JP2010210528A - マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム - Google Patents
マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010210528A JP2010210528A JP2009058780A JP2009058780A JP2010210528A JP 2010210528 A JP2010210528 A JP 2010210528A JP 2009058780 A JP2009058780 A JP 2009058780A JP 2009058780 A JP2009058780 A JP 2009058780A JP 2010210528 A JP2010210528 A JP 2010210528A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas line
- flow rate
- mass flow
- gas
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 238000012795 verification Methods 0.000 claims description 93
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 11
- 238000010998 test method Methods 0.000 claims 2
- 238000003556 assay Methods 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 178
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
- G01F1/36—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
- G01F1/50—Correcting or compensating means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/15—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters specially adapted for gas meters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
- G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
- G01F25/17—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters using calibrated reservoirs
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
- G05B23/02—Electric testing or monitoring
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
- Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
- Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
【解決手段】前記支流ガスラインSLと並列に設けられており、前記合流後ガスラインMLに合流する検定用ガスラインKLと、ガス配管系GSの配管自体で規定される基準容積を算出する基準容積算出部32と、検定されるマスフローコントローラ1による流量制御が行われている間において圧力測定手段213で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部33と、前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部33と、を設けた。
【選択図】図2
Description
1・・・マスフローコントローラ
2・・・差圧式マスフローコントローラ
21・・・流量測定手段
22・・・流量可変バルブ
211、213・・・圧力測定手段
32・・・基準容積算出部
33・・・検定用パラメータ算出部
34・・・比較部
GS・・・ガス配管系
SL・・・支流ガスライン
ML・・・合流後ガスライン
MV・・・合流後バルブ
NL・・・分流前ガスライン
Claims (5)
- マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが1又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含む複数のガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、
ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインと、
各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定システム。 - 前記検定用ガスラインには、前記流量測定手段と、前記流量可変バルブと、前記圧力測定手段とを備えた差圧式マスフローコントローラを設けてあり、前記圧力測定手段が、前記流量測定手段を兼ねるものである請求項1記載のマスフローコントローラの検定システム。
- マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが1又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含むガスラインが分流する前の分流前ガスラインに分流前バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、
ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記分流前ガスラインと接続され、前記支流ガスラインと並列に設けられている検定用ガスラインと、
各支流ガスラインを閉止し、前記分流前バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記分流前バルブと基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記分流前バルブが閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定システム。 - マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが1又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含むガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定方法であって、
前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインに、当該検定用ガスラインに流れるガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、前記検定用ガスラインにおけるガスの圧力を測定する圧力測定手段とを設ける検定用ガスライン設定ステップと、
各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブ基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出ステップと、
検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出ステップと、
前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較ステップと、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定方法。 - マスフローコントローラを具備し、1又は複数設けられている支流ガスラインと、ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備する検定用ガスラインとが並列に設けられており、各支流ガスライン及び前記検定用ガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系において、マスフローコントローラの検定を行うためのプログラムであって、
各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいてされる配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定用プログラム。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009058780A JP5346628B2 (ja) | 2009-03-11 | 2009-03-11 | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム |
TW99106748A TW201044128A (en) | 2009-03-11 | 2010-03-09 | Testing system, test method and program for testing of mass flow controller |
KR1020100021241A KR101714786B1 (ko) | 2009-03-11 | 2010-03-10 | 매스 플로우 컨트롤러의 검정 시스템, 검정 방법, 검정용 프로그램을 수록한 기록 매체 |
US12/721,433 US8443649B2 (en) | 2009-03-11 | 2010-03-10 | Mass flow controller verifying system, verifying method and verifying program |
CN201010135729A CN101840232A (zh) | 2009-03-11 | 2010-03-10 | 质量流量控制器的测试系统、测试方法、测试用程序 |
US13/779,527 US8646307B2 (en) | 2009-03-11 | 2013-02-27 | Mass flow controller verifying system, verifying method and verifying program |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009058780A JP5346628B2 (ja) | 2009-03-11 | 2009-03-11 | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010210528A true JP2010210528A (ja) | 2010-09-24 |
JP5346628B2 JP5346628B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=42729719
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009058780A Expired - Fee Related JP5346628B2 (ja) | 2009-03-11 | 2009-03-11 | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8443649B2 (ja) |
JP (1) | JP5346628B2 (ja) |
KR (1) | KR101714786B1 (ja) |
CN (1) | CN101840232A (ja) |
TW (1) | TW201044128A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012093436A1 (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-12 | 株式会社フジキン | ガス供給装置用流量制御器の流量測定装置及び流量測定方法 |
CN103278220A (zh) * | 2013-06-05 | 2013-09-04 | 中国计量学院 | 一种对膜式燃气表基本误差进行快速检定的方法及其装置 |
WO2018147354A1 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 株式会社フジキン | 流量測定方法および流量測定装置 |
TWI696057B (zh) * | 2015-09-16 | 2020-06-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 流量控制器的輸出流量之求取方法 |
WO2022220900A1 (en) * | 2021-04-13 | 2022-10-20 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8707754B2 (en) * | 2010-04-30 | 2014-04-29 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems |
US9188989B1 (en) | 2011-08-20 | 2015-11-17 | Daniel T. Mudd | Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device |
US9958302B2 (en) | 2011-08-20 | 2018-05-01 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
JP5735383B2 (ja) * | 2011-09-02 | 2015-06-17 | アズビル株式会社 | 調節弁の異常診断方法および装置 |
JP5433660B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2014-03-05 | Ckd株式会社 | ガス流量監視システム |
JP5809012B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2015-11-10 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム |
CN102506966B (zh) * | 2011-12-01 | 2014-01-29 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 一种流量系统校正装置 |
JP6081800B2 (ja) * | 2013-01-07 | 2017-02-15 | 株式会社堀場エステック | 流体制御弁及びマスフローコントローラ |
US9454158B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-27 | Bhushan Somani | Real time diagnostics for flow controller systems and methods |
US9707369B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-07-18 | Vyaire Medical Capital Llc | Modular flow cassette |
US9795757B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-10-24 | Vyaire Medical Capital Llc | Fluid inlet adapter |
US9962514B2 (en) | 2013-06-28 | 2018-05-08 | Vyaire Medical Capital Llc | Ventilator flow valve |
US9746359B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-08-29 | Vyaire Medical Capital Llc | Flow sensor |
US9541098B2 (en) | 2013-06-28 | 2017-01-10 | Vyaire Medical Capital Llc | Low-noise blower |
US9433743B2 (en) | 2013-06-28 | 2016-09-06 | Carefusion 303, Inc. | Ventilator exhalation flow valve |
DE102013015313A1 (de) * | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Dürr Systems GmbH | Applikationsanlage und entsprechendes Applikationsverfahren |
DE102015100762A1 (de) * | 2015-01-20 | 2016-07-21 | Infineon Technologies Ag | Behälterschalteinrichtung und Verfahren zum Überwachen einer Fluidrate |
KR102031574B1 (ko) * | 2016-01-15 | 2019-10-14 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유량 측정 가능한 가스 공급 장치, 유량계, 및 유량 측정 방법 |
US10684159B2 (en) * | 2016-06-27 | 2020-06-16 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on choked flow |
US10303189B2 (en) | 2016-06-30 | 2019-05-28 | Reno Technologies, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
US10679880B2 (en) | 2016-09-27 | 2020-06-09 | Ichor Systems, Inc. | Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same |
US10838437B2 (en) | 2018-02-22 | 2020-11-17 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same |
US11144075B2 (en) | 2016-06-30 | 2021-10-12 | Ichor Systems, Inc. | Flow control system, method, and apparatus |
JP6795832B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-12-02 | 株式会社フジキン | 流量制御機器、流量制御機器の流量校正方法、流量測定機器および流量測定機器を用いた流量測定方法 |
FR3056314B1 (fr) * | 2016-09-21 | 2018-09-07 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et appareil de regulation de plusieurs fluides |
US10697848B1 (en) * | 2016-12-12 | 2020-06-30 | Kirk A. Dobbs | Smart building water supply management system with leak detection and flood prevention |
US10031004B2 (en) * | 2016-12-15 | 2018-07-24 | Mks Instruments, Inc. | Methods and apparatus for wide range mass flow verification |
US10663337B2 (en) | 2016-12-30 | 2020-05-26 | Ichor Systems, Inc. | Apparatus for controlling flow and method of calibrating same |
JP6753799B2 (ja) * | 2017-02-23 | 2020-09-09 | アズビル株式会社 | メンテナンス判断指標推定装置、流量制御装置およびメンテナンス判断指標推定方法 |
US10983538B2 (en) * | 2017-02-27 | 2021-04-20 | Flow Devices And Systems Inc. | Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller |
WO2019026700A1 (ja) * | 2017-07-31 | 2019-02-07 | 株式会社フジキン | 流体制御システムおよび流量測定方法 |
JP7270988B2 (ja) | 2018-02-26 | 2023-05-11 | 株式会社フジキン | 流量制御装置および流量制御方法 |
US10866135B2 (en) | 2018-03-26 | 2020-12-15 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on rate of pressure decay |
US11789435B2 (en) * | 2018-04-19 | 2023-10-17 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Flow control device, diagnostic method, and program for flow control device |
WO2020026784A1 (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | 株式会社フジキン | 流量制御システム及び流量測定方法 |
CN109085812A (zh) * | 2018-08-28 | 2018-12-25 | 武汉华星光电技术有限公司 | 气体流量监测系统及监测和主备用切换方法 |
CN113441449B (zh) * | 2020-03-27 | 2022-12-09 | 先丰通讯股份有限公司 | 喷盘检测系统及其检测方法 |
US11860018B2 (en) * | 2020-08-14 | 2024-01-02 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Rate-of-change flow measurement device |
KR20230150309A (ko) | 2021-03-03 | 2023-10-30 | 아이커 시스템즈, 인크. | 매니폴드 조립체를 포함하는 유체 유동 제어 시스템 |
CN112858087B (zh) * | 2021-04-06 | 2024-06-25 | 中国烟草总公司郑州烟草研究院 | 获得稳定体积流量的装置、测量烟用吸阻标准件的装置和测量烟用通风率标准件的装置 |
CN113959533B (zh) * | 2021-09-16 | 2023-08-11 | 张家港氢芯电气系统科技有限公司 | 一种高精度高压氢气质量流量计标定方法 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6152409B2 (ja) * | 1979-01-18 | 1986-11-13 | Obara Kiki Kogyo Kk | |
JPS6319805B2 (ja) * | 1978-08-03 | 1988-04-25 | Obara Kiki Kogyo Kk | |
JPS6329209Y2 (ja) * | 1983-07-01 | 1988-08-05 | ||
JPH0458565B2 (ja) * | 1984-03-31 | 1992-09-17 | Sanyo Electric Works | |
JP2635929B2 (ja) * | 1994-04-12 | 1997-07-30 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ絶対流量検定システム |
JP2642880B2 (ja) * | 1994-08-26 | 1997-08-20 | 工業技術院長 | 流量計の校正方法 |
JP2659334B2 (ja) * | 1994-05-12 | 1997-09-30 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2692770B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1997-12-17 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2002296096A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理方法及び処理装置 |
JP3557087B2 (ja) * | 1998-02-06 | 2004-08-25 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2007106018A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 加圧ガス導入装置、及び、中空部を有する成形品の射出成形方法 |
JP4078982B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び流量測定方法 |
JP4421393B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2010-02-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4648098B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-03-09 | シーケーディ株式会社 | 流量制御機器絶対流量検定システム |
JP4801726B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2011-10-26 | シーケーディ株式会社 | ガス流量検定ユニット付ガス供給ユニット |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3860033A (en) * | 1973-04-13 | 1975-01-14 | M & J Valve Co | Flow diverting apparatus and method |
ZA743585B (en) * | 1973-07-30 | 1975-06-25 | Hoechst Ag | Volumetric determination of contaminated liquid or gaseous media |
DE3236815C2 (de) * | 1982-10-05 | 1985-09-19 | Klaus Dipl.-Ing.(FH) 3200 Hildesheim Metzger | Überwachungs- und Kontrolleinrichtung an Rohrleitungen zum Transport von Flüssigkeiten |
JPH06152409A (ja) | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Fujitsu Ltd | オフセット補償回路 |
JP2877157B2 (ja) | 1993-05-14 | 1999-03-31 | ダイメック株式会社 | ガイドワイヤーの芯線の処理方法 |
JP3367811B2 (ja) * | 1996-01-05 | 2003-01-20 | シーケーディ株式会社 | ガス配管系の検定システム |
US6234030B1 (en) * | 1998-08-28 | 2001-05-22 | Rosewood Equipment Company | Multiphase metering method for multiphase flow |
US6728729B1 (en) | 2003-04-25 | 2004-04-27 | Apple Computer, Inc. | Accessing media across networks |
US6955072B2 (en) * | 2003-06-25 | 2005-10-18 | Mks Instruments, Inc. | System and method for in-situ flow verification and calibration |
US6957586B2 (en) * | 2003-08-15 | 2005-10-25 | Saudi Arabian Oil Company | System to measure density, specific gravity, and flow rate of fluids, meter, and related methods |
US7474968B2 (en) * | 2005-03-25 | 2009-01-06 | Mks Instruments, Inc. | Critical flow based mass flow verifier |
US7757554B2 (en) * | 2005-03-25 | 2010-07-20 | Mks Instruments, Inc. | High accuracy mass flow verifier with multiple inlets |
US7461549B1 (en) * | 2007-06-27 | 2008-12-09 | Mks Instruments, Inc. | Mass flow verifiers capable of providing different volumes, and related methods |
US7174263B2 (en) * | 2005-03-25 | 2007-02-06 | Mks Instruments, Inc. | External volume insensitive flow verification |
DE112006001325T5 (de) * | 2005-05-23 | 2008-04-17 | 3M Innovative Properties Co., Saint Paul | Rohrverzweigungen zum Liefern von Fluiden mit einem gewünschten Massenstromprofil und Verfahren zu deren Konstruktion |
JP4765746B2 (ja) * | 2006-04-17 | 2011-09-07 | 日立金属株式会社 | 遮断弁装置及びこれを組み込んだ質量流量制御装置 |
US20070288125A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Mks Instruments, Inc. | Power Over Ethernet (Poe) - Based Measurement System |
US7822570B2 (en) * | 2006-11-17 | 2010-10-26 | Lam Research Corporation | Methods for performing actual flow verification |
US7706995B2 (en) * | 2007-04-16 | 2010-04-27 | Mks Instr Inc | Capacitance manometers and methods relating to auto-drift correction |
JP4870633B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2012-02-08 | シーケーディ株式会社 | 流量検定システム及び流量検定方法 |
US8205629B2 (en) * | 2008-04-25 | 2012-06-26 | Applied Materials, Inc. | Real time lead-line characterization for MFC flow verification |
US8340827B2 (en) * | 2008-06-20 | 2012-12-25 | Lam Research Corporation | Methods for controlling time scale of gas delivery into a processing chamber |
US7891228B2 (en) * | 2008-11-18 | 2011-02-22 | Mks Instruments, Inc. | Dual-mode mass flow verification and mass flow delivery system and method |
JP5395451B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2014-01-22 | サーパス工業株式会社 | 流量コントローラ |
US8793082B2 (en) * | 2009-07-24 | 2014-07-29 | Mks Instruments, Inc. | Upstream volume mass flow verification systems and methods |
US8707754B2 (en) * | 2010-04-30 | 2014-04-29 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems |
US8931512B2 (en) * | 2011-03-07 | 2015-01-13 | Applied Materials, Inc. | Gas delivery system and method of use thereof |
US9644796B2 (en) * | 2011-09-29 | 2017-05-09 | Applied Materials, Inc. | Methods for in-situ calibration of a flow controller |
US9772629B2 (en) * | 2011-09-29 | 2017-09-26 | Applied Materials, Inc. | Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber |
-
2009
- 2009-03-11 JP JP2009058780A patent/JP5346628B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-09 TW TW99106748A patent/TW201044128A/zh unknown
- 2010-03-10 CN CN201010135729A patent/CN101840232A/zh active Pending
- 2010-03-10 US US12/721,433 patent/US8443649B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-03-10 KR KR1020100021241A patent/KR101714786B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-02-27 US US13/779,527 patent/US8646307B2/en active Active
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6319805B2 (ja) * | 1978-08-03 | 1988-04-25 | Obara Kiki Kogyo Kk | |
JPS6152409B2 (ja) * | 1979-01-18 | 1986-11-13 | Obara Kiki Kogyo Kk | |
JPS6329209Y2 (ja) * | 1983-07-01 | 1988-08-05 | ||
JPH0458565B2 (ja) * | 1984-03-31 | 1992-09-17 | Sanyo Electric Works | |
JP2692770B2 (ja) * | 1992-09-30 | 1997-12-17 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2635929B2 (ja) * | 1994-04-12 | 1997-07-30 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ絶対流量検定システム |
JP2659334B2 (ja) * | 1994-05-12 | 1997-09-30 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2642880B2 (ja) * | 1994-08-26 | 1997-08-20 | 工業技術院長 | 流量計の校正方法 |
JP3557087B2 (ja) * | 1998-02-06 | 2004-08-25 | シーケーディ株式会社 | マスフローコントローラ流量検定システム |
JP2002296096A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 処理方法及び処理装置 |
JP4078982B2 (ja) * | 2002-04-22 | 2008-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム及び流量測定方法 |
JP4421393B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2010-02-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4648098B2 (ja) * | 2005-06-06 | 2011-03-09 | シーケーディ株式会社 | 流量制御機器絶対流量検定システム |
JP2007106018A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | 加圧ガス導入装置、及び、中空部を有する成形品の射出成形方法 |
JP4801726B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2011-10-26 | シーケーディ株式会社 | ガス流量検定ユニット付ガス供給ユニット |
JP5222935B2 (ja) * | 2006-03-07 | 2013-06-26 | Ckd株式会社 | ガス流量検定ユニット |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012093436A1 (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-12 | 株式会社フジキン | ガス供給装置用流量制御器の流量測定装置及び流量測定方法 |
JP2012141254A (ja) * | 2011-01-06 | 2012-07-26 | Fujikin Inc | ガス供給装置用流量制御器の流量測定装置及び流量測定方法 |
US9163969B2 (en) | 2011-01-06 | 2015-10-20 | Fujikin Incorporated | Flow rate measurement device and flow rate measurement method for flow rate controller for gas supply device |
CN103278220A (zh) * | 2013-06-05 | 2013-09-04 | 中国计量学院 | 一种对膜式燃气表基本误差进行快速检定的方法及其装置 |
TWI696057B (zh) * | 2015-09-16 | 2020-06-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 流量控制器的輸出流量之求取方法 |
WO2018147354A1 (ja) * | 2017-02-10 | 2018-08-16 | 株式会社フジキン | 流量測定方法および流量測定装置 |
KR20190102241A (ko) * | 2017-02-10 | 2019-09-03 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유량 측정 방법 및 유량 측정 장치 |
JPWO2018147354A1 (ja) * | 2017-02-10 | 2019-12-12 | 株式会社フジキン | 流量測定方法および流量測定装置 |
KR102162046B1 (ko) | 2017-02-10 | 2020-10-06 | 가부시키가이샤 후지킨 | 유량 측정 방법 및 유량 측정 장치 |
WO2022220900A1 (en) * | 2021-04-13 | 2022-10-20 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (mfcs) of a substrate processing system |
US11733081B2 (en) | 2021-04-13 | 2023-08-22 | Applied Materials, Inc. | Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (MFCs) of a substrate processing system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5346628B2 (ja) | 2013-11-20 |
US20130174635A1 (en) | 2013-07-11 |
US8443649B2 (en) | 2013-05-21 |
TW201044128A (en) | 2010-12-16 |
CN101840232A (zh) | 2010-09-22 |
US20100229967A1 (en) | 2010-09-16 |
KR20100102556A (ko) | 2010-09-24 |
KR101714786B1 (ko) | 2017-03-09 |
US8646307B2 (en) | 2014-02-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5346628B2 (ja) | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム | |
JP6926168B2 (ja) | 質量流量コントローラ | |
JP5873681B2 (ja) | 流量制御装置、流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム | |
TWI568993B (zh) | 流量檢驗器、用於檢驗流體輸送裝置的測量之方法及用以減少一用以檢驗一流體測量裝置對流體流量的測量之質流檢驗器所計算出來的流體流量變化之方法 | |
JP6130825B2 (ja) | 上流体積質量流量検証システムおよび方法 | |
JP5605969B2 (ja) | 流量モニタ付圧力式流量制御装置と、これを用いた流体供給系の異常検出方法並びにモニタ流量異常時の処置方法 | |
TWI354096B (ja) | ||
KR20130031260A (ko) | 가스 공급 장치용 유량 제어기의 교정 방법 및 유량 계측 방법 | |
WO2008025935A9 (en) | Improvements in or relating to flow metering | |
KR20130018129A (ko) | 가스 유량 검정 시스템 및 가스 유량 검정 유닛 | |
JP5058358B2 (ja) | 診断機構 | |
JP5931668B2 (ja) | 流量センサの診断機構、診断方法、診断機構用プログラム、及び、マスフローコントローラ | |
KR20180030447A (ko) | 가스 공급계의 검사 방법, 유량 제어기의 교정 방법, 및 2차 기준기의 교정 방법 | |
TW201802438A (zh) | 能夠測定流量的氣體供給裝置、流量計、以及流量測定方法 | |
CN110234965B (zh) | 流量测定方法以及流量测定装置 | |
TWI719552B (zh) | 流量控制系統及流量測量方法 | |
KR102101426B1 (ko) | 압력식 유량 제어 장치 및 이를 이용한 유량 제어 방법 | |
US10852211B2 (en) | Apparatus and method for gas leakage measurement in a high pressure reactor | |
JP2021005361A (ja) | 流体制御装置、流体制御システム、診断方法、及び、流体制御装置用プログラム | |
TW202012887A (zh) | 氣體流量檢定單元 | |
KR101984625B1 (ko) | 이차 공기 유입장치의 이상 여부를 진단하는 방법 | |
JP7034854B2 (ja) | 異常判定装置および方法 | |
JP2010255530A (ja) | 液体流量計測装置 | |
JP2003049601A (ja) | 蒸気タービン発電システムおよび蒸気タービン発電システムにおける流量計検定方法 | |
JP5394526B2 (ja) | カロリー測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130819 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5346628 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |