JP5717513B2 - 投影リソグラフィ用の照明光学系 - Google Patents
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また、以下の実施形態が考えられる。
(実施形態1)
後続の結像光学系(19)の物体視野(18)を配置することができる照明視野の照明のための投影リソグラフィ用の照明光学系(23;40)であって、
照明光(3)の光束の部分光束(24)の反射誘導のための複数の第1のファセット(7;32;35)を有し、
前記第1のファセット(7;32;35)の反射面(25;36)を、各場合に、
前記第1のファセット(7;32;35)上に入射する前記部分光束(24)を第1の物体視野照明チャンネル(261)に沿って照明視野に誘導する第1の照明傾斜位置と、
前記第1のファセット(7;32;35)上に入射する前記部分光束(24)を更に別の物体視野照明チャンネル(262)に沿って前記照明視野に誘導する少なくとも1つの更に別の照明傾斜位置と、
の間で傾斜させることができる、
第1のファセットミラー(6)と、
前記第1のファセットミラー(6)の前記第1のファセット(7;32;35)によって反射された前記部分光束(24)の前記反射誘導のための複数の第2のファセット(11)を有する、
前記ファセットミラー(6)の下流に配置された第2のファセットミラー(11;41)と、
を有し、
それによって前記物体視野照明チャンネル(26)は、前記反射光束誘導によって予め判断され、各場合に、前記2つのファセットミラー(6/10;6/41)のうちの1つのファセット(7/11;32/11;35/10)が、前記物体視野照明チャンネルに割り当てられ、
前記物体視野照明チャンネル(26)を形成するために各場合に前記第1のファセットミラー(6)の前記第1のファセット(7;32;35)のうちの1つに前記少なくとも2つの照明傾斜位置を用いて割り当てられる前記第2のファセット(111,112,113)は、2つの円錐断面線(28a,28b)によって制限される前記第2のファセットミラー(10;41)の部分(28)上に位置し、該2つの円錐断面線(28a,28b)の各々は、該第1のファセット(7;32;35)上の前記部分光束(24)と同じ反射角で該第2のファセットミラー(10;41)上の該部分光束(24)の入射部位を定めてそれぞれの物体視野照明チャンネル(26)を指定する、
ことを特徴とする照明光学系。
(実施形態2)
前記傾斜可能ファセット(7)のうちの1つの前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル(261,262)は、該少なくとも2つの照明傾斜位置にある前記部分光束(24)が、前記反射面(25)上で±10%の公差範囲内で一致する入射角βで反射されるように該傾斜可能ファセット(7)上の反射領域に誘導されることを特徴とする(実施形態1)に記載の照明光学系。
(実施形態3)
前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル(261,262)は、前記反射面(25)上に入射する前記部分光束(24)に沿った反射によって互いの中に通ることを特徴とする(実施形態2)に記載の照明光学系。
(実施形態4)
前記傾斜可能ファセット(35)の前記反射面(36)は、少なくとも2つの反射部分(37,38)に分割され、その反射率Rが、各場合に前記照明傾斜位置の1つに対して最適化されることを特徴とする(実施形態1)に記載の照明光学系。
(実施形態5)
前記少なくとも1つの傾斜可能ファセット(7;32;35)の前記反射面(25;36)は、反射コーティング(27)を担持することを特徴とする(実施形態1)から(実施形態4)のいずれか1つに記載の照明光学系。
(実施形態6)
前記反射コーティング(27)は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に対応する前記傾斜可能ファセット(7;32;35)上の入射角βに対する前記部分光束(24)が、±10%の公差範囲内で一致する反射率Rで該反射コーティング(27)によって反射されるように設計されることを特徴とする(実施形態5)に記載の照明光学系。
(実施形態7)
前記反射コーティング(27)は、広帯域反射コーティングとして設計されることを特徴とする(実施形態6)に記載の照明光学系。
(実施形態8)
前記反射コーティング(27)は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記入射角βに対して、前記照明光(3)に対する該反射コーティング(27)の最大反射率Rmaxよりも1%を超えて小さく、かつ±10%の公差範囲内で一致する反射率をもたらすように設計されることを特徴とする(実施形態5)から(実施形態7)のいずれか1つに記載の照明光学系。
(実施形態9)
(実施形態1)から(実施形態8)のいずれか1つに記載の照明光学系において少なくとも2つの第2のファセット(11)を第1のファセット(7;32;35)のうちの1つの照明傾斜位置に割り当てる方法であって、
第2のファセットのうちの1つ(111)が、第1のファセット(7)によって反射された部分光束(24)による入射を受ける第1の照明傾斜位置を事前に判断する段階と、
前記第1のファセット(7;32;35)上の前記部分光束(24)の入射角βを入射角公差範囲内に保持しながら該第1のファセット(7;32;35)の第2の照明傾斜位置を判断する段階と、
前記判断された第2の照明傾斜位置において前記第1のファセット(7;32;35)によって反射された前記部分光束(24)による入射を受ける少なくとも更に別の第2のファセット(112,113)を前記第2のファセットミラー(10;41)の円錐断面部分(28)内で選択する段階と、
を有することを特徴とする方法。
(実施形態10)
(実施形態1)及び(実施形態8)のいずれか1つに記載の照明光学系(23;40)を有し、かつ 物体視野(18)を像視野(20)に結像するための投影光学系(19)を有する、
ことを特徴とする照明系。
(実施形態11)
(実施形態10)に記載の照明系を有し、かつ
EUV光源(2)を有する、
ことを特徴とする投影露光系(1)。
(実施形態12)
構造化構成要素を製造する方法であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に付加されたウェーハ(22)を準備する段階と、
結像される構造を有するレチクル(17)を準備する段階と、
第1のファセットミラー(6)の傾斜可能な第1のファセット(7)の少なくとも一部が(実施形態9)に記載の方法に従って割り当てられた照明傾斜位置を有する(実施形態11)に記載の投影露光系(1)を準備する段階と、
前記投影露光系(1)を用いて前記レチクル(17)の少なくとも一部を前記ウェーハ(22)の前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を有することを特徴とする方法。
(実施形態13)
(実施形態12)に記載の方法によって製造される構造化構成要素。
10 第2のファセットミラー
111,112,113 第2のファセット
24 照明光束の部分光束
26 第1の物体視野照明チャンネル
28a,28b 第2のファセットミラーの2つの円錐断面線
Claims (12)
- 後続の結像光学系(19)の物体視野(18)を配置することができる照明視野の照明のための投影リソグラフィ用の照明光学系(23;40)であって、
照明光(3)の光束の部分光束(24)の反射誘導のための複数の第1のファセット(7;32;35)を有し、
前記第1のファセット(7;32;35)の反射面(25;36)を、各場合に、
前記第1のファセット(7;32;35)上に入射する前記部分光束(24)を第1の物体視野照明チャンネル(261)に沿って照明視野に誘導する第1の照明傾斜位置と、
前記第1のファセット(7;32;35)上に入射する前記部分光束(24)を更に別の物体視野照明チャンネル(262)に沿って前記照明視野に誘導する少なくとも1つの更に別の照明傾斜位置と、
の間で傾斜させることができる、
第1のファセットミラー(6)と、
前記第1のファセットミラー(6)の前記第1のファセット(7;32;35)によって反射された前記部分光束(24)の前記反射誘導のための複数の第2のファセット(11)を有する、
前記ファセットミラー(6)の下流に配置された第2のファセットミラー(10;41)と、
を有し、
前記物体視野照明チャンネル(26)を形成するために各場合に前記第1のファセットミラー(6)の前記第1のファセット(7;32;35)のうちの1つに前記少なくとも2つの照明傾斜位置を用いて割り当てられる前記第2のファセット(111,112,113)は、2つの円錐断面線(28a,28b)によって制限される前記第2のファセットミラー(10;41)の部分(28)上に位置し、該2つの円錐断面線(28a,28b)の各々は、該第1のファセット(7;32;35)上の前記部分光束(24)と同じ反射角で該第2のファセットミラー(10;41)上の該部分光束(24)の入射部位を定めてそれぞれの物体視野照明チャンネル(26)を指定する、
ことを特徴とする照明光学系。 - 前記傾斜可能ファセット(7)のうちの1つの前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル(261,262)は、該少なくとも2つの照明傾斜位置にある前記部分光束(24)が、前記反射面(25)上で±10%の公差範囲内で一致する入射角βで反射されるように該傾斜可能ファセット(7)上の反射領域に誘導されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記少なくとも2つの物体視野照明チャンネル(261,262)は、前記反射面(25)上に入射する前記部分光束(24)の入射平面に対して垂直である平面に対称であることを特徴とする請求項2に記載の照明光学系。
- 前記傾斜可能ファセット(35)の前記反射面(36)は、少なくとも2つの反射部分(37,38)に分割され、その反射率Rが、各場合に前記照明傾斜位置の1つに対して最適化されることを特徴とする請求項1に記載の照明光学系。
- 前記少なくとも1つの傾斜可能ファセット(7;32;35)の前記反射面(25;36)は、反射コーティング(27)を担持することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 前記反射コーティング(27)は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に対応する前記傾斜可能ファセット(7;32;35)上の入射角βに対する前記部分光束(24)が、±10%の公差範囲内で一致する反射率Rで該反射コーティング(27)によって反射されるように設計されることを特徴とする請求項5に記載の照明光学系。
- 前記反射コーティング(27)は、広帯域反射コーティングとして設計されることを特徴とする請求項6に記載の照明光学系。
- 前記反射コーティング(27)は、前記少なくとも2つの照明傾斜位置に割り当てられた前記入射角βに対して、前記照明光(3)に対する該反射コーティング(27)の最大反射率Rmaxよりも1%を超えて小さく、かつ±10%の公差範囲内で一致する反射率をもたらすように設計されることを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の照明光学系。
- 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系において少なくとも2つの第2のファセット(11)を第1のファセット(7;32;35)のうちの1つの照明傾斜位置に割り当てる方法であって、
第2のファセットのうちの1つ(111)が、第1のファセット(7)によって反射された部分光束(24)による入射を受ける第1の照明傾斜位置を事前に判断する段階と、
前記第1のファセット(7;32;35)上の前記部分光束(24)の入射角βを入射角公差範囲内に保持しながら該第1のファセット(7;32;35)の第2の照明傾斜位置を判断する段階と、
前記判断された第2の照明傾斜位置において前記第1のファセット(7;32;35)によって反射された前記部分光束(24)による入射を受ける少なくとも更に別の第2のファセット(112,113)を前記第2のファセットミラー(10;41)の円錐断面部分(28)内で選択する段階と、
を有することを特徴とする方法。 - 請求項1及び請求項8のいずれか1項に記載の照明光学系(23;40)を有し、かつ 物体視野(18)を像視野(20)に結像するための投影光学系(19)を有する、
ことを特徴とする照明系。 - 請求項10に記載の照明系を有し、かつ
EUV光源(2)を有する、
ことを特徴とする投影露光系(1)。 - 構造化構成要素を製造する方法であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に付加されたウェーハ(22)を準備する段階と、
結像される構造を有するレチクル(17)を準備する段階と、
第1のファセットミラー(6)の傾斜可能な第1のファセット(7)の少なくとも一部が請求項9に記載の方法に従って割り当てられた照明傾斜位置を有する請求項11に記載の投影露光系(1)を準備する段階と、
前記投影露光系(1)を用いて前記レチクル(17)の少なくとも一部を前記ウェーハ(22)の前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を有することを特徴とする方法。
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