TWI408331B

TWI408331B - 雙面光學膜片量測裝置與方法

Info

Publication number: TWI408331B
Application number: TW098143293A
Authority: TW
Inventors: Shu Ping Dong; Hung Ming Tai; Deh Ming Shyu; chi tang Chen; Ching Ming Yeh; Yi Chang Chen; Chai Chi Huang
Original assignee: Ind Tech Res Inst
Priority date: 2009-12-17
Filing date: 2009-12-17
Publication date: 2013-09-11
Also published as: US20110149063A1; TW201122410A

Description

雙面光學膜片量測裝置與方法

本發明係有關一種雙面光學膜片(Double-Sided optical film)之量測裝置與方法，尤其是指一種影像式檢測雙面光學膜片之水平誤差與角度誤差的量測裝置與方法。

在平面液晶顯示器面板中，偏極片以吸收方式使入射面板之光線成為平面偏極光，會造成60%的光強度損耗；彩色濾光片用染料針對光波長以吸收方式將原本白光之光束在不同位置吸收不同波長的光而產生出紅、綠、藍之三色光而呈現全彩之畫面，會造成70%的光強度損耗。因為大量之吸收，致使液晶顯示器光能消耗非常嚴重，造成整體使用效率只有3%~6%。

為提升液晶顯示器之省電效率，習知技術曾提出微奈米結構膜片之新技術，例如：無染料彩色光學膜片，其係透過繞射式光學膜片來分光，可解決高耗能低效率問題。

無染料彩色光學膜片10的結構如圖一所示，其係主要包含兩大部分：一分色膜片11以及一雙面光學膜片12。

其中的雙面光學膜片12係由複數個分束鏡121所平行排列而成，分束鏡121的結構如圖二所示，其係主要包含兩部分：一第一形貌1211以及一第二形貌1212，其中，該第一形貌1211係為一柱狀鏡，而該第二形貌1212係為一稜鏡。影響雙面光學膜片12的作用之最關鍵問題在於對位問題，也就是其第一形貌1211與其第二形貌1212的對準問題，包括水平錯位與角度錯位。

在雙面光學膜片的熱滾壓製程(hot embossing)和紫外光固化滾壓成型製程(UV embossing)中，雙面光學膜片會因水平錯位與角度錯位造成偏心(decentering)與光軸偏移(optical axis shift)而造成漏光與光束偏折變化。

用滾壓技術製造雙面光學膜片雖可大幅降低製造成本且產能高，但雙面光學膜片製造精度要求高而極易無法達成原始產品要求。其中影響滾壓製程最大的問題是雙面光學膜片的水平錯位量與角度錯位量。雙面光學膜片會因膜片水平錯位量與角度錯位量造成光強度分佈不均、分光效果降低、因而分光效率大幅下降。因此能正確獲得雙面微結構錯位(mismatch)的資訊相當重要，藉此才能判斷誤差來源與誤差量，將資訊回饋給模具或膜片驅動裝置，經由反覆校正才能精確對位。

圖三係擷取自美國專利US. Pat. No. 6,989,931“Lenticular Optical System”之圖二十三(FIG. 23)。該美國專利揭露一種對位偵測裝置，其係為雙面柱狀架構，透過FIG. 23圖中之光學元件207偵測一平行線對位圖樣，再經由偵測厚度導正裝置208提供滾輪做對位修正。然而該美國專利需要另外製作一對位圖樣以進行對位檢測。

在一實施例中，本發明提供一種雙面光學膜片量測方法，其係包括下列步驟：提供一具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片；同時產生該第一形貌之一第一影像以及與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第二影像；將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；擷取該重像影像；以及從該重像影像分析該雙面光學膜片的水平錯位量。

在另一實施例中，本發明提供一種雙面光學膜片量測方法，其係包括下列步驟：提供一由複數個分束鏡所平行排列而成並具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片；同時產生該第一形貌之一第一影像與一第二影像、與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第三影像以及與該第一形貌之第二影像相對應之第二形貌之一第四影像，其中該第一影像與第二影像從第一形貌上獲取影像的位置係相隔一固定距離；將該第一影像與該第三影像重合形成一第一重像影像，並且將該第二影像與該第四影像重合形成一第二重像影像；分別擷取該第一重像影像與該第二重像影像；從該第一重像影像分析該雙面光學膜片的一第一水平錯位量，並且從該第二重像影像分析該雙面光學膜片的一第二水平錯位量；以及從該第一水平錯位量與第二水平錯位量計算出該雙面光學膜片的角度錯位量。

在一實施例中，本發明提供一種雙面光學膜片量測裝置，其中被量測的雙面光學膜片係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌，該雙面光學膜片量測裝置係包括：一第一形貌影像產生單元，其係用以產生該第一形貌之一第一影像；一第二形貌影像產生單元，其係設置於該第一形貌影像產生單元之相對應位置，並用以產生該第二形貌之一第二影像；一重像影像產生單元，其係用以將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；以及一影像擷取單元，其係使該重像影像產生單元在該影像擷取單元將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像，並擷取該重像影像。

在另一實施例中，本發明更提供一種雙面光學膜片量測裝置，其中被量測的雙面光學膜片係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌，該雙面光學膜片量測裝置係包括複數個水平錯位量量測單元，其係用以量測該雙面光學膜片在不同位置之水平錯位量，且彼此間相隔一固定距離，每個水平錯位量量測單元更包括：一第一形貌影像產生單元，其係用以產生該第一形貌之一第一影像；一第二形貌影像產生單元，其係設置於該第一形貌影像產生單元之相對應位置，並用以產生該第二形貌之一第二影像；一重像影像產生單元，其係用以將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；以及一影像擷取單元，其係使該重像影像產生單元在該影像擷取單元將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像，並擷取該重像影像。

為使　貴審查委員能對本發明之特徵、目的及功能有更進一步的認知與瞭解，下文特將本發明之裝置與方法的相關細部結構以及設計的理念原由進行說明，以使得審查委員可以了解本發明之特點，詳細說明陳述如下：因熱滾壓和紫外光固化滾壓成型機台裝置上設置有上滾輪和下滾輪，上滾輪和下滾輪均含有微結構圖樣(microstructure pattern)，上滾輪和下滾輪的微結構圖樣為雙面柱狀(Double-Sided lenticular lens)結構，而滾壓後雙面光學膜片雙面結構將會因水平錯位與角度錯位問題造成偏心與光軸偏移而產生漏光與光束偏折變化。如果要在滾輪上刻對位圖案，則必須在機台裝置上換刀，這將會造成誤差來源。本發明則利用雙面光學膜片本身的表面結構作為對位圖案，因此不需要換刀也不需另外刻製對位圖案即可直接作檢測。

本發明提供一種雙面光學膜片量測裝置與方法，其係用於雙面光學膜片的熱滾壓製程和紫外光固化滾壓成型製程中，對雙面光學膜片進行檢測角度誤差與水平誤差的裝置。本發明所提供的雙面光學膜片量測裝置不需另外設計檢測對位圖樣，只要利用本身結構即可檢測其對位偏移量資訊，並且可以直接在一個電荷耦合元件(charge-coupled device，簡稱CCD)上的影像呈現水平錯位資訊，同時也獲得角度偏位資訊，並且不需破壞試片，可以達到非接觸式檢測的目的。

圖四係為本發明根據一實施例之雙面光學膜片量測方法流程示意圖。本實施例之雙面光學膜片量測方法40包括下列步驟：步驟41：提供一具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片；步驟42：對該第一形貌與第二形貌施以暗場照明與亮場混合照明，並同時產生該第一形貌之一第一影像以及與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第二影像；步驟43：將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；步驟44：擷取該重像影像；以及步驟45：從該重像影像分析該雙面光學膜片的水平錯位量。

其中在步驟42，受限於光因雙面光學膜片為全透明膜片，在影像上識別不易，僅能從邊界判別，但邊界判別相當不明顯，需透過暗場照明方式獲得並強化邊緣得邊界資訊，暗場照明邊界光資訊也會因氣泡和空孔造成影像上資料判讀困難。針對此結構設計施以暗場照明與亮場混和照明，可加強表面輪廓資訊與雙面穿透光資訊。

圖五係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測方法流程示意圖。本實施例之雙面光學膜片量測方法50包括下列步驟：步驟51：提供一由複數個分束鏡所平行排列而成並具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片；步驟52：對該第一形貌與第二形貌施以暗場照明與亮場混合照明，並同時產生該第一形貌之一第一影像與一第二影像、與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第三影像以及與該第一形貌之第二影像相對應之第二形貌之一第四影像，其中該第一影像與第二影像從第一形貌上獲取影像的位置係相隔一固定距離L；步驟53：將該第一影像與該第三影像重合形成一第一重像影像，並且將該第二影像與該第四影像重合形成一第二重像影像；步驟54：分別擷取該第一重像影像與該第二重像影像；步驟55：從該第一重像影像分析該雙面光學膜片的一第一水平錯位量Δx₁ ，並且從該第二重像影像分析該雙面光學膜片的一第二水平錯位量Δx₂ ；以及步驟56：從該第一水平錯位量Δx₁ 與第二水平錯位量Δx₂ 計算出該雙面光學膜片的角度錯位量θ=tan^-1 [(Δx₁ -Δx₂ )/L]。

其中在步驟52，受限於光因雙面光學膜片為全透明膜片，在影像上識別不易，僅能從邊界判別，但邊界判別相當不明顯，需透過暗場照明方式獲得並強化邊緣得邊界資訊，暗場照明邊界光資訊也會因氣泡和空孔造成影像上資料判讀困難。針對此結構設計施以暗場照明與亮場混和照明，可加強表面輪廓資訊與雙面穿透光資訊。

其中該固定距離L係沿著與分束鏡的排列方向垂直的方向上量測的。因為莫爾條紋會影響影像分析，所以在沒有莫爾條紋出現情況下，應用該雙面光學膜片量測方法50，可計算出雙面光學膜片的角度錯位資訊。如果在該固定距離L的一端測得一第一水平錯位量Δx₁ ，而且在該固定距離L的另一端測得一第二水平錯位量Δx₂ ，則角度錯位量可估計為θ=tan^-1 [(Δx₁ -Δx₂ )/L]。

以下配合本發明之雙面光學膜片量測裝置詳細說明本發明之雙面光學膜片量測方法：圖六係為本發明根據一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。其中待測雙面光學膜片67係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌，如圖所示，該雙面光學膜片量測裝置60係包括：一第一形貌影像產生單元61，其係用以產生該第一形貌之一第一影像；一第二形貌影像產生單元62，其係設置於該第一形貌影像產生單元61之相對應位置，並用以產生該第二形貌之一第二影像；一重像影像產生單元63，其係用以將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；以及一影像擷取單元64，其係使該重像影像產生單元63在該影像擷取單元64將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像，並擷取該重像影像。

其中該重像影像產生單元63係可為一重像稜鏡，該影像擷取單元64係可為一電荷耦合元件。其中在該重像稜鏡與該影像擷取單元64之間的光路上更設置有一半反射鏡65，並設置一光源66將光投射於該半反射鏡65上，使光通過於該半反射鏡65後，有部份被反射進入該重像稜鏡。

其中該第一形貌影像產生單元61更包括：一第一物鏡611；一第一反射鏡612，其係設置於該第一物鏡611與該重像稜鏡之間的光路上，可將入射光反射；一第二反射鏡613，其係設置於該第一物鏡611與該第一反射鏡612之間的光路上，可將入射光反射；以及一成像透鏡614，其係設置於該第一反射鏡612與該第二反射鏡613之間的光路上，以提供聚焦成像之功能。

其中該第二形貌影像產生單元62更包括：一第二物鏡621；一第一反射鏡622，其係設置於該第二物鏡621與該重像稜鏡之間的光路上，可將入射光反射；一第二反射鏡623，其係設置於該第二物鏡621與該第一反射鏡622之間的光路上，可將入射光反射；以及一成像透鏡624，其係設置於該第一反射鏡622與該第二反射鏡623之間的光路上，以提供聚焦成像之功能。

在本發明中，量測時係將一待測雙面光學膜片67置於該第一物鏡611與該第二物鏡621之間，而且該第一物鏡611與該第二物鏡621係相對於該待測雙面光學膜片67以鏡像方式來設置，例如以圖六中的XYZ-參考座標而言，若將該待測雙面光學膜片67置於XY-平面，則該第一物鏡611與該第二物鏡621係相對於XY-平面以鏡像方式設置，而且，從該待測雙面光學膜片67經過該第一形貌影像產生單元61與該重像影像產生單元63到該影像擷取單元64之間的光路係位於XZ-平面上，從該待測雙面光學膜片67經過該第二形貌影像產生單元62與該重像影像產生單元63到該影像擷取單元64之間的光路也是位於XZ-平面上。

使用本實施例的雙面光學膜片量測裝置60，可以執行本發明上述之雙面光學膜片量測方法40，藉以量測待測雙面光學膜片67的水平錯位量。

圖七係為本發明獲得雙面光學膜片之水平錯位量的影像式分析。圖七A係為該第一形貌影像產生單元61在一待測雙面光學膜片67所擷取之第一形貌的一第一影像，圖七B係為第二形貌影像產生單元62在該待測雙面光學膜片67所擷取之第二形貌的一第二影像，其中該第一影像與該第二影像係為該待測雙面光學膜片67在相同位置但在不同形貌上的影像，圖七C則為該重像影像產生單元63在該影像擷取單元64將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像時，用該影像擷取單元64擷取該重像影像後，對某一截面作影像分析，從影像相對強度的分布得出該待測雙面光學膜片67的水平錯位量Δx。

圖八係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。其中待測雙面光學膜片67係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌(該些形貌未顯示於圖中)，如圖所示，該雙面光學膜片量測裝置80係包括兩個水平錯位量量測單元60a與60b，其都是用以量測該待測雙面光學膜片67在不同位置之水平錯位量，且彼此間相隔一固定距離L(L係與該待測雙面光學膜片67的每一個分束鏡平行)，其中該水平錯位量量測單元60a與60b與圖六所示的雙面光學膜片量測裝置60具有相同的結構、功能與操作方式。

以圖八中的XYZ-參考座標而言，若將該待測雙面光學膜片67置於XY-平面，則在該些水平錯位量量測單元60a與60b中的光路所在的平面係皆與XZ-平面平行。

使用本實施例的雙面光學膜片量測裝置80，可以執行本發明上述之雙面光學膜片量測方法50，藉以量測待測雙面光學膜片67的角度錯位量。

因為莫爾條紋會影響影像分析，所以必須加以監控以避免出現莫爾條紋。圖九係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。其中待測雙面光學膜片67係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌(該些形貌未顯示於圖中)，如圖所示，該雙面光學膜片量測裝置90係包括：四個水平錯位量量測單元60c、60d、60e以及60f，其都是用以量測該待測雙面光學膜片67在不同位置之水平錯位量，且彼此間相隔一固定距離，其中該水平錯位量量測單元60c、60d、60e以及60f與圖六所示的雙面光學膜片量測裝置60具有相同的結構、功能與操作方式；以及一影像擷取單元91，其係用以監控該四個水平錯位量量測單元60c、60d、60e以及60f所圍成的量測範圍內不會出現莫爾條紋，並且該影像擷取單元91係可為一電荷耦合元件。

以圖九中的XYZ-參考座標而言，若將該待測雙面光學膜片67置於XY-平面，則在該些水平錯位量量測單元60c、60d、60e以及60f中的光路所在的平面係皆與XZ-平面平行。

使用本實施例的雙面光學膜片量測裝置90，可以執行本發明上述之雙面光學膜片量測方法50，藉以量測待測雙面光學膜片67的角度錯位量。

惟以上所述者，僅為本發明之實施例，當不能以之限制本發明範圍。即大凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化及修飾，仍將不失本發明之要義所在，亦不脫離本發明之精神和範圍，故都應視為本發明的進一步實施狀況。

10．．．無染料彩色光學膜片

11．．．分色膜片

12．．．雙面光學膜片

121．．．分束鏡

1211．．．第一形貌

1212．．．第二形貌

40．．．雙面光學膜片量測方法

41～45．．．步驟

50．．．雙面光學膜片量測方法

51～56．．．步驟

60．．．雙面光學膜片量測裝置

61．．．第一形貌影像產生單元

611．．．第一物鏡

612．．．第一反射鏡

613．．．第二反射鏡

614．．．成像透鏡

62．．．第二形貌影像產生單元

621．．．第二物鏡

622．．．第一反射鏡

623．．．第二反射鏡

624．．．成像透鏡

63．．．重像影像產生單元

64．．．影像擷取單元

65．．．半反射鏡

66．．．光源

67．．．待測雙面光學膜片

60a、60b、60c、60d、60e、60f．．．水平錯位量量測單元

80．．．雙面光學膜片量測裝置

90．．．雙面光學膜片量測裝置

91．．．影像擷取單元

圖一係為習知技術之無染料彩色光學膜片的結構側面示意圖。

圖二係為習知技術之分束鏡結構側面示意圖。

圖三係為擷取自美國專利US. Pat. No. 6,989,931“Lenticular Optical System”之圖二十三(FIG. 23)。

圖四係為本發明根據一實施例之雙面光學膜片量測方法流程示意圖。

圖五係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測方法流程示意圖。

圖六係為本發明根據一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。

圖七係為本發明獲得雙面光學膜片之水平錯位量的影像式分析。

圖八係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。

圖九係為本發明根據另一實施例之雙面光學膜片量測裝置結構示意圖。

40．．．雙面光學膜片量測方法

41～45．．．步驟

Claims

一種雙面光學膜片量測方法，其係包括下列步驟：提供一具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片，該第一形貌與該第二形貌係形成於該雙面光學膜片的兩個相對面上；對該第一形貌與第二形貌施以暗場照明與亮場混合照明；同時對被照亮的該第一形貌與該第二形貌擷取影像而產生該第一形貌之一第一影像以及與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第二影像；將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；擷取該重像影像；以及從該重像影像中量取該第一影像與該第二影像在對應位置上的水平位移量而得到該雙面光學膜片的水平錯位量。
一種雙面光學膜片量測方法，其係包括下列步驟：提供一由複數個分束鏡所平行排列而成並具有一第一形貌以及一第二形貌之雙面光學膜片，該第一形貌與該第二形貌係形成於該雙面光學膜片的兩個相對面上；對該第一形貌與第二形貌施以暗場照明與亮場混合照明；同時對被照亮的該第一形貌與該第二形貌擷取影像而產生該第一形貌之一第一影像與一第二影像、與該第一形貌之第一影像相對應之第二形貌之一第三影像以及與該第一形貌之第二影像相對應之第二形貌之一第四影像，其中該第一影像與第二影像從第一形貌上獲取影像的位置係相隔一固定距離；將該第一影像與該第三影像重合形成一第一重像影像，並且將該第二影像與該第四影像重合形成一第二重像影像；分別擷取該第一重像影像與該第二重像影像；從該第一重像影像中量取該第一影像與該第三影像在對應位置上的水平位移量而得到該雙面光學膜片的一第一水平錯位量，並且從該第二重像影像中量取該第二影像與該第四影像在對應位置上的水平位移量而得到該雙面光學膜片的一第二水平錯位量；以及從該第一水平錯位量與第二水平錯位量計算出該雙面光學膜片的角度錯位量。
如申請專利範圍第2項所述之雙面光學膜片量測方法，其中該角度錯位量之計算如下：將該第一水平錯位量與第二水平錯位量相減得到一第一結果；將該第一結果除以該第一影像與第二影像所相隔的固定距離得到一第二結果；以及將該第二結果取反正切函數值。
一種雙面光學膜片量測裝置，其中被量測的雙面光學膜片係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌，該第一形貌與該第二形貌係形成於該雙面光學膜片的兩個相對面上，該雙面光學膜片量測裝置係包括：一第一形貌影像產生單元，其照亮該第一形貌而產生該第一形貌之一第一影像；一第二形貌影像產生單元，其係設置於該第一形貌影像產生單元之相對應位置，並照亮該第二形貌而產生該第二形貌之一第二影像；一重像影像產生單元，其係用以將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；以及一影像擷取單元，其係使該重像影像產生單元在該影像擷取單元將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像，並擷取該重像影像。
如申請專利範圍第4項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該影像擷取單元係為一電荷耦合元件。
如申請專利範圍第4項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該重像影像產生單元係為一重像稜鏡。
如申請專利範圍第6項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該第一形貌影像產生單元與第二形貌影像產生單元都更包括：一物鏡；一第一反射鏡，其係設置於該物鏡與該重像稜鏡之間的光路上，可將入射光反射；一第二反射鏡，其係設置於該物鏡與該第一反射鏡之間的光路上，可將入射光反射；一成像透鏡，其係設置於該第一反射鏡與該第二反射鏡之間的光路上，以提供聚焦成像之功能。
如申請專利範圍第7項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中在該重像稜鏡與該影像擷取單元之間的光路上更設置有一半反射鏡，並設置一光源將光投射於該半反射鏡上，使該入射光通過於該半反射鏡後，有部份被反射進入該重像稜鏡。
一種雙面光學膜片量測裝置，其中被量測的雙面光學膜片係包含一第一形貌以及與該第一形貌相對應之一第二形貌，該第一形貌與該第二形貌係形成於該雙面光學膜片的兩個相對面上，該雙面光學膜片量測裝置係包括複數個水平錯位量量測單元，其係用以量測該雙面光學膜片在不同位置之水平錯位量，且彼此間相隔一固定距離，每個水平錯位量量測單元更包括：一第一形貌影像產生單元，其照亮該第一形貌而產生該第一形貌之一第一影像；一第二形貌影像產生單元，其係設置於該第一形貌影像產生單元之相對應位置，並照亮該第二形貌而產生該第二形貌之一第二影像；一重像影像產生單元，其係用以將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像；以及一影像擷取單元，其係使該重像影像產生單元在該影像擷取單元將該第一影像與該第二影像重合形成一重像影像，並擷取該重像影像。
如申請專利範圍第9項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該影像擷取單元係為一電荷耦合元件。
如申請專利範圍第9項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該重像影像產生單元係為一重像稜鏡。
如申請專利範圍第9項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該第一形貌影像產生單元與第二形貌影像產生單元每個都更包括：一物鏡；一第一反射鏡，其係設置於該物鏡與該重像稜鏡之間的光路上，可將入射光反射；一第二反射鏡，其係設置於該物鏡與該第一反射鏡之間的光路上，可將入射光反射；一成像透鏡，其係設置於該第一反射鏡與該第二反射鏡之間的光路上，以提供聚焦成像之功能。
如申請專利範圍第12項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中在該重像稜鏡與該影像擷取單元之間的光路上更設置有一半反射鏡，並設置一光源將光投射於該半反射鏡上，使該入射光通過於該半反射鏡後，有部份被反射進入該重像稜鏡。
如申請專利範圍第9項所述之雙面光學膜片量測裝置，其係包括兩個水平錯位量量測單元。
如申請專利範圍第9項所述之雙面光學膜片量測裝置，其係包括四個水平錯位量量測單元，而且更設置另一影像擷取單元，以監控該四個水平錯位量量測單元所圍成的量測範圍內不會出現莫爾條紋。
如申請專利範圍第15項所述之雙面光學膜片量測裝置，其中該影像擷取單元係為一電荷耦合元件。