JP2006179919A - リソグラフィ機器及びデバイスの製作方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。微小レンズ配列の位置誤差の影響を補償する誤差補正値を供給する誤差補償器が設けられる。パターン付与装置の制御可能な素子に誤差補正値に応じた駆動信号を供給して、パターンのある部分の強度を、このパターンの他の部分に対して相対的に変化させることによって、微小レンズ配列の位置誤差の影響を補償するグレー・スケール変調器が設けられる。
【選択図】図10
Description
本明細書では、集積回路(IC)の製作でリソグラフィ機器を使用することを具体的に参照することがあるが、本明細書で説明するリソグラフィ機器は、集積光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導/検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、並びにマイクロ流体デバイス及びマクロ流体デバイスなどの製作など、他の応用が可能であることを理解されたい。このような代替応用例の状況では、本明細書で用いる「ウエハ」又は「ダイ」という用語は、それぞれより一般の用語である「基板」又は「目標部分」と同義とみなし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、例えば、トラック(例えば典型的には、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール)、或いは計測又は検査用のツール内で、露光前又は露光後に処理することがある。該当する場合には、上記その他の基板処理ツールに本明細書の開示を適用できる。さらに、基板は、例えば多層ICを作製するために2回以上処理することがある。そのため、本明細書で用いる基板という用語は、複数の処理された層をすでに含む基板を指すこともある。
図1に、本発明の実施例によるリソグラフィ投影機器100を概略的に示す。機器100は少なくとも、放射系102、個々に制御可能な素子の配列104、物体テーブル106(例えば、基板テーブル)、及び投影系(「レンズ」)108を備える。
Imla(i,j)=F{Emla(i,j),Lmlax,Lmlay,v,f,α}
以上、本発明の様々な実施例を説明してきたが、これらは単なる実施例として提示したものであり、限定的なものではないことを理解されたい。本発明の趣旨及び範囲を逸脱することなく、これらの実施例において形態及び細部に様々な変更を加えることができることが当業者には明らかであろう。そのため、本発明の広さ及び範囲は、上記で説明した実施例のいずれによっても限定されるべきではなく、添付の特許請求の範囲及びそれらの均等物によってのみ定義されるべきである。
11 投影系
12 ビーム分割器
13 基板
15 放射スポット
16 個々に制御可能な素子の配列
17 対物レンズ
20 結像スポット配列
21 走査方向
24 MLAの個々のレンズ
25 位置誤差を有する微小レンズ
26、27 結像スポット
28 ベクトル誤差
40、42、44、45、46 強度ピーク
41、43、47 全体強度曲線
Claims (18)
- リソグラフィ機器において、
放射ビームを供給する照明系と、
前記ビームにパターンを付与するパターン付与装置と、
前記ビームを基板の目標部分に投影する投影系と、
前記投影系の誤差の影響を補償する誤差補正値を供給する誤差補償器と、
前記誤差補正値に基づいて前記パターン付与装置に駆動信号を供給して、前記パターンの付与されたビームの一部の強度を変化させることによって前記投影系の誤差の影響を補償するグレー・スケール変調器とを備えるリソグラフィ機器。 - 前記パターン付与装置が、個々に制御可能な素子の配列を含み、
前記グレー・スケール変調器が、前記配列の少なくとも一部の個々に制御可能な素子によって、伝達される放射の強度を変化させて、前記投影系の誤差の影響を補償するように構成されている請求項1に記載されたリソグラフィ機器。 - 前記投影系が、前記基板の前記目標部分に像スポットを形成する微小レンズ配列を備える請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記グレー・スケール変調器が、前記微小レンズ配列の位置誤差を補正するようになっている請求項3に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記グレー・スケール変調器が、前記微小レンズ配列の倍率誤差を補正するようになっている請求項3に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記誤差補償器が、前記微小レンズ配列の前記像スポットの位置決め誤差を監視するセンサ配列を備える請求項3に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記センサ・配列が、フォト・ダイオード配列を含む請求項6に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記誤差補償器が、前記微小レンズ配列の前記像スポットの位置及び前記像スポットの前記位置決め誤差の関数として強度補正マトリックスを求めるようになっている請求項3に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記パターン付与装置が、前記照明系と前記基板との間で、前記放射ビームの光路に配設されている請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記基板の前記目標部分に前記パターンの付与されたビームを投影する間に、前記基板を支持する基板テーブルを移動させる走査システムをさらに備える請求項1に記載されたリソグラフィ機器。
- 前記パターン付与装置が、平行な列の形で配置された制御可能な素子の配列を備え、
前記走査システムが、前記列に対して傾いた走査方向に前記基板テーブルを移動させるようになっている請求項10に記載されたリソグラフィ機器。 - デバイスの製作方法において、
調節可能なパターン付与装置を使用して放射ビームにパターンを付与する段階と、
投影系を使用して、前記パターンの付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する段階と、
前記投影系の誤差を検出する段階と、
前記投影系の誤差の影響を補償するために用いる誤差補正値を提供する段階と、
前記誤差補正値に基づいて前記パターン付与装置に駆動信号を供給して、前記パターンの付与されたビームの一部の強度を変化させることによって、前記投影系の誤差の影響を補償する段階とを含む、デバイスの製作方法。 - 前記ビームに、個々に制御可能な素子の配列を使用してパターンを付与し、
前記個々に制御可能な素子の配列の少なくとも一部の制御可能な素子によって、伝達される放射の強度を変化させて、前記投影系の誤差の影響を補償する請求項12に記載されたデバイスの製作方法。 - 前記投影系の微小レンズ配列を使用して、前記基板の前記目標部分に像スポットを形成する段階をさらに含む請求項12に記載されたデバイスの製作方法。
- 前記微小レンズ配列の一部の位置誤差を補正する段階をさらに含む請求項14に記載されたデバイスの製作方法。
- 前記微小レンズ配列の一部の倍率誤差を補正する段階をさらに含む請求項14に記載されたデバイスの製作方法。
- 前記基板の前記目標部分に前記ビームを投影する間に、前記基板を支持する基板テーブルを移動させる段階をさらに含む請求項12に記載されたデバイスの製作方法。
- 前記パターン付与装置が、平行な列の形で配置された制御可能な素子の配列を備え、
前記基板の前記目標部分に前記ビームを投影する間に、前記基板テーブルを、前記列に対して傾いた走査方向に移動させる請求項17に記載されたデバイスの製作方法。
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