥＵＶ放射線を反射する。

図２は、照明視野２における像形成中の第１ファセット要素と第２ファセット要素の間の割り振り関係を非常に略式に示している。この点において、図２の投影図平面は、ｘｙ平面に対して平行であり、これは、以下の図３から９の投影図平面に対しても当て嵌まる。例示目的で、図２から９に示す構成要素は、ｘｙ平面内へ回転されている。これらの構成要素は、実際には異なる方式で配向することもできる。図２から９内の図１を参照して既に上述のものと同じ構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細には説明しないことにする。

図２は、第１光学要素７の全ての第１ファセット要素を代表する４つのファセット要素８から１１を示している。第２光学要素２０の全ての第２ファセット要素を代表する第２ファセット要素２１から２４は、図２では例示目的で以下の通りに配列されている。第２ファセット要素２１及び２４は、第２ファセット要素から成る内側リングの構成要素である。第２ファセット要素２２及び２３は、第２ファセット要素の外側リングの構成要素である。全体的に円形の第２光学要素２０は、複数のそのような同心状に配列された第２ファセット要素のリングを有する。第２ファセット要素は、一様に分布するｘ／ｙラスターの方法で配列することができる。ＵＳ２００３／００８６５２４Ａｌの図１５は、この例を提供している。

第１ファセット要素８から１１の第２ファセット要素２１から２４への割り振りは、それが均一な従来の照明設定を生成するようなものである。示していない他の第２ファセット要素を併せた第２光学要素２０の全ての第２ファセット要素、すなわち、例示する第２ファセット要素２１から２４のみではなく、関連付けられたラスターの全ての他の第２ファセット要素も、それぞれの第１ファセット要素によって照らされる。すなわち、第２光学要素２０は均一に照らされる。

第１ファセット要素８及び１０は、これらの要素が、図２の配列状態にある光学配置２７によって照明視野２の下側部分視野３１内に結像されるような方法で構成され、かつ配向される。第１ファセット要素９及び１１は、これらの要素が、光学配置２７によって照明視野２の上側部分視野３２内に結像されるような方法で構成され、かつ配向される。２つの部分視野３１、３２は、同じ表面積を有する。部分視野３１、３２は、第１ファセット要素８から１１と同じアスペクト比を有する。２つの部分視野３１、３２は、光学配置２７の結像特性に起因して若干弓形に湾曲している。２つの部分視野３１、３２は、完全な照明視野２を構成する。図２に示す理想的な例では、２つの部分視野３１、３２は、重なり合わずに互いに直接に隣接する。実際には、２つの部分視野３１、３２は、２つの部分視野３１、３２の交差部、すなわち、重なり領域が各部分視野３１、３２の面積よりも常時小さくなるような方法で重なり合う。

図２による実施形態では、第１ファセット要素８から１１は、負の倍率で像平面３０内に結像される。
２つの部分視野３１、３２への照明視野２の分割の結果、各部分視野において図２による照明設定内に存在する全ての照明角度のうちの選択された照明角度で照明が発生するように、あらゆる第２ファセット要素のうちの一部分が、部分視野３１、３２の各々において照らされる。両方の部分視野３１、３２の重ね合わせによってのみ、物体表面３が、照明設定の全ての照明角度で照らされる。この重ね合わせは、物体表面３をｙ方向に変位させることによって実施される。この変位は、連続的又は段階的に実施することができ、段階的な場合には、段階長は、部分視野のｙの範囲よりも長くしてはならない。この方式で、両方の部分視野３１、３２を通過する物体表面３上の各点は、そこに放射されるＥＵＶ放射線の露光効果を集積し、それによってこの通過の後には、照明は、照明設定において可能な全ての照明角度から実施されたことになる。

図３は、図１の配列で可能な別の照明設定を示している。この別の照明設定は、大きな環状設定として公知のものである。この大きな環状設定は、図２による状況から開始して、第１ファセット要素８をｘ方向に対して平行なその長手軸に対して傾斜させ、第２ファセット要素１１をｙ方向に対して平行なその長手軸に対して傾斜させることによって設定される。これらの傾斜動作の結果、ここでは第１ファセット要素８は、第２ファセット要素２３に対して作用し、第１ファセット要素１１は、第２ファセット要素２２に対して作用する。従って、この時、第２ファセット要素２２は、２つの第１ファセット要素、より具体的には、第１ファセット要素１０及び１１に関連付けられる。従って、第２ファセット要素２３は、第１ファセット要素８及び９に関連付けられる。第２ファセット要素２２、２３は、図３による照明設定において、それらが、従って、２つの異なる隣接第１ファセット要素、より具体的には、一方で第１ファセット要素１０及び１１、及び他方で第１ファセット要素８、９によってそれぞれ作用されるような方法で配列される。第２ファセット要素２１、２４は、第１光学要素７によって作用されない。

図３では、図２による設定と同様に、下側部分視野３１は、第１ファセット要素８及び１０からの放射線によって照射される。上側部分視野３２は、第１ファセット要素９及び１１からの放射線によって照射される。
図２に示すものと図３に示すものとの間で照明設定を変更する時には、第２ファセット要素２２、２３は、変位させる必要がない。
図３による環状設定では、照明角度は、ゼロとは異なる最小照明角度と最大照明角度との間で変化する。

図４は、図１及び２による配列を用いて生成することができる別の照明設定を示している。この設定は、図３による環状設定の最小照明角度よりも小さい最大照明角度を有する小さい従来の設定として公知である。
図２の設定と比較すると、図４では、２つの第１ファセット要素９及び１０は、それぞれｘ方向及びｙ方向において傾斜されている。ここでは、第１ファセット要素９は、第１ファセット要素８と共に、第２ファセット要素２１に対して作用する。第１ファセット要素１０は、第１ファセット要素１１と共に、第２ファセット要素２４に対して作用する。第２ファセット要素２２、２３に対しては、第１光学要素７は作用しない。
図２による設定と同様に、図４では、下側部分視野３１は、第１ファセット要素８及び１０からの放射線によって照射される。上側部分視野３２は、第１ファセット要素９及び１１からの放射線によって照射される。
図２及び４による照明設定の間で変更する時には、第２ファセット要素２１、２４は変位させる必要がない。

図５は、図１及び２による配列を用いて生成することができる別の照明設定を示している。この設定は、ｘ双極子として公知である方法における照明設定である。この場合には、図２による従来の設定に対応する照明は、様々な照明角度にわたってｘｚ平面内で発生する。ｘｚ平面に対して直角に、すなわち、ｙｚ平面では、照明は、外向きに増大することができる小さい照明角度の領域内で発生する。

図５による設定では、第１ファセット要素１０、１１から始まるビーム経路は、図３による設定のビーム経路に対応する。第１ファセット要素８及び９から発する放射線は、協働して第２ファセット要素２４を照射し、第１ファセット要素８から発する放射線は、下側部分視野３１内に結像され、第１ファセット要素９から発する放射線は、上側部分視野３２内に結像される。
図２による照明設定と図５による照明設定の間の移行中には、第１ファセット要素８及び９から発する放射線が、実際に照明視野２内に正しく結像されることを保証するために、第２ファセット要素２４を傾斜させる必要がある。

図６は、図１及び２による配列において生成することができる別の照明設定を示している。この設定は、ｙ双極子モードとして公知である方法における照明設定である。図５の設定に関して実施されたものに従って、図６の設定では、照明視野内の照明角度は、図２による従来の設定と同様の角分布がｙｚ平面において存在し、図５によるｙｚ平面におけるものに対応する照明角度分布がｘｚ平面内に存在するような方法で分布する。

図２の設定と比較すると、第１ファセット要素１０、１１から発する放射線が照明視野２内に正しく結像されるように図６による設定を調節するために、第１ファセット要素８、１０、及び１１ばかりでなく、第２ファセット要素２１を傾斜させる必要がある。
図６による設定では、第１ファセット要素８、９は、協働して第２ファセット要素２３を照射し、第１ファセット要素１０、１１は、協働して第２ファセット要素２１を照射する。

図７は、図１及び２の照明システムと同様の照明システムの別の実施形態であり、図３の設定と同様の照明設定へと調節されたものを示している。図１から６を参照して上記に既に説明したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細には説明しないこととする。図１及び２による実施形態の矩形の第１ファセット要素とは対照的に、図７による配列の第１光学要素７は、若干弓形に湾曲した第１ファセット要素８から１１を有する。
湾曲した第１ファセット要素８から１１は、光学配置２７によって湾曲した部分視野３１、３２内に結像される。

図８及び９は、照明システム１の別の実施形態を示している。図１から７を参照して上記に既に説明したものに対応する構成要素は、同じ参照番号を有し、再度詳細には説明しないこととする。
図１から７による実施形態とは対照的に、第２光学要素２０と同様に要素２８及び２９（示していない）のような他の反射要素が属する図８及び９による実施形態の光学配置２７は、正の倍率を有する。図８及び９による実施形態では、今度は第１ファセット要素９及び１１が、照明視野２の下側部分視野３１内に結像される結果になる。第１ファセット要素８及び１０は、上側部分視野３２内に結像される。

