KR100562190B1 - 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법,디바이스제조방법, 및 그 제조된 디바이스 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (17)
- 방사선의 투영빔을 공급하는 방사선시스템; 원하는 패턴에 따라 투영빔을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체; 기판을 잡아주는 기판테이블; 및 기판의 타겟부상에 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템을 포함하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법에 있어서,테스트패턴에 따라 상기 패터닝수단으로 투영빔을 패터닝하는 단계;상기 방사선시스템 및 상기 투영시스템을 포함하여 이루어지는 시스템의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 시스템의 복수의 상이한 세팅에 대하여, 투영시스템에 의하여 형성된 상기 테스트패턴의 에어리얼이미지의 하나 이상의 파라미터를 실시간, 직접 측정을 수행하는 단계; 및상기 복수의 상이한 세팅에서 측정되는 상기 하나 이상의 파라미터에 기초하여, 상기 투영시스템의 수차를 나타내는 하나 이상의 계수를 계산하는 단계를 포함하여 이루어지며,상기 테스트패턴은 고립된 영역을 포함하는 상기 테스트패턴의 영역과 콘트라스트하는 상기 고립된 영역의 2차원 격자를 포함하고, 상기 격자의 단위셀은 적어도 3개의 고립된 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항에 있어서,상기 격자의 상기 단위셀은 육방정계 단위셀의 6개의 코너에 또는 그 근처에 위치되는 6개의 고립된 영역을 포함하는 육방정계 단위셀인 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항에 있어서,상기 격자의 상기 단위셀은 삼각형, 사각형 및 육각형 형상을 포함하는 형상의 그룹으로부터 선택된 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 파라미터는 하나의 단위셀내에서 2개 이상의 상기 고립된 영역의 이미지의 특성간의 차이를 나타내는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제4항에 있어서,상기 특성은 피크세기, 공간적으로 집적화된 세기, 공간세기분포, 이미지단면의 형상 및 이미지단면의 크기를 포함하는 특성의 그룹으로부터 선택된 하나의 특성인 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 실시간, 직접측정은 2차원의 매트릭스패턴으로 배열된, 복수의 방사선어퍼쳐를 포함하는 방사선검출수단에 의하여 수행되는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 상이한 세팅은 상이한 개구수세팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 상이한 세팅은 방사선시스템내의 퓨필평면에서 세기분포의 외측 및/또는 내측 반경크기의 상이한 세팅을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 상이한 세팅은 디스크형, 고리형, 4중극, 2중극 및 소프트다중극 조명모드를 포함하는 그룹으로부터 선택된 상이한 조명모드를 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하나 이상의 파라미터는 테스트패턴의 상기 이미지의 횡방향위치, 및/또는 최적포커스위치인 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 상이한 세팅의 각각에 대하여, 상기 하나 이상의 계수에 있어서의 변화의 함수로서 상기 또는 각각의 측정된 파라미터의 이론적인 편차를 계산하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하나 이상의 계수는 한 세트의 연립방정식의 최소제곱법 또는 다중회귀에 의하여 계산되는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하나 이상의 계수는 제르니케 계수인 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 테스트패턴은 수차를 측정하는 하나 이상의 보조 테스트패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 제14항에 있어서,상기 하나 이상의 보조 테스트패턴은 주기적인 라인 및 공간을 갖는 회절격자의 세그먼트 및 평행한 라인형 고립된 영역의 반복구조를 포함하는 2차원 패턴구조의 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
- 리소그래피 투영장치를 사용하는 디바이스제조방법에 있어서,(a) 적어도 부분적으로는 한 층의 방사선감응재로 덮인 기판을 제공하는 단계;(b) 방사선시스템을 사용하여 방사선의 투영빔을 제공하는 단계;(c) 패터닝수단을 사용하여 투영빔의 단면에 패턴을 부여하는 단계;(d) 방사선감응재층의 타겟부상에 방사선의 패터닝된 빔을 투영하는 단계;(e) (d) 단계 이전에 테스트패턴에 따라 상기 패터닝수단으로 투영빔을 패터닝하는 단계;(f) 상기 방사선시스템 및 상기 투영시스템을 포함하는 시스템의 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 시스템의 복수의 상이한 세팅에 대하여, 투영시스템에 의하여 형성된 테스트패턴의 에어리얼이미지의 하나 이상의 파라미터를 실시간 직접 측정하는 단계; 및(g) 상기 복수의 상이한 세팅에서 측정된 상기 하나 이상의 파라미터에 기초하여, 상기 투영시스템의 수차를 나타내는 하나 이상의 계수를 계산하는 단계를 포함하여 이루어지며,고립된 영역을 포함하는 상기 테스트패턴의 영역과 콘트라스트하는 상기 고립된 영역의 2차원 격자를 포함하는 테스트패턴을 사용하되, 상기 격자의 단위셀은 적어도 3개의 고립된 영역을 포함하는, 상기 테스트패턴을 사용하는 단계, 및상기 투영시스템에 의하여 투영된 이미지의 수차를 줄이기 위하여 상기 하나 이상의 계산된 계수에 기초하여 상기 수차를 보정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 디바이스제조방법.
- 방사선의 투영빔을 공급하는 방사선시스템; 원하는 패턴에 따라 투영빔을 패터닝하는 역할을 하는 패터닝수단을 지지하는 지지구조체; 기판을 잡아주는 기판테이블; 및 기판의 타겟부상에 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템을 포함하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법에 있어서,테스트패턴에 따라 상기 패터닝수단으로 투영빔을 패터닝하는 단계;투영시스템에 의하여 형성된, 테스트패턴의 에어리얼이미지의 하나 이상의 파라미터를 실시간 직접 측정하는 단계; 및상기 하나 이상의 파라미터에 기초하여, 상기 투영시스템의 수차를 나타내는 하나 이상의 계수를 계산하는 단계를 포함하여 이루어지며,상기 테스트패턴은 고립된 영역을 포함하는 상기 테스트패턴의 영역과 콘트라스트하는 상기 고립된 영역의 2차원 격자를 포함하고, 상기 격자의 단위셀은 적어도 3개의 고립된 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피장치의 투영시스템의 수차를 측정하는 방법.
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