JP4964323B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
第1のテーブルが、該第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するように構成されており、
第2のテーブルが、第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、該第2のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するようには構成されていない位置決め装置が提供される。
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの付与されたビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
基板テーブルに接続され、基板テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムと、
基板を保持するようには構成されておらず、パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルと、
第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、センサ・テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
パターンの付与された放射ビームを、テーブルに保持された基板に投影する段階と、
テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる段階と、
センサをパターンの付与された放射ビームの経路内へ移動させる段階およびビームの特性を測定する段階とを含み、
センサを移動させる段階および特性を測定する段階が、少なくとも部分的に、テーブルを移動させる段階と同時に行われるデバイス製造方法が提供される。
放射ビームPB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構成された支持構造体(例えばマスク・テーブル)MTであって、あるパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体MTと、
基板(例えばレジスト塗布ウェハ)Wを保持するように構成された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTであって、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームPBに与えられたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ系)PLとを有している。
(1)ステップ・モードでは、放射ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つ(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光場(露光フィールド)の最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを同期して走査する(すなわち、ただ1回の動的露光)。支持構造体MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決定できる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながら支持構造体MTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー配列などの、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
WT 基板テーブル
IN 入口
OUT 出口
10 貯水部
12 液体閉じ込め構造体
14 出口
15 入口
16 ガス・シール
AS 位置調整用センサ
CS 制御装置
ES 露光ステーション
IH 液体閉じ込め構造体
LS 水準センサ
MS 測定ステーション
SM スキャタロメータ
W1、W2 基板
WT1、WT2 基板テーブル
20 第3のステージ
21 第3のテーブル
22、23 位置決めシステム
24 センサ・ユニット
Claims (7)
- リソグラフィ装置に用いるための位置決め装置であって、
基板テーブルである第1のテーブルであって、該第1のテーブルを投影システムの下方に移動させるための第1の位置決めシステムに接続されている第1のテーブルと、
基板を保持するようには構成されていない第2のテーブルであって、第1のテーブルが投影システムの下方から移動されるときに第2のテーブルを投影システムの下方に移動させるための第2の位置決めシステムに接続されている第2のテーブルと、
別の基板テーブルである第3のテーブルと、
第1及び第3のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を露光することのできる露光ステーションと、
第1及び第3のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を測定することのできる測定ステーションと、
投影システムと基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記空間に液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体であって、該液体閉じ込め構造体の内側周縁と前記投影システムとの間隙に液体の緩衝体を形成する液体閉じ込め構造体と、を備え、
前記第2のテーブルは、前記第1のテーブルが取り除かれる際に前記液体が装置の他の部分に漏出することを防ぐように前記液体閉じ込め構造体の底部に閉じ込め面を形成し、
前記第2の位置決めシステムは、前記第1のテーブルが投影システム下方の位置から取り除かれるのと同期して前記第2のテーブルを前記投影システム下方の位置に移動させ、
第1の位置決めシステムは、測定ステーションと露光ステーションとの間で第1及び第3のテーブルを交換するように構成され、
前記第1の位置決めシステムは、2つのH型駆動装置をさらに含み、テーブル交換において、前記第1及び第3のテーブルは露光ステーションと測定ステーションとの境界に位置決めされ前記第1の位置決めシステムから切り離され、それぞれのH型駆動装置は他方のH型駆動装置によって解放された前記第1及び第3のテーブルの一方を取り上げ、
前記第1及び第3のテーブルは前記H型駆動装置のテーブル取り上げのための部材の一方の側にあり、前記第2のテーブルは前記部材の他方の側にあり、前記第2のテーブルは、露光処理中は露光ステーションの外側に位置し、露光処理の終わりに露光ステーションに進入することを特徴とする位置決め装置。 - 第2のテーブルは、投影システムからのパターン付き放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを含むセンサ・テーブルを備え、センサ・ユニットは、エネルギー・センサを含むことを特徴とする請求項1に記載の位置決め装置。
- センサ・ユニットは、偏光センサ、透過イメージ・センサ、またはシヤリング干渉計センサをさらに含むことを特徴とする請求項2に記載の位置決め装置。
- 第2のテーブルが形成する前記閉じ込め面は、第1のテーブルが投影システムの下方から取り除かれ第2のテーブルが投影システムの下方に位置決めされるときに、前記空間の境界の少なくとも一部を定めることにより前記液体の漏出を防ぐことを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の位置決め装置。
- 第1及び第2の位置決めシステムに接続されている制御装置をさらに含み、該制御装置が、第1のテーブルを投影システム下方の位置から取り除くのと同期して第2のテーブルを前記位置に位置決めするようそれぞれの位置決めシステムを制御することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の位置決め装置。
- 第2の位置決めシステムは長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールを含み、該短ストローク・モジュールが、該長ストローク・モジュールより移動範囲は小さいが高精度であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の位置決め装置。
- リソグラフィ装置に用いるための位置決め装置であって、
基板テーブルである第1のテーブルであって、該第1のテーブルを投影システムの下方に移動させるための第1の位置決めシステムに接続されている第1のテーブルと、
基板を保持するようには構成されていない第2のテーブルであって、第1のテーブルが投影システムの下方から移動されるときに第2のテーブルを投影システムの下方に移動させるための第2の位置決めシステムに接続されている第2のテーブルと、
別の基板テーブルである第3のテーブルと、
第1及び第3のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を露光することのできる露光ステーションと、
第1及び第3のテーブルのいずれか一方によって運ばれた基板を測定することのできる第1及び第2の測定ステーションと、
投影システムと基板との間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記空間に液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体であって、該液体閉じ込め構造体の内側周縁と前記投影システムとの間隙に液体の緩衝体を形成する液体閉じ込め構造体と、を備え、
前記第2のテーブルは、前記第1のテーブルが取り除かれる際に前記液体が装置の他の部分に漏出することを防ぐように前記液体閉じ込め構造体の底部に閉じ込め面を形成し、
前記第2の位置決めシステムは、前記第1のテーブルが投影システム下方の位置から取り除かれるのと同期して前記第2のテーブルを前記投影システム下方の位置に移動させ、
第1の位置決めシステムが、露光ステーションと測定ステーションのそれぞれ一方との間で第1及び第3のテーブルを交換するように構成され、
前記第1の位置決めシステムは、2つのH型駆動装置をさらに含み、テーブル交換において、前記第1及び第3のテーブルは露光ステーションと測定ステーションの一方との境界に位置決めされ前記第1の位置決めシステムから切り離され、それぞれのH型駆動装置は他方のH型駆動装置によって解放された前記第1及び第3のテーブルの一方を取り上げ、
前記第1及び第3のテーブルは前記H型駆動装置のテーブル取り上げのための部材の一方の側にあり、前記第2のテーブルは前記部材の他方の側にあり、前記第2のテーブルは、露光処理中は露光ステーションの外側に位置し、露光処理の終わりに露光ステーションに進入することを特徴とする位置決め装置。
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