JP3557087B2 - マスフローコントローラ流量検定システム - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造設備等に用いられるガスライン中に配管されたマスフローコントローラの流量検定システムに関し、さらに詳細には、流量計測時の容積変化をなくし安定した流量計測が可能なマスフローコントローラ流量検定システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造設備中の成膜装置、乾式エッチング装置等においては、例えばシランやホスフィン等のいわゆる特殊材料ガスや塩素ガス等の腐食性ガスおよび水素ガス等の強燃性ガス等が使用される。これらのガスは、▲１▼その流量がプロセスの良否に直接影響すること、▲２▼排気系に設置される除害装置の負担、▲３▼ガス自体が高価であること、等の理由によりその流量が極めて厳格に管理される。
そこで、ガスライン中には公知のマスフローコントローラが配管され、そのマスフローコントローラによってガス種およびプロセスレシピごとに最適の流量のガスが流される。マスフローコントローラでは、このような流量の設定が印加電圧の調節により行われる。
【０００３】
ところで、プロセスガスのうち特に成膜用材料ガスは、その特性上ガスライン内でも固形物を析出する可能性があり、その析出固形物が蓄積されガスライン内の容量変化を生じさせることがある。特に、マスフローコントローラ内の細管部分では、他の部分と比較して固形物が析出する可能性や析出した場合の影響が大きい。従って、析出固形物が蓄積されると、最適な流量を極めて厳格に管理するマスフローコントローラの性能が低下し、プロセスの安定性が阻害されることとなる。そのため、マスフローコントローラにおける印加電圧と実流量との関係が崩れ、適正な流量のガス供給が行われなくなってしまう。
【０００４】
現実にこのような変化が起こった場合には、正しいガス流量を流すべく印加電圧の設定を修正しなければならないが、このとき、マスフローコントローラの流量を計測する必要が生ずる。
そこで、従来のマスフローコントローラ流量検定システムとして次のようなものが挙げられる。図１０は、従来のマスフローコントローラ流量検定システムに組み込まれたガス回路の一部を示した図である。
プロセスガスＡ〜Ｃを図示しないプロセスチャンバに供給するプロセスガスラインは、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃにマスフローコントローラ２Ａ〜２Ｃが配管され、その上流側には第１遮断弁３Ａ〜３Ｃと第２遮断弁４Ａ〜４Ｃとが、更にその下流側には第３遮断弁５Ａ〜５Ｃが配管されている。
【０００５】
一方、計測用ガスを供給する計測ガスラインは、計測ガス供給管１１が、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃの第１遮断弁３Ａ〜３Ｃと第２遮断弁４Ａ〜４Ｃとの間に、分岐管１２Ａ〜１２Ｃを介して分岐接続されている。
計測用ガスとして窒素ガスを用い、その流量計測用の高圧窒素源１３に計測ガス供給管１１が接続されている。そして、その計測ガス供給管１１には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５及び圧力センサ１６が順次配管されている。また、各分岐管１２Ａ〜１２Ｃには、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃ及び連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが配管されている。逆止弁１７Ａ〜１７Ｃは、２種類以上のガスが混合されて生成物が発生する危険を避けるために設けられている。
【０００６】
そこで、このようなガス回路からなるマスフローコントローラ流量検定システムでは、例えば以下のようにしてマスフローコントローラ２Ａの流量計測が行われる。
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断された後、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃ及び計測開始用遮断弁１５が開かれる。そのため、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。そして、計測対象外となるマスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃに対応する連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、高圧窒素源１３から窒素ガスが供給される。
【０００７】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して排気側に流出するが、高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して供給され続けるため、ガスライン内は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
そこで、ガスライン内が２ｋｇｆ／ｃｍ２ で安定した状態で計測開始用遮断弁１５が閉じられると、その計測開始用遮断弁１５の下流側へは窒素ガスの供給が停止される。そのため、マスフローコントローラ２Ａからは所定流量の窒素ガスが排出され続け、圧力センサ１６の測定値が次第に低下することとなる。この圧力降下時間に基づいてマスフローコントローラ２Ａの流量が計測される。
そして、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間と、今回の計測による圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、そのマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来のマスフローコントローラ流量検定システムでは、流量計測時にマスフローコントローラの一次圧が低下してしまうために、測定精度が悪くなってしまうという問題があった。
即ち、従来の流量検定システムによる流量測定は、遮断したマスフローコントローラ一次側の圧力低下による、その降下速度を計測して流量変化率が測定されている。そのため、マスフローコントローラの一次圧が低下する状態で測定が行われていた。
しかしながら、マスフローコントローラの使用条件をみた場合、通常その一次圧はレギュレータによってコントロールされ、圧力変動がないように一定に制御されている。これは、圧力変動が起こるとマスフローコントローラの流量コントロール精度が悪くなり、流れが脈動したり、一定の流量に定めることができないからである。
【０００９】
このように、従来の流量検定システムでは、マスフローコントローラの一次圧が一定圧に管理された通常使用時の状態に対して、その一次圧が徐々に低下していくという異なった状態の下で検定が行われていた。
従って、例えばマスフローコントローラは、一次圧の低下に伴って排出流量が減少していくと、その設定値との比較による不足を補おうと制御流量を増大させてしまう。そのため、一次圧を低下させた状態で流量検定を行うことが測定精度を悪くする原因となっていた。
【００１０】
また、前記従来例のものでは、計測時に逆止弁の閉弁が完全でないために、管内のガスが逆流してしまって配管容積が変動し、マスフローコントローラの流量計測が不安定になってしまうという問題があった。
即ち、前記例示の場合では、各分岐管１２Ｂ，１２Ｃに設けられた連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられるため、その上流側管内の圧力はレギュレータ１４によって２ｋｇｆ／ｃｍ２ に調整される。そして、計測開始用遮断弁１５が閉じられて計測が開始されると、管内の窒素ガスがマスフローコントローラ２Ａを通ってプロセスガス供給管１Ａから排出される。
【０００１１】
しかし、開始直後からの排出流量が僅かであるため、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃの上流側及び下流側の圧力差はほとんど生じない。そのため、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが完全に閉弁されず、その逆止弁１７Ｂ，１７Ｃ下流側の窒素ガスが、徐々に減圧される上流側に逆流してしまうことがある。
ところが、このような不都合は毎回必ず起こるわけではなく、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが正確に閉弁して逆流を生じさせない場合もある。
従って、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが正確に閉じられる場合と閉じられない場合とがあったのでは、分岐管１２Ｂ，１２Ｃにおける逆止弁１７Ｂ，１７Ｃと連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃとの間の容積分の変動が生じてしまい、マスフローコントローラの流量計測が不安定になってしまい正確な流量検定が行えない。
【００１２】
そこで、本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものであり、マスフローコントローラの流量測定精度を向上させたマスフローコントローラ流量検定システムを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサと、第２圧力調整器とが順次配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁と第２圧力調整器との間の圧力降下を前記圧力センサによって測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とする。
【００１４】
よって、閉じられたプロセスガス遮断弁によりプロセスガスの供給が遮断され、計測対象外のマスフローコントローラに連結された連結部遮断弁が閉じられて、計測ガス供給源から計測ガスが供給された後、ガスライン内が第１圧力調整器と第２圧力調整器とによって所定圧に設定された状態で計測開始用遮断弁が閉じられる。そして、ガスライン内に閉じこめられた計測ガスが、計測ガスが所定のマスフローコントローラから排出されることに伴う圧力降下が圧力センサによって測定され、その測定値に基づきマスフローコントローラの流量が計測される。従って、マスフローコントローラから計測ガスが排出される計測中、第２圧力調整器によってその下流側は常に一定圧に維持されているため、閉じられた連結部遮断弁上流側の逆止弁には逆圧がかからず、逆流を発生させない。そのため、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１５】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサとが順次配管され、更にその下流側には一次圧を減圧させる圧力調整器が分岐配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスの流入を防止する逆止弁と、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁を閉じて前記圧力調整器が所定のタイミングで減圧を行った後、前記圧力センサによって圧力降下を測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とする。
【００１６】
よって、閉じられたプロセスガス遮断弁によりプロセスガスの供給が遮断され、計測対象外のマスフローコントローラに連結された連結部遮断弁が閉じられて、計測ガス供給源から計測ガスが供給された後、ガスライン内が第１圧力調整器によって所定圧に設定された状態で計測開始用遮断弁が閉じられる。計測開始用遮断弁が閉じられて圧力調整器により所定のタイミングで一次圧の減圧が行われた後、ガスライン内に閉じこめられた計測ガスが、計測ガスが所定のマスフローコントローラから排出されることに伴う圧力降下が圧力センサによって測定され、その測定値に基づきマスフローコントローラの流量が計測される。
従って、圧力調整器により所定のタイミングで一次圧の減圧が行われると、逆止弁上流側の圧力が減圧され、逆圧により逆止弁にが強制的に閉弁されて逆流の発生が防止される。そのため、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１７】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁であって、前記計測開始用遮断弁の閉弁の後に開弁することによって、低圧に設定した当該圧力調整用遮断弁の下流側に計測用ガスを流すことによって一次圧を減圧させることを特徴とする。
よって、簡易な構成により逆止弁を確実に閉弁させることができ、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１８】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記計測開始用遮断弁がノーマルクローズタイプのエアオペレート弁、前記圧力調整用遮断弁がノーマルオープンタイプのエアオペレート弁の組み合わせである場合、又はそれぞれの遮断弁が逆のタイプのオペレート弁による組み合わせである場合に、両遮断弁への作動エアの供給が共通の制御弁によって制御されるものであって、計測開始用遮断弁への作動エアの供給が絞りと逆止弁とからなるスピードコントローラを介して行われることを特徴とする。