図８は、図２のものに対応する従来の設定を示している。部分ビーム１２から１５の誘導に関しては、第１ファセット要素８は、第２ファセット要素２３と関連付けられ、第１ファセット要素９は、第２ファセット要素２１と関連付けられ、第１ファセット要素１０は、第２ファセット要素２２と関連付けられ、第１ファセット要素１１は、第２ファセット要素２４と関連付けられる。
図９は、図８による配列において、図３の設定のような大きい環状設定が生成されるように、第１ファセット要素９及び１１を傾斜させることによって生成される別の照明システムを示している。第２ファセット要素２３に対しては、２つの第１ファセット要素８及び９が協働して作用する。第２ファセット要素２２に対しては、２つの第１ファセット要素１０及び１１が協働して作用する。

照明システム１は、物体表面を有する物体、すなわち、例えば、マスク又はレチクルがウェーハ上に結像されて、集積構成要素、例えば、マイクロプロセッサ又はメモリチップを生成するマイクロリソグラフィのための投影照明設備の一部である。
第１光学要素７は、他の第１ファセット要素を静止させたままで、アクチュエータによって特定の第１ファセット要素のみを傾斜させることができるように構成することができる。また、第２光学要素２０にも、相応に、傾斜可能第２ファセット要素及び静止第２ファセット要素を装備することができる。静止第２ファセット要素を一般的に有する第２光学要素２０を装備し、言い換えれば、そこに傾斜オプションを設けないことも可能である。

第１光学要素７の第１ファセット要素の数は、第２光学要素２０の第２ファセット要素の数に等しい。代替的に、ファセット要素の数が、第１光学要素の第１ファセット要素の数よりも大きいか又は小さい第２光学要素２０を設けることができる。
上述の実施形態では、最大２つの第１ファセット要素８から１１が、第２ファセット要素２１から２４と関連付けられる。各場合に、２つよりも多くの第１ファセット要素を第２ファセット要素と関連付けることも可能である。照明視野を構成する部分視野の最小数は、相応に増加する。
原理的には、照明システムの少なくとも個々の構成要素を透過性構成要素として構成することも可能である。

２ 照明視野
７ 第１光学要素
８、９、１０、１１ 第１ファセット要素
２０ 第２光学要素
２１、２２、２３、２４ 第２ファセット要素
３１、３２ 部分視野

Claims (12)

1. ａ）ａａ）ＥＵＶ放射線（４）による衝撃を受け、
   ａｂ）光学要素の前記衝撃を受けた表面が、前記ＥＵＶ放射線（４）の部分ビーム（１２から１５）に各々割り当てられた複数の第１ファセット要素（８から１１）に分割された、
   第１光学要素（７）を有し、
   ｂ）ｂａ）前記第１光学要素（７）を通じてＥＵＶ放射線（４）によって衝撃を受け、
   ｂｂ）その衝撃可能表面が、複数の第２ファセット要素（２１から２４）に分割され、この各々が、前記第１ファセット要素（８から１１）の少なくとも１つに割り当てられ、
   ｂｃ）物体表面（３）によって予め定められた平面（３０）に前記第１光学要素（８から１１）を結像する光学配置（２７）の少なくとも一部である、
   第２光学要素（２０）を有する、
   ＥＵＶ放射線（４）を用いて所定の照明視野（２）を照らすためのＥＵＶリソグラフィのための照明システム（１）であって、
   第１ファセット要素（８から１１）のうちの少なくとも２つが、１つのかつ同じ第２ファセット要素（２１から２４）を通じて照明視野（２）に結像され、
   前記第２ファセット要素（２１から２４）のうちの少なくとも１つは、各場合に該選択された第２ファセット要素（２１から２４）に関連付けられたアクチュエータ（２５）を用いて様々な設定位置の間で変位させることができる、
   ことを特徴とする照明システム（１）。
2. 前記第１光学要素（７）が、前記照明システム（１）に２次光源を生成するように配置されている、請求項１に記載の照明システム。
3. 前記第２光学要素（２０）が、前記第１光学要素（７）によって発生した前記２次光源の位置に配置されている、請求項２に記載の照明システム。
4. 前記第１ファセット要素（８から１１）の少なくとも１つが、前記それぞれの第２ファセット要素（２１から２４）に作用して前記２次光源を発生させるように配置されている、請求項２又は請求項３に記載の照明システム。
5. 予め定めることができる様々な照明設定から選択された設定においてＥＵＶ放射線（４）による所定の照明視野（２）の選択的照明に対して、
   ｂｄ）前記第１ファセット要素（８から１１）のうちの少なくとも選択されたものは、各場合に該選択された第１ファセット要素（８から１１）に関連付けられたアクチュエータ（１６）によって様々な設定位置の間で移動することができ、
   ｂe）前記可動第１ファセット要素（８から１１）の各設定位置において、各場合にそれに関連付けられた前記部分ビーム（１２から１５）は、該可動第１ファセット要素（８から１１）によって偏向されて前記所定の照明設定の１つを生成し、
   ｅ）前記第２ファセット要素（２１から２４）の少なくとも１つは、それに対して前記所定の照明設定の少なくとも１つにおいて少なくとも２つの異なる第１ファセット要素（８から１１）が作用することができるような方法で位置決めされる、
   ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の照明システム。
6. 前記第１及び／又は第２ファセット要素（８から１１、２１から２４）は、反射要素として構成されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の照明システム。
7. 前記第２光学要素のファセット要素の数は、前記第１光学要素のファセット要素の数よりも少ないことを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明システム。
8. ２つよりも多くの第１ファセット要素が第２ファセット要素と関連付けられ、前記第１光学要素の像として前記照明視野を構成する部分視野の最小数が相応に増加することを特徴とする、請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の照明システム。
9. ａ）ａａ）ＥＵＶ放射線（４）による衝撃を受け、
   ａｂ）光学要素の前記衝撃を受けた表面が、前記ＥＵＶ放射線（４）の部分ビーム（１２から１５）に各々割り当てられた複数の第１ファセット要素（８から１１）に分割された、
   第１光学要素（７）を有し、
   ｂ）ｂａ）前記第１光学要素（７）を通じてＥＵＶ放射線（４）によって衝撃を受け、
   ｂｂ）その衝撃可能表面が、複数の第２ファセット要素（２１から２４）に分割され、この各々が、前記第１ファセット要素（８から１１）の少なくとも１つに割り当てられ、
   ｂｃ）物体表面（３）によって予め定められた平面（３０）に前記第１光学要素（８から１１）を結像する光学配置（２７）の少なくとも一部である、
   第２光学要素（２０）を有する、
   ＥＵＶ放射線（４）を用いて所定の照明視野（２）を照らすためのＥＵＶリソグラフィのための照明システム（１）であって、
   第１ファセット要素（８から１１）のうちの少なくとも２つが、１つのかつ同じ第２ファセット要素（２１から２４）を通じて照明視野（２）に結像され、
   前記第２光学要素のファセット要素の数は、前記第１光学要素のファセット要素の数よりも少ない、
   ことを特徴とする照明システム（１）。
10. ａ）ａａ）ＥＵＶ放射線（４）による衝撃を受け、
    ａｂ）光学要素の前記衝撃を受けた表面が、前記ＥＵＶ放射線（４）の部分ビーム（１２から１５）に各々割り当てられた複数の第１ファセット要素（８から１１）に分割された、
    第１光学要素（７）を有し、
    ｂ）ｂａ）前記第１光学要素（７）を通じてＥＵＶ放射線（４）によって衝撃を受け、
    ｂｂ）その衝撃可能表面が、複数の第２ファセット要素（２１から２４）に分割され、この各々が、前記第１ファセット要素（８から１１）の少なくとも１つに割り当てられ、
    ｂｃ）物体表面（３）によって予め定められた平面（３０）に前記第１光学要素（８から１１）を結像する光学配置（２７）の少なくとも一部である、
    第２光学要素（２０）を有する、
    ＥＵＶ放射線（４）を用いて所定の照明視野（２）を照らすためのＥＵＶリソグラフィのための照明システム（１）であって、
    第１ファセット要素（８から１１）のうちの少なくとも２つが、１つのかつ同じ第２ファセット要素（２１から２４）を通じて照明視野（２）に結像され、
    ２つよりも多くの第１ファセット要素が第２ファセット要素と関連付けられ、前記第１光学要素の像として前記照明視野を構成する部分視野の最小数が相応に増加する、
    ことを特徴とする照明システム（１）。
11. 請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の照明システム（１）で使用するための第１の光学要素（７）。
12. 請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の照明システム（１）で使用するための第２の光学要素（２０）。

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