JP5346628B2 - マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム - Google Patents

マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム Download PDF

Info

Publication number
JP5346628B2
JP5346628B2 JP2009058780A JP2009058780A JP5346628B2 JP 5346628 B2 JP5346628 B2 JP 5346628B2 JP 2009058780 A JP2009058780 A JP 2009058780A JP 2009058780 A JP2009058780 A JP 2009058780A JP 5346628 B2 JP5346628 B2 JP 5346628B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow rate
gas line
gas
mass flow
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009058780A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010210528A (ja
Inventor
忠弘 安田
裕二 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Horiba Stec Co Ltd
Original Assignee
Horiba Stec Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Horiba Stec Co Ltd filed Critical Horiba Stec Co Ltd
Priority to JP2009058780A priority Critical patent/JP5346628B2/ja
Priority to TW99106748A priority patent/TW201044128A/zh
Priority to KR1020100021241A priority patent/KR101714786B1/ko
Priority to CN201010135729A priority patent/CN101840232A/zh
Priority to US12/721,433 priority patent/US8443649B2/en
Publication of JP2010210528A publication Critical patent/JP2010210528A/ja
Priority to US13/779,527 priority patent/US8646307B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5346628B2 publication Critical patent/JP5346628B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
    • G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
    • G01F1/36—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure the pressure or differential pressure being created by the use of flow constriction
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
    • G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
    • G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
    • G01F1/50—Correcting or compensating means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
    • G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
    • G01F25/15—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters specially adapted for gas meters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F25/00—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume
    • G01F25/10—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters
    • G01F25/17—Testing or calibration of apparatus for measuring volume, volume flow or liquid level or for metering by volume of flowmeters using calibrated reservoirs
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B23/00—Testing or monitoring of control systems or parts thereof
    • G05B23/02—Electric testing or monitoring
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow

Description

本発明は、マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが複数並列に設けられており、各支流ガスラインが合流して１つの合流後ガスラインとなるようなガス配管系におけるマスフローコントローラの検定方法に関するものである。
半導体の製造工程等においてプロセスチャンバに混合ガスを供給するために、ガス供給源に接続され、マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが複数並列に設けられており、各支流ガスラインを合流させてプロセスチャンバに接続される１つの合流ガスラインからなるガス配管系が形成されている。
このようなガス配管系において、各支流ガスライン上に設けられているマスフローコントローラが設定流量の通りに流量制御を行うことができているかどうかを検定するための診断システムが特許文献１に開示されている。
このものは、図１に示すように合流後ガスラインＭＬに並列に分岐流路ＢＬが形成され、その分岐流路ＢＬ上に予め容積が分かっている大容量のタンクＡ１と、その下流側に圧力センサＡ２とが設けられており、前記圧力センサＡ２で測定された圧力に基づいてマスフローコントローラ１の検定を行うものである。また、前記合流後ガスラインＭＬにおいて前記分岐流路ＢＬの接続点の間と、前記分岐流路ＢＬの入り口と出口近傍及びには開閉バルブがそれぞれ設けられている。
このような検定システムＡ１００によってＲＯＲ方式と呼ばれるマスフローコントローラの検定方法が用いられる。具体的な検定手順について説明すると、マスフローコントローラの検定時には、分岐流路の入り口側の開閉バルブのみが開放され、その他の開閉バルブは閉止され、検定されるマスフローコントローラ１がある支流ガスラインＳＬ以外の支流ガスラインＳＬも閉止される。その後、検定されるマスフローコントローラ１に所定の設定流量を設定して、前記タンクにガスが流入するようにし、圧力を上昇させる。その間の圧力変化を前記圧力センサによって測定し、その圧力変化からタンクＡ１の容積である検定用容積を算出する。次に、前記検定用容積と、既知のタンク容積と検定されるマスフローコントローラから前記タンクまでの概算容積との和である基準容積とを比較する。このとき、一致する場合には、設定流量通りにマスフローコントローラは流量制御を行えていると判断され、一致しない場合には、マスフローコントローラ内の流路のつまり等により設定流量の通りに流量制御が行えていないと判断される。
特表２００７−５２５７２６号公報
しかしながら、特許文献１に示されるようなマスフローコントローラの検定システムでは、以下に述べるような複数の問題点がある。
（ａ）半導体製造プロセス等に用いられている既存のガス配管系にこの検定システムを導入するには、合流後配管に新たに分岐流路のような配管を形成し、基準容積を構成するためのタンクを設ける必要がある。工場のレイアウト等によっては新たな配管やタンクを設けることが困難な場合もあり、既存の配管系に合わせて検定システムの配管を設計したり、新たな配管やタンクを敷設したりする分だけコストが増大してしまう。
（ｂ）ＲＯＲ方式等の検定方法において精度よくマスフローコントローラの検定を行うためには、前記基準容積が正確に分かっている必要がある。この検定システムでは検定されるマスフローコントローラからタンクまでの配管容積とタンクの既知容積の和を基準容積としているが、通常、配管容積は配管長等に基づいて概算されているだけであり、配管が曲がっている部分や開閉バルブ等の内部の容積については、正確な値を算出することは難しいため、基準容積があまり信頼できる値になっていない。また、このような配管容積に関する誤差を吸収できるようにしようとすると、タンクの容積をある程度大きなものにしなくてはならなくなる。
（ｃ）タンクの容積が大きくなったり、基準容積が大きかったりすると、検定するために必要な量の圧力変化が長時間経過しないと測定できなくなる。このため、各マスフローコントローラの検定に掛かる時間が長くなってしまう。
本発明は上述したような問題点を鑑みてなされたものであり、半導体製造プロセス等に用いられている既存のガス配管系に何ら配管等の設計変更を行うことなく安価に導入することができ、短時間で、正確な基準容積に基づいたマスフローコントローラの検定を行うことができる検定システムを提供することを目的とする。
すなわち、本発明のマスフローコントローラの検定システムは、マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含む複数のガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインと、各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブと基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明のマスフローコントローラの検定方法は、マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１又は複数並列に設けられており、前記支流ガスラインを含む複数のガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定方法であって、前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインに、当該検定用ガスラインに流れるガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、前記検定用ガスラインにおけるガスの圧力を測定する圧力測定手段とを設ける検定用ガスライン設定ステップと、各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出ステップと、検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出ステップと、前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較ステップと、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明のマスフローコントローラの検定に用いられるプログラムは、マスフローコントローラを具備し、１又は複数設けられている支流ガスラインと、ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備する検定用ガスラインとが並列に設けられており、各支流ガスライン及び前記検定用ガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系において、マスフローコントローラの検定を行うためのプログラムであって、各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、検定されるマスフローコントローラに設定流量を設定し、当該検定されるマスフローコントローラによる流量制御が行われている間において前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とする。
このようなものであれば、半導体製造プロセス等にある既存のガス配管系に対して、例えば、支流ガスラインのうちの一つに前記流量測定手段、前記流量可変バルブ、前記圧力測定手段を設けて検定用ガスラインに置き換えることもでき、新たな配管の設計や敷設を行う必要が無いので検定システムの導入コストを大幅に下げることができる。また、前記基準容積算出部によって、前記流量可変バルブ、各支流ガスラインの閉止箇所、前記合流後バルブによって規定される配管内の容積を算出することができ、その容積を基準容積とすることができるので、従来のように基準容積の元となるタンク等をガス配管系に新たに設ける必要が無い。しかも、前記検定ガスラインにおける流量制御の精度及び圧力測定精度を信頼できるものにしておくことによって、正確な値の基準容積を算出してマスフローコントローラの検定に用いることができる。言い換えると、基準容積について自己検定を行いながらマスフローコントローラの検定を行うことができるので、前記比較部は、その信頼できる基準容積に基づいて設定される基準パラメータと、検定用パラメータとを比較することにより、常に信頼性の高いマスフローコントローラの検定を行うことができるようになる。
さらに、前記流量可変バルブ、各支流ガスラインの閉止箇所、前記合流後バルブに基づいて規定される配管内の容積を基準容積としているので、検定されるマスフローコントローラと、基準容積との間の距離を最小限に抑えることができるので、ガスの温度が変化することを防ぐことができ、マスフローコントローラへの検定への影響を小さくすることができる。また、基準容積がガス配管により構成されていることから、タンク等を用いた場合に比べて容積に対する表面積を大きくすることができ、ガスの温度置換性を良くすることができるので、ガスの温度等の測定環境を測定ごとに同じものにしやすい。
加えて、基準容積をガス配管により構成しているので、例えば、合流後ガスライン上にある任意の開閉弁を合流後開閉弁として使用することによって、基準容積を可変にすることができる。より具体的には、配管だけでなく、プロセスチャンバまで含んだ容積を基準容積としてマスフローコントローラの検定を行うこともでき、検定の目的に合わせて自由に基準容積を設定することができる。
逆に、基準容積を圧力測定値の時系列データから測定することができるので、必要最小限の基準容積にすることができ、限られた時間で検定に必要な圧力変化量を発生させることができる。つまり、短時間で検定を行うこともでき、低流量のマスフローコントローラを検定する場合でも、微小にしか流量が変化していない場合でもそのような変化を検出しやすくなる。
また、既存のガス配管系に対して、支流ガスラインと並列となるように１本ガスラインを最終的にその流れるガスが合流後ガスラインに合流するように追加して、検定用ガスラインとしても、既存のガス配管系において置き換えによって検定用ガスラインを設けた場合と同様に、基準容積を算出し、その正確な基準容積に基づいてマスフローコントローラの検定を精度よく行うことができる。
既存のガス配管系に対して、検定用ガスラインを設定するのをより簡単にするには、前記検定用ガスラインには、前記流量測定手段と、前記流量可変バルブと、前記圧力測定手段とを備えた差圧式マスフローコントローラを設けてあり、前記圧力測定手段が、前記流量測定手段を兼ねるものであればよい。
例えば、ＲＯＦ式のマスフローコントローラの検定を行う場合には、マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１つ又は複数並列に設けられており、各支流ガスラインが分流する前の分流前ガスラインに分流前バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記分流前ガスラインと接続され、前記支流ガスラインと並列に設けられている検定用ガスラインと、各支流ガスラインを閉止し、前記分流前バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記分流前バルブとに基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記分流前バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定システムであればよい。このようなものであっても、前述した検定システムの同様の効果を奏する事が可能である。
このように、本発明のマスフローコントローラの検定システム、方法、及びそれらに用いられるプログラムによれば、既存の複数ある支流ガスラインのうちの一つに、前記流量測定手段、前記流量可変バルブ、前記圧力測定手段を設けて検定用ガスラインとするができ、そのような簡単な置き換え又は検定用ガスラインの追加によって各支流ガスライン上のマスフローコントローラの検定を行うことができるようになる。しかも、前記支流ガスライン上の機器から検定に用いられる基準容積を算出することができるので、基準容積を別に設ける必要が無い。つまり、既存のガス配管系に対して、新たな配管やタンク等の設計や設置を行う必要が無いので、導入コストを抑えることができる。また、基準容積は配管から構成されるので、検定されるマスフローコントローラとの距離が近く、検定に対する熱の影響をできる限り小さくすることも可能となる。また、基準容積は例えば既存のガス配管系に予め設置してある任意の開閉バルブを閉じることによって自由に設定することができるので、目的に応じた基準容積をその都度設定したり、必要最小限の容積にして検定時間を短くしたり、微小流量でも圧力変化が大きく出るようにして異常を検出しやすくしたりすることもできる。
従来のマスフローコントローラの検定システムを示す模式図。 本発明の一実施形態に係るマスフローコントローラの検定システムを示す模式図。 同実施形態におけるマスフローコントローラの検定システム示す模式図。 同実施形態における差圧式マスフローコントローラの模式的断面図。 同実施形態におけるコントロールボックスの機能ブロック図を示す模式図。 同実施形態におけるＲＯＲ式の検定の概念を示すグラフ。 同実施形態におけるマスフローコントローラの検定の流れを示すフローチャート。 別の実施形態におけるマスフローコントローラの検定システムを示す模式図。
以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態におけるマスフローコントローラ１の検定システム１００は、図２及び図3に示すように半導体の製造プロセス等において、ガス供給手段である複数のガスボンベ（図示しない）からプロセスチャンバＣへと各種ガスを供給するための既存のガス配管系ＧＳに設けられている複数のマスフローコントローラ１の検定を個々に行うために用いられるものである。このガス配管系ＧＳは、ガスボンベに接続されており、少なくともマスフローコントローラ１とその下流に2次側開閉バルブＳＶを具備する支流ガスラインＳＬが複数並列に設けられているガスボックスと、各支流ガスラインＳＬが１つに合流した後のガスラインであり、合流後開閉バルブＭＶを具備し、その下流において前記プロセスチャンバＣと接続される合流後ガスラインＭＬとからなるものである。なお、合流後開閉バルブＭＶは、各支流ガスラインＳＬが合流した後の合流後ラインＭＬのどこに取り付けられているものであっても構わない。例えば前記プロセスチャンバＣとガス配管系ＧＳとを着脱可能に取り付けているガスパネル等に設けられるバルブを合流後バルブとしてもよい。ここで、「並列に設けられている」とは、独立したガスラインが最終的に１つのガスラインにまとまる、又は１つのガスラインから複数の独立したガスラインに分かれるような設け方のことを言う。
前記検定システム１００は、図2及び図3に示すように前述したガス配管系ＧＳにおいて前記支流ガスラインＳＬのうち一つのマスフローコントローラ１を基準となる差圧式マスフローコントローラ２と入れ替えた検定用ガスラインＫＬと、前記差圧式コントローラと及び各支流ガスラインＳＬ上のマスフローコントローラ１から各種測定情報を取得するとともに、設定流量の設定をするコントロールボックス３と、を備えたものである。
前記差圧式マスフローコントローラ２は、上流から、流量可変バルブ２２と、流路を流れるガスの差圧から流量を測定する流量測定手段２１と、をこの順で備えたものである。
前記流量可変バルブ２２は、図４に示すように前記流量測定手段２１により測定された検定用ガスラインＫＬを流れるガスの測定流量が設定されている設定流量となるようにその開度が制御されるものである。