よって、共通の制御弁によって作動エアの供給が可能なため、その構成部材を減らすことができ、また、計測ガス供給時にスピードコントローラによって計測開始用遮断弁が開けられる前に圧力調整用遮断弁を閉じるため、その圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができる。
【００１９】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁と補助遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁の閉弁前に前記補助遮断弁を開閉することによって、前記圧力調整遮断弁下流側を低圧にすることを特徴とする。
よって、補助遮断弁の開閉によって圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明にかかるマスフローコントローラ流量検定システムの一実施の形態について説明する。図１は、第１実施の形態のマスフローコントローラ流量検定システム（以下、単に「流量検定システム」という）に組み込まれたガス回路の一部を示した図である。これは、前記従来例のもの（図１０参照）とほぼ同様な構成によって形成されたガス回路であるが、その特徴として、計測ガス供給管１１に圧力センサ１６の下流側に第２のレギュレータ２１が配管されている。よって、このレギュレータ２１を除き、他の構成については従来例のものと同符号を付して説明する。
レギュレータ２１は、その下流側の圧力を調節することによって逆止弁１７Ａ〜１７Ｃによる容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させる目的で設けられたものである。そこで、このような構成のガス回路による流量計測の安定性について、その計測方法を示すとともに計測精度を検証することとする。
【００２１】
図２は、本流量検定システムに基づく計測試験装置を示した回路図である。この装置では、計測対象となるマスフローコントローラ２へのガスラインが計測ガス供給管２２によって構成され、その計測ガス供給管２２の上流側には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５、圧力センサ１６及びレギュレータ２１が、図１に示したガス回路に対応して順に配管されている。
そして、その計測ガス供給管２２の下流側には、マスフローコントローラ２が接続され、マスフローコントローラ２に供給されるガスの圧力を測定する圧力センサ２３と、マスフローコントローラ２１の排出流量を測定するマスフローメータ２４がそれぞれ配管されている。
【００２２】
ここで、レギュレータ２１から計測対象となるマスフローコントローラ２（例えば、図１におけるマスフローコントローラ２Ａに対応）までのガスラインを図１のガス回路のものと比較すれば、分岐管１２Ａと、そこに配管された逆止弁１７Ａ及び連結部遮断弁１８Ａと、そしてプロセスガス供給管１Ａと、そこに配管された第２遮断弁４Ａとが省略されている。
一方、計測ガス供給管２２に配管されたレギュレータ２１の下流側では、計測対象外のマスフローコントローラ（例えば、図１におけるマスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃに対応）に連結された全ての分岐管１２Ｂ，１２Ｃを代替した分岐管２５が、計測ガス供給管２２に分岐接続されている。そして、そこには逆止弁１７及び連結部遮断弁１８が順に配管され、さらに本計測装置では、逆止弁１７の不都合によって容積が変動する逆止弁１７及び連結部遮断弁１８間の圧力を測定すべく圧力センサ２６が配管されている。
【００２３】
また、この計測試験装置には図２に示す制御部が構成されている。なお、図１には図示していないが、流量検定システムにおいても同様の制御部が構成されている。
計測開始用遮断弁１５及び連結部遮断弁１８は、共にノーマルクローズタイプのエアオペレート弁であり、その両遮断弁１５，１８を動作させる作動エアの供給を調整するための電磁弁３１，３２が、図示しないエアポンプに接続されている。電磁弁３１には、その駆動電源３２に接続されたモニタリングコントローラ３１が接続され、電磁弁３２には、その駆動電源３４に接続されたＩ／Ｏボード３５に接続されている。
【００２４】
モニタリングコントローラ３１は、所定のタイミングで電磁弁３１を開閉すべく制御プログラムが記憶されている。また、そのモニタリングコントローラ３１には、Ｉ／Ｏボード３５が接続され、更にそのＩ／Ｏボード３５には、本計測試験装置の全体制御を行うパソコン３６に接続されている。一方、ＡＤボード３７がパソコン３６に接続されている。
【００２５】
一方、このような本実施の形態の流量検定システムに基づく計測試験装置とともに、図１０で示した従来の流量検定システムに対応する計測試験装置を構成し、両者の流量計測の安定性について比較してみる。図３は、従来の流量検定システムの計測試験装置を示した回路図であり、図２のものと比較して、本実施の形態の特徴として設けたレギュレータ２１を含まないものであって、他の構成を同一とする。同一の構成については同符号を付して示す。
【００２６】
そこで、先に本実施の形態における流量検定システムの計測試験装置の場合について説明する。なお、計測ガスには窒素ガスの代わりに圧縮エアを使用する。先ず、パソコン３６からの計測開始信号が発信されると、Ｉ／Ｏボード３５を介して駆動電源３４からの電圧が電磁弁３２に印加され、励磁した電磁弁３２の動作により作動エアが遮断されて連結部遮断弁１８が閉じられる。また、パソコン３６からの計測開始信号はＩ／Ｏボード３５からモニタリングコントローラ３３に送信され、駆動電源３２からの電圧が電磁弁３１に印加される。そのため、励磁した電磁弁３１の動作により作動エアが供給されて計測開始用遮断弁１８が開けられ、計測ガス供給管２２へエア供給源３８からの圧縮エアが供給される。
【００２７】
エア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出され、一方その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８が閉じられているため、その流れが止められる。
ところで、本計測試験装置では、レギュレータ１４が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では、計測ガス供給管２２内の圧力が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ１６の測定値は４ｋｇｆ／ｃｍ２ が示めされる。
【００２８】
また、その下流側に設けられた本実施の形態の特徴をなすレギュレータ２１は、２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されている。そのため、更にその下流側の計測ガス供給管２２内及び分岐管２５内の圧力は、２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ２３及び圧力センサ２６の測定値は２ｋｇｆ／ｃｍ２ が示される。
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって、前述した値にガスライン内の圧力が設定された後、所定のタイミングでモニタリングコントローラ３３により電磁弁３１への通電が止められる。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断されて計測開始用遮断弁１５が閉じられる。計測開始用遮断弁１５の閉弁によって圧縮エアの供給が遮断され、計測が開始される。
【００２９】
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図４は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
先ず、計測開始用遮断弁１５が閉じられると、計測ガス供給管２２内に閉じこめられたエアが、流量設定されたマスフローコントローラ２を通って大気へ排出される。そのため、計測開始用遮断弁１５の下流側の圧力は徐々に低下していくことになるが、この計測試験装置ではレギュレータ２１によって更に圧力調整が行われているため、その下流側の圧力は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
【００３０】
そこで、圧力センサ１６によって測定される圧力は、計測開始用遮断弁１５とレギュレータ２１との間に充填されたエアが下流側に流れるため、図４に示すように計測開始直後から緩やかな降下線が示される。また、マスフローコントローラ２の排出流量は、図４に示されるように一定値が保たれている。従って、圧力センサ１６において測定される圧力は一定の割合で下降することとなる。
一方、レギュレータ２１下流側は、常に２ｋｇｆ／ｃｍ２ の圧力に維持されているため、圧力センサ２６によってさ測定れる圧力は一定値が保たれている。
なお、この実測値データ（Ｐ１６，Ｐ２６，ＭＦＭ２４）はＡＤボード３７に送信され、そのデータを解析したパソコン３６から出力されたものである。
【００３１】
次に、図３に示した従来の流量検定システム（図１０）における計測試験装置の場合について説明する。その試験方法は前述した本実施の形態のものと同様である。
エア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出され、一方その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８が閉じられているため、その流れが止められる。
ところで、本計測試験装置では、レギュレータ１４が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では、計測ガス供給管２２内及び分岐管２５内の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定値は２ｋｇｆ／ｃｍ２ が示めされる。
【００３２】
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって、前述したようにガスライン内の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定された後、所定のタイミングでモニタリングコントローラ３３によって電磁弁３１への通電が遮断される。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断されて計測開始用遮断弁１５が閉じられ、計測が開始される。
【００３３】
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図５は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
先ず、計測開始用遮断弁１５が閉じられると、計測ガス供給管２２内にに閉じこめられたエアが、流量設定されたマスフローコントローラ２を通って大気へ排出される。そのため、計測開始用遮断弁１５下流側にあるエアの排出によって、圧力センサ１６によって測定される圧力は、図５に示すように徐々に低下する下降線が示された。また、マスフローコントローラ２の排出流量は、図５に示されるように、計測開始直後の流量低下を補うべく弁の開きを大きくするために上昇するが、その後は安定した設定流量の排出が保たれる。従って、圧力センサ１６において測定される圧力は一定の割合で下降することとなる。
【００３４】
そして、このとき従来の課題でも示したように逆止弁１７に作動ミスが生じると、図５に示すように圧力センサ２６によってされる圧力が徐々に低下する下降線が示されることとなる。
逆止弁１７は、その上流側の圧力が低下すれば下流側の圧力が相対的に高くなり、そのことによって逆圧がかかかり下流側のエアが逆流しないように閉弁されるはずである。そのような正常時には、逆止弁１７と連結部遮断弁１８との間の管内は密閉状態となり、エアの逆流が生じないため圧力センサ２６によって測定される圧力は一定値を示すこととなる。
【００３５】
しかし、逆止弁１７が作動ミスによって完全に閉弁されなければ、上流側の減圧によってエアが逆流してしまうこととなる。図５は、そのような状況を示したものである。
従って、図３に示す従来の流量検定システムにおける計測試験装置では、圧力センサ１６で測定される圧力は、計測開始直後からのエアの排出によって２ｋｇｆ／ｃｍ２ の値から徐々に降下し、逆止弁１７が閉じられなかったことで、圧力センサ２６で測定される圧力も２ｋｇｆ／ｃｍ２ の値から徐々に下降する値が示されることとなった。
そして、こような計測時の逆止弁１７の開閉状態は、繰り返し行われる計測試験装置での試験結果から、不規則に発生する現象であることがわかった。
【００３６】
これに対し、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置では、レギュレータ２１によって逆止弁１７の上流側及び下流側圧力を一定値に保つため、分岐管２５内のエアの流れを止めることで逆止弁１７での逆流がなくなった。そのことを示すように、図４に示す圧力センサ２６の測定値が一定となった。
従って、本実施の形態の計測試験装置では、従来のような逆止弁１７の開閉による容積変化をなくし、流量計測時には、常に連結部遮断弁１８上流側の容積のもとで計測が行われるようになった。
よって、この計測検査装置の試験結果から、図１に示す流量検定システムについても流量計測が安定して行えることが分かる。そこで、例えばマスフローコントローラ２Ａの流量検定を行う場合について説明する。
【００３７】
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断される。次いで、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが開かれ、レギュレータ１４の下流側の圧力が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に、レギュレータ２１の下流側の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ になるように調整された状態で計測開始用遮断弁１５が開かれる。そのため、高圧窒素源１３から供給された窒素ガスは、計測ガス供給管１１からプロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃへ流れ、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。その後、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃからの排出が止められる。
【００３８】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して設定流量づつ排出され続けるが、一方で高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して補充される。そのため、管内の圧力は、レギュレータ１４の下流側はレギュレータ２１までの間で４ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持され、そのレギュレータ２１下流側は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
このような設定圧力で管内が安定した後、計測開始用遮断弁１５が閉じらて計測が開始される。計測開始用遮断弁１５の閉弁によりその下流側に閉じこめられた窒素ガスは、排出側に連通している分岐管１２Ａを通ってマスフローコントローラ１から設定流量の窒素ガスが排出され続ける。そして、窒素ガスの排出により、供給が止められた計測開始用遮断弁１５下流側の圧力、即ち、圧力センサ１６によって測定される圧力は次第に下降することとなる。
【００３９】
しかし、圧力センサ１６の下流にはレギュレータ２１が設けられているため、そのレギュレータ２１下流側の圧力は依然として２ｋｇｆ／ｃｍ２ の圧力が維持されている。そのため、従来逆流のおそれがあった逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは、その上流側と下流側とで圧力差がないので逆流することはなく、マスフローコントローラ２Ａの流量計測は、安定した一定容積の下で行われる。
従って、流量検定システムでは、圧力センサ１６から出力される測定値に基づき、所定の圧力幅における圧力降下時間によって流量計測が行われる。例えば、本実施の形態では、圧力センサ１６の測定値が３．５ｋｇｆ／ｃｍ２ になったところで、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によって圧力データのモニタが開始され、３．３〜２．８ｋｇｆ／ｃｍ２ までの圧力降下時間によって流量計測が行われる。そして、今回計測された圧力降下時間と、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、それをもとにマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【００４０】
以上、詳細に説明したように、本実施の形態の流量検定システムによれば、ガス回路中に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを有するものであっても、圧力センサ１６による計測位置下流側に更に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けたので、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃの前後の圧力を一定に保つことで逆流の影響をなくすことができた。そのため、マスフローコントローラ２Ａ（２Ｂ，２Ｃ）の流量計測を行う際の容積が常に一定となり、その検定が精度よく行われることとなった。なお、本実施の形態では、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃが及ぼすマスフローコントローラの一次圧の低下、特に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃの開弁による容積変化による場合を示して説明したが、圧力センサ１６による計測位置下流側に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けることは、逆止弁の有無にかかわらずマスフローコントローラの一次圧を安定させることができ、これによってマスフローコントローラの流量測定精度を向上させることができる。
【００４１】
次に、本発明にかかるマスフローコントローラ流量検定システムの第２実施の形態について説明する。図６は、第２実施の形態の流量検定システムに組み込まれたガス回路の一部を示した図である。本実施の形態のものも、前記従来例のものとほぼ同様の構成によって形成されたガス回路であって、その特徴は、計測ガス供給管１１に圧力調整弁４１を設けた点である。そこで、この圧力調整弁４１を除き、他の構成については従来例のものと同符号を付して説明する。
この圧力調整弁４１は、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃ上流側の圧力を瞬間的に減圧させるために設けられたものである。そこで、このような構成のガス回路による流量計測の安定性について、前記第１実施の形態と同様に計測試験装置を示し、その計測方法を示すとともに計測精度を検証することとする。
【００４２】
図７は、本実施の形態の流量検定システムに基づいて形成された計測試験装置を示した回路図である。この装置では、計測対象となるマスフローコントローラ２へのガスラインが計測ガス供給管２２によって構成され、その計測ガス供給管２２の上流側には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５及び圧力センサ１６が、図６に示したガス回路に対応して順に配管されている。そして、その計測ガス供給管２２の下流側には、マスフローコントローラ２及びその排出流量を測定するマスフローメータ２４が配管されている。
一方、計測ガス供給管２２には、マスフローコントローラ２直前の上流側に分岐管２５が分岐接続されている。そして、その分岐管２５は更に２方向に分岐され、一方には逆止弁１７、圧力センサ２６及び連結部遮断弁１８が順に配管され、他方には圧力調整弁４１が配管されている。
【００４３】
圧力調整弁４１は、ノーマルオープンタイプのエアーオペレート弁であり、計測開始用遮断弁１５と同じ電磁弁３１からの作動エアによって動作するよう共通するエアパイプが接続されている。その計測開始用遮断弁１５は、ノーマルクローズタイプのエアーオペレート弁であり、圧力調整弁４１が閉じるのに対し若干遅れて開くようにするためのスピードコントローラが設けられている。
具体的には、計測開始用遮断弁１５に絞り４２を介してエアパイプが接続され、その絞り４２をまたぐように連結されたバイパスに、計測開始用遮断弁１５側への流れを遮断する逆止弁４３が配管されて構成されている。
また、圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４は閉じられているが、その下流側の配管容積は、後述するように圧力調整弁４１が開いて上流側のガスが下流側の圧力調整管４４に流れ込むことによって、上流側の圧力降下幅が約０．３ｋｇｆ／ｃｍ２ となるように設計されている。
【００４４】
そこで、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の流量計測について説明する。なお、本試験においても計測ガスには窒素ガスの代わりに圧縮エアを使用する。
先ず、パソコン３６からの計測開始信号が発信されると、Ｉ／Ｏボード３５を介して駆動電源３４からの電圧が電磁弁３２に印加され、励磁した電磁弁３２の動作により作動エアが遮断されて連結部遮断弁１８が閉じられる。また、パソコン３６からの計測開始信号はＩ／Ｏボード３５からモニタリングコントローラ３３に送信され、駆動電源３２からの電圧が電磁弁３１に印加される。そのため、励磁した電磁弁３１の動作により作動エアが供給されて計測開始用遮断弁１５が開けられ、計測ガス供給管２２へエア供給源３８からの圧縮エアが供給される。
【００４５】
このとき、電磁弁３１の動作により供給された作動エアは、圧力調整弁４１及び計測開始用遮断弁１５へ同一のエアパイプによって同時に供給されるが、スピードコントローラによって計測開始用遮断弁１５の動作が遅れることとなる。
計測開始用遮断弁１５に供給される作動エアの供給量が絞り４２によって制限されているため、圧力調整弁４１に比べて、計測開始用遮断弁１５を動作させる圧力に達するまでに時間がかかるためである。
【００４６】
そこで、遅れて開かれた計測開始用遮断弁１５によってエア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出される。
一方、その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８及び圧力調整弁４１が閉じられているため、その流れが止められる。本計測試験装置では、レギュレータ１４が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ にまで上昇して安定することとなる。
また、エア供給源３８から圧縮エアが供給される前に圧力調整弁４１が閉じられるため、圧力調整弁４１の下流側の圧力調整管４４内は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定された上流側に比べ低圧になっている。
【００４７】
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって前述した値にガスライン内の圧力が設定されて安定した後、所定のタイミングで電磁弁３１への通電がとめられる。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断され、計測開始用遮断弁１８が閉じらて計測が開始される。
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図８は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
【００４８】
作動エアの供給遮断により計測開始用遮断弁１８が閉じられると、それと同時に圧力調整弁４１が開けられる。その瞬間、計測開始用遮断弁１５の下流側では、２ｋｇｆ／ｃｍ２ から約０．３ｋｇｆ／ｃｍ２ の急激な圧力降下分が生ずる。計測開始用遮断弁１５の遮断によって閉じこめられたエアが、圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４内へ瞬間的に流れるためである。
従って、逆止弁１７は、計測開始直後に急激な圧力降下による逆圧がかかり確実に閉弁することとなる。
そこで、圧力調整弁４１による急激な圧力降下は圧力センサ１６によって測定され、図８に示すように急激は下降線が示される。そして、計測開始用遮断弁１５下流側に閉じこめられたエアはマスフローコントローラ２を通って設定流量づつ排出されるため、続いて徐々に低下する下降線が示される。
【００４９】
一方、逆止弁２７の下流側を検出する圧力センサ２６によって測定される逆止弁１７下流側の圧力は、図８に示すように計測開始の前後を問わず常に一定に保たれている。これは、その逆止弁１７が完全に閉弁され、連結部遮断弁１８との間に閉じこめられたエアには逆流が生じてないためである。
また、マスフローコントローラ２の排出流量を測定するマスフローメータ２４の出力は、図８に示すように計測開始直後に流量が一旦急激に突出し、その後一定流量で安定している。これは、計測開始直後の圧力降下に伴う流量低下を補うべく、マスフローコントローラ２の弁の開きが瞬間的に大きくなるためである。その後ガスライン内のエアが安定するため、マスフローコントローラ２が再び絞られ、設定流量のエアが排出されることとなる。なお、この実測値データ（Ｐ１６，Ｐ２６，ＭＦＭ２４）は、ＡＤボード３７に送信され、そのデータを解析したパソコン３６から出力されたものである。
【００５０】
従って、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置によれば、計測開始直後に、圧力調整弁４１によって逆止弁１７の上流側圧力を急激に圧力降下させるため、逆止弁１７が正確に閉弁されてエアの逆流がなくなった。そのことを示すように、図８で示す圧力センサ２６によって測定される圧力が一定となった。従って、本実施の形態の計測試験装置でも、従来のような逆止弁１７の開閉による容積変化をなくし、流量計測には、常に逆止弁１７上流側の容積が対象になることとなった。
よって、この計測検査装置の試験結果から、図６に示す流量検定システムについても流量計測が安定して行えることが分かる。そこで、例えばマスフローコントローラ２Ａの流量検定を行う場合について説明する。
【００５１】
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断される。次いで、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが開かれ、レギュレータ１４の下流側の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に調整された状態で計測開始用遮断弁１５が開かれる。このとき、圧力調整弁４１は閉じられ、その下流側の圧力は、前述した計測試験装置と同様に２ｋｇｆ／ｃｍ２ に比べて低圧に保たれている。また、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃは閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃへは流れることはない。
そのため、高圧窒素源１３から供給された窒素ガスは、計測ガス供給管１１からプロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃへ流れ、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。その後、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃからの排出が止められる。
【００５２】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して設定流量づつ排出され続けるが、一方で高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して補充される。そのため、レギュレータ１４の下流側は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
そこで、この状態から計測開始用遮断弁１５が閉じられて計測が開始される。この計測開始用遮断弁１５の閉弁により窒素ガスの供給が遮断されると同時に圧力調整弁４１が開けられる。そのため、計測開始用遮断弁１５の閉弁によってガスライン内に閉じこめられた窒素ガスは、圧力調整弁４１の開弁によって、より圧力の低い圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４へ流れ込むこととなる。従って、計測開始用遮断弁１５下流側の圧力は２ｋｇｆ／ｃｍ２ から急激な圧力降下を生じ、逆圧によって全ての逆止弁１７Ａ〜１７Ｃが閉じられる。
【００５３】
そして、計測開始用遮断弁１５の閉弁によりその下流側に閉じこめられた窒素ガスは、排出側に連通している分岐管１２Ａを通ってマスフローコントローラ１から設定流量の窒素ガスが排出され続ける。そして、窒素ガスの排出により、供給が止められた計測開始用遮断弁１５下流側の圧力は低下し、圧力センサ１６の測定値が次第に下降することとなる。
このとき、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは、更に減圧する上流側と２ｋｇｆ／ｃｍ２ に保たれた下流側との圧力差によって、閉弁状態が維持される。よって、従来逆流のおそれがあった逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは確実に閉弁され、マスフローコントローラ２Ａの流量計測は、安定した一定容積の下で行われる。
従って、流量検定システムでは、圧力センサ１６の測定値に基づき、所定の圧力幅における圧力降下時間によって流量計測が行われる。そして、今回計測された圧力降下時間と、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、それをもとにマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【００５４】
以上、詳細に説明したように、本実施の形態の流量検定システムによれば、ガス回路中に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを有するものであっても、圧力調整弁４１によって計測開始直後の圧力を下げ、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを確実に閉弁させるようにしたので、マスフローコントローラ２Ａ（２Ｂ，２Ｃ）の流量計測を行う際の容積が常に一定となり、その検定が精度よく行われることとなった。
ところで、本実施の形態では、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃによる問題点を中心に説明したが、更にこの流量検定システムに対して、前記第１実施の形態の如く圧力センサ１６による計測位置下流側に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けてもよい。そうすれば、更にマスフローコントローラの一次圧を安定させることができ、これによってマスフローコントローラの流量測定精度を向上させることができる。
【００５５】
なお、本発明は、前記実施の形態に限定されるわけではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、請求項１に記載の圧力調整器に該当する前記第１実施の形態で示したレギュレータは、固定式或いは、電子式レギュレータなどの別を問わない。
また、前記第２実施の形態で示した請求項２に記載の圧力調整器の構成は、圧力調整弁４１及び圧力調整管４４によるものに限定されず、例えば、圧力調整管４４を閉じたものとせず、ベントラインとしてもよい。この場合、圧力調整弁４１は所定の圧力降下を生じさせる時間で開閉する。また、図９に示すように、圧力調整弁４１及び補助遮断弁４５を直列に配管することで、スピードコントローラを構成する絞り４２及び逆止弁４３を省略するようにしてもよい。この場合、計測開始前に補助遮断弁４５を開閉し、圧力調整弁４５下流側を低圧状態にする。
【００５６】
【発明の効果】
本発明は、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを各マスフローコントローラを経由して排出すべく、プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサと、第２圧力調整器とが順次配管され、計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管した構成としたので、マスフローコントローラから計測ガスが排出される計測中、第２圧力調整器によってその下流側は常に一定圧に維持されるため、マスフローコントローラの流量測定精度を向上させたマスフローコントローラ流量検定システムを提供すること可能となった。
【００５７】
また、本発明は、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを各マスフローコントローラを経由して排出すべく、プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサとが順次配管され、更にその下流側には一次圧を減圧させる圧力調整器が分岐配管され、計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスの流入を防止する逆止弁と、プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、計測開始用遮断弁を閉じて圧力調整器が所定のタイミングで減圧を行った後、圧力センサによって圧力降下を測定することでマスフローコントローラの流量検定を行う構成としたので、逆止弁にが強制的に閉弁されるため、計測時の逆止弁による容積変化がなくなりマスフローコントローラの流量計測が安定したマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００５８】
また、本発明は、圧力調整器は、圧力調整用遮断弁であって、計測開始用遮断弁の閉弁の後に開弁することによって、低圧に設定した当該圧力調整用遮断弁の下流側に計測用ガスを流すことによって一次圧を減圧させる構成としたので、簡易な構成により逆止弁を確実に閉弁させることができ、計測時の逆止弁による容積変化がなくなりマスフローコントローラの流量計測が安定したマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００５９】
また、本発明は、計測開始用遮断弁がノーマルクローズタイプのエアオペレート弁、圧力調整用遮断弁がノーマルオープンタイプのエアオペレート弁の組み合わせである場合、又はそれぞれの遮断弁が逆のタイプのオペレート弁による組み合わせである場合に、両遮断弁への作動エアの供給が共通の制御弁によって制御されるものであって、計測開始用遮断弁への作動エアの供給が絞りと逆止弁とからなるスピードコントローラを介して行われるよう構成したので、共通の制御弁によって作動エアの供給が可能なため、その構成部材を減らすことができ、また、計測ガス供給時にスピードコントローラによって計測開始用遮断弁が開けられる前に圧力調整用遮断弁を閉じるため、その圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができるマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００６０】
また、本発明は、圧力調整器が、圧力調整用遮断弁と補助遮断弁とが順次配管されたものであって、計測開始用遮断弁の閉弁前に補助遮断弁を開閉することによって、圧力調整遮断弁下流側を低圧にする構成としたので、補助遮断弁の開閉によって圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができるマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる第１実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図２】第１実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図３】従来の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図４】第１実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図５】従来の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図６】本発明にかかる第２実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図７】第２実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図８】第２実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図９】本発明にかかる他の実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図１０】従来の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【符号の説明】
１，１Ａ〜１Ｃ プロセスガス供給管
２，２Ａ〜２Ｃ マスフローコントローラ
３Ａ〜３Ｃ 第１遮断弁
４Ａ〜４Ｃ 第２遮断弁
５Ａ〜５Ｃ 第３遮断弁
１１，２２ 計測ガス供給管
１２Ａ〜１２Ｃ，２５ 分岐管
１３ 高圧窒素源
１４，２１ レギュレータ
１５ 計測開始用遮断弁
１６，２３，２６ 圧力センサ
１７，１７Ａ〜１７Ｃ 逆止弁
１８，１８Ａ〜１８Ｃ 連結部遮断弁
３１，３２ 電磁弁
３１ モニタリングコントローラ
３５ Ｉ／Ｏボード
３６ パソコン
３７ ＡＤボード
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば半導体製造設備等に用いられるガスライン中に配管されたマスフローコントローラの流量検定システムに関し、さらに詳細には、流量計測時の容積変化をなくし安定した流量計測が可能なマスフローコントローラ流量検定システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体製造設備中の成膜装置、乾式エッチング装置等においては、例えばシランやホスフィン等のいわゆる特殊材料ガスや塩素ガス等の腐食性ガスおよび水素ガス等の強燃性ガス等が使用される。これらのガスは、▲１▼その流量がプロセスの良否に直接影響すること、▲２▼排気系に設置される除害装置の負担、▲３▼ガス自体が高価であること、等の理由によりその流量が極めて厳格に管理される。
そこで、ガスライン中には公知のマスフローコントローラが配管され、そのマスフローコントローラによってガス種およびプロセスレシピごとに最適の流量のガスが流される。マスフローコントローラでは、このような流量の設定が印加電圧の調節により行われる。
【０００３】
ところで、プロセスガスのうち特に成膜用材料ガスは、その特性上ガスライン内でも固形物を析出する可能性があり、その析出固形物が蓄積されガスライン内の容量変化を生じさせることがある。特に、マスフローコントローラ内の細管部分では、他の部分と比較して固形物が析出する可能性や析出した場合の影響が大きい。従って、析出固形物が蓄積されると、最適な流量を極めて厳格に管理するマスフローコントローラの性能が低下し、プロセスの安定性が阻害されることとなる。そのため、マスフローコントローラにおける印加電圧と実流量との関係が崩れ、適正な流量のガス供給が行われなくなってしまう。
【０００４】
現実にこのような変化が起こった場合には、正しいガス流量を流すべく印加電圧の設定を修正しなければならないが、このとき、マスフローコントローラの流量を計測する必要が生ずる。
そこで、従来のマスフローコントローラ流量検定システムとして次のようなものが挙げられる。図１０は、従来のマスフローコントローラ流量検定システムに組み込まれたガス回路の一部を示した図である。
プロセスガスＡ〜Ｃを図示しないプロセスチャンバに供給するプロセスガスラインは、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃにマスフローコントローラ２Ａ〜２Ｃが配管され、その上流側には第１遮断弁３Ａ〜３Ｃと第２遮断弁４Ａ〜４Ｃとが、更にその下流側には第３遮断弁５Ａ〜５Ｃが配管されている。
【０００５】
一方、計測用ガスを供給する計測ガスラインは、計測ガス供給管１１が、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃの第１遮断弁３Ａ〜３Ｃと第２遮断弁４Ａ〜４Ｃとの間に、分岐管１２Ａ〜１２Ｃを介して分岐接続されている。
計測用ガスとして窒素ガスを用い、その流量計測用の高圧窒素源１３に計測ガス供給管１１が接続されている。そして、その計測ガス供給管１１には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５及び圧力センサ１６が順次配管されている。また、各分岐管１２Ａ〜１２Ｃには、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃ及び連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが配管されている。逆止弁１７Ａ〜１７Ｃは、２種類以上のガスが混合されて生成物が発生する危険を避けるために設けられている。
【０００６】
そこで、このようなガス回路からなるマスフローコントローラ流量検定システムでは、例えば以下のようにしてマスフローコントローラ２Ａの流量計測が行われる。
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断された後、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃ及び計測開始用遮断弁１５が開かれる。そのため、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。そして、計測対象外となるマスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃに対応する連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、高圧窒素源１３から窒素ガスが供給される。
【０００７】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して排気側に流出するが、高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して供給され続けるため、ガスライン内は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
そこで、ガスライン内が２ｋｇｆ／ｃｍ２ で安定した状態で計測開始用遮断弁１５が閉じられると、その計測開始用遮断弁１５の下流側へは窒素ガスの供給が停止される。そのため、マスフローコントローラ２Ａからは所定流量の窒素ガスが排出され続け、圧力センサ１６の測定値が次第に低下することとなる。この圧力降下時間に基づいてマスフローコントローラ２Ａの流量が計測される。
そして、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間と、今回の計測による圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、そのマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、従来のマスフローコントローラ流量検定システムでは、流量計測時にマスフローコントローラの一次圧が低下してしまうために、測定精度が悪くなってしまうという問題があった。
即ち、従来の流量検定システムによる流量測定は、遮断したマスフローコントローラ一次側の圧力低下による、その降下速度を計測して流量変化率が測定されている。そのため、マスフローコントローラの一次圧が低下する状態で測定が行われていた。
しかしながら、マスフローコントローラの使用条件をみた場合、通常その一次圧はレギュレータによってコントロールされ、圧力変動がないように一定に制御されている。これは、圧力変動が起こるとマスフローコントローラの流量コントロール精度が悪くなり、流れが脈動したり、一定の流量に定めることができないからである。
【０００９】
このように、従来の流量検定システムでは、マスフローコントローラの一次圧が一定圧に管理された通常使用時の状態に対して、その一次圧が徐々に低下していくという異なった状態の下で検定が行われていた。
従って、例えばマスフローコントローラは、一次圧の低下に伴って排出流量が減少していくと、その設定値との比較による不足を補おうと制御流量を増大させてしまう。そのため、一次圧を低下させた状態で流量検定を行うことが測定精度を悪くする原因となっていた。
【００１０】
また、前記従来例のものでは、計測時に逆止弁の閉弁が完全でないために、管内のガスが逆流してしまって配管容積が変動し、マスフローコントローラの流量計測が不安定になってしまうという問題があった。
即ち、前記例示の場合では、各分岐管１２Ｂ，１２Ｃに設けられた連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられるため、その上流側管内の圧力はレギュレータ１４によって２ｋｇｆ／ｃｍ２ に調整される。そして、計測開始用遮断弁１５が閉じられて計測が開始されると、管内の窒素ガスがマスフローコントローラ２Ａを通ってプロセスガス供給管１Ａから排出される。
【０００１１】
しかし、開始直後からの排出流量が僅かであるため、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃの上流側及び下流側の圧力差はほとんど生じない。そのため、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが完全に閉弁されず、その逆止弁１７Ｂ，１７Ｃ下流側の窒素ガスが、徐々に減圧される上流側に逆流してしまうことがある。
ところが、このような不都合は毎回必ず起こるわけではなく、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが正確に閉弁して逆流を生じさせない場合もある。
従って、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃが正確に閉じられる場合と閉じられない場合とがあったのでは、分岐管１２Ｂ，１２Ｃにおける逆止弁１７Ｂ，１７Ｃと連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃとの間の容積分の変動が生じてしまい、マスフローコントローラの流量計測が不安定になってしまい正確な流量検定が行えない。
【００１２】
そこで、本発明は、上述した問題点を解決するためになされたものであり、マスフローコントローラの流量測定精度を向上させたマスフローコントローラ流量検定システムを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサと、第２圧力調整器とが順次配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁と第２圧力調整器との間の圧力降下を前記圧力センサによって測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とする。
【００１４】
よって、閉じられたプロセスガス遮断弁によりプロセスガスの供給が遮断され、計測対象外のマスフローコントローラに連結された連結部遮断弁が閉じられて、計測ガス供給源から計測ガスが供給された後、ガスライン内が第１圧力調整器と第２圧力調整器とによって所定圧に設定された状態で計測開始用遮断弁が閉じられる。そして、ガスライン内に閉じこめられた計測ガスが、計測ガスが所定のマスフローコントローラから排出されることに伴う圧力降下が圧力センサによって測定され、その測定値に基づきマスフローコントローラの流量が計測される。従って、マスフローコントローラから計測ガスが排出される計測中、第２圧力調整器によってその下流側は常に一定圧に維持されているため、閉じられた連結部遮断弁上流側の逆止弁には逆圧がかからず、逆流を発生させない。そのため、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１５】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサとが順次配管され、更にその下流側には一次圧を減圧させる圧力調整器が分岐配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスの流入を防止する逆止弁と、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁を閉じて前記圧力調整器が所定のタイミングで減圧を行った後、前記圧力センサによって圧力降下を測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とする。
【００１６】
よって、閉じられたプロセスガス遮断弁によりプロセスガスの供給が遮断され、計測対象外のマスフローコントローラに連結された連結部遮断弁が閉じられて、計測ガス供給源から計測ガスが供給された後、ガスライン内が第１圧力調整器によって所定圧に設定された状態で計測開始用遮断弁が閉じられる。計測開始用遮断弁が閉じられて圧力調整器により所定のタイミングで一次圧の減圧が行われた後、ガスライン内に閉じこめられた計測ガスが、計測ガスが所定のマスフローコントローラから排出されることに伴う圧力降下が圧力センサによって測定され、その測定値に基づきマスフローコントローラの流量が計測される。
従って、圧力調整器により所定のタイミングで一次圧の減圧が行われると、逆止弁上流側の圧力が減圧され、逆圧により逆止弁にが強制的に閉弁されて逆流の発生が防止される。そのため、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１７】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁であって、前記計測開始用遮断弁の閉弁の後に開弁することによって、低圧に設定した当該圧力調整用遮断弁の下流側に計測用ガスを流すことによって一次圧を減圧させることを特徴とする。
よって、簡易な構成により逆止弁を確実に閉弁させることができ、計測時の逆止弁による容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させることができる。
【００１８】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記計測開始用遮断弁がノーマルクローズタイプのエアオペレート弁、前記圧力調整用遮断弁がノーマルオープンタイプのエアオペレート弁の組み合わせである場合、又はそれぞれの遮断弁が逆のタイプのオペレート弁による組み合わせである場合に、両遮断弁への作動エアの供給が共通の制御弁によって制御されるものであって、計測開始用遮断弁への作動エアの供給が絞りと逆止弁とからなるスピードコントローラを介して行われることを特徴とする。
よって、共通の制御弁によって作動エアの供給が可能なため、その構成部材を減らすことができ、また、計測ガス供給時にスピードコントローラによって計測開始用遮断弁が開けられる前に圧力調整用遮断弁を閉じるため、その圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができる。
【００１９】
また、本発明のマスフローコントローラ流量検定システムは、前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁と補助遮断弁とが順次配管されたものであって、前記計測開始用遮断弁の閉弁前に前記補助遮断弁を開閉することによって、前記圧力調整遮断弁下流側を低圧にすることを特徴とする。
よって、補助遮断弁の開閉によって圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明にかかるマスフローコントローラ流量検定システムの一実施の形態について説明する。図１は、第１実施の形態のマスフローコントローラ流量検定システム（以下、単に「流量検定システム」という）に組み込まれたガス回路の一部を示した図である。これは、前記従来例のもの（図１０参照）とほぼ同様な構成によって形成されたガス回路であるが、その特徴として、計測ガス供給管１１に圧力センサ１６の下流側に第２のレギュレータ２１が配管されている。よって、このレギュレータ２１を除き、他の構成については従来例のものと同符号を付して説明する。
レギュレータ２１は、その下流側の圧力を調節することによって逆止弁１７Ａ〜１７Ｃによる容積変化をなくし、マスフローコントローラの流量計測を安定させる目的で設けられたものである。そこで、このような構成のガス回路による流量計測の安定性について、その計測方法を示すとともに計測精度を検証することとする。
【００２１】
図２は、本流量検定システムに基づく計測試験装置を示した回路図である。この装置では、計測対象となるマスフローコントローラ２へのガスラインが計測ガス供給管２２によって構成され、その計測ガス供給管２２の上流側には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５、圧力センサ１６及びレギュレータ２１が、図１に示したガス回路に対応して順に配管されている。
そして、その計測ガス供給管２２の下流側には、マスフローコントローラ２が接続され、マスフローコントローラ２に供給されるガスの圧力を測定する圧力センサ２３と、マスフローコントローラ２１の排出流量を測定するマスフローメータ２４がそれぞれ配管されている。
【００２２】
ここで、レギュレータ２１から計測対象となるマスフローコントローラ２（例えば、図１におけるマスフローコントローラ２Ａに対応）までのガスラインを図１のガス回路のものと比較すれば、分岐管１２Ａと、そこに配管された逆止弁１７Ａ及び連結部遮断弁１８Ａと、そしてプロセスガス供給管１Ａと、そこに配管された第２遮断弁４Ａとが省略されている。
一方、計測ガス供給管２２に配管されたレギュレータ２１の下流側では、計測対象外のマスフローコントローラ（例えば、図１におけるマスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃに対応）に連結された全ての分岐管１２Ｂ，１２Ｃを代替した分岐管２５が、計測ガス供給管２２に分岐接続されている。そして、そこには逆止弁１７及び連結部遮断弁１８が順に配管され、さらに本計測装置では、逆止弁１７の不都合によって容積が変動する逆止弁１７及び連結部遮断弁１８間の圧力を測定すべく圧力センサ２６が配管されている。
【００２３】
また、この計測試験装置には図２に示す制御部が構成されている。なお、図１には図示していないが、流量検定システムにおいても同様の制御部が構成されている。
計測開始用遮断弁１５及び連結部遮断弁１８は、共にノーマルクローズタイプのエアオペレート弁であり、その両遮断弁１５，１８を動作させる作動エアの供給を調整するための電磁弁３１，３２が、図示しないエアポンプに接続されている。電磁弁３１には、その駆動電源３２に接続されたモニタリングコントローラ３１が接続され、電磁弁３２には、その駆動電源３４に接続されたＩ／Ｏボード３５に接続されている。
【００２４】
モニタリングコントローラ３１は、所定のタイミングで電磁弁３１を開閉すべく制御プログラムが記憶されている。また、そのモニタリングコントローラ３１には、Ｉ／Ｏボード３５が接続され、更にそのＩ／Ｏボード３５には、本計測試験装置の全体制御を行うパソコン３６に接続されている。一方、ＡＤボード３７がパソコン３６に接続されている。
【００２５】
一方、このような本実施の形態の流量検定システムに基づく計測試験装置とともに、図１０で示した従来の流量検定システムに対応する計測試験装置を構成し、両者の流量計測の安定性について比較してみる。図３は、従来の流量検定システムの計測試験装置を示した回路図であり、図２のものと比較して、本実施の形態の特徴として設けたレギュレータ２１を含まないものであって、他の構成を同一とする。同一の構成については同符号を付して示す。
【００２６】
そこで、先に本実施の形態における流量検定システムの計測試験装置の場合について説明する。なお、計測ガスには窒素ガスの代わりに圧縮エアを使用する。先ず、パソコン３６からの計測開始信号が発信されると、Ｉ／Ｏボード３５を介して駆動電源３４からの電圧が電磁弁３２に印加され、励磁した電磁弁３２の動作により作動エアが遮断されて連結部遮断弁１８が閉じられる。また、パソコン３６からの計測開始信号はＩ／Ｏボード３５からモニタリングコントローラ３３に送信され、駆動電源３２からの電圧が電磁弁３１に印加される。そのため、励磁した電磁弁３１の動作により作動エアが供給されて計測開始用遮断弁１８が開けられ、計測ガス供給管２２へエア供給源３８からの圧縮エアが供給される。
【００２７】
エア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出され、一方その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８が閉じられているため、その流れが止められる。
ところで、本計測試験装置では、レギュレータ１４が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では、計測ガス供給管２２内の圧力が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ１６の測定値は４ｋｇｆ／ｃｍ２ が示めされる。
【００２８】
また、その下流側に設けられた本実施の形態の特徴をなすレギュレータ２１は、２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されている。そのため、更にその下流側の計測ガス供給管２２内及び分岐管２５内の圧力は、２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ２３及び圧力センサ２６の測定値は２ｋｇｆ／ｃｍ２ が示される。
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって、前述した値にガスライン内の圧力が設定された後、所定のタイミングでモニタリングコントローラ３３により電磁弁３１への通電が止められる。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断されて計測開始用遮断弁１５が閉じられる。計測開始用遮断弁１５の閉弁によって圧縮エアの供給が遮断され、計測が開始される。
【００２９】
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図４は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
先ず、計測開始用遮断弁１５が閉じられると、計測ガス供給管２２内に閉じこめられたエアが、流量設定されたマスフローコントローラ２を通って大気へ排出される。そのため、計測開始用遮断弁１５の下流側の圧力は徐々に低下していくことになるが、この計測試験装置ではレギュレータ２１によって更に圧力調整が行われているため、その下流側の圧力は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
【００３０】
そこで、圧力センサ１６によって測定される圧力は、計測開始用遮断弁１５とレギュレータ２１との間に充填されたエアが下流側に流れるため、図４に示すように計測開始直後から緩やかな降下線が示される。また、マスフローコントローラ２の排出流量は、図４に示されるように一定値が保たれている。従って、圧力センサ１６において測定される圧力は一定の割合で下降することとなる。
一方、レギュレータ２１下流側は、常に２ｋｇｆ／ｃｍ２ の圧力に維持されているため、圧力センサ２６によってさ測定れる圧力は一定値が保たれている。
なお、この実測値データ（Ｐ１６，Ｐ２６，ＭＦＭ２４）はＡＤボード３７に送信され、そのデータを解析したパソコン３６から出力されたものである。
【００３１】
次に、図３に示した従来の流量検定システム（図１０）における計測試験装置の場合について説明する。その試験方法は前述した本実施の形態のものと同様である。
エア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出され、一方その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８が閉じられているため、その流れが止められる。
ところで、本計測試験装置では、レギュレータ１４が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では、計測ガス供給管２２内及び分岐管２５内の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持されることとなる。従って、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定値は２ｋｇｆ／ｃｍ２ が示めされる。
【００３２】
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって、前述したようにガスライン内の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定された後、所定のタイミングでモニタリングコントローラ３３によって電磁弁３１への通電が遮断される。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断されて計測開始用遮断弁１５が閉じられ、計測が開始される。
【００３３】
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図５は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
先ず、計測開始用遮断弁１５が閉じられると、計測ガス供給管２２内にに閉じこめられたエアが、流量設定されたマスフローコントローラ２を通って大気へ排出される。そのため、計測開始用遮断弁１５下流側にあるエアの排出によって、圧力センサ１６によって測定される圧力は、図５に示すように徐々に低下する下降線が示された。また、マスフローコントローラ２の排出流量は、図５に示されるように、計測開始直後の流量低下を補うべく弁の開きを大きくするために上昇するが、その後は安定した設定流量の排出が保たれる。従って、圧力センサ１６において測定される圧力は一定の割合で下降することとなる。
【００３４】
そして、このとき従来の課題でも示したように逆止弁１７に作動ミスが生じると、図５に示すように圧力センサ２６によってされる圧力が徐々に低下する下降線が示されることとなる。
逆止弁１７は、その上流側の圧力が低下すれば下流側の圧力が相対的に高くなり、そのことによって逆圧がかかかり下流側のエアが逆流しないように閉弁されるはずである。そのような正常時には、逆止弁１７と連結部遮断弁１８との間の管内は密閉状態となり、エアの逆流が生じないため圧力センサ２６によって測定される圧力は一定値を示すこととなる。
【００３５】
しかし、逆止弁１７が作動ミスによって完全に閉弁されなければ、上流側の減圧によってエアが逆流してしまうこととなる。図５は、そのような状況を示したものである。
従って、図３に示す従来の流量検定システムにおける計測試験装置では、圧力センサ１６で測定される圧力は、計測開始直後からのエアの排出によって２ｋｇｆ／ｃｍ２ の値から徐々に降下し、逆止弁１７が閉じられなかったことで、圧力センサ２６で測定される圧力も２ｋｇｆ／ｃｍ２ の値から徐々に下降する値が示されることとなった。
そして、こような計測時の逆止弁１７の開閉状態は、繰り返し行われる計測試験装置での試験結果から、不規則に発生する現象であることがわかった。
【００３６】
これに対し、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置では、レギュレータ２１によって逆止弁１７の上流側及び下流側圧力を一定値に保つため、分岐管２５内のエアの流れを止めることで逆止弁１７での逆流がなくなった。そのことを示すように、図４に示す圧力センサ２６の測定値が一定となった。
従って、本実施の形態の計測試験装置では、従来のような逆止弁１７の開閉による容積変化をなくし、流量計測時には、常に連結部遮断弁１８上流側の容積のもとで計測が行われるようになった。
よって、この計測検査装置の試験結果から、図１に示す流量検定システムについても流量計測が安定して行えることが分かる。そこで、例えばマスフローコントローラ２Ａの流量検定を行う場合について説明する。
【００３７】
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断される。次いで、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが開かれ、レギュレータ１４の下流側の圧力が４ｋｇｆ／ｃｍ２ に、レギュレータ２１の下流側の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ になるように調整された状態で計測開始用遮断弁１５が開かれる。そのため、高圧窒素源１３から供給された窒素ガスは、計測ガス供給管１１からプロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃへ流れ、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。その後、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃからの排出が止められる。
【００３８】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して設定流量づつ排出され続けるが、一方で高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して補充される。そのため、管内の圧力は、レギュレータ１４の下流側はレギュレータ２１までの間で４ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持され、そのレギュレータ２１下流側は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
このような設定圧力で管内が安定した後、計測開始用遮断弁１５が閉じらて計測が開始される。計測開始用遮断弁１５の閉弁によりその下流側に閉じこめられた窒素ガスは、排出側に連通している分岐管１２Ａを通ってマスフローコントローラ１から設定流量の窒素ガスが排出され続ける。そして、窒素ガスの排出により、供給が止められた計測開始用遮断弁１５下流側の圧力、即ち、圧力センサ１６によって測定される圧力は次第に下降することとなる。
【００３９】
しかし、圧力センサ１６の下流にはレギュレータ２１が設けられているため、そのレギュレータ２１下流側の圧力は依然として２ｋｇｆ／ｃｍ２ の圧力が維持されている。そのため、従来逆流のおそれがあった逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは、その上流側と下流側とで圧力差がないので逆流することはなく、マスフローコントローラ２Ａの流量計測は、安定した一定容積の下で行われる。
従って、流量検定システムでは、圧力センサ１６から出力される測定値に基づき、所定の圧力幅における圧力降下時間によって流量計測が行われる。例えば、本実施の形態では、圧力センサ１６の測定値が３．５ｋｇｆ／ｃｍ２ になったところで、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によって圧力データのモニタが開始され、３．３〜２．８ｋｇｆ／ｃｍ２ までの圧力降下時間によって流量計測が行われる。そして、今回計測された圧力降下時間と、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、それをもとにマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【００４０】
以上、詳細に説明したように、本実施の形態の流量検定システムによれば、ガス回路中に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを有するものであっても、圧力センサ１６による計測位置下流側に更に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けたので、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃの前後の圧力を一定に保つことで逆流の影響をなくすことができた。そのため、マスフローコントローラ２Ａ（２Ｂ，２Ｃ）の流量計測を行う際の容積が常に一定となり、その検定が精度よく行われることとなった。なお、本実施の形態では、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃが及ぼすマスフローコントローラの一次圧の低下、特に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃの開弁による容積変化による場合を示して説明したが、圧力センサ１６による計測位置下流側に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けることは、逆止弁の有無にかかわらずマスフローコントローラの一次圧を安定させることができ、これによってマスフローコントローラの流量測定精度を向上させることができる。
【００４１】
次に、本発明にかかるマスフローコントローラ流量検定システムの第２実施の形態について説明する。図６は、第２実施の形態の流量検定システムに組み込まれたガス回路の一部を示した図である。本実施の形態のものも、前記従来例のものとほぼ同様の構成によって形成されたガス回路であって、その特徴は、計測ガス供給管１１に圧力調整弁４１を設けた点である。そこで、この圧力調整弁４１を除き、他の構成については従来例のものと同符号を付して説明する。
この圧力調整弁４１は、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃ上流側の圧力を瞬間的に減圧させるために設けられたものである。そこで、このような構成のガス回路による流量計測の安定性について、前記第１実施の形態と同様に計測試験装置を示し、その計測方法を示すとともに計測精度を検証することとする。
【００４２】
図７は、本実施の形態の流量検定システムに基づいて形成された計測試験装置を示した回路図である。この装置では、計測対象となるマスフローコントローラ２へのガスラインが計測ガス供給管２２によって構成され、その計測ガス供給管２２の上流側には、レギュレータ１４、計測開始用遮断弁１５及び圧力センサ１６が、図６に示したガス回路に対応して順に配管されている。そして、その計測ガス供給管２２の下流側には、マスフローコントローラ２及びその排出流量を測定するマスフローメータ２４が配管されている。
一方、計測ガス供給管２２には、マスフローコントローラ２直前の上流側に分岐管２５が分岐接続されている。そして、その分岐管２５は更に２方向に分岐され、一方には逆止弁１７、圧力センサ２６及び連結部遮断弁１８が順に配管され、他方には圧力調整弁４１が配管されている。
【００４３】
圧力調整弁４１は、ノーマルオープンタイプのエアーオペレート弁であり、計測開始用遮断弁１５と同じ電磁弁３１からの作動エアによって動作するよう共通するエアパイプが接続されている。その計測開始用遮断弁１５は、ノーマルクローズタイプのエアーオペレート弁であり、圧力調整弁４１が閉じるのに対し若干遅れて開くようにするためのスピードコントローラが設けられている。
具体的には、計測開始用遮断弁１５に絞り４２を介してエアパイプが接続され、その絞り４２をまたぐように連結されたバイパスに、計測開始用遮断弁１５側への流れを遮断する逆止弁４３が配管されて構成されている。
また、圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４は閉じられているが、その下流側の配管容積は、後述するように圧力調整弁４１が開いて上流側のガスが下流側の圧力調整管４４に流れ込むことによって、上流側の圧力降下幅が約０．３ｋｇｆ／ｃｍ２ となるように設計されている。
【００４４】
そこで、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の流量計測について説明する。なお、本試験においても計測ガスには窒素ガスの代わりに圧縮エアを使用する。
先ず、パソコン３６からの計測開始信号が発信されると、Ｉ／Ｏボード３５を介して駆動電源３４からの電圧が電磁弁３２に印加され、励磁した電磁弁３２の動作により作動エアが遮断されて連結部遮断弁１８が閉じられる。また、パソコン３６からの計測開始信号はＩ／Ｏボード３５からモニタリングコントローラ３３に送信され、駆動電源３２からの電圧が電磁弁３１に印加される。そのため、励磁した電磁弁３１の動作により作動エアが供給されて計測開始用遮断弁１５が開けられ、計測ガス供給管２２へエア供給源３８からの圧縮エアが供給される。
【００４５】
このとき、電磁弁３１の動作により供給された作動エアは、圧力調整弁４１及び計測開始用遮断弁１５へ同一のエアパイプによって同時に供給されるが、スピードコントローラによって計測開始用遮断弁１５の動作が遅れることとなる。
計測開始用遮断弁１５に供給される作動エアの供給量が絞り４２によって制限されているため、圧力調整弁４１に比べて、計測開始用遮断弁１５を動作させる圧力に達するまでに時間がかかるためである。
【００４６】
そこで、遅れて開かれた計測開始用遮断弁１５によってエア供給源３８から供給された圧縮エアは、計測ガス供給管２２に直接配管されたマスフローコントローラ２及びマスフローメータ２４を通って排出される。
一方、その計測ガス供給管２２に分岐接続された分岐管２５へ流れるエアは、連結部遮断弁１８及び圧力調整弁４１が閉じられているため、その流れが止められる。本計測試験装置では、レギュレータ１４が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定されているため、その下流側では圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ にまで上昇して安定することとなる。
また、エア供給源３８から圧縮エアが供給される前に圧力調整弁４１が閉じられるため、圧力調整弁４１の下流側の圧力調整管４４内は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に設定された上流側に比べ低圧になっている。
【００４７】
そして、エア供給源３８から供給された圧縮エアによって前述した値にガスライン内の圧力が設定されて安定した後、所定のタイミングで電磁弁３１への通電がとめられる。そのため、電磁弁３１の動作により作動エアの供給が遮断され、計測開始用遮断弁１８が閉じらて計測が開始される。
このとき、圧力センサ１６及び圧力センサ２６の測定、そしてマスフローメータ２４の測定による実測値データが、パソコン３６に接続されたＡＤボード３７によりモニタされる。図８は、この実測値データをグラフにして示したものであり、横軸に時間、縦軸に圧力及び流量をとって示したグラフである。
【００４８】
作動エアの供給遮断により計測開始用遮断弁１８が閉じられると、それと同時に圧力調整弁４１が開けられる。その瞬間、計測開始用遮断弁１５の下流側では、２ｋｇｆ／ｃｍ２ から約０．３ｋｇｆ／ｃｍ２ の急激な圧力降下分が生ずる。計測開始用遮断弁１５の遮断によって閉じこめられたエアが、圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４内へ瞬間的に流れるためである。
従って、逆止弁１７は、計測開始直後に急激な圧力降下による逆圧がかかり確実に閉弁することとなる。
そこで、圧力調整弁４１による急激な圧力降下は圧力センサ１６によって測定され、図８に示すように急激は下降線が示される。そして、計測開始用遮断弁１５下流側に閉じこめられたエアはマスフローコントローラ２を通って設定流量づつ排出されるため、続いて徐々に低下する下降線が示される。
【００４９】
一方、逆止弁２７の下流側を検出する圧力センサ２６によって測定される逆止弁１７下流側の圧力は、図８に示すように計測開始の前後を問わず常に一定に保たれている。これは、その逆止弁１７が完全に閉弁され、連結部遮断弁１８との間に閉じこめられたエアには逆流が生じてないためである。
また、マスフローコントローラ２の排出流量を測定するマスフローメータ２４の出力は、図８に示すように計測開始直後に流量が一旦急激に突出し、その後一定流量で安定している。これは、計測開始直後の圧力降下に伴う流量低下を補うべく、マスフローコントローラ２の弁の開きが瞬間的に大きくなるためである。その後ガスライン内のエアが安定するため、マスフローコントローラ２が再び絞られ、設定流量のエアが排出されることとなる。なお、この実測値データ（Ｐ１６，Ｐ２６，ＭＦＭ２４）は、ＡＤボード３７に送信され、そのデータを解析したパソコン３６から出力されたものである。
【００５０】
従って、本実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置によれば、計測開始直後に、圧力調整弁４１によって逆止弁１７の上流側圧力を急激に圧力降下させるため、逆止弁１７が正確に閉弁されてエアの逆流がなくなった。そのことを示すように、図８で示す圧力センサ２６によって測定される圧力が一定となった。従って、本実施の形態の計測試験装置でも、従来のような逆止弁１７の開閉による容積変化をなくし、流量計測には、常に逆止弁１７上流側の容積が対象になることとなった。
よって、この計測検査装置の試験結果から、図６に示す流量検定システムについても流量計測が安定して行えることが分かる。そこで、例えばマスフローコントローラ２Ａの流量検定を行う場合について説明する。
【００５１】
先ず、全ての第１遮断弁３Ａ〜３Ｃが閉じられ、プロセスガスＡ〜Ｃの供給が遮断される。次いで、連結部遮断弁１８Ａ〜１８Ｃが開かれ、レギュレータ１４の下流側の圧力が２ｋｇｆ／ｃｍ２ に調整された状態で計測開始用遮断弁１５が開かれる。このとき、圧力調整弁４１は閉じられ、その下流側の圧力は、前述した計測試験装置と同様に２ｋｇｆ／ｃｍ２ に比べて低圧に保たれている。また、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃは閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃへは流れることはない。
そのため、高圧窒素源１３から供給された窒素ガスは、計測ガス供給管１１からプロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃへ流れ、図示しないプロセスチャンバを介して排気側にブローして、プロセスガス供給管１Ａ〜１Ｃ内に残留しているプロセスガスが掃気される。その後、連結部遮断弁１８Ｂ，１８Ｃが閉じられ、マスフローコントローラ２Ｂ，２Ｃからの排出が止められる。
【００５２】
窒素ガスは、マスフローコントローラ２Ａを介して設定流量づつ排出され続けるが、一方で高圧窒素源６からレギュレータ１４を介して補充される。そのため、レギュレータ１４の下流側は２ｋｇｆ／ｃｍ２ に維持される。
そこで、この状態から計測開始用遮断弁１５が閉じられて計測が開始される。この計測開始用遮断弁１５の閉弁により窒素ガスの供給が遮断されると同時に圧力調整弁４１が開けられる。そのため、計測開始用遮断弁１５の閉弁によってガスライン内に閉じこめられた窒素ガスは、圧力調整弁４１の開弁によって、より圧力の低い圧力調整弁４１下流側の圧力調整管４４へ流れ込むこととなる。従って、計測開始用遮断弁１５下流側の圧力は２ｋｇｆ／ｃｍ２ から急激な圧力降下を生じ、逆圧によって全ての逆止弁１７Ａ〜１７Ｃが閉じられる。
【００５３】
そして、計測開始用遮断弁１５の閉弁によりその下流側に閉じこめられた窒素ガスは、排出側に連通している分岐管１２Ａを通ってマスフローコントローラ１から設定流量の窒素ガスが排出され続ける。そして、窒素ガスの排出により、供給が止められた計測開始用遮断弁１５下流側の圧力は低下し、圧力センサ１６の測定値が次第に下降することとなる。
このとき、逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは、更に減圧する上流側と２ｋｇｆ／ｃｍ２ に保たれた下流側との圧力差によって、閉弁状態が維持される。よって、従来逆流のおそれがあった逆止弁１７Ｂ，１７Ｃは確実に閉弁され、マスフローコントローラ２Ａの流量計測は、安定した一定容積の下で行われる。
従って、流量検定システムでは、圧力センサ１６の測定値に基づき、所定の圧力幅における圧力降下時間によって流量計測が行われる。そして、今回計測された圧力降下時間と、マスフローコントローラ２Ａの初期状態での圧力降下時間とが比較演算されて流量変化率が算出され、それをもとにマスフローコントローラ２Ａの流量検定が行われる。
【００５４】
以上、詳細に説明したように、本実施の形態の流量検定システムによれば、ガス回路中に逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを有するものであっても、圧力調整弁４１によって計測開始直後の圧力を下げ、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃを確実に閉弁させるようにしたので、マスフローコントローラ２Ａ（２Ｂ，２Ｃ）の流量計測を行う際の容積が常に一定となり、その検定が精度よく行われることとなった。
ところで、本実施の形態では、逆止弁１７Ａ〜１７Ｃによる問題点を中心に説明したが、更にこの流量検定システムに対して、前記第１実施の形態の如く圧力センサ１６による計測位置下流側に圧力調整器として第２のレギュレータ２１を設けてもよい。そうすれば、更にマスフローコントローラの一次圧を安定させることができ、これによってマスフローコントローラの流量測定精度を向上させることができる。
【００５５】
なお、本発明は、前記実施の形態に限定されるわけではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、請求項１に記載の圧力調整器に該当する前記第１実施の形態で示したレギュレータは、固定式或いは、電子式レギュレータなどの別を問わない。
また、前記第２実施の形態で示した請求項２に記載の圧力調整器の構成は、圧力調整弁４１及び圧力調整管４４によるものに限定されず、例えば、圧力調整管４４を閉じたものとせず、ベントラインとしてもよい。この場合、圧力調整弁４１は所定の圧力降下を生じさせる時間で開閉する。また、図９に示すように、圧力調整弁４１及び補助遮断弁４５を直列に配管することで、スピードコントローラを構成する絞り４２及び逆止弁４３を省略するようにしてもよい。この場合、計測開始前に補助遮断弁４５を開閉し、圧力調整弁４５下流側を低圧状態にする。
【００５６】
【発明の効果】
本発明は、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを各マスフローコントローラを経由して排出すべく、プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサと、第２圧力調整器とが順次配管され、計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管した構成としたので、マスフローコントローラから計測ガスが排出される計測中、第２圧力調整器によってその下流側は常に一定圧に維持されるため、マスフローコントローラの流量測定精度を向上させたマスフローコントローラ流量検定システムを提供すること可能となった。
【００５７】
また、本発明は、プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、計測ガス供給源からのプロセスガスを各マスフローコントローラを経由して排出すべく、プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサとが順次配管され、更にその下流側には一次圧を減圧させる圧力調整器が分岐配管され、計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスの流入を防止する逆止弁と、プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、計測開始用遮断弁を閉じて圧力調整器が所定のタイミングで減圧を行った後、圧力センサによって圧力降下を測定することでマスフローコントローラの流量検定を行う構成としたので、逆止弁にが強制的に閉弁されるため、計測時の逆止弁による容積変化がなくなりマスフローコントローラの流量計測が安定したマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００５８】
また、本発明は、圧力調整器は、圧力調整用遮断弁であって、計測開始用遮断弁の閉弁の後に開弁することによって、低圧に設定した当該圧力調整用遮断弁の下流側に計測用ガスを流すことによって一次圧を減圧させる構成としたので、簡易な構成により逆止弁を確実に閉弁させることができ、計測時の逆止弁による容積変化がなくなりマスフローコントローラの流量計測が安定したマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００５９】
また、本発明は、計測開始用遮断弁がノーマルクローズタイプのエアオペレート弁、圧力調整用遮断弁がノーマルオープンタイプのエアオペレート弁の組み合わせである場合、又はそれぞれの遮断弁が逆のタイプのオペレート弁による組み合わせである場合に、両遮断弁への作動エアの供給が共通の制御弁によって制御されるものであって、計測開始用遮断弁への作動エアの供給が絞りと逆止弁とからなるスピードコントローラを介して行われるよう構成したので、共通の制御弁によって作動エアの供給が可能なため、その構成部材を減らすことができ、また、計測ガス供給時にスピードコントローラによって計測開始用遮断弁が開けられる前に圧力調整用遮断弁を閉じるため、その圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができるマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【００６０】
また、本発明は、圧力調整器が、圧力調整用遮断弁と補助遮断弁とが順次配管されたものであって、計測開始用遮断弁の閉弁前に補助遮断弁を開閉することによって、圧力調整遮断弁下流側を低圧にする構成としたので、補助遮断弁の開閉によって圧力調整用遮断弁下流側を確実に低圧状態にすることができるマスフローコントローラ流量検定システムを提供することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる第１実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図２】第１実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図３】従来の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図４】第１実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図５】従来の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図６】本発明にかかる第２実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図７】第２実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置を示した回路図である。
【図８】第２実施の形態の流量検定システムにおける計測試験装置の実測値データをグラフにして示した図である。
【図９】本発明にかかる他の実施の形態の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【図１０】従来の流量検定システムを構成するガス回路の一部を示した図である。
【符号の説明】
１，１Ａ〜１Ｃ プロセスガス供給管
２，２Ａ〜２Ｃ マスフローコントローラ
３Ａ〜３Ｃ 第１遮断弁
４Ａ〜４Ｃ 第２遮断弁
５Ａ〜５Ｃ 第３遮断弁
１１，２２ 計測ガス供給管
１２Ａ〜１２Ｃ，２５ 分岐管
１３ 高圧窒素源
１４，２１ レギュレータ
１５ 計測開始用遮断弁
１６，２３，２６ 圧力センサ
１７，１７Ａ〜１７Ｃ 逆止弁
１８，１８Ａ〜１８Ｃ 連結部遮断弁
３１，３２ 電磁弁
３１ モニタリングコントローラ
３５ Ｉ／Ｏボード
３６ パソコン
３７ ＡＤボード
Claims (5)
- プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、
計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、
前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサと、第２圧力調整器とが順次配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、
前記計測開始用遮断弁と第２圧力調整器との間の圧力降下を前記圧力センサによって測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とするマスフローコントローラ流量検定システム。 - プロセスガス遮断弁とマスフローコントローラとを順次経由してプロセスガス源からのプロセスガスをプロセスチャンバに供給する複数のプロセスガスラインと、
計測ガス供給源からのプロセスガスを前記各マスフローコントローラを経由して排出すべく、前記プロセスガスラインに分岐接続された計測ガスラインとを有し、
前記計測ガスラインの共通部分には、第１圧力調整器と、計測開始用遮断弁と、圧力センサとが順次配管され、更にその下流側には一次圧を減圧させる圧力調整器が分岐配管され、前記計測ガスラインの各分岐部分には、プロセスガスの流入を防止する逆止弁と、前記プロセスガスラインと計測ガスライン間の遮断を行う連結部遮断弁とが順次配管されたものであって、
前記計測開始用遮断弁を閉じて前記圧力調整器が所定のタイミングで減圧を行った後、前記圧力センサによって圧力降下を測定することでマスフローコントローラの流量検定を行うことを特徴とするマスフローコントローラ流量検定システム。 - 請求項２に記載のマスフローコントローラ流量検定システムにおいて、
前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁であって、前記計測開始用遮断弁の閉弁の後に開弁することによって、低圧に設定した当該圧力調整用遮断弁の下流側に計測用ガスを流すことによって一次圧を減圧させることを特徴とするマスフローコントローラ流量検定システム。 - 請求項３に記載のマスフローコントローラ流量検定システムにおいて、
前記計測開始用遮断弁がノーマルクローズタイプのエアオペレート弁、前記圧力調整用遮断弁がノーマルオープンタイプのエアオペレート弁の組み合わせである場合、又はそれぞれの遮断弁が逆のタイプのオペレート弁による組み合わせである場合に、
両遮断弁への作動エアの供給が共通の制御弁によって制御されるものであって、計測開始用遮断弁への作動エアの供給が絞りと逆止弁とからなるスピードコントローラを介して行われることを特徴とするマスフローコントローラ流量検定システム。 - 請求項３に記載のマスフローコントローラ流量検定システムにおいて、
前記圧力調整器は、圧力調整用遮断弁と補助遮断弁とが順次配管されたものであって、
前記計測開始用遮断弁の閉弁前に前記補助遮断弁を開閉することによって、前記圧力調整遮断弁下流側を低圧にすることを特徴とするマスフローコントローラ流量検定システム。
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