JP6568865B2 - ミラーアレイ - Google Patents
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Description
信号線47のそのような配置の更に別の利点は、全ての信号線47をミラーアレイ22の後側48で単一金属層内に設けることができるということにある。これは生成工程の簡素化につながり、従って、生成コストの低減をもたらす。
23 個々のミラー
42 縁部領域
Claims (14)
- 投影露光装置(1)の照明光学ユニット(4)のためのミラーアレイ(22)であって、
1.1.第1の群の個々のミラー(23)が、1:100よりも高い相対精度で変位可能であり、かつ
1.2.第2の群の個々のミラー(23)が、100msよりも短い切り換え時間で変位可能である、
ように少なくとも2つの群に分割される多数の変位可能な個々のミラー(23)、
を含むことを特徴とするミラーアレイ(22)。 - 前記2つの群は、別々であることを特徴とする請求項1に記載のミラーアレイ(22)。
- 前記第2の群の前記個々のミラー(23)は、純粋なフィードフォワード制御を用いて変位されることを特徴とする請求項1から請求項2のいずれか1項に記載のミラーアレイ(22)。
- 前記第2の群の前記個々のミラーは、1つ又は2つの直線に沿って配置されることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のミラーアレイ(22)。
- 前記個々のミラー(23)の全体個数のうちの前記第2の群の該個々のミラー(23)の比率が、0.1%から10%の範囲に収まることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のミラーアレイ(22)。
- 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の多数のミラーアレイ(22)、
を含むことを特徴とする光学構成要素。 - 個々のミラー(23)のグループ分けが、各ミラーアレイ(22)上で同じであることを特徴とする請求項6に記載の光学構成要素。
- 投影露光装置(1)のためのファセットミラー(13,14)であって、
請求項6及び請求項7のいずれかに記載の少なくとも1つの光学構成要素、
を含むことを特徴とするファセットミラー(13,14)。 - 照明光学ユニット(4)のファセットミラー(62)を構成する方法であって、
請求項8に記載のファセットミラー(62)を与える段階と、
物体視野(5)を照明するための少なくとも1つの照明設定を予め決める段階と、
前記少なくとも1つの予め決められた照明設定に依存する方式でミラーアレイ(22)の個々のミラー(23)の位置決めを決定する段階と、
各場合に前記物体視野(5)の前記照明を補正するために各予め決められた照明設定に対して第2の群に割り当てるべき前記ミラーアレイ(22)の前記個々のミラー(23)の部分集合を決定する段階と、
前記ミラーアレイ(22)の前記個々のミラー(23)の部分集合を前記第2の群に割り当てる段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - 投影露光装置(1)のための照明光学ユニット(4)であって、
請求項7及び請求項8のいずれかに記載の少なくとも1つの光学構成要素、
を含むことを特徴とする照明光学ユニット(4)。 - 投影露光装置(1)のための照明系(2)であって、
請求項10に記載の照明光学ユニット(4)と、
放射線源(3)と、
を含むことを特徴とする照明系(2)。 - 物体視野(5)を照明する方法であって、
請求項11に記載の照明系(2)を与える段階と、
前記物体視野(5)の予め決められた領域内の照明放射線(10)の所期強度分布を予め決める段階と、
前記照明系(2)を用いて前記物体視野(5)を照明放射線(10)で照明する段階と、
前記物体視野(5)の前記予め決められた領域内の前記所期強度分布からの前記照明放射線(10)の実際の強度分布の偏差を確立する段階と、
前記偏差に依存する方式で第2の群の個々のミラー(23)の変位位置を適応化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。 - マイクロリソグラフィのための投影露光装置(1)であって、
13.1.請求項10に記載の照明光学ユニット(4)と、
13.2.投影光学ユニット(7)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置(1)。 - 微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
請求項13に記載の投影露光装置(1)を与える段階と、
各場合に感光材料で作られた層がその上に付加されて露光される複数の視野を有する基板(64)を与える段階と、
結像される構造を有するレチクル(24)を与える段階と、
露光される個々の前記視野の互いからのずれに関連するデータを用いて少なくとも1つの補正プロファイルを予め決める段階と、
前記少なくとも1つの補正プロファイルに依存する方式で第2の群への個々のミラー(23)の割り当てを決定する段階と、
前記投影露光装置(1)を用いて前記レチクル(24)の少なくとも一部を前記基板の前記感光層の領域の上に投影する段階と、
を含み、
前記第2の群の前記個々のミラー(23)の少なくとも一部が、2つの連続視野の前記露光間で前記補正プロファイルに依存する方式で変位される、
ことを特徴とする方法。
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