JP5987042B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
第1のテーブルが、該第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するように構成されており、
第2のテーブルが、第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、該第2のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムに接続されて、基板を保持するようには構成されていない位置決め装置が提供される。
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターンの付与されたビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
基板テーブルに接続され、基板テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内及び経路外へ移動させるように構成された第1の位置決めシステムと、
基板を保持するようには構成されておらず、パターンの付与された放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサを有するセンサ・テーブルと、
第1のテーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる際に、センサ・テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路内に位置決めするように構成された第2の位置決めシステムとを有するリソグラフィ装置が提供される。
パターンの付与された放射ビームを、テーブルに保持された基板に投影する段階と、
テーブルをパターンの付与された放射ビームの経路外へ移動させる段階と、
センサをパターンの付与された放射ビームの経路内へ移動させる段階およびビームの特性を測定する段階とを含み、
センサを移動させる段階および特性を測定する段階が、少なくとも部分的に、テーブルを移動させる段階と同時に行われるデバイス製造方法が提供される。
放射ビームPB(例えば、UV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明系(照明器)ILと、
パターン形成装置(例えばマスク)MAを支持するように構成された支持構造体(例えばマスク・テーブル)MTであって、あるパラメータに従ってパターン形成装置を正確に位置決めするように構成された第1の位置決め装置PMに接続された支持構造体MTと、
基板(例えばレジスト塗布ウェハ)Wを保持するように構成された基板テーブル(例えばウェハ・テーブル)WTであって、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2の位置決め装置PWに接続された基板テーブルWTと、
パターン形成装置MAによって放射ビームPBに与えられたパターンを、基板Wの(例えば1つ又は複数のダイを含む)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ系)PLとを有している。
(1)ステップ・モードでは、放射ビームに与えられたパターン全体を1回でターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを本質的に静止した状態に保つ(すなわち、ただ1回の静止露光)。次いで、異なるターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光場(露光フィールド)の最大サイズによって1回の静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、支持構造体MT及び基板テーブルWTを同期して走査する(すなわち、ただ1回の動的露光)。支持構造体MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの拡大(縮小)率、及び像の反転特性によって決定できる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって1回の動的露光におけるターゲット部分の(非走査方向の)幅が制限され、走査移動の長さによってターゲット部分の(走査方向の)高さが決定される。
(3)他のモードでは、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する間、プログラム可能なパターン形成装置を保持しながら支持構造体MTを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルWTを移動又は走査させる。このモードでは、一般にパルス式の放射源が使用され、基板テーブルWTが移動するたびに、又は走査中の連続する放射パルスの合間に、プログラム可能なパターン形成装置が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及した種類のプログラム可能ミラー配列などの、プログラム可能なパターン形成装置を利用するマスクレス・リソグラフィに簡単に適用できる。
WT 基板テーブル
IN 入口
OUT 出口
10 貯水部
12 液体閉じ込め構造体
14 出口
15 入口
16 ガス・シール
AS 位置調整用センサ
CS 制御装置
ES 露光ステーション
IH 液体閉じ込め構造体
LS 水準センサ
MS 測定ステーション
SM スキャタロメータ
W1、W2 基板
WT1、WT2 基板テーブル
20 第3のステージ
21 第3のテーブル
22、23 位置決めシステム
24 センサ・ユニット
Claims (11)
- 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記第2のテーブルの位置決めを前記測定ステーションと反対側にて制御することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御装置は、前記経路内から該経路外の位置への前記第2のテーブルの位置決めを前記経路内への前記第1のテーブルの移動と同期して制御することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記液体供給システムは、前記空間に前記液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体を備え、前記液体閉じ込め構造体の内側に前記液体のリザーバが形成され、
前記液体閉じ込め構造体は、前記投影システムの光軸の方向に移動可能であることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2のテーブルは、前記第1のテーブルが前記投影システム下方で取り除かれるときに前記液体がリソグラフィ装置の他の部分に漏出することを防ぐように前記液体閉じ込め構造体の底部に閉じ込め面を形成するよう構成されていることを特徴とする請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記液体供給システムは、前記空間に前記液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体を備え、前記液体閉じ込め構造体の内側に前記液体のリザーバが形成され、
前記空間に前記液体を閉じ込めるように、前記液体閉じ込め構造体の底部と、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルの表面と、の間に非接触シールが形成されていることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記液体閉じ込め構造体は、内側周縁を有しており、その上端が前記投影システムの形に厳密に一致することを特徴とする請求項3から5のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記液体供給システムは、前記空間に前記液体を閉じ込めるよう前記空間を包囲する液体閉じ込め構造体を備え、前記液体閉じ込め構造体の内側に前記液体のリザーバが形成され、
前記液体閉じ込め構造体が前記空間を包囲するように前記液体閉じ込め構造体の底部が前記投影システムの最終要素の下に位置することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記センサ・ユニットは、エネルギー・センサ、偏光センサ、透過イメージ・センサ、またはシヤリング干渉計センサをさらに備えることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記センサ・ユニットによる所望される測定に基板交換より長い時間がかかる場合に、当該測定は複数の部分に分割され、複数の基板交換段階の間に実施されることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 放射ビームを露光ステーションで基板に投影する投影システムと、
基板を支持する第1のテーブルと、
基板を支持するようには構成されていない第2のテーブルであって、前記投影システムからの放射ビームの特性を検知するように構成されたセンサ・ユニットを備える第2のテーブルと、
前記投影システムと、前記基板、前記第1のテーブル、及び/または前記第2のテーブルと、の間の空間に液体を供給する液体供給システムと、
前記露光ステーションと異なる測定ステーションにあるセンサシステムであって、前記第1のテーブル上の前記基板の高さを測定し、及び/または、前記第1のテーブル上の前記基板のアライメントマーカの位置を測定するセンサシステムと、
前記放射ビームの経路内への該経路外からの前記第2のテーブルの位置決めを前記経路外への前記第1のテーブルの移動と同期して制御する制御装置と、を備え、
前記第2のテーブルには清浄装置が取り付けられていることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記清浄装置は、前記投影システムを清浄するよう構成されていることを特徴とする請求項10に記載のリソグラフィ装置。
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