JP2007128845A - レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、電磁石を含む基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に設置され、ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部を具備し、基板ステージと磁気力を形成する永久磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施例では、電磁石を具備した基板ステージ110と所定パターンの開口部を具備して永久磁石を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明による第2実施例では、永久磁石を具備した基板ステージと所定パターンの開口部を具備して永久磁石を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明による第3実施例では、永久磁石を具備した基板ステージ110と所定パターンの開口部を具備して電磁石を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明による第4実施例では、第1磁石を具備した基板ステージ110と透明な材質の透過部を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明による第5実施例では、磁性体を具備した基板ステージ110と透明な材質の透過部133を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明による第6実施例では、第1磁石を具備した基板ステージ110と透明な材質の透過部133を具備して磁性体を具備した密着フレーム130によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
10 レーザ熱転写装置
11 チャンバ
12 基板ステージ
13 レーザ照射装置
14 アクセプタ基板
15 ドナーフィルム
16 ホース
100 レーザ熱転写装置
110 基板ステージ
120 レーザ発信器
121、123 ガルバノメートルスキャナ
125 スキャンレンズ
127 シリンダレンズ
130 密着フレーム
133、133a、133b、133c、133d 透過部
134 据え置き突部
135 トレイ
137 第2磁石
140 密着フレーム移動手段
141 据え置き台
143 連結バー
150 チャンバ
200 ドナーフィルム
300 アクセプタ基板
410、510 貫通ホール
420、520 ガイドバー
430、530 移動フレーム
440、540 支持台
450、550 装着ホーム
Claims (32)
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、電磁石を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、前記ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する永久磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレーム自体が前記永久磁石で形成されるか、前記密着フレームの上部面及び下部面のいずれかに前記永久磁石が形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記永久磁石は、永久磁石ナノ粒子で構成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、永久磁石を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、前記ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する前記永久磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージ方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレーム自体が前記永久磁石で形成されるか、前記密着フレームの上部面及び下部面のいずれかに前記永久磁石が形成されることを特徴とする請求項5に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記永久磁石は、永久磁石ナノ粒子で構成されることを特徴とする請求項5に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、永久磁石を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、前記ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する電磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージ方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項9に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記永久磁石は、永久磁石ナノ粒子で構成されることを特徴とする請求項9に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、第1磁石を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する第2磁石137を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージ方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項12に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項12に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項12に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームに具備される前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項12に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記基板ステージに具備される前記第2磁石137は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項12に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、磁性体を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する第2磁石137を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージ方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項18に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項18に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームに具備される前記第2磁石137は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項18に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記磁性体は、鉄、ニッケル、クロム、三酸化二鉄、四酸化三鉄、コバルト鉄酸化物、及びその混合物で構成されるグループから選ばれるひとつであることを特徴とする請求項18に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、第1磁石を含む基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に設置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記基板ステージと磁気力を形成する磁性体を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージ方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項24に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項24に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項24に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記基板ステージに具備される前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項24に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記磁性体は、鉄、ニッケル、クロム、三酸化二鉄、四酸化三鉄、コバルト鉄酸化物、及びその混合物で構成されるグループから選ばれるひとつであることを特徴とする請求項24に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の有機発光層を形成するレーザ熱転写方法において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されるアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記有機発光層を具備するドナーフィルムを順次移送し、電磁石を具備した密着フレームと永久磁石を具備した基板ステージの間に積層する段階と、
前記密着フレームと前記基板ステージの間に形成された磁力によって前記アクセプト基板と前記ドナーフィルムが密着される段階と、
前記有機発光層に対応する前記ドナーフィルムにレーザを照射して前記アクセプト基板に前記ドナーフィルムの前記有機発光層が転写されるようにする段階
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 有機発光素子の有機発光層を形成するレーザ熱転写方法において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されるアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記有機発光層を具備するドナーフィルムを順次移送し、永久磁石を具備した密着フレームと前記永久磁石を具備した基板ステージの間に積層する段階と、
前記密着フレームと前記基板ステージの間に形成された磁力によって前記アクセプト基板と前記ドナーフィルムが密着される段階と、
前記有機発光層に対応する前記ドナーフィルムにレーザを照射して前記アクセプト基板に前記ドナーフィルムの前記有機発光層が転写されるようにする段階
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 有機発光素子の有機発光層を形成するレーザ熱転写方法において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されるアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記有機発光層を具備するドナーフィルムを順次移送し、永久磁石を具備した密着フレームと電磁石を具備した基板ステージの間に積層する段階と、
前記密着フレームと前記基板ステージの間に形成された磁力によって前記アクセプト基板と前記ドナーフィルムが密着される段階と、
前記有機発光層に対応する前記ドナーフィルムにレーザを照射して前記アクセプト基板に前記ドナーフィルムの前記有機発光層が転写されるようにする段階
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。
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