JP5530424B2 - 光学素子を支持する装置、及びそれを形成する方法 - Google Patents
光学素子を支持する装置、及びそれを形成する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5530424B2 JP5530424B2 JP2011504370A JP2011504370A JP5530424B2 JP 5530424 B2 JP5530424 B2 JP 5530424B2 JP 2011504370 A JP2011504370 A JP 2011504370A JP 2011504370 A JP2011504370 A JP 2011504370A JP 5530424 B2 JP5530424 B2 JP 5530424B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- finger
- substrate
- lens
- fingers
- base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
Description
図4は、例示的なサポート装置400を示す。サポート装置400は、レンズセル402と、フィンガ404aを含む複数のフィンガ404を含む。装置400は、レンズ406を支持するよう用いられる。一実施形態では、レンズ406および装置400は、上述した投影システムPSと同様の投影システム内に含まれてよい。
図8Aおよび図8Bは、それぞれ、運動学的(kinematic)サポート800Aおよび800Bの3次元概略図を示す。運動学的サポート800Aおよび800Bは、例えば、レンズ、ミラー等の光学素子を、6自由度すべてにおいて制限するように用いてよい。運動学的サポート800Aは、基部アセンブリ802、ペイロードアセンブリ804、および6つのモノポッド接続要素806A〜806Fを含む。運動学的サポート800Bは、基部アセンブリ802、ペイロードアセンブリ804、およびバイポッド接続要素808A〜808Cを含む。ペイロードアセンブリ804は、光学素子を保持するまたは整列させる。運動学的サポートに関する詳細は、本明細書にその全体を参考として組み込む、Calvert他への米国特許第6,674,585号を参照されたい。
本明細書に記載する実施形態では、レンズの変形および変位を防止し、レンズが実質的に均一に支持されることを確実にするよう十分なコンプライアンスを提供する、レンズを支持するための装置が提供される。
図12は、レンズを支持するための装置を形成するための例示的なブロックを提供するフローチャート1200を示す。他の構造および動作に関する実施形態は、以下に説明に基づいて当業者には明らかであろう。図12に示すブロックは必ずしも図示する順番で発生する必要がない。図12に示すブロックを以下に詳細に説明する。
図14〜図14Cは、本発明の一実施形態による、例示的な仕様をミリメートル(mm)単位で示したバイポッドフィンガの例示的な実施形態を示す。図14Aは、レンズ1402に結合されたバイポッドフィンガ1400の側面図を示す。一実施形態では、レンズ1402は124mmの直径を有する。バイポッドフィンガ1400は、取付け片1404、屈曲部1406、および基部1408を含む。図14Aに示すように、取付け片1404は約1.5mmの高さを有する。屈曲部1406は、約6.5mmの垂直高さと、約0.5mmの厚さを有する。基部1408は凹型パッド1410および1412と面取り部1414を含む。基部1408は約8.25mmの総厚と、約4.5mmの総垂直高さを有する。パッド1410および1412は、それぞれ、約2mmの長さを有する。面取り部1414は約2.5mmの高さおよび長さを有する。
本発明の様々な実施形態を上述したが、これらは例示的にのみ提示したに過ぎず限定ではないことを理解すべきである。当業者には明らかであろうように、本発明の精神および範囲から逸脱することなく形態および細部における様々な変更を行いうる。したがって、本発明の範囲は、上述した例示的な実施形態に限定されるべきではなく、むしろ、添付の特許請求の範囲およびその等価物に応じてのみ定義されるべきである。
Claims (14)
- 光学素子を支持する装置であって、
レンズセルと、
前記レンズセルに結合された複数のフィンガと、を含み、
各フィンガと前記光学素子との間の第1X−Y共振モードが約1000Hzより高い周波数にあり、
各フィンガは、動作温度が増加するにつれて増加する半径方向コンプライアンスを有し、
前記半径方向コンプライアンスは、熱的に誘導される前記レンズセルの変形を防止する能力である、装置。 - 各フィンガは、
内部に取付けられた前記光学素子に結合される基部と、
第1の各々の端において前記基部に結合されかつ前記基部から約75度と約165度の間の分岐角で延在する第1および第2屈曲部と、
前記第1および第2屈曲部の第2の各々の端と共に結合され、それにより、前記基部を前記レンズセルに結合する取付け部材と、
を含む請求項1に記載の装置。 - 各フィンガは、動作温度の範囲に亘って、内部に取付けられた前記光学素子に対して半径方向に柔軟である、請求項1又は請求項2に記載の装置。
- 前記光学素子はレンズであり、各フィンガは、前記基部と、内部に取付けられた前記光学素子との間の第1X−Y共振モードが約1000Hzより高い周波数にある、請求項2に記載の装置。
- 前記複数のフィンガは、少なくとも7つのフィンガを含む、請求項1乃至請求項4のうち何れか1項に記載の装置。
- 前記分岐角は、約120度である、請求項2に記載の装置。
- 前記基部は、接着材料を収容する凹型パッドを含む、請求項2に記載の装置。
- 各フィンガは、ステンレススチールといった金属を含む、請求項1乃至請求項7のうち何れか1項に記載の装置。
- 前記第1および第2屈曲部は、前記基部および前記取付け片と一体にされる、請求項2に記載の装置。
- 光学素子を支持する装置を形成する方法であって、
レンズセルを形成することと、
各フィンガと前記光学素子との間の第1X−Y共振モードが約1000Hzより高い周波数にあるように複数のフィンガを形成することと、
前記フィンガを前記レンズセルに結合することと、
を含み、
各フィンガは、動作温度が増加するにつれて増加する半径方向コンプライアンスを有し、
前記半径方向コンプライアンスは、熱的に誘導される前記レンズセルの変形を防止する能力である、方法。 - 前記複数のフィンガを形成することは、
内部に取付けられた前記光学素子に結合される基部を形成することと、
第1の各々の端において前記基部に結合されかつ前記基部から約75度と約165度との間の分岐角で延在する第1および第2屈曲部を形成することと、
前記第1および第2屈曲部の第2の各々の端と共に結合される取付け部材を形成することとを含む、請求項10に記載の方法。 - 前記第1および第2屈曲部を形成することは、前記分岐角を約120度に形成することを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記フィンガを前記レンズセルに結合することは、前記取付け部材を前記レンズセルにロウ付けすることを含む、請求項10乃至請求項12の何れか1項に記載の方法。
- 前記複数のフィンガを形成することは、
前記複数のフィンガの各フィンガは、動作温度の範囲に亘って、内部に取付けられた前記光学素子の半径方向に柔軟であるように前記複数のフィンガを形成することを含む、請求項10乃至請求項13のうち何れか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US4520708P | 2008-04-15 | 2008-04-15 | |
US61/045,207 | 2008-04-15 | ||
PCT/EP2009/002749 WO2009127400A1 (en) | 2008-04-15 | 2009-04-15 | Apparatus for supporting an optical element, and method of making same |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011519478A JP2011519478A (ja) | 2011-07-07 |
JP2011519478A5 JP2011519478A5 (ja) | 2012-06-07 |
JP5530424B2 true JP5530424B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=40823458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011504370A Active JP5530424B2 (ja) | 2008-04-15 | 2009-04-15 | 光学素子を支持する装置、及びそれを形成する方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8947634B2 (ja) |
JP (1) | JP5530424B2 (ja) |
CN (1) | CN102007453A (ja) |
NL (1) | NL1036701A1 (ja) |
TW (1) | TW200947151A (ja) |
WO (1) | WO2009127400A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8919724B2 (en) * | 2010-08-24 | 2014-12-30 | Raytheon Company | Mount for cryogenic fast switching mechanism |
CN103290178B (zh) * | 2013-06-20 | 2014-11-05 | 温州大学 | 一种隐藏面激光冲击强化方法和装置 |
US10895711B2 (en) | 2017-06-28 | 2021-01-19 | Corning Incorporated | Polymer-free compliant optical member support |
CN111295623B (zh) * | 2017-10-30 | 2022-05-24 | Asml控股股份有限公司 | 用于半导体光刻术的组件及其制造方法 |
US11204559B2 (en) * | 2018-05-16 | 2021-12-21 | Asml Holdings N.V. | High stability collimator assembly, lithographic apparatus, and method |
DE102021200131A1 (de) * | 2021-01-11 | 2022-07-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2690771B2 (ja) | 1989-01-23 | 1997-12-17 | 三菱電機株式会社 | レンズ駆動装置 |
US5428482A (en) * | 1991-11-04 | 1995-06-27 | General Signal Corporation | Decoupled mount for optical element and stacked annuli assembly |
DE19904152A1 (de) * | 1999-02-03 | 2000-08-10 | Zeiss Carl Fa | Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung |
JP2001124968A (ja) | 1999-10-25 | 2001-05-11 | Canon Inc | 光学素子保持方法および光学素子保持機構、ならびに該光学素子保持機構により保持された光学素子群を利用する露光装置 |
JP2002083766A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-03-22 | Nikon Corp | 投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置 |
DE10116059B4 (de) * | 2001-03-30 | 2007-03-01 | Tesa Scribos Gmbh | Lithograph mit bewegter Linse und Verfahren zum Herstellen digitaler Hologramme in einem Speichermedium |
US6536736B2 (en) * | 2001-07-16 | 2003-03-25 | Agilent Technologies, Inc. | Optomechanical mount for precisely steering/positioning a light beam |
TWI223132B (en) * | 2002-01-29 | 2004-11-01 | Nikon Corp | Image formation state adjustment system, exposing method and exposing device and data recording medium |
US6674585B1 (en) * | 2002-02-04 | 2004-01-06 | Siwave, Inc. | Flexure assemblies and methods of making the same |
US6764228B2 (en) * | 2002-02-07 | 2004-07-20 | Veritech, Inc. | Outgas prevention in electrooptical packages |
JP2004347814A (ja) * | 2003-05-21 | 2004-12-09 | Canon Inc | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101281357B1 (ko) * | 2003-06-06 | 2013-07-02 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학 소자 유지 장치, 경통, 노광 장치, 및 디바이스의제조방법 |
AU2003296244A1 (en) * | 2003-10-02 | 2005-05-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical subassembly and projection objective for semiconductor lithography |
DE102004025832A1 (de) | 2004-05-24 | 2005-12-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Optikmodul für ein Objektiv |
US7604359B2 (en) | 2004-05-04 | 2009-10-20 | Carl Zeiss Smt Ag | High positioning reproducible low torque mirror-actuator interface |
WO2006000352A1 (de) | 2004-06-29 | 2006-01-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Positioniereinheit und vorrichtung zur justage für ein optisches element |
JP2006066836A (ja) | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Nikon Corp | 光学部材の支持構造、及び露光装置 |
US20060198026A1 (en) * | 2004-11-18 | 2006-09-07 | Olympus Corporation | Objective lens protector and objective lens unit |
US7436484B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-10-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20090207511A1 (en) | 2005-05-09 | 2009-08-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Assembly for adjusting an optical element |
JP4989918B2 (ja) | 2005-05-23 | 2012-08-01 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 全芳香族液晶ポリエステル樹脂組成物および光ピックアップレンズホルダー |
JP4710427B2 (ja) * | 2005-06-15 | 2011-06-29 | 株式会社ニコン | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
TWI372271B (en) * | 2005-09-13 | 2012-09-11 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
JP4871594B2 (ja) | 2006-01-12 | 2012-02-08 | キヤノン株式会社 | 振動波駆動装置及び振動波駆動機器 |
JP4680125B2 (ja) | 2006-05-10 | 2011-05-11 | シャープ株式会社 | レンズ枠および撮像装置 |
JP5043468B2 (ja) * | 2007-02-23 | 2012-10-10 | キヤノン株式会社 | 保持装置 |
-
2009
- 2009-03-12 NL NL1036701A patent/NL1036701A1/nl active Search and Examination
- 2009-04-14 TW TW98112346A patent/TW200947151A/zh unknown
- 2009-04-15 US US12/933,506 patent/US8947634B2/en active Active
- 2009-04-15 CN CN200980113206.2A patent/CN102007453A/zh active Pending
- 2009-04-15 JP JP2011504370A patent/JP5530424B2/ja active Active
- 2009-04-15 WO PCT/EP2009/002749 patent/WO2009127400A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200947151A (en) | 2009-11-16 |
WO2009127400A1 (en) | 2009-10-22 |
JP2011519478A (ja) | 2011-07-07 |
US20110109891A1 (en) | 2011-05-12 |
CN102007453A (zh) | 2011-04-06 |
US8947634B2 (en) | 2015-02-03 |
NL1036701A1 (nl) | 2009-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7948606B2 (en) | Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns | |
JP4416758B2 (ja) | リソグラフィ装置及びfpdチャックz位置測定を利用したデバイス製造方法 | |
KR102321222B1 (ko) | 공간 광 변조기의 검사 방법 및 장치, 및 노광 방법 및 장치 | |
US7368744B2 (en) | Photon sieve for optical systems in micro-lithography | |
JP4463244B2 (ja) | リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および、この方法により製造されて焦点深さの増したデバイス | |
US9599906B2 (en) | Method for driving spatial light modulator, method for forming pattern for exposure, exposure method, and exposure apparatus | |
JP2010521067A (ja) | マスクレスリソグラフィ用の最適なラスタ化 | |
US11119411B2 (en) | Drive method for spatial light modulator, method for generating pattern for exposure, and exposure method and apparatus | |
JP5530424B2 (ja) | 光学素子を支持する装置、及びそれを形成する方法 | |
JP2006179919A (ja) | リソグラフィ機器及びデバイスの製作方法 | |
US7332733B2 (en) | System and method to correct for field curvature of multi lens array | |
JP2007049165A (ja) | リソグラフィ装置及びメトロロジ・システムを使用するデバイス製造方法 | |
JP2018520378A (ja) | 基板サポート、基板の上面の非平坦性を補償する方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP4814200B2 (ja) | 高分解能露光ツールの像コントラストの強化 | |
JP2010118683A (ja) | ピクセルグリッド描画と組み合わせた連続光ビームを使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
KR100767833B1 (ko) | 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법 | |
JP2006343750A (ja) | デジタル画像を書き込むためのリソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
WO2014104001A1 (ja) | 空間光変調器及びその駆動方法、並びに露光方法及び装置 | |
JP6558529B2 (ja) | 空間光変調器及びその使用方法、変調方法、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 | |
KR101474894B1 (ko) | 리소그래피 장치의 프로그램가능 패터닝 디바이스를 제어하는 방법, 디바이스 제조방법, 및 리소그래피 장치 | |
JP2012064725A (ja) | 反射光学装置、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120413 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130411 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131002 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140131 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20140210 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140327 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140418 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5530424 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |