JP2009147374A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。
【選択図】図6
Description
第1のテーブルが、該第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するように構成されており、
第2のテーブルが、第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、該第2のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するようには構成されていない位置決め装置が提供される。
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの付与されたビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
基板テーブルに接続され、基板テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムと、
基板を保持するようには構成されておらず、パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルと、
第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、センサ・テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
パターンの付与された放射ビームを、テーブルに保持された基板に投影する段階と、
テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる段階と、
センサをパターンの付与された放射ビームの経路内へ移動させる段階およびビームの特性を測定する段階とを含み、
センサを移動させる段階および特性を測定する段階が、少なくとも部分的に、テーブルを移動させる段階と同時に行われるデバイス製造方法が提供される。
放射ビームPB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構成された支持構造体(例えばマスク・テーブル)MTであって、あるパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体MTと、
基板(例えばレジスト塗布ウェハ)Wを保持するように構成された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTであって、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームPBに与えられたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ系)PLとを有している。
(1)ステップ・モードでは、放射ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つ(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光場(露光フィールド)の最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを同期して走査する(すなわち、ただ1回の動的露光)。支持構造体MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決定できる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながら支持構造体MTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー配列などの、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
WT 基板テーブル
IN 入口
OUT 出口
10 貯水部
12 液体閉じ込め構造体
14 出口
15 入口
16 ガス・シール
AS 位置調整用センサ
CS 制御装置
ES 露光ステーション
IH 液体閉じ込め構造体
LS 水準センサ
MS 測定ステーション
SM スキャタロメータ
W1、W2 基板
WT1、WT2 基板テーブル
20 第3のステージ
21 第3のテーブル
22、23 位置決めシステム
24 センサ・ユニット
Claims (6)
- 所望のパターンを投影ビームに付与するパターン形成装置と、
基板を保持する第1のテーブルと、
パターンの付与されたビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
前記第1のテーブルを前記投影システム下方の位置に移動させる第1の位置決めシステムと、
前記第1のテーブルを前記投影システム下方の位置から移動させる際に第2のテーブルを前記投影システム下方の位置に移動させる第2の位置決めシステムに接続され、かつ基板を保持するように構成されていない第2のテーブルと、を備え、
前記第2のテーブルは、前記投影システムを清浄する清浄装置が取り付けられていることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 投影システムと基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムをさらに備え、
前記第1のテーブルを前記投影システム下方の位置から移動させる際に、前記第2のテーブルが、少なくとも部分的に前記空間の境界を定める面を形成するようになっている請求項1に記載されたリソグラフィ装置。 - 前記第1及び第2の位置決めシステムに接続され、それぞれの位置決めシステムを制御して、前記第1のテーブルを前記投影システム下方の位置から移動させるのと同期して、前記第2のテーブルを前記投影システム下方の位置に位置決めする制御装置をさらに含む請求項1または2に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第2のテーブルが、前記パターンの付与されたビームの特性を検知するセンサを有するセンサ・テーブルを含む請求項1から3のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記清浄装置は、ガス、電気粒子、レーザー、又は投影システムを清浄するための他の機構を用いる請求項1から4のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- パターンの付与された放射ビームを、第1のテーブルに保持された基板に投影システムで投影し、
前記第1のテーブルを前記投影システム下方の位置から第1の位置決めシステムで移動させ、
第2のテーブルを前記投影システム下方の位置に移動させ、
前記第2のテーブルに取り付けられた清浄装置で前記投影システムを清浄することを含むデバイス製造方法。
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