JP2003187972A - 有機el素子の製造方法および有機el転写体と被転写体 - Google Patents
有機el素子の製造方法および有機el転写体と被転写体Info
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Abstract
EL素子を製造する方法と、これに用いる有機EL転写
体、被転写体の提供。 【解決手段】 支持体と前記支持体上に剥離可能に形成
されている発光層とを少なくとも有する転写体と、基体
と前記基体上に形成されている電極とを少なくとも有す
る被転写体とを用いて、前記転写体の前記発光層側と、
前記被転写体の前記電極側とを重ね合わせ、前記転写体
から少なくとも前記発光層を前記被転写体上に部分的に
転写する工程を有する有機EL素子の製造方法であっ
て、前記転写体の前記被転写体に接する層、または、前
記被転写体の前記転写体に接する層の少なくとも一方
に、接着性向上物質が含まれる方法。
Description
機EL素子の製造方法と、それに用いる有機EL転写体
と被転写体に関する。
視野角が広く、低電圧駆動が可能で、高輝度であり、構
成層が液晶素子と比べて少なく、製造するのが容易であ
り、薄形化できる等の長所を有している。このような有
機EL素子は液晶ディスプレイの次の表示素子として注
目されており、カラー表示素子を作成するにあたり、各
色に発光する有機EL材料を微細パターンで選択的に形
成することが重要な技術課題となっている。
ラー表示素子を作製する方法としては、3種の方式が知
られている。第1は白色に発光する有機EL材料とカラ
ーフィルターを組み合わせて用いる方法である。第2は
青色発光の有機EL素子とこの素子の青色を赤色、緑色
に変換する色変換層を用いる色変換方式である。第3は
赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれに発光する有機
EL材料をそれぞれ独立に配置する方式である。この3
種の方式のうちで、有機EL素子の発光を効率良く利用
できる方法は第3の方法であり、第1、2の方法では発
光の利用効率は3分の1程度と非常に低利用効率であ
る。
EL材料が一般にウエットプロセスに非常に弱いため、
フォトリソ技術を用いた高精細化が実現困難である問題
がある。このため、第3の方式でR,G,Bを独立に配
置させるには、シャドウマスクを用いた蒸着方法が一般
に行われている。しかしながら、この方式ではシャドウ
マスクの微細加工が困難なこと、またシャドウマスクが
パターンが微細であれば微細であるほどシャドウマスク
が薄くならざるを得ず、シャドウマスクの伸び縮み歪み
や、蒸着の回り込みなどによって、正確な蒸着成膜が困
難であること、等の多くの問題点がある。
光材料の転写による微細パターン塗り分けが特開平12
−011216号公報、特開平12−077182号公
報等に開示されている。しかしながら、これらの方法は
基本的に発光材料を昇華させて転写させる昇華転写方式
であって、昇華性の発光材料を転写体に形成する際には
蒸着する必要があり、有機EL材料の中でも低分子材料
を用いるのには適した方法ではあるが、高分子材料を用
いたものには適していない。また前記のシャドウマスク
を用いた蒸着によるR、G、Bのパターニング方式も同
様に低分子材料には適した方法であるが、高分子材料に
は適さない方法である。さらに、昇華転写では昇華した
材料が発散して非形成部にまで及び、混色などの問題を
生じてしまう。
写による有機EL素子の製造方法は、手間がかる方法で
ある。例えば特開平12−011216号公報に開示の
ように、転写体作製に高熱伝導性シートに凸状突起を形
成し、その上に有機材料を形成するというように転写体
作製に手間がかってしまう。さらに特開平12−077
182号公報に記載の方法も、転写体が格子状又は帯状
の低熱伝導部とその内部の高熱伝導部からなることによ
り、転写体作製が非常に困難であることなど満足な転写
方法とはいえない。特に高分子の有機EL材料を用いた
カラー表示素子の製造方法では有効な方法は現在までみ
られていない。
において、転写体が支持体/光熱変換物質を含む剥離層
/有機EL転写層(有機発光層)からなるものを用いた
場合は、有機EL転写層と被転写体のとが接する層の転
写特性により、しばしば有機EL転写層だけではなく剥
離層まで一緒に転写されてしまうことがある。このよう
に剥離層まで一緒に転写されてしまうと、転写後にカソ
ードを形成してEL素子を作成したとしても発光が得ら
れないか、発光特性が大きく劣化してしまう。実際のと
ころ、EL材料のみが被転写体に転写される転写条件
(温度、光量、転写スピードなどのパラメーターに関す
る)の領域は極めてわずかな領域であるか、またはこの
ような領域がないかであり、転写における高効率なEL
素子の作成は非常に困難である。この領域が小さな場合
には様々な外的なばらつき要因により生産性や歩留まり
が下がり、または製造条件設定が困難となる問題が生じ
るので、この領域を発現させ、拡大することが求められ
る。
ガラス転移点以上の温度を加えると、発光特性が劣化
し、さらに高温のゴム弾性領域以上で著しく劣化し、加
えて有機EL素子とした時の素子寿命の低下ということ
が起る。しかしながら、高分子の有機EL材料を有機E
L転写体、被転写体に用いる場合は、転写体または被転
写体に用いられる材料のゴム弾性領域近辺の温度を加え
なければ転写できず、転写することにより、必然的に有
機EL素子の寿命、発光特性が低下してしまうという問
題が残っている。
的低い温度での有機ELの転写による製造法を実現する
ことにより、特に有機EL材料に熱に弱い高分子材料を
用いる場合であっても、寿命、発光効率の劣化のない高
品質の有機EL素子を得られる簡易な製造方法、その製
造に用いる有機EL転写体、被転写体を提供することで
ある。
写体の転写体の被転写体に接する層(最上層)に、接着
性向上物質を添加すること、または被転写体の被転写体
の転写体に接する層(最上層)に接着性向上物質を添加
することにより、上記課題を解決できることを見出し
た。
方法は、支持体と前記支持体上に剥離可能に形成されて
いる発光層とを少なくとも有する転写体と、基体と前記
基体上に形成されている電極とを少なくとも有する被転
写体とを用いて、前記転写体の前記発光層側と、前記被
転写体の前記電極側とを重ね合わせ、前記転写体から少
なくとも前記発光層を前記被転写体上に部分的に転写す
る工程を有する有機EL素子の製造方法であって、前記
転写体の前記被転写体に接する層または前記被転写体の
前記転写体に接する層の少なくとも一方に、接着性向上
物質が含まれてなることを特徴とする方法である。
法を用いる方法であって、転写の際に接する層の少なく
とも一方に、接着性向上物質が含まれてなる方法であ
る。そして、転写体は支持体と前記支持体上に剥離可能
に形成されている発光層とを少なくとも有する。被転写
体は、基体と前記基体上に形成されている電極とを少な
くとも有する。この転写工程以外は、一般的なEL素子
の製造方法を用いて製造することができる。
素子)本発明の方法により製造される有機EL素子は、
例えば電極と、電極上に形成された発光層などからなる
有機EL層と、前記有機EL層上に形成された他方の電
極から少なくともなることができる。有機EL層は、発
光層単層でもよいが、さらに正孔輸送層、電子輸送層等
を適宜組み合せて、多層構造にすることが好ましい。ま
た、ブラックマトリクスなど、画素間に遮光層を設ける
こともできる。また、好ましくは、R、G、Bのそれぞ
れの色に発光する有機発光材料を有機EL転写層とした
3種類の有機EL転写体を、1つの被転写体の各々の色
に対応した場所に転写することによりフルカラー有機E
L素子を製造することができる。
このような有機EL素子の製造に用いられる有機EL転
写体に設けられる有機EL転写体は、有機発光材料を含
む発光層を少なくとも有する。そして転写体の被転写体
に接する層、または、被転写体の転写体に接する層の少
なくとも一方に、接着性向上物質が含まれる。
の構成有機EL素子の作成方法としては例えば、 有機EL転写体が支持体/剥離層/電子注入層/有機
EL発光層 有機EL被転写体が基体/第1電極/正孔輸送層 からなり(発光層および/または正孔輸送層に接着性向
上物質を添加)、正孔輸送層上に有機EL発光層と電子
注入層を転写した後、電子注入層上に第2電極を形成し
て有機EL素子を作成する。
上物質を添加)、正孔輸送層上に有機EL発光層を転写
した後、有機EL発光層上に電子注入層を形成し、さら
に電子注入層の上に第2電極を形成して有機EL素子を
作成する。
輸送層/有機EL発光層 有機EL被転写体が基体/第1電極/電子輸送層 からなり(発光層および/または電子輸送層に接着性向
上物質を添加)、電子輸送層上に有機EL発光層と正孔
輸送層を転写した後、正孔輸送層上に第2電極を第1電
極と直交して形成し有機EL素子を作成する。
EL発光層/電子輸送層 有機EL被転写体が基体/第1電極 からなり(電子輸送層に接着性向上物質を添加)、アク
ティブ電極である第1電極(陰極)上に電子輸送層と有
機EL発光層を転写した後、有機EL発光層上正孔輸送
層を形成し、その上に第2電極(陽極)を第1電極と平
行して形成し有機EL素子を作成する。
子の製造方法の一例を説明する。
TO電極2がパッシブ電極としてライン状に形成され、
その上に接着性向上物質入り正孔輸送層3が形成された
被転写体4を用意する。一方、図1(b)のように支持
体11上に剥離層12を介して赤色有機EL発光層13
Rを設けた赤色転写体14Rを用意し、同様に緑色有機
EL発光層13Gを設けた緑色転写体14G、および青
色有機EL発光層13Bを設けた青色転写体14Bを用
意する。次に図1(c)のように赤色転写体14Rの赤
色発光層13R側と、被転写体4の正孔輸送層3側とを
重ね合わせ、転写させる部分のみ密着加熱させて転写す
る。次に図1(d)のように赤色転写体14Rを剥離す
る。同様に、順次緑色転写体14Gを用いて緑色発光層
13Gを転写し、青色転写体14Bを用いて青色発光層
13Bを被転写体4に転写すると図1(e)のように
赤、緑、青3色の発光層が被転写体4上に形成される。
その後、その後図1(f)のように陰極21を形成して
封止缶22をUV硬化性樹脂接着剤で封止をすることで
有機ELカラーディスプレイを作成できる。
子の製造にあたっては、転写時に密着加熱を行う。この
密着加熱にあたっては、転写したい領域のみを部分的に
加熱する方法、転写したい領域のみを部分的に密着する
方法、転写したい領域のみを部分的に密着しかつ加熱す
る方法のいずれの方法を採用することもできる。
ヘッド、熱光源、レーザー光、ヒートロール、熱プレ
ス、パターニングしたマスクを用いる手段、またはこれ
らを組み合わせた手段などが挙げられる。
は、例えば開口部とリブ部からなるマスク、低熱伝導部
と高熱伝導部からなるマスク、光吸収し発熱する部分と
光吸収せず発熱しない部分からなるマスクから選ばれる
マスクを用いることができる。
写される温度領域で、温度や加熱スピード、加熱時間を
制御調整することにより高効率EL素子が製造できる。
によって劣化することから、転写は、湿度の極力少ない
ドライルームや、窒素雰囲気中に制御されたグローブボ
ックス内で行うことが好ましい。また、真空下で転写
し、そのまま真空下で真空蒸着により電極を形成するこ
とも好ましい。
上層の少なくとも一層に、接着性向上物質を混入するこ
とによって転写温度を低下させることができ、有機EL
素子の発光特性、素子寿命を熱により劣化させることな
く、有機EL素子を作成できる。
混入すると発光特性劣化が起ることがあるので、最上層
が有機EL発光層である場合には、接着性向上物質を有
機EL発光層には添加せずに、他方の最上層に添加する
ことが好ましい。例えば上記例のように有機EL転写
体が支持体/剥離層/電子注入層/有機EL発光層、有
機EL被転写体が基体/第1電極/正孔輸送層である場
合、および例のように有機EL転写体が支持体/剥離
層/有機EL発光層、有機EL被転写体が基体/第1電
極/正孔輸送層との構成であるならば、被転写体の最上
層である正孔輸送層に接着性向上物質を添加し、転写体
の最上層である有機EL発光層には添加しないことが好
ましい。
着性を発現し、有機EL転写層、被転写層のガラス転移
温度(Tg)よりも低いTgを発現する材料であれば、
特に限定されない。このTgは低いほど好ましい。好ま
しくはこのTgは、−50℃〜50℃である。
分子量が低いほうが、一般に粘接着性が増すので好まし
いが、低すぎると例えば上記例において正孔輸送層に
のみ接着性向上物質を添加した場合にも、転写の加熱時
に、有機EL発光層にまで接着性向上物質が移動してし
まい、発光特性を劣化させる原因にもなることがある。
そのため接着性向上物質の分子量は、1000〜10万
が好ましい。
可溶な材料、水分散材料、水溶性材料のいずれも用いる
ことができる。水分散材料を用いる場合には、材料の粒
径が粗いと有機EL材料の膜面が粗くなり、素子寿命の
劣化が起ることがあるので、材料の粒径は細かい方が好
ましい。この場合、接着性向上物質の粒径は10μm以
下が好ましい。
る材料としては例えば以下のものが挙げられる。
ナールシリーズ) アイオノマーのエマルジョン:(三井化学(株) ケミ
パールシリーズ) エチレンと酢酸ビニル共重合体のエマルジョン:(中央
理化工業(株) アクアテックスシリーズ) 溶剤系の材料 エチレンと酢酸ビニル共重合体系材料:(三井デュポン
(株)ポリケミカルEVA150、EVA250) アクリルポリオール系材料:(綜研化学(株)U230
−T、SU−28) このような接着性向上物質を添加して形成した転写体の
最上層や被転写体の最上層を組み合わせることにより転
写温度を低下できる。特に高分子の有機EL材料を用い
る場合、有機EL材料はTg以上の温度を加えることで
発光特性、素子寿命が劣化、ゴム弾性領域以上で更に劣
化することがあるので、有機EL材料のゴム弾性領域以
下で転写できるような組み合わせを選ぶことが好まし
い、さらに有機EL材料のTg以下で転写できるように
選択することがより好ましい。
光材料を含む発光層を少なくとも有し、他に任意の層を
有する転写可能な層(これらの層をまとめて有機EL転
写層とよぶ)が設けられる。このような層としては、例
えば好ましくは加熱によって溶融または軟化する有機発
光材料からなる層が挙げられる。
は、好ましくは(被転写体の最上層が接着性向上物質を
含まない時には必ず)接着性向上物質を混入し、好まし
くは加熱によって軟化する層とする。これにより転写温
度を低下させ、界面の密着性が向上することにより、有
機EL素子の発光特性を向上させることができる。
子輸送層等を適宜組み合せて、多層構造にすることも好
ましい。この場合、最上層は発光層の他に正孔輸送層な
どであることができる。
組合せにより転写温度が変化するが、有機EL材料およ
びEL素子は比較的高温に弱いので、材料のTg以上、
溶融点以下で転写することが好ましい。
る。具体的には支持体のTgが転写温度以上であるのが
好ましいが、耐熱性処理をした支持体、例えばPETフ
ィルムであってもよい。また、支持体は好ましくは剥離
層をコーティングしやすい性質のものとするが、支持体
上にプライマー層を形成することにより剥離層をコーテ
ィングしやすいものとすることもできる。
設けることのできるプライマー層は、支持体と剥離層と
の間に設けることのできる層であり、支持体とも剥離層
とも相性が良く、支持体上に剥離層がコーティングしや
すい材料からなるものであればよい。このようなプライ
マー層は、例えば、剥離層形成時に、塗布均一性等の塗
布性を向上させるなどの効果を有する。
ましくは剥離層を設けることができる。この剥離層とし
ては、通常の転写に用いるものを用いることができる。
好ましくは、有機EL層転写層が溶剤系の材料である場
合には、有機EL転写体製造において剥離層上に有機E
L層をコーティングするために、水溶性ポリマーから選
ばれるものである材料が好ましい。このようなものとし
ては、具体的には例えばPVA(ポリビニルアルコー
ル)を含むものが挙げられる。しかしながら、溶剤系の
ポリマーも可能である。
剥離性のよい材料を用いることによって、有機EL転写
層を軟化状態で被転写体に密着させることで比較的低温
で転写させEL素子を作製することができる。
換する光熱変換物質を含有させることができる。
じ、光を吸収し効率良く熱に変換する物質が好ましい。
例えば近赤外線の半導体レーザーを光源として用いる場
合は近赤外線に吸収帯を有する物質が好ましく、具体的
にはカーボンブラック、グラファイト、フタロシアニン
系色素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、ア
ズレニウム系色素、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、
ポリメチン系色素、ジチオール金属錯塩系色素、トリア
ールメタン系色素、インドアニリン金属錯体色素、ナフ
トキノン系色素、アントラキノン系色素等が挙げられ
る。
バインダーとしては、例えばPVAが挙げられる。その
他に、ガラス転移点が高く、熱伝導率の高い樹脂、例え
ばポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリス
チレン、エチルセルロース、ニトロセルロース、ポリ塩