前記流量測定手段２１は、上流から第1圧力センサ２１１、抵抗体２１３、第２圧力センサ２１２とから構成してあるものであり、前記抵抗体２１３の前後における流体の圧力変化に基づいて流体の質量流量を測定するものである。ここで、前記第1圧力センサ２１１よりも前記第２圧力センサ２１２のほうが測定精度の高いものであり、前記第２圧力センサ２１２が請求項での圧力測定手段に相当する。
また、この差圧式マスフローコントローラ２には内部流路が形成されているブロック体内に温度センサ２３が設けてあり、この差圧式マスフローコントローラ２内の流路を流れるガスの温度を測定できるようにしてあり、測定流量の温度補正を行うように構成してある。また、前記流量可変バルブ２２の上流には、更に前段圧力センサ２１４が設けてあり、後述するＲＯＦ型の検定の場合に用いるようにしている。
前記コントロールボックス３は、ＣＰＵ、メモリ、Ｉ／Ｏチャネル、ディスプレイ等の出力機器、キーボードなどの入力機器、ＡＤコンバータ等を有したいわゆるコンピュータであり、前記メモリに格納したプログラムにしたがってＣＰＵやその周辺機器が動作することによって、少なくとも、図５の機能ブロック図に示すように、バルブ開閉設定部３１、基準容積算出部３２、検定用パラメータ算出部３３、比較部３４としての機能を発揮するものである。また、各マスフローコントローラ１及び前記差圧式マスフローコントローラ２と電気的に接続されており、各マスフローコントローラ１に設定流量を設定したり、前記差圧式マスフローコントローラ２の前記第２圧力センサ２１２から測定された測定圧力とその測定された時間のセットである時系列データを取得したりできるようにしてある。
各部について説明する。
バルブ開閉設定部３１は、基準容積とするガス配管の容積を規定するために前記2次側開閉バルブＳＶ、前記合流後バルブＭＶ、前記流量可変バルブ２２、前記検定されるマスフローコントローラ１内のバルブについて開閉を設定するものである。
前記基準容積算出部３２は、前記バルブ開閉設定部３１が、検定されるマスフローコントローラ１がある支流ガスラインＳＬ上の２次側開閉バルブＳＶは開放し、検定されるマスフローコントローラ１内のバルブを閉止し、それ以外の各支流ガスラインＳＬ上の２次側開閉バルブＳＶを閉止し、前記合流後バルブＭＶを閉止している状態において、基準容積を算出するものである。ここで、基準容積とは、閉止されている前記各２次側開閉バルブＳＶ、前記合流後バルブＭＶ、検定されるマスフローコントローラ１内のバルブ、前記差圧式のマスフローコントローラ１内の前記流量可変バルブ２２によって規定されるガス配管系ＧＳの配管容積に相当する。言い換えると、基準容積は、バルブ等によって配管内の略閉じた空間のことであり、ガスの流入により圧力変化が生じるような空間のことを指す。以下の説明では、特に断りが無い限りはこのような配管容積のことを基準容積と呼ぶこととする。より具体的には、前記基準容積算出部３２は、前記検定ガスライン上の差圧式マスフローコントローラ２に設定流量を設定し、前記流量可変バルブ２２による流量制御が行われて間において、前記第２圧力センサ２１２で測定される測定圧力の時系列データに基づいて基準容積を算出するように構成してある。
この基準容積の算出についてより詳しく説明すると、前記基準容積算出部３２は、前記差圧式マスフローコントローラ２に設定流量を設定したことをトリガとし、その後、例えば前記第２圧力センサ２１２で測定される圧力が第１圧力Ｐ１になったタイミングから、さらに第1所定時間後に訪れる第２圧力Ｐ２になったタイミングまでの期間における、圧力値の上昇量ΔＰを求めるようにしている。例えば図６（ａ）の場合では、区間ａ−ｂにおける前記第２圧力センサ２１２の圧力上昇量ΔＰ２１を求める。
次に、前記基準容積算出部３２は、区間ａ−ｂにおいて測定した質量流量の時系列データから算出される質量流量積分値と前述した圧力上昇量ΔＰ２１を気体の状態方程式（式（１））に代入して基準体積を算出する。
Ｖ＝ｎＲＴ／ΔＰ２１ ・・・（１）
ここで、ｎはモル数（単位時間あたりの質量（質量流量）を時間で積分したもの、すなわち、質量流量積分値である。）、Ｒは気体定数（制御対象となる気体から既知）、Ｔは温度（温度センサ２３６出力などから既知）、ΔＰ２１は第２圧力センサ２１２における圧力上昇量である。
前記検定用パラメータ算出部３３は、前記バルブ開閉設定部３１が、検定されるマスフローコントローラ１がある支流ガスラインＳＬ上以外の支流ガスラインＳＬ上の２次側開閉バルブＳＶは閉止し、前記合流後バルブＭＶを閉止するとともに、前記差圧式マスフローコントローラ２内の流量可変バルブ２２を閉止している状態において、検定用のパラメータを算出するものである。具体的には、検定されるマスフローコントローラ１に設定流量を設定し、当該検定されるマスフローコントローラ１による流量制御が行われている間において前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出するように構成してある。
検定用パラメータの算出について詳細に説明すると、前記検定用パラメータ算出部３３は、検定されるマスフローコントローラ１に設定流量を設定したことをトリガとし、その後、前記第２圧力センサ２１２で測定される圧力が前記基準容積算出部３２において用いたのと同じ第１圧力Ｐ１になったタイミングから、さらに第1所定時間後に訪れる第３圧力Ｐ３になったタイミングまでの期間における、圧力値の上昇量ΔＰ２を求めるようにしている。例えば図６（ｂ）の場合では、区間ａ−ｂにおける前記第２圧力センサ２１２の圧力上昇量ΔＰ３１を求める。
次に、前記検定用パラメータ算出部３３は、区間ａ−ｂにおいて設定された設定流量と経過時間から算出される質量流量積分値と前述した圧力上昇量ΔＰ３１を気体の状態方程式（式（２））に代入して検定用パラメータである検定用体積Ｖｔｅｓｔを算出する。
Ｖｔｅｓｔ＝ｎＲＴ／ΔＰ３１ ・・・（２）
ここで、ｎはモル数（単位時間あたりの質量（質量流量）を時間で積分したもの、すなわち、質量流量積分値である。）、Ｒは気体定数（制御対象となる気体から既知）、Ｔは温度（温度センサ２３６出力などから既知）、ΔＰ３１は第２圧力センサ２１２における圧力上昇量である。
前記比較部３４は、基準容積と前記検定用パラメータである算出容積Ｖｔｅｓｔとを比較し、これらが一致する又は規定の範囲の値に納まっている場合には検定されているマスフローコントローラ１は正常であると判断し、一致しない又は規定の範囲外の値である場合には、検定されているマスフローコントローラ１に異常があると判断し、その旨を表示するようにしてある。なお、本実施形態では、基準容積そのものを検定用パラメータとしているが、基準容積に基づいて、その他の実施形態において後述するようなパラメータや検定曲線を設定するようにしても構わない。
このように構成されたマスフローコントローラ１の検定システム１００における検定方法の手順について図７のフローチャートを参照しながら説明する。
まず、既存のガス配管系ＧＳにおける支流ガスラインＳＬの一つを基準となる差圧式マスフローコントローラ２を設けて検定用ガスラインＫＬとし、各マスフローコントローラ１と前記差圧式マスフローコントローラ２とをコントロールボックス３と接続し、流量設定及びデータの取得が行えるようにセットアップしておく（ステップＳ１）。
次に、前記バルブ開閉設定部３１によって、前述したように各種バルブを閉止し、ガス配管自体によって基準容積を規定する（ステップＳ２）。ここで、検定されるマスフローコントローラ１は全閉されており、前記差圧式マスフローコントローラ２は流量制御を行うことができるようにしてある。
その後、前記基準容積算出部３２は、前記差圧式マスフローコントローラ２に設定流量を設定し（ステップＳ３）、前記第２圧力センサ２１２で測定される圧力測定値の時系列データと、第1圧力センサ２１１と第２圧力センサ２１２の差圧から算出される質量流量から算出される値を気体の状態方程式に代入することによって基準容積を算出する（ステップＳ４）。
次に、前記バルブ開閉設定部３１は、合流後バルブＭＶを開放し、基準容積内の圧力を低下させた後再び合流後バルブＭＶを閉止する。また、前記差圧式マスフローコントローラ２の前記流量可変バルブ２２を閉止するとともに、検定されるマスフローコントローラ１は流量制御を行うことができる状態にする（ステップＳ５）。
その後、前記検定用パラメータ算出部３３は、検定されるマスフローコントローラ１に設定流量を設定し（ステップＳ６）、前記第２圧力センサ２１２で測定される圧力測定値の時系列データと設定流量に基づいた基準容積の値である算出容積を気体の状態方程式によって算出する（ステップＳ７）。
最後に、比較部３４が基準容積と算出容積を比較して、検定されているマスフローコントローラ１が正常かどうかについて判断する（ステップＳ８）。
このように本実施形態のマスフローコントローラ１によれば、既存のガス配管系ＧＳに対して差圧式マスフローコントローラ２を支流ガスラインＳＬ上に設けて、検定用ガスラインＫＬとするだけで、ＲＯＲ式のマスフローコントローラ１の検定システム１００を構築する事が可能となる。従って、従来のようにＲＯＲ式の検定システム１００を導入するために、例えば、合流後配管に新たな流路やタンクを設計、設置する必要が無いので、導入コストを大幅に抑えることが可能となる。
さらに、２次側開閉バルブＳＶ及び合流後バルブＭＶで規定される配管内の容積を基準容積としているので、検定されるマスフローコントローラ１と、基準容積との間の距離を最小限に抑えることができるので、ガスの温度が変化することを防ぐことができ、マスフローコントローラ１への検定への影響を小さくすることができる。また、基準容積がガス配管により構成されていることから、タンク等を用いた場合に比べて容積に対する表面積を大きくすることができ、ガスの温度置換性を良くすることができるので、ガスの温度等の測定環境を測定ごとに同じものにしやすい。
また、ガス配管上の各種バルブを適宜閉止することによって基準容積をガス配管自体で構成しているので、例えばどの既存の合流後開閉バルブを閉止するかを適宜選択することによって、基準容積を最小限度にしたり、プロセスチャンバＣまでの流路を含んだ検定を行えるようにしたりすることができる。
例えば、基準容積を最小限度にすることにより、マスフローコントローラ１が制御できる流量が小さい場合でも、短時間でも基準容積内の圧力変化を大きくすることができ、小流量でも精度のよい検定を行うことができる。
加えて、従来であれば概算で求められており、あまり信頼できなかった基準容積の値を差圧式マスフローコントローラ２により自己検定することができるので、より正確な値に基づいて検定を行うことができる。従って、マスフローコントローラ１の検定自体の信頼性をより向上させることができる。
その他の実施形態について説明する。
図８に示すようにマスフローコントローラ１を具備する支流ガスラインＳＬが複数並列に設けられており、各支流ガスラインＳＬが分流する前の分流前ガスラインに分流前バルブが設けられているガス配管系ＧＳにおいても本発明を適用することは可能である。具体的には、前記支流ガスラインＳＬに並列に差圧式マスフローコントローラ２を具備する検定用ガスラインＫＬを設けて、その入り口側を前記分流前ガスラインＮＬに接続しておけばよい。
このようなものであっても、前記分流前ガスライン上にある分流前バルブ、前記マスフローコントローラ１の上流に設けられている1次側バルブＦＶ、によって規定される配管の容積を基準容積とし、前段圧力センサ２１４を圧力測定手段として用いれば、ＲＯＦ型の検定方法を実施することができ、前記実施形態における検定システム１００と略同様の効果を得ることができる。
ＲＯＦ型の検定方法について簡単に説明すると、前述したＲＯＲ型の検定方法は基準容積に対してガスを流入させて、基準容積内の圧力上昇に基づいてマスフローコントローラの検定を行うものであるのに対し、ＲＯＦ型は、まず、基準容積にガスを溜めこんでおき、検定されるマスフローコントローラのある支流ガスラインを開放してそのときの圧力低下に基づいて検定を行う方法である。具体的には、基準容積内を所定の圧力にした後に、検定用ガスラインを開放してその時の圧力測定手段にて測定される圧力低下に基づいて基準容積を算出する。その後、基準容積内を所定の圧力に昇圧し、今度は検定されるマスフローコントローラのある支流ガスラインを開放し、その時の圧力測定手段にて測定される圧力低下に基づいて検定用パラメータを算出し、基準容積に基づいた基準パラメータと検定用パラメータを比較し、マスフローコントローラの検定を行う。
前記実施形態では、比較部は、基準容積の値と、算出容積の値を比較するものであったが、その他のものであっても構わない。例えば、ある設定流量を設定した時の所定時間経過後の基準体積内の圧力上昇値を予め記憶させておき、検定されるマスフローコントローラにその設定流量を設定し、所定時間経過後の圧力上昇値を比較するものであってもよい。また、圧力測定値の時系列データを基準容積に基づいて設定される検定曲線と比較することによってマスフローコントローラの正常、異常を判断するものであってもよい。
前記実施形態では、基準容積内にできる限り余計なガスが流入しないようにするために2次側開閉バルブを閉止していたが、多少の流入を許容するのであれば、マスフローコントローラ内のバルブを閉止することによって基準容積を規定しても構わない。また、前記検定用ガスラインにはサーマル式のマスフローコントローラを設けるとともに、別に圧力測定手段を設けるようにしても構わない。
前記実施形態では、流量可変バルブに一定流量が流れるように設定流量を設定し流量制御を行って、そのときの基準容積内の圧力上昇に基づいて基準容積を算出していたが、精度がそれほど求められない場合には、流量可変バルブを開放させておき、設定流量を設定せずにそのときの圧力変化から基準容積を求めるようにしても構わない。
また、検定されるマスフローコントローラに一定流量が流れるように設定流量を設定せずに、開放だけさせておき、その時の圧力変化に基づいて検定を行うようにしても構わない。この場合は、圧力変化から算出されるパラメータと検定されるマスフローコントローラ内の流量測定手段の示す流量とを比較することによって、その流量測定手段の校正（値付け等）を行うことはできないが、正常かどうかを判定することができる。
加えて、上述したようなマスフローコントローラだけでなく、支流ガスライン上にマスフローコントローラとは別体に設けられた流量測定手段（マスフローメータ、流量計）などを検定する事も可能である。
また、基準とした検定用のマスフローコントローラの内部構造は前記実施形態に限られるものではない。例えば、流量可変バルブよりも上流に流量測定手段又は圧力測定手段が設けられているものであっても構わない。
前記実施形態では、検定用ガスラインが１ラインだけ設けてあったが、検定用ガスラインが複数ライン設けてあっても構わない。
また、基準容積は配管がバルブ等によって完全に閉止されている閉鎖空間だけに限られるものではない。例えば、合流後バルブの替わりに音速ノズル等の一定流量が流れ続ける流体抵抗を閉止点としてみなし、そのような流体抵抗等によって規定される容積内の圧力が上昇、又は下降するようなものであれば、ＲＯＲ式やＲＯＦ式の検定を行うことができる。
その他、本発明の趣旨に反しない限りにおいて様々な変形や組み合わせが可能である。
１００・・・検定システム
１・・・マスフローコントローラ
２・・・差圧式マスフローコントローラ
２１・・・流量測定手段
２２・・・流量可変バルブ
２１１、２１３・・・圧力測定手段
３２・・・基準容積算出部
３３・・・検定用パラメータ算出部
３４・・・比較部
ＧＳ・・・ガス配管系
ＳＬ・・・支流ガスライン
ＭＬ・・・合流後ガスライン
ＭＶ・・・合流後バルブ
ＮＬ・・・分流前ガスライン

Claims (5)

  1. マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含む複数のガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、
    ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインと、
    各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
    検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
    前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定システム。
  2. 前記検定用ガスラインには、前記流量測定手段と、前記流量可変バルブと、前記圧力測定手段とを備えた差圧式マスフローコントローラを設けてあり、前記圧力測定手段が、前記流量測定手段を兼ねるものである請求項１記載のマスフローコントローラの検定システム。
  3. マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含むガスラインが分流する前の分流前ガスラインに分流前バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定システムであって、
    ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備し、前記分流前ガスラインと接続され、前記支流ガスラインと並列に設けられている検定用ガスラインと、
    各支流ガスラインを閉止し、前記分流前バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記分流前バルブと基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
    検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記分流前バルブが閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
    前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定システム。
  4. マスフローコントローラを具備する支流ガスラインが１又は複数設けられており、前記支流ガスラインを含むガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系におけるマスフローコントローラの検定方法であって、
    前記支流ガスラインと並列に設けられており、前記合流後ガスラインに合流する検定用ガスラインに、当該検定用ガスラインに流れるガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、前記検定用ガスラインにおけるガスの圧力を測定する圧力測定手段とを設ける検定用ガスライン設定ステップと、
    各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブ基づいて規定される配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出ステップと、
    検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出ステップと、
    前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較ステップと、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定方法。
  5. マスフローコントローラを具備し、１又は複数設けられている支流ガスラインと、ガスの流量を測定する流量測定手段と、前記流量測定手段で測定される測定流量が設定流量となるように開度が制御される流量可変バルブと、ガスの圧力を測定する圧力測定手段とを具備する検定用ガスラインとが並列に設けられており、各支流ガスライン及び前記検定用ガスラインが合流した後の合流後ガスラインに合流後バルブが設けられているガス配管系において、マスフローコントローラの検定を行うためのプログラムであって、
    各支流ガスラインを閉止し、前記合流後バルブを閉止している状態において、流量可変バルブと、各支流ガスラインの閉止箇所と、前記合流後バルブとに基づいてされる配管内の容積である基準容積を前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて算出する基準容積算出部と、
    検定されるマスフローコントローラがある支流ガスライン以外の支流ガスラインを前記基準容積算出ステップにおける前記閉止箇所と同じ箇所で閉止し、前記流量可変バルブ及び前記合流後バルブを閉止している状態において、前記圧力測定手段で測定される測定圧力の時系列データに基づいて検定用パラメータを算出する検定用パラメータ算出部と、
    前記基準容積に基づいて設定される基準パラメータと前記検定用パラメータとを比較する比較部と、を備えたことを特徴とするマスフローコントローラの検定用プログラム。
JP2009058780A 2009-03-11 2009-03-11 マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム Expired - Fee Related JP5346628B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009058780A JP5346628B2 (ja) 2009-03-11 2009-03-11 マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム
TW99106748A TW201044128A (en) 2009-03-11 2010-03-09 Testing system, test method and program for testing of mass flow controller
KR1020100021241A KR101714786B1 (ko) 2009-03-11 2010-03-10 매스 플로우 컨트롤러의 검정 시스템, 검정 방법, 검정용 프로그램을 수록한 기록 매체
CN201010135729A CN101840232A (zh) 2009-03-11 2010-03-10 质量流量控制器的测试系统、测试方法、测试用程序
US12/721,433 US8443649B2 (en) 2009-03-11 2010-03-10 Mass flow controller verifying system, verifying method and verifying program
US13/779,527 US8646307B2 (en) 2009-03-11 2013-02-27 Mass flow controller verifying system, verifying method and verifying program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009058780A JP5346628B2 (ja) 2009-03-11 2009-03-11 マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010210528A JP2010210528A (ja) 2010-09-24
JP5346628B2 true JP5346628B2 (ja) 2013-11-20

Family

ID=42729719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009058780A Expired - Fee Related JP5346628B2 (ja) 2009-03-11 2009-03-11 マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム

Country Status (5)

Country Link
US (2) US8443649B2 (ja)
JP (1) JP5346628B2 (ja)
KR (1) KR101714786B1 (ja)
CN (1) CN101840232A (ja)
TW (1) TW201044128A (ja)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8707754B2 (en) * 2010-04-30 2014-04-29 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems
JP5703032B2 (ja) * 2011-01-06 2015-04-15 株式会社フジキン ガス供給装置用流量制御器の流量測定方法
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US9188989B1 (en) 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
JP5735383B2 (ja) * 2011-09-02 2015-06-17 アズビル株式会社 調節弁の異常診断方法および装置
JP5433660B2 (ja) * 2011-10-12 2014-03-05 Ｃｋｄ株式会社 ガス流量監視システム
JP5809012B2 (ja) * 2011-10-14 2015-11-10 株式会社堀場エステック 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム
CN102506966B (zh) * 2011-12-01 2014-01-29 北京七星华创电子股份有限公司 一种流量系统校正装置
JP6081800B2 (ja) * 2013-01-07 2017-02-15 株式会社堀場エステック 流体制御弁及びマスフローコントローラ
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
CN103278220B (zh) * 2013-06-05 2015-09-30 中国计量学院 一种对膜式燃气表基本误差进行快速检定的方法及其装置
US9707369B2 (en) * 2013-06-28 2017-07-18 Vyaire Medical Capital Llc Modular flow cassette
US9746359B2 (en) 2013-06-28 2017-08-29 Vyaire Medical Capital Llc Flow sensor
US9541098B2 (en) 2013-06-28 2017-01-10 Vyaire Medical Capital Llc Low-noise blower
US9795757B2 (en) 2013-06-28 2017-10-24 Vyaire Medical Capital Llc Fluid inlet adapter
US9433743B2 (en) 2013-06-28 2016-09-06 Carefusion 303, Inc. Ventilator exhalation flow valve
US9962514B2 (en) 2013-06-28 2018-05-08 Vyaire Medical Capital Llc Ventilator flow valve
DE102013015313A1 (de) * 2013-09-16 2015-03-19 Dürr Systems GmbH Applikationsanlage und entsprechendes Applikationsverfahren
DE102015100762A1 (de) * 2015-01-20 2016-07-21 Infineon Technologies Ag Behälterschalteinrichtung und Verfahren zum Überwachen einer Fluidrate
JP6600568B2 (ja) * 2015-09-16 2019-10-30 東京エレクトロン株式会社 流量制御器の出力流量を求める方法
US10895484B2 (en) * 2016-01-15 2021-01-19 Fujikin Incorporated Gas supply device capable of measuring flow rate, flowmeter, and flow rate measuring method
US10684159B2 (en) * 2016-06-27 2020-06-16 Applied Materials, Inc. Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on choked flow
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
JP6795832B2 (ja) * 2016-07-05 2020-12-02 株式会社フジキン 流量制御機器、流量制御機器の流量校正方法、流量測定機器および流量測定機器を用いた流量測定方法
FR3056314B1 (fr) * 2016-09-21 2018-09-07 L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Procede et appareil de regulation de plusieurs fluides
US10697848B1 (en) * 2016-12-12 2020-06-30 Kirk A. Dobbs Smart building water supply management system with leak detection and flood prevention
US10031004B2 (en) * 2016-12-15 2018-07-24 Mks Instruments, Inc. Methods and apparatus for wide range mass flow verification
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
KR102162046B1 (ko) * 2017-02-10 2020-10-06 가부시키가이샤 후지킨 유량 측정 방법 및 유량 측정 장치
JP6753799B2 (ja) * 2017-02-23 2020-09-09 アズビル株式会社 メンテナンス判断指標推定装置、流量制御装置およびメンテナンス判断指標推定方法
US10983538B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
WO2019026700A1 (ja) * 2017-07-31 2019-02-07 株式会社フジキン 流体制御システムおよび流量測定方法
JP7270988B2 (ja) * 2018-02-26 2023-05-11 株式会社フジキン 流量制御装置および流量制御方法
US10866135B2 (en) 2018-03-26 2020-12-15 Applied Materials, Inc. Methods, systems, and apparatus for mass flow verification based on rate of pressure decay
JP7217742B2 (ja) * 2018-04-19 2023-02-03 株式会社堀場エステック 流量制御装置、診断方法、及び、流量制御装置用プログラム
JP7244940B2 (ja) * 2018-07-30 2023-03-23 株式会社フジキン 流量制御システム及び流量測定方法
CN109085812A (zh) * 2018-08-28 2018-12-25 武汉华星光电技术有限公司 气体流量监测系统及监测和主备用切换方法
CN113441449B (zh) * 2020-03-27 2022-12-09 先丰通讯股份有限公司 喷盘检测系统及其检测方法
US11860018B2 (en) * 2020-08-14 2024-01-02 Horiba Stec, Co., Ltd. Rate-of-change flow measurement device
KR20230150309A (ko) 2021-03-03 2023-10-30 아이커 시스템즈, 인크. 매니폴드 조립체를 포함하는 유체 유동 제어 시스템
US11733081B2 (en) * 2021-04-13 2023-08-22 Applied Materials, Inc. Methods, systems, and apparatus for conducting a calibration operation for a plurality of mass flow controllers (MFCs) of a substrate processing system
CN113959533B (zh) * 2021-09-16 2023-08-11 张家港氢芯电气系统科技有限公司 一种高精度高压氢气质量流量计标定方法

Family Cites Families (44)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3860033A (en) * 1973-04-13 1975-01-14 M & J Valve Co Flow diverting apparatus and method
ZA743585B (en) * 1973-07-30 1975-06-25 Hoechst Ag Volumetric determination of contaminated liquid or gaseous media
JPS5522101A (en) * 1978-08-03 1980-02-16 Oval Eng Co Ltd Flow meter
JPS5596422A (en) * 1979-01-18 1980-07-22 Oval Eng Co Ltd Flow rate measuring device
DE3236815C2 (de) * 1982-10-05 1985-09-19 Klaus Dipl.-Ing.(FH) 3200 Hildesheim Metzger Überwachungs- und Kontrolleinrichtung an Rohrleitungen zum Transport von Flüssigkeiten
JPS6011023U (ja) * 1983-07-01 1985-01-25 日本軽金属株式会社 空気流量計測装置
JPS60209118A (ja) * 1984-03-31 1985-10-21 Sanyo Denki Seisakusho:Kk 限外濾過量測定装置
JP2692770B2 (ja) * 1992-09-30 1997-12-17 シーケーディ株式会社 マスフローコントローラ流量検定システム
JPH06152409A (ja) 1992-11-05 1994-05-31 Fujitsu Ltd オフセット補償回路
JP2877157B2 (ja) 1993-05-14 1999-03-31 ダイメック株式会社 ガイドワイヤーの芯線の処理方法
JP2635929B2 (ja) * 1994-04-12 1997-07-30 シーケーディ株式会社 マスフローコントローラ絶対流量検定システム
JP2659334B2 (ja) * 1994-05-12 1997-09-30 シーケーディ株式会社 マスフローコントローラ流量検定システム
JP2642880B2 (ja) * 1994-08-26 1997-08-20 工業技術院長 流量計の校正方法
JP3367811B2 (ja) * 1996-01-05 2003-01-20 シーケーディ株式会社 ガス配管系の検定システム
JP3557087B2 (ja) * 1998-02-06 2004-08-25 シーケーディ株式会社 マスフローコントローラ流量検定システム
US6234030B1 (en) * 1998-08-28 2001-05-22 Rosewood Equipment Company Multiphase metering method for multiphase flow
JP2002296096A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Tokyo Electron Ltd 処理方法及び処理装置
JP4078982B2 (ja) * 2002-04-22 2008-04-23 東京エレクトロン株式会社 処理システム及び流量測定方法
US6728729B1 (en) 2003-04-25 2004-04-27 Apple Computer, Inc. Accessing media across networks
US6955072B2 (en) * 2003-06-25 2005-10-18 Mks Instruments, Inc. System and method for in-situ flow verification and calibration
US6957586B2 (en) * 2003-08-15 2005-10-25 Saudi Arabian Oil Company System to measure density, specific gravity, and flow rate of fluids, meter, and related methods
JP4421393B2 (ja) * 2004-06-22 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
US7757554B2 (en) * 2005-03-25 2010-07-20 Mks Instruments, Inc. High accuracy mass flow verifier with multiple inlets
US7461549B1 (en) * 2007-06-27 2008-12-09 Mks Instruments, Inc. Mass flow verifiers capable of providing different volumes, and related methods
US7174263B2 (en) * 2005-03-25 2007-02-06 Mks Instruments, Inc. External volume insensitive flow verification
US7474968B2 (en) * 2005-03-25 2009-01-06 Mks Instruments, Inc. Critical flow based mass flow verifier
JP2008546078A (ja) * 2005-05-23 2008-12-18 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 所望の質量重量特性を有する液体を放出するためのマニホールド及びその設計方法
JP4648098B2 (ja) * 2005-06-06 2011-03-09 シーケーディ株式会社 流量制御機器絶対流量検定システム
JP2007106018A (ja) * 2005-10-14 2007-04-26 Mitsubishi Engineering Plastics Corp 加圧ガス導入装置、及び、中空部を有する成形品の射出成形方法
CN101395453B (zh) * 2006-03-07 2010-09-29 喜开理株式会社 气体流量检验单元
JP4765746B2 (ja) * 2006-04-17 2011-09-07 日立金属株式会社 遮断弁装置及びこれを組み込んだ質量流量制御装置
US20070288125A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Mks Instruments, Inc. Power Over Ethernet (Poe) - Based Measurement System
US7822570B2 (en) * 2006-11-17 2010-10-26 Lam Research Corporation Methods for performing actual flow verification
US7706995B2 (en) * 2007-04-16 2010-04-27 Mks Instr Inc Capacitance manometers and methods relating to auto-drift correction
JP4870633B2 (ja) * 2007-08-29 2012-02-08 シーケーディ株式会社 流量検定システム及び流量検定方法
US8205629B2 (en) * 2008-04-25 2012-06-26 Applied Materials, Inc. Real time lead-line characterization for MFC flow verification
US8340827B2 (en) * 2008-06-20 2012-12-25 Lam Research Corporation Methods for controlling time scale of gas delivery into a processing chamber
US7891228B2 (en) * 2008-11-18 2011-02-22 Mks Instruments, Inc. Dual-mode mass flow verification and mass flow delivery system and method
JP5395451B2 (ja) * 2009-02-10 2014-01-22 サーパス工業株式会社 流量コントローラ
US8793082B2 (en) * 2009-07-24 2014-07-29 Mks Instruments, Inc. Upstream volume mass flow verification systems and methods
US8707754B2 (en) * 2010-04-30 2014-04-29 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for calibrating flow controllers in substrate processing systems
US8931512B2 (en) * 2011-03-07 2015-01-13 Applied Materials, Inc. Gas delivery system and method of use thereof
US9772629B2 (en) * 2011-09-29 2017-09-26 Applied Materials, Inc. Methods for monitoring a flow controller coupled to a process chamber
US9644796B2 (en) * 2011-09-29 2017-05-09 Applied Materials, Inc. Methods for in-situ calibration of a flow controller

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100102556A (ko) 2010-09-24
US8443649B2 (en) 2013-05-21
TW201044128A (en) 2010-12-16
US20130174635A1 (en) 2013-07-11
US20100229967A1 (en) 2010-09-16
US8646307B2 (en) 2014-02-11
KR101714786B1 (ko) 2017-03-09
JP2010210528A (ja) 2010-09-24
CN101840232A (zh) 2010-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5346628B2 (ja) マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム
JP6926168B2 (ja) 質量流量コントローラ
JP5873681B2 (ja) 流量制御装置、流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム
JP5667184B2 (ja) 上流体積質量流量検証システムおよび方法
JP5605969B2 (ja) 流量モニタ付圧力式流量制御装置と、これを用いた流体供給系の異常検出方法並びにモニタ流量異常時の処置方法
TWI568993B (zh) 流量檢驗器、用於檢驗流體輸送裝置的測量之方法及用以減少一用以檢驗一流體測量裝置對流體流量的測量之質流檢驗器所計算出來的流體流量變化之方法
TWI642910B (zh) 流量控制機器、流量控制機器的流量校正方法、流量測定機器及使用流量測定機器的流量測定方法
KR20130018129A (ko) 가스 유량 검정 시스템 및 가스 유량 검정 유닛
KR20130031260A (ko) 가스 공급 장치용 유량 제어기의 교정 방법 및 유량 계측 방법
JP5058358B2 (ja) 診断機構
WO2008025935A9 (en) Improvements in or relating to flow metering
JP5931668B2 (ja) 流量センサの診断機構、診断方法、診断機構用プログラム、及び、マスフローコントローラ
KR20190055076A (ko) 유량 비율 제어 장치, 유량 비율 제어 장치용 프로그램, 및 유량 비율 제어 방법
JP2017181213A (ja) 臨界ノズル式ガス流量計及びガス流量計の調整方法
US11326921B2 (en) Flow rate measuring method and flow rate measuring device
JP2012237733A (ja) 診断装置及びその診断装置を備えた流量制御装置
TWI719552B (zh) 流量控制系統及流量測量方法
JP7437980B2 (ja) 流体制御装置、流体制御システム、診断方法、及び、流体制御装置用プログラム
JP2017181215A (ja) 水素ガスディスペンサーの評価方法
TW202012887A (zh) 氣體流量檢定單元
JP4698899B2 (ja) 蒸気タービン発電システムおよび蒸気タービン発電システムにおける流量計検定方法
KR101984625B1 (ko) 이차 공기 유입장치의 이상 여부를 진단하는 방법
JP5394526B2 (ja) カロリー測定装置
JP2007078548A (ja) 多重型基準体積管

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130813

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130819

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5346628

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees