JP2016502684A - Ｅｕｖ投影リソグラフィのための照明光学ユニット - Google Patents

Abstract

ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、各々が複数の反射ファセットを支持体上に有する第１のファセットミラーと第２のファセットミラーを有する。第１のファセットミラーのファセットは、様々な傾斜位置間で切り換えることができる。各傾斜位置では、傾斜可能な第１のファセットは、第２のファセット（１１）にこの第２のファセット（１１）の方向にＥＵＶ放射線を偏向させるように割り当てられる。第１のファセット（７）の各々は、その傾斜位置によって第２のファセット（１１）のセット（ＡＡＡ，ａａａ．．．）に割り当てられる。第２のファセットミラーは、第１の視野ファセット（７）を通じた入射を受ける第２のファセット（１１）の配置分布が照明視野の照明の照明角度分布をもたらすように配置される。第２のファセット（１１）のセット（ＹＹＹＹ）の各々に属する第２のファセット（１１）は、第２のファセットミラー（１０）上の円（２８）内に位置し、その円の直径は、第２のファセットミラー（１０）上の全ての第２のファセット（１１）の全体配置の全径（ＧＤ）の７０％よりも小さい。これは、様々な指定の照明設定間の変更が殆ど費用を伴わずに可能である照明光学ユニットをもたらす。【選択図】図１９

Description

ドイツ特許出願ＤＥ １０ ２０１２ ２２０ ５９７．７の内容は、引用によって本明細書に組み込まれている。

本発明は、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットに関する。本発明は、更に、そのような照明光学ユニット内の第１のファセットの第２のファセットへの割り当てを指定する方法、そのような照明光学ユニットを有する光学系、そのような光学系を有する投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及びそのような生成方法を用いて構造化された構成要素に関する。

照明光学ユニット有する投影露光装置は、ＤＥ １０ ２００９ ０５４ ５４０ Ａ１から公知である。照明設定、すなわち、投影リソグラフィ中に結像される構造を照明するための照明角度分布を柔軟に指定するために傾斜可能な第１のファセットが使用される。必要とされることは、様々な照明設定間の変更である。

ＤＥ １０ ２０１２ ２２０ ５９７．７ ＤＥ １０ ２００９ ０５４ ５４０ Ａ１ ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２ ＵＳ ６ ８５９ ５１５ Ｂ２ ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａ

本発明の目的は、殆ど費用を伴わずに異なる指定照明設定間で変更することが可能であるような冒頭に示したタイプの照明光学ユニットを開発することである。

本発明により、この目的は、請求項１に明記されている特徴を有する照明光学ユニットによって達成される。

第１のファセットの与えられた傾斜位置構成を通じたＥＵＶ放射線による入射を受けることができる第２のファセットの配置分布からもたらされる照明角度分布を照明設定とも呼ぶ。各場合に全ての第２のファセットの全体配置の全径の７０％よりも小さい直径を有する第２のファセットミラー上の円内に第２のファセットを配置する結果として、第１のファセットは、ホーム位置から進んで、この第１のファセットに割り当てられた第２のファセットのセットに属する全ての第２のファセット上への入射に対する最大傾斜角を可能な限り小さく保つことができるように配置することができる。傾斜可能な第１のファセットにおける対応する小さい最大傾斜角は、傾斜可能な第１のファセットの機械系に要求される要件を軽減する。更に、第１のファセットが、ＥＵＶ放射線を割り当てられた第２のファセットのセットの全てのファセット上に非常に似通った第１のファセット上への入射角で偏向させるように照明幾何学形状を選択することが可能である。第１のファセットのそれぞれの傾斜位置に関係なく、実質的に同じ傾斜角を有する光は、次に、第１のファセット上で偏向させることができる。第１のファセットは、次に、特に、厳密にこの傾斜角に適合された高反射コーティング、例えば、多層コーティングを担持することができる。次に、傾斜可能な第１のファセット上に、より高い反射率でのＥＵＶ放射線反射を存在させることができる。次に、第１のファセットの様々な傾斜位置でＥＵＶ放射線を偏向させる際の第１のファセット上の最大反射率差は、最大で１５％、最大で１０％、又は最大で５％とすることができる。第２のファセットミラー上で第２のファセットのセットの各々の第２のファセットがその内部に収まる円の直径は、全ての第２のファセットの全体配置の全径の６５％よりも小さくすることができ、６０％よりも小さくすることができ、５５％よりも小さくすることができ、５０％よりも小さくことができる。

第１のファセットミラー上の全ての第１のファセットは、異なる傾斜位置間で切り換えることができる。これに代えて、第１のファセットミラー上の第１のファセットのうちの一部のものだけを様々な傾斜位置間で切換可能にすることも可能である。複数の切換可能な第１のファセットは、同じ個数の異なる傾斜位置間、又は異なる個数の異なる傾斜位置間で切り換えることができる。第１のファセットは、２つの傾斜位置間で切り換えることができる。第１のファセットミラーの１つの変形では、少なくとも一部の第１のファセットは、２つよりも多い傾斜位置間、例えば、３つの傾斜位置間、４つの傾斜位置間、５つの傾斜位置間、６つの傾斜位置間、又は更により多くの傾斜位置間で切り換えることができる。

請求項２に記載の第２のファセットミラー上の第２のファセットへの第１のファセットミラー上の傾斜可能ファセットの割り当ての対称化は、第１のファセットの対応する傾斜によって異なる照明設定の特定のセットを得る際の費用を大きく軽減する。互いに対する点対称性を有して配置された第２のファセットのセットは、各場合に少なくとも２つの第２のファセットを含む。各セット内の第２のファセットのこの個数は、ＥＵＶ放射線を第２のファセットの方向に偏向させる際に使用する第１のファセットの傾斜位置の個数に対応する。本発明による対称化は、割り当て問題を半分のファセット空間に限定することを可能にし、他方の半空間内での割り当ては、点対称指定によって自動的に出現する。

請求項３に記載の２つよりも多い第２のファセットを有する第２のファセットのセットは、第１のファセットを２つよりも多い傾斜位置間で相応に切り換えることができる場合に使用される。第１のファセットは、３状態ファセット、すなわち、３つの傾斜位置を有するファセットとすることができる。第１のファセットミラーは、２つの傾斜位置間で切り換えることができる一部の第１のファセットと、３つの傾斜位置間で切り換えることができる一部の第１のファセットとを有することができる。

請求項４に記載の第２のファセットのセットの配置は、第２のファセットの異なる配置分布、従って、異なる照明設定の特に柔軟な指定を可能にする。３つの配置分布、すなわち、３つの照明設定は、例えば、２つの二重極設定と１つの四重極設定とすることができる。そのような多重極照明設定の場合に、照明視野の照明は、ＥＵＶ放射線による入射を受ける第２のファセットの接続群によって形成された対応する個数の照明極の方向から出現する。全体配置の全径の半分に対する最内側の第２のファセットの半径の比は、ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２に記載の定義に従うシグマ値の下界、すなわち、照明視野を照明する場合の照明角度に対する下界に対応する。最内側の第２のファセットの半径は、全ての第２のファセットの全体配置の全径の半分の４５％よりも大きくすることができ、５０％よりも大きくすることができ、６０％よりも大きくすることができ、７０％よりも大きくすることができ、更に８０％よりも大きくすることができる。最内側の第２のファセットの相応に大きい半径は、特定の困難な照明目的に適する相応に大きい照明角度をもたらす。それぞれの配置分布のそれぞれの接続瞳ファセット群の全体反射面積の比率は、全ての第２のファセットの全体配置の全体反射面積の３０％よりも低くすることができ、更に２５％よりも低くすることができる。相応に小さい反射面積比率は、それぞれの照明極の方向からの相応に定められた照明方向をもたらす。少なくとも３つの配置分布、すなわち、照明光学ユニットを通して第１のファセットの適切な傾斜によって達成することができる少なくとも３つの照明設定は、全ての第２のファセットの全体配置の全ての象限のそれぞれの内部のその反射面積に関して少なくとも１０％とすることができ、少なくとも１５％とすることができ、少なくとも２０％とすることができ、少なくとも２５％とすることができ、更に、それよりも大きくすることができる。「最内側の第２のファセットの最小半径」、「接続瞳ファセット群の最大全体反射面積」、及び「全ての象限内の反射面積に関する少なくとも３つの配置分布の差」という特徴は、互いに独立して実現することができ、すなわち、これらの特徴は、必ずしも全て同時に実現する必要はない。

請求項５及び請求項６に記載の照明光学ユニットは、第１のファセットにおける傾斜角の小さい絶対変化によって実現することができる。第２のファセットのどのセットも、３つよりも多い第２のファセット、例えば、４つの第２のファセット、５つの第２のファセット、又は６つの第２のファセットを含むことができる。第２のファセットのセットが正確に３つの第２のファセットを含む範囲で、これらのセットの第２のファセットは、鋭角三角形のコーナを指定することができる。

請求項７に記載の割り当て指定方法は、各照明設定群の全ての第２のファセットが同時に入射を受けることができることを確実にする。点対称性の結果として、第２のファセットのうちの半分だけに対して割り当てを実施することで十分である。残りの第２のファセットの割り当ては、次に、対称条件によって出現する。

請求項８から請求項１０に記載の方法では、傾斜可能ファセットの機械系に対して可能な最小の要求しか存在しないように割り当てが最適化される。更に別の利点は、特に、本発明による照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。

請求項１１に記載の割り当て指定方法は、構造を照明するのに特に適する異なる照明設定の柔軟な傾斜指定を可能にする。特に、これらの設定のうちの２つ、３つ、４つ、５つ、６つ、又は更に全てを指定することを可能にすることができる。指定可能な照明設定は、２つよりも多い極を有する多重極設定を含むことができる。二重極設定又は多重極設定の極は、「リーフレット」として形成することができる。第２のファセットミラーの中心の周りの周方向の極の周方向位置を指定する±α二重極設定の角度αは、２５°又は４５°とすることができる。特に、角度αは、２０°と４５°の間の領域内にあるとすることができる。対応する陳述は、１０°と２２．５°の間の領域内にあるとすることができる四重極設定の同じ方法で定められた角度αに適用される。対応する陳述は、６つの照明極、すなわち、第２のファセットミラー上に照明光が入射する第２のファセットを有する六重極設定に適用される。第２のファセットミラーが第２のファセットの配置によって指定されるこのファセットミラーの全使用面にわたって平均して均一に照明される従来照明設定を提供することも可能である。これは、第２のファセットミラーの全ての第２のファセット上に照明光が入射するようにすること、又は第１のファセットよりも第２のファセットが少ない場合に第２のファセットミラーの第２のファセットへの入射を相応に均一に間引くことのいずれかによって達成することができる。

請求項１２に記載の光学系、請求項１３に記載の投影露光装置、請求項１４に記載の生成方法、及び請求項１５に記載の微細構造化又はナノ構造化構成要素の利点は、本発明による照明光学ユニット及び本発明による指定方法を参照して上述したものに対応する。

投影露光装置は、結像される物体を物体変位方向に沿って変位させるための物体変位ドライブを有する物体ホルダを有することができる。投影露光装置は、結像される物体の構造がその上に結像されることになるウェーハを像変位方向に沿って変位させるためのウェーハ変位ドライブを有するウェーハホルダを有することができる。物体変位方向は、像変位方向と平行に延びることができる。

本発明の例示的実施形態を図面に基づいて以下により詳細に説明する。

マイクロリソグラフィ投影露光装置の子午断面を照明光学ユニットに関して示す概略図である。 「矩形視野」実施形態における図１に記載の投影露光装置の照明光学ユニットの視野ファセットミラーのファセット配置の図である。 「弓形視野」実施形態における視野ファセットミラーの更に別の実施形態のファセット配置を示す図２と類似の図である。 図１に記載の投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーのファセット配置の図を「小さい照明角度を有する従来」照明設定の例を用いて視野ファセットミラーのファセットを通じた照明光による入射を受けてファセット群を形成するファセットを強調表示することで非常に概略的かつ例示的に示す図である。 「中間サイズの照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 「大きい照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 「ｙ二重極」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 「ｘ二重極」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 「＋２５°二重極」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 「−２５°二重極」照明設定を生成するための瞳ファセット入射を有する瞳ファセットミラーを示す図４と類似の図である。 瞳ファセットの各々を文字で表し、各場合に同じ文字で表す瞳ファセットに異なる傾斜位置の正確に１つの視野ファセットからの照明光による入射を受けることができる合計で１４４個の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーを示す概略図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図１１に描写するものと各々同じである図４に記載のものに対応する照明設定を生成するための群毎の瞳ファセット入射例を示す図１１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセット割り当てを文字で示し、各場合に同じ第１のファセットに割り当てられた３つの瞳ファセットを強調表示し、これらの瞳ファセットがそれぞれ視野ファセットへのこれらの瞳ファセットの割り当てによって３つの瞳ファセットを含む瞳ファセットセットを形成し、２つの強調表示された瞳ファセットセットが互いに対して瞳ファセットミラーの中心に関する点対称性を有する瞳ファセットミラー示すここでもまた図１１と類似の図である。 視野ファセット偏向角を最小にするために図１９に記載の２つの瞳ファセットセット間で瞳ファセットの交換が行われた各場合に傾斜可能視野ファセットのうちの１つに対する瞳ファセットセットの割り当ての修正を示す図１９と類似の図である。 瞳ファセットの各々を文字で表して選択的に網掛けに示し、各場合に同じ文字で表されて選択的に網掛けで示された瞳ファセットが正確に１つの視野ファセットの異なる傾斜位置からの照明光による入射を受けることができる合計で４１６個の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーの更に別の実施形態を示す概略図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである四重極照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。 傾斜可能視野ファセットへの瞳ファセットの割り当てが図２１に描写するものと同じである図４に記載のものと類似の照明設定を生成するための瞳ファセットの群毎の入射例を示す図２１と類似の図である。

マイクロリソグラフィ投影露光装置１は、微細構造化又はナノ構造化電子半導体構成要素を生成するように機能する。光源２は、照明に使用され、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長領域のＥＵＶ放射線を放出する。光源２は、ＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）光源又はＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）光源とすることができる。シンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）を利用する放射線源を光源２に対して使用することができる。当業者は、このタイプの光源に関する情報を例えばＵＳ ６ ８５９ ５１５ Ｂ２に見出すことができる。結像光ビーム３の形態にあるＥＵＶ照明光又は照明放射線は、投影露光装置１内での照明及び結像に使用される。光源２の下流では、結像光ビーム３は、例えば、従来技術で公知である多シェル構成を有する多段コレクター、又はこれに代えて光源２の背後に次に配置された楕円体形コレクターとすることができるコレクター４を最初に通過する。対応するコレクターは、ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａから公知である。コレクター４の下流では、ＥＵＶ照明光３は、結像光ビーム３を望ましくない放射線又は粒子部分から分離するために使用することができる中間焦点面５を最初に通過する。中間焦点面５を通した後に、結像光ビーム３は、視野ファセットミラー６上に最初に入射する。視野ファセットミラー６は、投影露光装置１の第１のファセットミラーを構成する。

位置関係の説明を容易にするために、図面内には各場合に直交広域ｘｙｚ座標系を示している。図１では、ｘ軸は、作図面と垂直にそこから抜け出すように延びている。ｙ軸は、図１の右に向けて延びている。ｚ軸は、図１の上方に延びている。

投影露光装置１の個々の光学構成要素の場合の位置関係の説明を容易にするために、その後の図では、各場合に直交局所ｘｙｚ座標系又は直交局所ｘｙ座標系を更に使用する。それぞれの局所ｘｙ座標は、別途記載しない限り、光学構成要素のそれぞれの主配置平面、例えば、反射平面を張る。広域ｘｙｚ座標系のｘ軸と局所ｘｙｚ座標系又は局所ｘｙ座標系のｘ軸とは、互いに平行に延びている。局所ｘｙｚ座標系又は局所ｘｙ座標系のそれぞれのｙ軸は、広域ｘｙｚ座標系のｙ軸に対してそれぞれの光学構成要素のｘ軸の周りの傾斜角に対応する角度を有する。

図２は、「矩形視野」実施形態における視野ファセットミラー６の視野ファセット７のファセット配置を示している。視野ファセット７は矩形であり、各場合に同じｘ／ｙアスペクト比を有する。ｘ／ｙアスペクト比は、例えば、１２／５、２５／４、１０４／８、２０／１、又は３０／１とすることができる。

視野ファセット７は、視野ファセットミラー６の反射区域を指定し、各々が６つから８つの視野ファセット群８ａ、８ｂを有する４つの列にグループ分けされる。視野ファセット群８ａは、各場合に７つの視野ファセット７を有する。２つの中心視野ファセット列の２つの追加の辺縁視野ファセット群８ｂは、各々４つの視野ファセット７を有する。視野ファセットミラー６のファセット配置は、２つの中心ファセット列の間、及び第３のファセット行と第４のファセット行の間に視野ファセットミラー６がコレクター４の保持スポークによって遮蔽される隙間９を有する。ＬＰＰ光源が光源２として使用される場合に、コレクター４に隣接して配置され、図面には例示していない錫小滴発生器の結果として対応する遮蔽が同じく生じる可能性がある。

図３は、視野ファセットミラー６の更に別の「弓形視野」実施形態を示している。図２に記載の視野ファセットミラー６を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照符号を伴い、これらに対しては、図２に記載の視野ファセットミラー６の構成要素とは異なる場合に限って以下に説明する。

図３に記載の視野ファセットミラー６は、弓形視野ファセット７を有する視野ファセット配置を有する。これらの視野ファセット７は、各々が複数の視野ファセット群８を有する合計で５つの列に配置される。視野ファセット配置は、視野ファセットミラーの担持板６ａの円形境界内に内接する。

図３に記載の実施形態の視野ファセット７は全て、同じ面積と、図２に記載の実施形態の視野ファセット７のｘ／ｙアスペクト比に対応するｘ方向の幅とｙ方向の高さの同じ比とを有する。

視野ファセット７は、各場合に３つの異なる傾斜位置間で切り換えることができる。視野ファセットミラー６の実施形態に基づいて、視野ファセット７の全て又はそれ以外に一部は、３つよりも多い異なる傾斜位置間で切り換えることができる。この切り換えを提供するために、各視野ファセットは、図２には非常に概略的にしか例示していないアクチュエータ７ａにそれぞれ接続される。全ての傾斜可能視野ファセット７のアクチュエータ７ａは、図２には同じく略示しかしていない中央制御デバイス７ｂによって作動させることができる。

視野ファセットミラー６上での反射後に、個々の視野ファセット７に割り当てられた結像光部分ビームに分割された結像光ビーム３は、瞳ファセットミラー１０上に入射する。全結像光ビーム３のそれぞれの結像光部分ビームは、各場合に１つの結像光チャネルに沿って伝達される。

図４は、瞳ファセットミラー１０上の瞳ファセット１１の例示的なファセット配置を非常に概略的に示している。瞳ファセットミラー１０は、投影露光装置１の第２のファセットミラーを構成する。瞳ファセット１１は、瞳ファセットミラー１０の支持板１０ａ上に配置される。瞳ファセット１１は、ｘ／ｙ格子によって中心の周りに行毎及び列毎の方式で配置される。瞳ファセット１１は、正方形の反射区域を有する。他の形態の反射区域、例えば、矩形区域、又は多角形区域、例えば、六角形区域又は八角形区域も可能である。菱形形状で配置された瞳ファセット１１も可能である。

３つの傾斜位置のうちの１つにある視野ファセット７のうちの１つによって反射されるＥＵＶ照明光３の各結像光部分ビームには、正確に１つの瞳ファセット１１が割り当てられ、従って、視野ファセット７のうちの正確に１つのものと瞳ファセット１１のうちの正確に１つのものとを有するそれぞれ１つの被入射ファセット対は、関連付けられたＥＵＶ照明光３の結像光部分ビームに対する結像光チャネルを指定する。すなわち、それぞれの視野ファセット７の各傾斜位置で正確に１つの瞳ファセット１１の方向にＥＵＶ照明光３を偏向するように、それぞれの視野ファセット７には、対応する１つの瞳ファセット１１が割り当てられる。

視野ファセット７への瞳ファセット１１のチャネル毎の割り当ては、投影露光装置１の望ましい照明に依存して行われる。従って、３つの可能な視野ファセット傾斜位置の結果として、視野ファセット７の各々は、３つの異なる結像光チャネルを指定することができる。視野ファセット７の全ての傾斜位置を使用することで、視野ファセット７の各々には、傾斜位置の個数に対応する個数の瞳ファセット１１のセットが割り当てられる。まだ説明していない以下の図１１に関する説明では、これらの瞳ファセットセットの各々は、正確に１つの小文字（ａ、ｂ、ｃ）又は正確に１つの大文字（Ａ、Ｂ、Ｃ）によって示している。

代替の実施形態において、視野ファセット７は、２つの傾斜位置間、４つの傾斜位置間、又は更により多くの傾斜位置間で切り換えることができ、その結果、視野ファセット７は、各場合に１つの結像光チャネルを指定することができる。この場合に、それぞれの瞳ファセットセット内の瞳ファセット１１の個数は、相応により多い。

いくつかの傾斜位置間で切り換えることができる視野ファセット７に加えて、視野ファセットミラー６は、切り換えることができず、逆にそれぞれ１つの瞳ファセットに固定的に割り当てられた視野ファセット７を有することができる。切り換えることができない視野ファセット７を有するそのような変形は、特に、指定される様々な照明設定が互いに交わり、従って、指定される全ての照明設定において、特定の瞳ファセットが、指定される照明設定に関係なくＥＵＶ照明光による入射を常に受けるような特定の同じ方向からの光を必要とする場合に使用される。

図４では、視野ファセット７の現在の傾斜位置の結果としての照明光３による入射を受ける瞳ファセットミラー１０の瞳ファセット１１を強調表示している。この入射により、対応する照明設定、すなわち、瞳ファセットミラー１０全域にわたる照明光３による入射を受ける瞳ファセット１１の分布がもたらされる。この照明設定は、投影露光装置１によって指定することができる照明角度分布に対応する。照明光３による入射を受ける瞳ファセット１１は、各照明設定の場合に少なくとも１つの接続瞳ファセット群を形成する。原理的には、視野ファセット７の現在の傾斜位置に基づいて、照明光３による入射を受ける瞳ファセット１１の非接続分布を有する照明設定を提供することができる。少なくとも１つの接続瞳ファセット群を有する照明設定と、少なくとも１つの単離被入射瞳ファセット１１を有する照明設定との混合形態も可能である。単離被入射瞳ファセット１１を有するそのような照明設定は、視野ファセットの個数と比較して有意に多数の瞳ファセットが存在し、瞳ファセットミラー１０上の瞳ファセットが、少ない個数の視野ファセットにより、例えば、可能な限り均一な入射を受けなければならない場合にもたらすことができる。照明設定が少なくとも１つの接続瞳ファセット群を有する場合に、この瞳ファセット群は、少なくとも２つの瞳ファセット１１を含む。

視野ファセット７は、瞳ファセットミラー１０と、３つのＥＵＶミラー１２、１３、１４の下流の伝達光学ユニット１５とを用いて投影露光装置１の物体平面１６に結像される（図１）。ＥＵＶミラー１４は、かすめ入射ミラーとして具現化される。物体平面１６内にはレチクル１７が配置され、そのうちで、下流にある投影露光装置１の投影光学ユニット１９の物体視野１８と一致する照明区域は、ＥＵＶ照明光３によって照明される。照明区域を照明視野とも呼ぶ。投影露光装置１の照明光学ユニットの特定の実施形態に基づいて、物体視野１８は、矩形又は弓形である。結像光チャネルは、物体視野１８内で重ね合わされる。ＥＵＶ照明光３は、レチクル１７によって反射される。レチクル１７は、略示する物体変位ドライブ１７ｂを用いて駆動されて変位方向ｙに沿って変位させることができる物体ホルダ１７ａによって保持される。

瞳ファセットミラー１０が投影光学ユニット１９の入射瞳内に直接に配置される場合に、伝達光学ユニット１７は割愛することができる。

投影光学ユニット１９は、物体平面１６の物体視野１８を像平面２１内の像視野２０に結像する。この像平面２１内には、投影露光中に投影露光装置１を用いて露光される感光層を担持するウェーハ２２が配置される。ウェーハ２２、すなわち、その上で結像が起こる基板は、同じく略示するウェーハ変位ドライブ２２ｂを用いて変位方向ｙに沿って物体ホルダ１７ａの変位と同期して変位させることができるウェーハホルダ又は基板ホルダ２２ａによって保持される。投影露光中に、レチクル１７とウェーハ２２の両方は、ｙ方向に同期して走査される。投影露光装置１は、スキャナとして具現化される。走査方向ｙは、物体変位方向である。

視野ファセットミラー６、瞳ファセットミラー１０、及び伝達光学ユニット１５のミラー１２から１４は、投影露光装置１の照明光学ユニット２３の構成要素である。照明光学ユニット２３は、投影光学ユニット１９と共に投影露光装置１の照明系を形成する。

図４から図１０は、異なる照明設定、すなわち、視野ファセット傾斜ミラーの対応する指定を用いて瞳ファセットミラー１０上で照明光３による入射を受ける瞳ファセット１１の異なるグループ分けを被入射瞳ファセット１１を強調表示して示している。

図４に記載の実施形態において、瞳ファセットミラー１０は、合計で１４４個の瞳ファセット１１を有する。そのような瞳ファセットミラー１０には、各々３つの異なる傾斜位置間で切り換えることができる合計で４８個の視野ファセット７を有する視野ファセットミラー６の実施形態が割り当てられる。

照明光学ユニット３の代替の実施形態において、各々２つの傾斜位置間で切り換えることができる７２個の視野ファセット７を有する視野ファセットミラー６を瞳ファセットミラー１０に割り当てることができる。更に別の変形では、視野ファセットミラー６は、４つの傾斜位置間で切り換えることができる３６個の視野ファセット７を有することができる。更に別の変形では、視野ファセットミラー６は、３つの傾斜位置間で切り換えることができる７２個の視野ファセット７を有することができ、次に、瞳ファセットミラー１０は、２１６個の瞳ファセット１１を有する。更に別の変形では、視野ファセットミラー６は、４つの傾斜位置間で切り換えることができる４８個の視野ファセット７を有することができ、次に、瞳ファセットミラー１０上には、１９２個の瞳ファセット１１が存在する。

図４は、「小さい最大照明角度を有する従来照明」照明設定を示している。最大照明角度は、瞳ファセットミラー１０の中心２４から最も遠く離れた被入射瞳ファセット１１によって指定される。

図５は、「中間サイズの最大照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定を示している。ここで、照明光３は、瞳ファセット１１のリングの上に入射し、入射を受けない瞳ファセット１１は、このリング内とこのリングの外側の両方に残る。

図６は、「最大照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定を有する瞳ファセットミラー１０を示している。ここで、瞳ファセットミラー１０上の瞳ファセット１１の外側リングは、照明光３による入射を受ける。

図７は、「ｙ二重極」照明設定を示している。ここで、ｙ方向に互いから分離した２つの瞳ファセット群２５、２６が入射を受け、この群の外縁の形状は、落葉樹の葉の形状に似ており、これが、そのような瞳ファセット群を「リーフレット」とも呼ぶ理由である。

図８は、ｘ方向に互いから分離したリーフレットを有する「ｘ二重極」照明設定を示している。

図９は、図７に記載のｘ二重極と比較して瞳ファセットミラー１０の中心２４の周りの周方向に時計周りに互いに対して２５°だけ捩られたリーフレット、すなわち、瞳ファセット群２５、２６を有する「＋２５°二重極」照明設定を示している。

図１０は、図９に記載の照明設定と比較して周方向に−５０°だけ捩られたリーフレットを有する「−２５°二重極」照明設定を示している。

他の二重極角度、例えば、＋４５°又は−４５°も可能である。下記では、＋α／−α二重極設定を略記形式でα二重極設定とも呼ぶ。

図１１は、３つの傾斜位置に対応して各場合に視野ファセット７のうちの正確に１つのものに割り当てられた各場合に３つの瞳ファセット１１の瞳ファセットセットの割り当ての変形を示している。ここで、同じ文字は、同じ瞳ファセットセットのメンバであることを表している。上述したように、瞳ファセットミラー１０は、１４４個の瞳ファセットを有する。更に、図１１は、４つの象限Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶへの瞳ファセットミラー１０の支持板１０ａの再分割を示している。例えば、４行１０列目、１１行８列目、及び１１行１３列目に配置された３つの瞳ファセット１１は、文字「Ａ」で識別される１つの同じ瞳ファセットセットに属し、すなわち、これらの瞳ファセット１１は、１つの同じ視野ファセット７を通じた照明光３による入射をこの視野ファセット７の傾斜位置に依存して受ける。

例えば、瞳ファセットセット「ＡＡＡ」もそうであるが、これらの瞳ファセットセットの各々は、対応する瞳ファセットセットに対して瞳ファセットミラー１０の中心２４に関する点対称で配置された瞳ファセット１１の対称セットに関連付けられる。瞳ファセットセット「ＡＡＡ」の場合に、対称セットは、瞳ファセットセット「ａａａ」である。

瞳ファセットセット、例えば、セット「ＡＡＡ」及び「ａａａ」への全ての瞳ファセット１１の割り当ては、これらの瞳ファセットセットＡＡＡ、ＢＢＢ．．．ａａａ、ｂｂｂ．．．の各々における瞳ファセット１１が鋭角三角形２７のコーナを指定するようなものとすることができる。図１１には、これらの三角形２７をセット「ＡＡＡ」及び「ａａａ」に対して示している。

様々な瞳ファセットセットのそれぞれの瞳ファセット１１の位置の指定をもたらす視野ファセット７を瞳ファセット１１に割り当てる段階を行う時には、最初に、異なる視野ファセット７から発するＥＵＶ照明光３を偏向させるべき偏向先の瞳ファセット群が瞳ファセットミラー１０上で指定される。従って、この指定では、最初に、瞳ファセットミラー１０上にどの照明設定を生成するかに関する決定が行われる。図示の実施形態において、これらの照明設定は、図４から図１０に記載の照明設定である。次いで、異なる瞳ファセットセットからの瞳ファセットだけが瞳ファセット１１の各照明設定群に配置されるような瞳ファセットセットの配置の対応する指定が瞳ファセットミラー１０上に存在するように、視野ファセット７が瞳ファセット１１に割り当てられる。図１１に記載の割り当てにおいて、これは、望ましい照明設定をもたらすような３つの可能な傾斜位置のうちのそれぞれ正確に１つの位置にある視野ファセット７への瞳ファセット１１のそれぞれの部分割り当てを示す図１２から図１８において、図４から図１０に記載の照明設定に対して明確に示されている。

図１２は、図４に記載の照明設定を示し、図１３は、図５に記載の照明設定を示し、以降同じく続く。図１２から図１８に描写する瞳ファセット群の各々では、２つの同じ小文字の出現はなく、２つの同じ大文字の出現もない。すなわち、同時に、各照明設定群の全ての瞳ファセット１１が、傾斜可能視野ファセット７を有する視野ファセットミラー６を通じた入射を受けることができることが確実にされる。

一例として、図１４から図１８に記載の瞳ファセット１１の配置分布は、瞳ファセットミラー１０の中心２４の周りの瞳ファセットミラー１０の担持板１０ａの全径の４２％よりも大きい半径Ｒ_i上に位置する最内側瞳ファセット１１を有する。

セット「ＡＡＡ」及び「ａａａ」の例を用いて上述した互いに対する瞳ファセットセットの点対称性は、この割り当て方法を瞳ファセットミラー１０上の瞳ファセット１１のうちの半分に対してのみ実施することを可能にし、その理由は、残りの半分は、次に、割り当ての点対称性によって出現するからである。従って、図１１に記載の割り当ての例では、例えば、大文字を割り振るだけで十分であり、その結果、点対称性によって小文字の位置が容易に明確に設定される。

可能な割り当て、例えば、図１１に記載の割り当てが見つかると、視野ファセット７の傾斜角を最適化するために、この割り当てを更に改良することができる。この目的のために、瞳ファセットセット内の瞳ファセット１１の間の最大距離が全てのセットにおいて最小にされるように瞳ファセット１１が瞳ファセットセットの各々内に配置される。特に、最適化は、瞳ファセットセットの瞳ファセット１１が瞳ファセット支持体１０ａ上で全ての瞳ファセットセットに対して最小にされた半径を有する円形区域に配置されるように瞳ファセットセットの各々内の瞳ファセット１１が配置されるように実施される。

この最適化を図１９及び図２０に基づいて以下に例示的に説明する。図１９は、図１１に記載の割り当てを示し、更に、代表的な瞳ファセットセット「ＹＹＹ」に対して、瞳ファセットセット「ＹＹＹ」の３つの瞳ファセット１１が内部に配置された最も小さい円の弧２８を示している。

図２０は、瞳ファセット１１のうちで図１９及び図２０に１１ｉで表す２つがセット「ＹＹＹ」と「ｙｙｙ」の間で交換された割り当てを示している。２つの瞳ファセット１１ｉは、互いに対して点対称性を有する。

図２０に強調表示した得られる瞳ファセットセット「ＹＹＹ」及び「ｙｙｙ」は、互いに対して点対称なままに留まる。それぞれの瞳ファセットセット「ＹＹＹ」及び「ｙｙｙ」内の瞳ファセット１１は、今度は互いにより近い場所に位置し、従って、セット「ＹＹＹ」の３つ全ての瞳ファセット１１が乗る最小円を指定する最適化された弧２９は、この時点で、図１９に記載の割り当ての弧２８よりも小さい半径を有する。その結果、セット「ＹＹＹ」及び「ｙｙｙ」の瞳ファセット１１は、それぞれ割り当てられた視野ファセット７のより小さい傾斜位置変更により、すなわち、より小さい傾斜角により、照明光３によって作動させることができ、すなわち、その入射を受けることができる。

２つのファセットミラー、すなわち、視野ファセットミラー６及び瞳ファセットミラー１０は、第１のファセット、すなわち、視野ファセット７の与えられた傾斜位置構成でのＥＵＶ放射線又はＥＵＶ照明光３によって作動させることができる第２のファセット、すなわち、瞳ファセット１１の配置分布が照明視野１８の照明の照明角度分布をもたらすように配置される。瞳ファセットセットの各々、例えば、「ＡＡＡ」に属する瞳ファセット１１は、瞳ファセットミラー１０上の全ての瞳ファセット１１の全体配置の全径、すなわち、瞳ファセットミラー１０の担持板１０ａの直径の７０％よりも小さい直径を有する円、例えば、瞳ファセットミラー１０上で弧２８及び２９によって指定される円に位置する。

図１４から図１８に記載のこれらの配置分布の接続瞳ファセット群の全体反射面積は、瞳ファセット１１の全体配置の全体反射面積の４０％よりも小さい。一方で図１５、図１７、及び図１８に記載の瞳ファセット１１の配置分布、及び他方で図１６、図１７、及び図１８に記載の瞳ファセット１１の配置分布は、特に、各場合に配置分布に属する瞳ファセット１１の個数に関して、全ての瞳ファセット１１の全体配置の４つ全ての象限ＩからＩＶ内で少なくとも５％だけ異なる。例えば、図１５に記載の配置分布は、４つ全ての象限ＩからＩＶ内にそれぞれの文字で強調表示した正確に１２個の照明瞳ファセット１１を有する。図１７に記載の配置分布は、象限Ｉ内及び象限ＩＩＩ内に合計で１９個の照明瞳ファセットを有し、象限ＩＩ及びＩＶ内に各場合に正確に５個の照明瞳ファセットを有する。図１８に記載の配置分布は、象限Ｉ及びＩＩＩ内に正確に５個の照明瞳ファセット１１を有し、象限ＩＩ及びＩＶ内に正確に１９個の照明瞳ファセット１１を有する。象限ＩからＩＶ内の様々な配置分布における瞳ファセット１１の個数に関して、その差は、更に実質的に５％よりも大きく、１０％よりも大きく、１５％よりも大きく、２０％よりも大きく、３０％よりも大きく、４０％よりも大きく、かつ上述の配置分布の場合には更に５０％よりも大きい。

図２１から図３０に基づいて以下に説明する瞳ファセットミラー１０の変形を有する照明光学ユニットでは、照明光学ユニットは、各場合に４つの異なる傾斜位置間で切り換えることができる視野ファセット７を有する視野ファセットミラー６を有する。図２１から図３０に記載の瞳ファセットミラー１０は、合計で４１６個の瞳ファセット１１を有する。

図２１は、各場合に視野ファセット７のうちの正確に１つのものにおける４つの傾斜位置に割り当てられた４つの瞳ファセット１１から各場合に構成される瞳ファセットセットの割り当ての変形を示している。この場合に、同じ文字は、同じ瞳ファセットセットのメンバであることを表している。そのような瞳ファセットセットの例は、図２１に網掛けで強調表示した瞳ファセット１１を含むセットＡＡＡＡ、ａａａａ、Ａ’Ａ’Ａ’Ａ’、及びａ’ａ’ａ’ａ’である。瞳ファセットミラー１０上で例えば１２行７列目、１５行４列目、２０行４列目、及び１９行１５列目に配置された４つの瞳ファセット１１は、文字「Ａ」で識別される１つの同じ瞳ファセットセットに属し、すなわち、これらの瞳ファセット１１は、１つの同じ視野ファセット７を通じた照明光３による入射をこの視野ファセット７の傾斜位置に依存して受ける。

与えられた瞳ファセットセットに対して瞳ファセットミラー１０の中心２４に関する点対称で配置された瞳ファセット１１の対称セットは、瞳ファセットセット「ＡＡＡＡ」から「ＺＺＺＺ」及び「Ａ’Ａ’Ａ’Ａ’」から「Ｚ’Ｚ’Ｚ’Ｚ’」の各々に関連付けられ、例えば、瞳ファセットセット「ＡＡＡＡ」にも関連付けられる。瞳ファセットセット「ＡＡＡＡ」の場合に、対称セットは、瞳ファセットセット「ａａａａ」である。対応する対称割り当ては、例えば、セット「Ｃ’Ｃ’Ｃ’Ｃ’」と「ｃ’ｃ’ｃ’ｃ’」及び「ＭＭＭＭ」と「ｍｍｍｍ」に適用される。

瞳ファセットセット、例えば、セット「ＡＡＡＡ」及び「Ａ’Ａ’Ａ’Ａ’」への全ての瞳ファセット１１の割り当ては、これらの瞳ファセットセットＡＡＡＡ、Ａ’Ａ’Ａ’Ａ’、ａａａａ、ａ’ａ’ａ’ａ’の各々の瞳ファセット１１が、凸多角形のコーナ、この場合に、凸四辺形３０のコーナを指定するようなものとすることができる。図２１には、これらの四辺形３０をセット「ＡＡＡＡ」及び「Ａ’Ａ’Ａ’Ａ’」に対して示している。

上記で例えば図１１から図１９に記載の実施形態に基づいて上述したように、視野ファセット７は、瞳ファセット１１に割り当てられる。図２１は、各々４つの傾斜位置間で切り換えることができる視野ファセット７を有する視野ファセットミラー６に対する瞳ファセットミラー１０の瞳ファセット１１のそのような割り当ての結果を示している。

図２２から図２９は、望ましい照明設定をもたらすような各場合に４つの可能な傾斜位置のうちの正確に１つの位置にある視野ファセット７への瞳ファセット１１のそれぞれの部分割り当てを示す照明設定の例を構成している。

図２２は、図４及び図１２に記載のものと類似の照明設定を示している。照明瞳ファセット１１は、瞳ファセットミラー１０上で支持板１０ａの全径の約６０％である直径を有する円３１に位置する。すなわち、物体視野１８は、この６０％の直径比に従って担持板１０ａの全径の領域に位置する最外側瞳ファセット１１を照明することによって得られることになる最大到達可能照明角度よりも小さい照明角度から照明される。この比の指定は、「シグマ」でも表わされる。この値「シグマ」の定義は、ＵＳ ６，６５８，０８４ Ｂ２に見出される。図２２に記載の照明設定では、シグマ＜０．６が成り立つ。図２２は、「小さい最大照明角度を有する従来照明」照明設定を示している。

図２３は、相応に、０．５＜シグマ＜０．７を有する照明設定を示している。図２３は、「中間サイズの最大照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定を示している。

図２４は、０．７＜シグマ＜０．８５を有する照明設定を示している。この設定は、「より大きい最大照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定である。

図２５は、シグマ＞０．８５を有する照明設定を示している。この設定は、「大きい最大照明角度を有する環状照明角度分布」照明設定である。

図２６及び図２７、並びに図２９及び図３０は、例えば、図７から図１０の状況で上述した照明設定に対応する「ｙ二重極」照明設定、「ｘ二重極」照明設定、「＋２５°二重極」照明設定、及び「−２５°二重極」照明設定を示している。

図２８は、接続瞳ファセット群の全部で４つの接続極３２、３３、３４、及び３５を有する四重極照明設定を示している。これらの４つの瞳ファセット群３２から３５は、各々、瞳ファセットミラー１０の象限ＩからＩＶのうちの１つに配置される。４つの極３２から３５は、瞳ファセットミラー１０の中心２４の周りの周方向に位置＋４５°、＋１３５°、＋２２５°、＋３１５°を中心として位置する。４つの極３２から３５の各々は、２６個の照明瞳ファセット１１を含む。極の各々においてシグマ＞０．５が成り立つ。

図２１から図３０に記載の実施形態において、２つのファセットミラー６、１０はまた、瞳ファセット１１のセット、例えば、ＡＡＡＡ及びＡ’Ａ’Ａ’Ａ’の各々に属する瞳ファセット１１が、瞳ファセットミラー１０上で瞳ファセット１１の全体配置の全径、すなわち、担持板１０ａの全径の７０％よりも小さい直径を有する円に位置するように配置される。一例として、図１９及び図２１では、この全径をＧＤで表している。図２１には、内部に瞳ファセットセットＡＡＡＡ及びＡ’Ａ’Ａ’Ａ’が収まる対応する円弧は、３６及び３７の場所に示している。図２１に記載の配置では、瞳ファセットセットの配置弧のうちの多くのものは、担持板１０ａの全径の実質的に７０％よりも小さく、例えば、６０％よりも小さく、５０％よりも小さく、又は更により小さい。

図２４から図３０に記載の照明瞳ファセット１１の配置分布は、更に、瞳ファセットミラー１０の中心２４から見た場合に、最内側照明瞳ファセット１１が、瞳ファセットミラー１０の担持板１０ａの全径ＧＤの半分の４２％よりも大きく、更に５０％よりも大きい半径上に位置するようなものである。図１３から図１８及び図２６から図３０では、最内側瞳ファセット１１、すなわち、最内側の第２のファセットのこの半径はＲ_iで表している。

図２２から図３０に記載の照明設定では、接続瞳ファセット群の全体反射面積、例えば、図２６から図３０に記載の極設定の個々の極の全体反射面積は、担持板１０ａ上の瞳ファセット１１の全体反射面積の４０％よりも小さい。

図２６から図３０に記載の照明設定は、瞳ファセットミラー１０上の瞳ファセット１１の全体配置の全ての象限ＩからＩＶそれぞれ内の瞳ファセット１１の反射面積に関して互いに少なくとも５％だけ異なる照明瞳ファセット１１の配置分布の例である。図２６及び図２７に記載の照明設定は、全ての象限ＩからＩＶ内で各場合に２６個の照明瞳ファセット１１を有する。図２８に記載の四重極照明設定もまた、各象限ＩからＩＶ内で各場合に２６個の照明瞳ファセット１１を有する。図２９に記載の照明設定は、象限Ｉ及びＩＩＩ内で各場合に４６個の照明瞳ファセット１１を有し、象限ＩＩ及びＩＶ内で各場合に６個の照明瞳ファセット１１を有する。図３０に記載の照明設定は、象限Ｉ及びＩＩＩ内で各場合に６個の照明瞳ファセット１１を有し、象限ＩＩ及びＩＶ内で各場合に４６個の照明瞳ファセット１１を有する。この場合に、それぞれの配置分布に関連付けられた瞳ファセット１１の個数は、象限ＩからＩＶ内で各場合に実質的に５％よりも大きく、すなわち、ここでもまた５０％よりも大きく互いから異なることも同じく真である。

投影露光中に、最初に、レチクル１７と、照明光３に対して感光性を有するコーティングを担持するウェーハ２２とが与えられる。次いで、投影露光装置１を用いてレチクル１７の区画がウェーハ２２上に投影される。最後に、照明光３によってウェーハ２２上で露光された感光層が現像される。このようにして、微細構造化又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体チップが生成される。

１０ 瞳ファセットミラー
１０ａ 支持体
１１ 第２のファセット
２４ 第２のファセットミラーの中心
ＧＤ 全体配置の全径

Claims (15)

1. 照明視野（１８）を照明するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（２３）であって、
   支持体（６ａ）上に複数の第１の反射ファセット（７）を有する第１のファセットミラー（６）を有し、
   支持体（１０ａ）上に複数の第２の反射ファセット（１１）を有する第２のファセットミラー（１０）を有し、
   前記第１のファセット（７）の少なくとも一部は、様々な傾斜位置間で切り換えることができ、
   それぞれの前記傾斜可能な第１のファセット（７）の各傾斜位置において、この第１のファセット（７）は、第２のファセット（１１）に該第２のファセット（１１）の方向にＥＵＶ放射線を偏向するように割り当てられ、
   前記傾斜可能な第１のファセット（７）の各々は、その傾斜位置によって第２のファセット（１１）のセット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）に割り当てられ、
   前記２つのファセットミラー（６，１０）は、前記第１のファセット（７）の与えられた傾斜位置構成においてＥＵＶ放射線が入射することができる第２のファセット（１１）の配置分布が前記照明視野（１８）の照明の照明角度分布をもたらすように配置され、
   第２のファセット（１１）の前記セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）の各々に属する該第２のファセット（１１）は、前記第２のファセットミラー（１０）上の円（２８，２９；３６，３７）内に位置し、この円の直径が、該第２のファセットミラー（１０）上の全ての第２のファセット（１１）の全体配置の全径（ＧＤ）の７０％よりも小さい、
   ことを特徴とする照明光学ユニット。
2. 前記第２のファセット（１１）の対称セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）が、該第２のファセット（１１）の前記セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）の各々に属し、この対称セットは、前記第２のファセットミラー（１０）の中心（２４）に関して、該第２のファセット（１１）の該セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）に対して点対称に配置されることを特徴とする請求項１に記載の照明光学ユニット。
3. どのセット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）も、２つよりも多い第２のファセット（１１）を含むことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学ユニット。
4. 前記第２のファセットミラー（１０）上の前記セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）の前記配置は、
   これが、前記第２のファセット（１１）の少なくとも３つの配置分布をもたらし、その最内側の第２のファセット（１１）が、前記第２のファセットミラー（１０）の中心（２４）から見て、該第２のファセットミラー（１０）上の全ての第２のファセット（１１）の前記全体配置の前記全径（ＧＤ）の半分の４２％よりも大きい半径（Ｒ_i）上に位置し、
   前記第２のファセット（１１）のこれらの配置分布の接続瞳ファセット群（３２から３５）の全体反射面積が、全ての第２のファセット（１１）の前記全体配置の全体反射面積の４０％よりも小さく、
   前記配置分布のうちの少なくとも３つが、各場合に全ての第２のファセット（１１）の前記全体配置の全ての象限（ＩからＩＶ）においてそれらの反射面積に関して互いから少なくとも５％だけ異なる、
   ようなものである、
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
5. 各セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）が、正確に３つの第２のファセット（１１）を含むことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の照明光学ユニット。
6. 各セット（ＡＡＡ，ａａａ．．．；ＡＡＡＡ，ａａａａ．．．）の前記第２のファセット（１１）は、凸多角形（２７；３０）のコーナを指定することを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
7. 請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（２３）において第１のファセット（７）の第２のファセット（１１）への割り当てを指定する方法であって、
   異なる第１のファセット（７）から進んでＥＵＶ放射線をその上に偏向させることができる第２のファセットミラー（１０）上の第２のファセット（１１）の群（２５，２６）を指定する段階と、
   第２のファセット（１１）のセット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）の配置を相応に指定しながら、第２のファセット（１１）の異なるセット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）からのファセット（１１）だけが各群（２５，２６）に配置されるように前記第１のファセット（７）を該第２のファセット（１１）に割り当てる段階と、
   を含むことを特徴とする方法。
8. 前記セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）の各々内の前記第２のファセット（１１）は、それぞれの該セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）における該第２のファセット（１１）間の最大距離が最小にされるように配置されることを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 前記セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）の各々内の前記第２のファセット（１１）は、全てのセット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）に対して、該セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）における該第２のファセット（１１）が、全てのセット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）に対して半径が最小にされた円形区域（２９）内で前記第２のファセットミラー（１０）の支持体（１０ａ）上に配置されるように配置されることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の方法。
10. 前記セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）の各々内の前記第２のファセット（１１）は、全てのセット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）に対して、該セット（ＡＡＡ；ａａａ．．．）における該第２のファセットが、前記第２のファセットミラー（１０）の支持体（１０ａ）上で凸多角形（２７；３０）のコーナを指定するように配置されることを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
11. 小さい照明角度を有する環状照明、
    中間サイズの照明角度を有する環状照明、
    大きい照明角度を有する環状照明、
    ｘ二重極設定、
    ｙ二重極設定、
    ＋α二重極設定、
    −α二重極設定、
    四重極設定、
    六重極設定、
    従来設定、
    である照明設定のうちの少なくとも一部をもたらす第２のファセット（１１）の配置が、第２のファセット（１１）の前記群（２５，２６）として指定されることを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれか１項に記載の方法。
12. 請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニットと、
    照明光（３）のためのＥＵＶ光源（２）と、
    を有することを特徴とする光学系。
13. 請求項１２に記載の光学系と、
    照明光（３）のための光源（２）と、
    を有することを特徴とする投影露光装置（１）。
14. 構造化構成要素を生成する方法であって、
    感光材料の層が少なくとも部分的にその上に塗布されたウェーハ（２２）を与える段階と、
    結像される構造を有する物体（１７）としてレチクルを与える段階と、
    請求項１３に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
    前記投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（２２）の前記層の領域上に投影する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
15. 請求項１４に記載の方法に従って生成された構造化構成要素。

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