JP4513653B2 - マイクロレンズアレイシートの製造方法 - Google Patents
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Description
マイクロレンズアレイシートは微細加工技術によって、平面基材上に凹凸形状の微小単位レンズを配列形成したものであり、これを用いたスクリーンは、ディスプレイなどの画像表示装置などへ応用され、今後の普及が期待されている。
しかしながら、特許文献1に記載された式
Sr≧2t×tanθ+R
(ここで、Sr:マイクロレンズ径、t:透明基材の厚さ、θ:最大入射角:sin−1(1/n)、n:透明基材の屈折率、R:光射出部の直径)
に従ってマイクロレンズアレイシートを設計すると、上式はレンズの焦点距離が考慮されていないため、特に球面収差による入射光のケラレ(遮光層により適正な光路で入射した入射光の一部が遮断され、透過率(出射光量/入射光量)が低下する現象)が発生する場合がある。
そこで、相反するケラレの抑制と高コントラスト化とを両立するマイクロレンズアレイシート及びその製造方法が望まれている。
1)光吸収性を有する遮光性基材(24)と、この遮光性基材(24)の一面側に形成された、複数のマイクロレンズ(26)を有するマイクロレンズアレイ(27)と、を有するマイクロレンズアレイシート(35)の製造方法において、前記マイクロレンズ(26)の焦点(FP)が、前記遮光性基材(24)の前記マイクロレンズアレイ(27)と反対側の面近傍に位置するシート(28)を形成するシート形成工程と、前記シート(28)に、前記マイクロレンズアレイ(27)側から前記遮光性基材(24)面の方向に対して垂直なレーザ光(32)を平行または略平行な軌跡でスキャンして入光させて、前記レーザ光(32)を前記焦点(FP)に集光させ、前記マイクロレンズアレイ(27)側の開口径が前記マイクロレンズアレイ(27)と反対側の開口径よりも大きい略円錐台形状になるように、前記遮光性基材(24)の前記レーザ光(32)の光路に沿った部分を溶融,昇華,又はアブレーションにて除去し、前記遮光性基材(24)に複数の孔(33)を形成する孔形成工程と、を有することを特徴とするマイクロレンズアレイシート(35)の製造方法。
2)透明基材(4)と、この透明基材(4)の一面側に形成された、複数のマイクロレンズ(6)を有するマイクロレンズアレイ(7)と、前記透明基材(4)の他面側に形成された遮光層(10)と、を有するマイクロレンズアレイシート(15)の製造方法において、前記マイクロレンズ(6)の焦点(FP)が、前記遮光層(10)の前記透明基材(4)と反対側の面近傍に位置するシート(11)を形成するシート形成工程と、前記シート(11)に、前記マイクロレンズアレイ(7)側から前記透明基材(4)面の方向に対して垂直なレーザ光(12)を平行または略平行な軌跡でスキャンして入光させ、前記レーザ光(12)を前記焦点(FP)に集光させて、前記マイクロレンズアレイ(7)側の開口径が前記マイクロレンズアレイ(7)と反対側の開口径よりも大きい略円錐台形状になるように、前記遮光層(10)の前記レーザ光(12)の光路に沿った部分を溶融,昇華,又はアブレーションにて除去し、前記遮光層(10)に複数の孔(13)を形成する孔形成工程と、を有することを特徴とするマイクロレンズアレイシート(15)の製造方法。
また、本発明によれば、マイクロレンズアレイシートの遮光層に、各マイクロレンズに対応して、マイクロレンズアレイ側の開口径がマイクロレンズアレイと反対側の開口径よりも大きい略円錐台形状を有する複数の孔を形成することにより、高光透過率で高コントラストの映像が得られるという効果を奏する。
まず、本発明におけるマイクロレンズアレイシートの製造方法における第1実施例について、図1〜図10を用いて説明する。
図1〜図4は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第1実施例の第1工程を説明するための模式的断面図または上面図である。
図5は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第1実施例の第2工程を説明するための模式的断面図である。
図6は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第1実施例の第3工程を説明するための模式的断面図である。
図7は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第1実施例の第3工程のレーザ加工方法を説明するための上面図である。
図8は、レーザ加工条件に対する遮光層の孔形状を表す模式的断面図である。
図9は、レーザ加工条件に対する熱エネルギー源の分布状態を表す模式的断面図である。
図10は、遮光層の厚さに対する熱エネルギー源の分布状態及び遮光層の孔形状を表す模式的断面図である。
透明基材へのマイクロレンズアレイ形成についてを第1工程とし、さらに透明基材への遮光層形成についてを第2工程とし、そして、セルフアライメント法による遮光層への孔形成についてを第3工程として、以下に説明する。
まず、図1に示すように、半径r1が50μmである凹形状の略半球部1を、その配列ピッチL1を100μmとして最密充填となるように配列して形成した金型2を準備し、この金型2の略半球部1に、粘度が約180mPa・sであり、硬化後に90%以上の良好な光線透過率が得られる紫外線硬化性樹脂3を充填する。
この金型2は、後述するマイクロレンズアレイ7を形成するための型である。
充填する紫外線硬化性樹脂3の量は、紫外線硬化性樹脂3の液面Aが、金型2の略半球部1の開口面Bよりも高さt1だけ高くなるように調整する。詳細は後述するが、透明層5の厚さt3の調整は、この紫外線硬化性樹脂3の高さt1と、紫外線照射時の圧力との調整によって行う。
本第1実施例では、この紫外線硬化性樹脂3として、株式会社スリーボンド製TB3087Bを使用した。
なお、図1に示す金型2は、その断面形状をわかりやすくするために、4つの略半球部1を有する金型2として表しているが、実際には、より多くの略半球部1を有している。また、以下に示す図2,図3についても、同様である。
第1実施例では、透明層5の厚さt3が5μmになるように、上述した紫外線硬化性樹脂3の高さt1と、紫外線照射時の圧力とを調整した。
紫外線硬化性樹脂3の硬化後の屈折率n1は1.51である。
なお、以下に示す工程については、底面が略円形となる略半球形状のマイクロレンズ6がハニカム状に配列されてなるマイクロレンズアレイ基材8を用いて説明するが、この底面が略正六角形となる略半球形状のマイクロレンズ6aが最密充填に配列されてなるマイクロレンズアレイ基材8aを用いても同様に製造できる。他にも、マイクロレンズが隙間なく配列されたものであれば、底面が略三角形や略四角形等の形状を有するものであってもよい。
図5に示すように、マイクロレンズアレイ基材8の、マイクロレンズアレイ7が形成されている側の面に対して反対側の面に、接着層9となる前記の紫外線硬化性樹脂3を塗布する。その際、塗布された紫外線硬化性樹脂3の厚みがほとんど無視できる程度に塗布条件を設定した。その後、ラミネータを用いてマイクロレンズアレイ基材8と、厚さt4が50μmであり光吸収性を有する遮光層10(例えば、光吸収材カーボンブラックを高い比率で含有させたPETフィルム)とを、接着層9を介して貼り合わせる。そして、マイクロレンズアレイ7側から非平行光の紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂3を硬化させてマイクロレンズアレイ基材8と遮光層10とを接着層9を介して接着することにより、マイクロレンズアレイ遮光層基材11を作製する。このマイクロレンズアレイ遮光層基材11の総厚t5は約150μmである。
なお、この第1実施例で製造したマイクロレンズアレイシート15を、例えば、背面投影型のプロジェクション式テレビジョン等のスクリーンとして用いる場合は、映像となる光が、マイクロレンズアレイシート15のマイクロレンズアレイ7側から入射し、遮光層10の、マイクロレンズアレイ7に対して反対側の面から出射する。そこで、この反対側の面を、光出射面14と呼ぶこととする。
また、第1実施例では、まず、透明基材4の一面側にマイクロレンズアレイ7を形成した後、透明基材4の他面側に遮光層10を形成したが、この形成順序を逆にして、まず、透明基材4の一面側に遮光層10を形成した後、透明基材4の他面側にマイクロレンズアレイ7を形成してもよい。
図6に示すように、CO2(炭酸ガス)レーザ(平均出力30W)を用いてマイクロレンズアレイ7側から、遮光層10の光出射面14に対して直交するようにレーザ光12を照射する。
レーザ光12を照射する際、レーザのパワーが強すぎるとマイクロレンズ6が溶融、昇華もしくはアブレーションにより破壊されてしまうため、マイクロレンズ6が損傷を受けずに遮光層10に微小なセルフアライメント孔13が形成されるよう予めレーザスポット直径の最適条件を見出しておく。そして、この最適条件を見出した上で、レーザ光12を、マイクロレンズアレイ7,透明層5,及び透明基材4を通過させて遮光層10に照射して、遮光層10の一部を溶融、昇華もしくはアブレーションにて除去し、複数のセルフアライメント孔13を形成する。従って、マイクロレンズ6の光軸と、対応するセルフアライメント孔13の中心線とは、ほぼ一致する。
上述した方法により、第1実施例におけるマイクロレンズアレイシート15を得る。
(a):スキャンピッチ:La=50μm
(b):スキャンピッチ:Lb=40μm
(c):スキャンピッチ:Lc=20μm
(d):スキャンピッチ:Ld=10μm
なお、各レーザ加工条件とも、スキャンスピード=10m/s、レーザスポット16の半径r2(r2≧50μm)を一定とした。レーザスポット16の直径2×r2(2×r2≧100μm)は、レーザスキャンピッチL(50μm以下)に対し、十分大きな直径であるため、マイクロレンズアレイ7面に対するレーザ照射強度分布はほぼ均一になる。
また、マイクロレンズ6の半径r1は、いずれのレーザ加工条件においても、50μmである。
図8より、レーザ加工条件(a)及び(b)によって形成されたセルフアライメント孔13a,13bの断面形状は、マイクロレンズアレイ7側の開口径がマイクロレンズアレイ7と反対側の開口径よりも小さい円錐台形状である。なお、この円錐台形状を正円錐台形状と呼ぶ場合がある。
また、レーザ加工条件(c)によって形成されたセルフアライメント孔13cの断面形状は円柱形状であり、レーザ加工条件(d)によって形成されたセルフアライメント孔13dの断面形状は、マイクロレンズアレイ7側の開口径がマイクロレンズアレイ7と反対側の開口径よりも大きい円錐台形状である。なお、この円錐台形状を逆円錐台形状と呼ぶ場合がある。
以上のように、レーザ加工条件に応じて、遮光層10のセルフアライメント孔は、異なる断面形状を示すことが判明した。
なお、上記のレーザ加工条件(a)〜(d)と、図8及び図9中の(a)〜(d)とは対応している。
また、発明者らは、回転楕円体からなる半球面状のマイクロレンズを使用した場合には、略楕円円錐台形状のセルフアライメント孔が形成されることを確認している。即ち、マイクロレンズの集光効果を有する部分の形状に対応したセルフアライメント孔を形成することができる。
なお、第1実施例では、レーザ加工条件(d)、即ち、スキャンピッチLdが10μmの場合に、図8(d)に示すような逆円錐台形状のセルフアライメント孔13dを得たが、スキャンピッチLdはこれに限定されるものではなく、5≦Ld≦15μmの範囲であれば、同様の逆円錐台形状が得られる。
即ち、表2から、総合的な評価の結果、高コントラストな画像が得られレーザ加工性が良好なマイクロレンズアレイシート15を得るためには、遮光層10の厚さt4を、1〜75μmの範囲、より好ましくは2〜50μmの範囲にすればよいことがわかる。
また、発明者らの鋭意検討の結果、上述の遮光層10の最適厚さと、マイクロレンズ6の半径r1とが比例関係にあることを見出した。即ち、第1実施例のマイクロレンズ6の半径r1は50μmであるから、“1〜75μmの範囲”は“1〜1.5×r1μmの範囲”と、また、“2〜50μmの範囲”は“2〜r1μmの範囲”と置き換えて表すことができる。
図10(a)に示すように、遮光層10の厚さt4aが薄い場合、厚い場合に対して少ない熱エネルギーでレーザ加工できるため、遮光層10の光出射面14における開口径は小さくなり、コントラストは向上する方向であるが、遮光層10の遮光性が低下するため、映像全体としてコントラストは悪化する。
一方、図10(b)に示すように、遮光層10の厚さt4bが厚い場合、薄い場合に対してレーザ加工性が悪化するため、セルフアライメント孔13の形状がばらつき、その結果、光透過率にばらつきが生じる。
以上の理由により、遮光層10の厚さt4は、上述の範囲が好適である。
次に、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第2実施例について、図11〜図16を用いて説明する。
図11〜図13は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第2実施例の第1工程を説明するための模式的断面図である。
図14は、本発明のマイクロレンズアレイシートの製造方法における第2実施例の第2工程を説明するための模式的断面図である。
図15は、レーザ加工条件による遮光性基材の孔形状を表す模式的断面図である。
図16は、マイクロレンズアレイシートに対する迷光及び外光の関係を表す模式的断面図である。
遮光性基材へのマイクロレンズアレイ形成についてを第1工程とし、セルフアライメント法による遮光性基材への孔形成についてを第2工程として、以下に説明する。
まず、図11に示すように、半径r21が25μmである凹形状の略半球部21を、その配列ピッチL21を50μmとして最密充填となるように配列して形成したガラス型22を準備し、このガラス型22の略半球部21に、粘度が約180mPa・sであり硬化後に90%以上の良好な光線透過率が得られる紫外線硬化性樹脂23を充填する。
このガラス型22は、後述するマイクロレンズアレイ27を形成するための型である。なお、型の材料は、紫外線が透過する材料(例えば、プラスチックなど)であればよく、本第2実施例に限定されるものではない。
また、ガラス型22に凹形状の略半球部21を形成する方法として、マイクロブラスト法やウェットエッチング法などがある。
充填する紫外線硬化性樹脂23の量は、紫外線硬化性樹脂23の液面Cが、ガラス型22の略半球部21の開口面Dよりも高さt21だけ高くなるように調整する。詳細は後述するが、透明層25の厚さt23の調整は、この紫外線硬化性樹脂23の高さt21と、紫外線照射時の圧力との調整によって行う。
本第2実施例では、この紫外線硬化性樹脂23として、株式会社スリーボンド製TB3087Bを使用した。
なお、図11に示すガラス型22は、その断面形状をわかりやすくするために、4つの略半球部21を有するガラス型22として表しているが、実際には、より多くの略半球部21を有している。また、以下に示す図12,図13についても、同様である。
第2実施例では、透明層25の厚さt23が5μmになるように、上述した紫外線硬化性樹脂23の高さt21と、紫外線照射時の圧力とを調整した。
紫外線硬化性樹脂23の硬化後の屈折率n1は1.51である。
また、このマイクロレンズアレイ基材28の総厚t24は約75μmである。
なお、後述する第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35を、例えば、背面投影型のプロジェクション式テレビジョン等のスクリーンとして用いる場合は、映像となる光が、マイクロレンズアレイシート35のマイクロレンズアレイ27側から入射し、遮光性基材24の、マイクロレンズアレイ27に対して反対側の面から出射する。そこで、この遮光性基材24の、マイクロレンズアレイ27に対して反対側の面を、光出射面34と呼ぶこととする。
なお、以下に示す工程については、底面が略円形となる略半球形状のマイクロレンズ26が最密充填配列されてなるマイクロレンズアレイ基材28を用いて説明するが、この底面が略正六角形となる略半球形状のマイクロレンズ6aがハニカム状に配列されてなるマイクロレンズアレイ基材8aを用いても、同様に製造することが可能である。
図14に示すように、CO2(炭酸ガス)レーザ(平均出力30W)を用いてマイクロレンズアレイ27側から、遮光性基材24の光出射面34に対して直交するようにレーザ光32を照射する。
レーザ光32を照射する際、レーザのパワーが強すぎるとマイクロレンズ26が溶融、昇華もしくはアブレーションにより破壊されてしまうため、マイクロレンズ26が損傷を受けずに遮光性基材24に微小なセルフアライメント孔33が形成されるよう予めレーザスポット直径の最適条件を見出しておく。そして、この最適条件を見出した上で、レーザ光32を、マイクロレンズアレイ27及び透明層25を通過させて遮光性基材24に照射して、遮光性基材24の一部を溶融、昇華もしくはアブレーションにて除去し、複数のセルフアライメント孔33を形成する。従って、マイクロレンズ26の光軸と、対応するセルフアライメント孔33の中心線とは、ほぼ一致する。
上述した方法により、第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35を得る。
(a):スキャンピッチ:Le=25μm
(b):スキャンピッチ:Lf=20μm
(c):スキャンピッチ:Lg=20μm
(d):スキャンピッチ:Lh=5μm
なお、図7に示すように、各レーザ加工条件とも、スキャンスピード=20m/s、レーザスポット36の半径r22(r22≧25μm)を一定とした。レーザスポット36の直径2×r22(2×r22≧50μm)は、レーザスキャンピッチL(25μm以下)に対し、十分大きな直径であるため、マイクロレンズアレイ27面に対するレーザ照射強度分布はほぼ均一になる。
また、マイクロレンズ26の半径r21は、いずれのレーザ加工条件においても、25μmである。
図15より、レーザ加工条件(a)及び(b)によって形成されたセルフアライメント孔33a,33bの断面形状は、マイクロレンズアレイ27側の開口径がマイクロレンズアレイ27と反対側の開口径よりも小さい円錐台形状である。なお、この円錐台形状を正円錐台形状と呼ぶ場合がある。
また、レーザ加工条件(c)によって形成されたセルフアライメント孔33cの断面形状は円柱形状であり、レーザ加工条件(d)によって形成されたセルフアライメント孔33dの断面形状は、マイクロレンズアレイ27側の開口径がマイクロレンズアレイ27と反対側の開口径よりも大きい円錐台形状である。なお、この円錐台形状を逆円錐台形状と呼ぶ場合がある。
以上のように、レーザ加工条件に応じて、遮光性基材24のセルフアライメント孔は、異なる断面形状を示すことが判明した。
なお、上記のレーザ加工条件(a)〜(d)と、図15中の(a)〜(d)とは対応している。
また、発明者らは、回転楕円体からなる半球面状のマイクロレンズを使用した場合には、略楕円円錐台形状のセルフアライメント孔が形成されることを確認している。即ち、マイクロレンズの集光効果を有する部分の形状に対応したセルフアライメント孔を形成することができる。
なお、第2実施例では、レーザ加工条件(d)、即ち、スキャンピッチLhが5μmの場合に、図15(d)に示すような逆円錐台形状のセルフアライメント孔33dを得たが、スキャンピッチLhはこれに限定されるものではなく、2.5≦Ld≦7.5μmの範囲であれば、同様の逆円錐台形状が得られる。
また、遮光性基材は、例えば光吸収性を有するカーボンブラック、チタンブラック等の顔料、あるいは黒色の染料等を樹脂組成物に分散あるいは溶解させたものが一般的であるが、使用レーザ光波長と可視光領域に対して遮光性及び光吸収性を有するものであることが望ましい。
f=n1R/(n1−n0)=1.5R/0.5=3×R(ここで、n0:空気の屈折率:1.0)
よって、遮光層の光出射面付近または遮光性基材の光出射面付近がレンズの焦点とするために、マイクロレンズアレイシートの総厚もこのレンズの焦点距離と同様に略3×Rとすればよい。
図17は、マイクロレンズアレイシートの第1実施例及び第2実施例における第1の変形例を説明するための模式的断面図である。
図18は、マイクロレンズアレイシートの第1実施例及び第2実施例における第2の変形例を説明するための模式的断面図である。
図17(a)に示すように、第1実施例におけるマイクロレンズアレイシート15の複数のセルフアライメント孔13に、透明樹脂インク36を充填させ、さらに、この透明樹脂インク36を介して、マイクロレンズアレイシート15の遮光層10側の面と、厚さが例えば2mmの透明な補強材37とを貼り合わせる。その後、透明樹脂インク36を硬化させて、マイクロレンズアレイシート15と補強材37とを透明樹脂インク36を介して接着させることにより、補強材37を有するマイクロレンズアレイシート38を得る。
このマイクロレンズアレイシート38は、その厚さが厚い補強材37を有するため、第1実施例におけるマイクロレンズアレイシート15よりも、さらに機械的強度が向上する。
また、図17(b)に示すように、第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35の複数のセルフアライメント孔33に、透明樹脂インク36を充填させ、さらに、この透明樹脂インク36を介して、マイクロレンズアレイシート35の遮光性基材24側の面と、厚さが例えば2mmの透明な補強材37とを貼り合わせる。その後、透明樹脂インク36を硬化させて、マイクロレンズアレイシート35と補強材37とを透明樹脂インク36を介して接着させることにより、補強材37を有するマイクロレンズアレイシート39を得る。
このマイクロレンズアレイシート39は、その厚さが厚い補強材37を有するため、第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35よりも、さらに機械的強度が向上する。
図18(a)に示すように、第1実施例におけるマイクロレンズアレイシート15の遮光層10側の面と、厚さが例えば2mmの透明な補強材37とを、接着剤として作用する透明な両面接着シート40を介して接着させることにより、補強材37を有するマイクロレンズアレイシート41を得る。
このマイクロレンズアレイシート41は、その厚さが厚い補強材37を有するため、第1実施例におけるマイクロレンズアレイシート15よりも、さらに機械的強度が向上する。
また、図18(b)に示すように、第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35の遮光性基材24側の面と、厚さが例えば2mmの透明な補強材37とを、接着剤として作用する透明な両面接着シート40を介して接着させることにより、補強材37を有するマイクロレンズアレイシート42を得る。
このマイクロレンズアレイシート42は、その厚さが厚い補強材37を有するため、第2実施例におけるマイクロレンズアレイシート35よりも、さらに機械的強度が向上する。
また、補強材37に、拡散材を含有させることにより、スクリーンとしての視野角をさらに広くすることができる。
透明基材37の材料としては、PMMA(ポリメチルメタクリレート)や、このPMMAとスチレンとを6:4の割合で共重合させたものなどを用いることができる。
また、マイクロレンズの配列についても、規則正しい配列であっても、不規則な配列であっても、第1実施例及び第2実施例と同様の効果が得られる。
r1,r2,r21,r22 半径 、 L,L1,L21,La,Lb,Lc,Ld,Le,Lf,Lg,Lh ピッチ 、 A,B,C,D 面 、 t1,t21 高さ 、 t2,t3,t4,t5,t21,t22,t23,t24 厚さ 、 FP 焦点 、 x 迷光 、 y 外光
Claims (2)
- 光吸収性を有する遮光性基材と、
この遮光性基材の一面側に形成された、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレイと、
を有するマイクロレンズアレイシートの製造方法において、
前記マイクロレンズの焦点が、前記遮光性基材の前記マイクロレンズアレイと反対側の面近傍に位置するシートを形成するシート形成工程と、
前記シートに、前記マイクロレンズアレイ側から前記遮光性基材面の方向に対して垂直なレーザ光を平行または略平行な軌跡でスキャンして入光させて、前記レーザ光を前記焦点に集光させ、前記マイクロレンズアレイ側の開口径が前記マイクロレンズアレイと反対側の開口径よりも大きい略円錐台形状になるように、前記遮光性基材の前記レーザ光の光路に沿った部分を溶融,昇華,又はアブレーションにて除去し、前記遮光性基材に複数の孔を形成する孔形成工程と、
を有することを特徴とするマイクロレンズアレイシートの製造方法。 - 透明基材と、
この透明基材の一面側に形成された、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズアレイと、
前記透明基材の他面側に形成された遮光層と、
を有するマイクロレンズアレイシートの製造方法において、
前記マイクロレンズの焦点が、前記遮光層の前記透明基材と反対側の面近傍に位置するシートを形成するシート形成工程と、
前記シートに、前記マイクロレンズアレイ側から前記透明基材面の方向に対して垂直なレーザ光を平行または略平行な軌跡でスキャンして入光させ、前記レーザ光を前記焦点に集光させて、前記マイクロレンズアレイ側の開口径が前記マイクロレンズアレイと反対側の開口径よりも大きい略円錐台形状になるように、前記遮光層の前記レーザ光の光路に沿った部分を溶融,昇華,又はアブレーションにて除去し、前記遮光層に複数の孔を形成する孔形成工程と、
を有することを特徴とするマイクロレンズアレイシートの製造方法。
Priority Applications (3)
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