化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリスルホン、アラミドなどの一般的な耐熱性樹脂
を使用することもできる。この中でも水溶性ポリマーは
有機EL転写層との剥離性もよく好ましい。
り、例えばレーザー転写を容易に行うことができるよう
になる。
に使用する有機発光材料としては、例えば以下のものが
挙げられる。
タジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ト
リフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピ
ラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジ
スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェ
ン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリ
レン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルア
ミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダ
イマーが挙げられる。
キノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯
体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜
鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、
ユーロピウム錯体、等、中心金属に、Al、Zn、Be
等または、Tb、Eu、Dy等の希土類金属を有し、配
位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピ
リジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等
を有する金属錯体が挙げられる。
フェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポ
リパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセ
チレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカ
ルバゾール誘導体、上記色素系、金属錯体系発光材料を
高分子化したものが挙げられる。
化させる等の目的でドーピングを行うことができる。こ
のドーピング材料としては例えば、ペリレン誘導体、ク
マリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、
スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系
色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシク
レン、フェノキサゾンが挙げられる。
れる被転写体は、基体と前記基体上に形成されている電
極とを少なくとも有し、有機EL転写体からの転写を受
けて有機EL素子の少なくとも一部を構成しうる部材で
ある。このような被転写体の最上層には、好ましくは
(転写体の最上層が接着性向上物質を含まない時には必
ず)接着性向上物質を混入することができる。これによ
りさらに転写温度を低下、例えば120℃とすることが
でき、界面の密着性が向上することにより、有機EL素
子の発光特性を向上させることができる。また、接着性
向上物質の混入によって、剥離層、光熱変換層が一緒に
転写されてしまうことなく有機EL転写層のみが転写で
きる範囲が広がるため、転写が好適に行うことのできる
範囲が広がり、転写を安定して行うことができる。
有機EL素子を構成する基体は、所望により透明材料か
らなることができるが、不透明材料であってもよい。
る電極(第1電極)は、電極は通常の有機EL素子に用
いられるものであれば限定されず、所望によりパターニ
ングすることができる。また、被転写体に設けられる電
極は、陽極と陰極のいずれでもよいが、陽極と陰極のど
ちらか一方が、透明または、半透明であり、陽極として
は、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材
料が好ましく、逆に陰極としては、電子が注入し易いよ
うに仕事関数の小さい導電性材料が好ましい。また、複
数の材料を混合させてもよい。いずれの電極も、抵抗は
できるだけ小さいものが好ましく、一般には、金属材料
が用いられるが、有機物あるいは無機化合物を用いても
よい。
ば、ITO、酸化インジウム、金が挙げられる。好まし
い陰極材料としては、例えばマグネシウム合金(MgA
g他)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、Al
Mg他)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さい金属
が挙げられる。
る層 (電子輸送層および正孔輸送層)本明細書における電子
輸送層および正孔輸送層とは、広義のものであり、一般
に電子輸送層、正孔輸送層と呼ばれるものの他に電子注
入層、正孔注入層、バッファー層等と呼ばれる層も含め
て用い、実際に電荷を輸送するためのものと仕事関数の
差をなだらかにして、電荷が移動しやすくするための層
を含むものとして用いる。これらの層が、転写体または
被転写体の最上層にあるときは、接着性向上物質を含む
ことが好ましい。またこれらの電子輸送層、正孔輸送層
は、例えば特願平9−155284号明細書に記載のも
ののように、EL素子に一般に用いられるものであれば
特に限定されない。
れ単独で使用してもよいし、混合して使用してもよい。
混合は、同じ性質を持つ材料でも異なる性質を有する材
料同士でもよい。さらに、これらの材料を含む層は1層
でも複数層でもよい。
に設けるが、他方の電極(第2電極)は、転写後に形成
しても転写体に形成してもよい。電極は通常の有機EL
素子に用いられるものであれば限定されず、所望により
パターニングされている。また、第2電極は、陽極と陰
極のいずれでもよいが、陽極と陰極のどちらか一方が、
透明または、半透明であり、陽極としては、正孔が注入
し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく、
逆に陰極としては、電子が注入し易いように仕事関数の
小さい導電性材料が好ましい。また、複数の材料を混合
させてもよい。いずれの電極も、抵抗はできるだけ小さ
いものが好ましく、一般には、金属材料が用いられる
が、有機物あるいは無機化合物を用いてもよい。
ば、ITO、酸化インジウム、金が挙げられる。好まし
い陰極材料としては、例えばマグネシウム合金(MgA
g他)、アルミニウム合金(AlLi、AlCa、Al
Mg他)、金属カルシウムおよび仕事関数の小さい金属
が挙げられる。
ITOを設け、その上に正孔輸送層(ポリ3,4−エチ
レンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホネート水
分散液(略称PEDOT:BAYERN P)をスピン
コートにより塗布、150℃で10分間乾燥させ被転写
体Aを得た。
同様のITO付き基板上に、PEDOTにポリエステル
エマルジョンを両溶液の固形分比が4:1となるような
量に調整した溶液をスピンコートにより塗布、150℃
で10分間乾燥させ被転写体Bを得た。
ィルムにプライマー層としてCAN OHPプライマー
(ザ・インクテック(株)製)をワイヤーバー#4で塗
布し、90℃で1分間オーブンで乾燥しプライマー層を
形成した。
クリアー液(PVA溶液、インテック(株)製)を同じ
くワイヤーバー#4で塗布し、90℃で1分間オーブン
で乾燥し剥離層を形成した。
膜厚100nmとなるようにスピンコートにより塗布
し、その後90℃で30分間乾燥させ緑色EL発光層用
の転写体aを得た。
厚100nmとなるようスピンコートして赤色EL発光
層用の転写体aを得た。さらに同様に以下の青色EL発
光層形成溶液を膜厚100nmとなるようスピンコート
して青色EL発光層用の転写体aを得た。
製、Lot.K81127を使用した)
した)
m.Co.製を使用した)
写する工程を行った。転写にあたっては熱プレス装置を
用い、更にシャドーマスクのような220μmのリブ部
に開口部80μmの金属でできたマスク(厚さ90μ
m)を用い、下から被転写体/転写体/マスクの順に密
着するように重ね、その上から130℃に加熱した熱プ
レスで圧着転写した。同様に150℃、200℃で転写
したものも作製した。
ら、剥離した。
は130℃では転写せず、150℃、200℃で転写し
たものは、パターン状に転写が行われた。
ーン状の転写が確認できた。
について、被転写体のパターン上に積層された発光層上
に、Caを200Å、Agを2500Å蒸着した。
て、各素子を駆動させ発光特性を調べたところ、130
℃で転写した素子は3.5Vで発光を開始、150℃で
転写したものは5.5Vで発光を開始、200℃で転写
したものは14Vで発光を開始した。このように、発光
最高輝度、効率共に、低温で転写したものほど高い値で
あった。
した。
ィルムに、プライマー層として、CAN OHPプライ
マー(インテック(株)製)をワイヤーバー#4で塗布
し、90℃で1分間オーブンで乾燥しプライマー層を形
成した。
TMR904墨(インテック(株)製TMR904クリ
アーにカーボンブラックを混ぜたもの)を同じくワイヤ
ーバー#4で塗布し、90℃で1分間オーブンで乾燥し
剥離層兼光熱変換層を形成した。
をスピンコートにより塗布し、その後90℃で30分間
真空乾燥させ転写体bを得た。
とを被転写体上に転写体をかぶせ真空吸引することによ
って真空密着させた。その後YAGレーザーを転写させ
たい場所に照射し、その部位のみを転写した。
メーターをどのように変えても、有機EL転写層が転写
しないか有機EL転写層と剥離層兼光熱変換層が一緒に
転写されてしまい、発光する素子を得られなかった。
値9〜11A、レーザー照射速度100〜200mm/
sの範囲でEL層のみの転写が可能であった。
に積層された発光層上にCaを200Å、Agを250
0Å蒸着しITOおよびAg電極をアドレス電極として
各素子を駆動させて発光特性を調べたところ2.8Vで
発光開始、最大輝度6000cd発光効率2lm/wの
素子を得た。
電極としてライン状に形成し、その上に接着性向上物質
入り正孔輸送層形成溶液を膜厚が80nmとなるように
スピンコートにより塗布、150℃で10分間乾燥させ
被転写体Cを得た。
は、正孔輸送層形成溶液である、ポリ3,4−エチレン
ジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホネート水分散
液(略称PEDOT/PSS、商品名Baytron
P、バイエル(株)製)と接着性向上物質として、ポリ
エステルのエマルジョン(バイロナール:MD1930
東洋紡績(株)製)を固形分比にして5:2の割合で混
合分散を行ったものを用いた。
正孔輸送層形成溶液から接着性向上物質を除いたもの
(PEDOT:PSSのみの液)を塗布し80nmの膜
厚とすること以外は被転写体Cと同様な方法によりに被
転写体Dを得た。
ィルムにプライマー層としてCAN OHPプライマー
(ザ・インクテック(株)製)をワイヤーバー#4でコ
ーティングを行い、90℃で5分間乾燥した。
ーボンブラックを混ぜたTMR#904墨(ザ・インク
テック(株)製)を同じくワイヤーバー#4でコーティ
ングし、90℃で5分間乾燥を行った。
00nmとなるようにスピンコートし、緑色EL発光層
用の転写体を得た。
発光層形成溶液を膜厚100nmとなるようスピンコー
トして青色EL発光層、赤色EL発光層用の転写体を得
た。
ER CORPORATlON製のOPC−A001を
用い(λ=790nm)レーザー転写で行った。
駆動装置ALP−7402PA(株式会社旭データシス
テム製)、XYステージ等を組み合わせ、ソフトウエア
ーも独自に開発したものを用い、レーザー転写したいと
ころにレーザーが当たるように制御した(ソフトウエア
ーの制御により、XYステージを動作、レーザーパルス
駆動の駆動の仕方で、レーザー照射部、レーザー照射量
を制御して、転写したいパターン上に転写を行った。) 転写体と被転写体の密着は、真空ポンプを用いたガラス
製の真空治具を作成し、この転写体と被転写体とを治具
に挟み込んで真空ポンプで治具内を真空引きすることに
よって行った。
からレーザーを、緑色発光層形成部分、青色発光層形成
部分、赤色発光層形成部分と順にソフトウエアーの制御
によりライン状に照射し、ラインパターンが連なった。
に積層された発光層上にCaを100Å、Agを300
0Å蒸着し、ITOおよびAg電極で各素子を駆動させ
て発光特性を調べたところ、2.5Vで発光開始、最大
輝度10000cdで発光効率は最大値2.5lm/W
の素子が得られた。
を用いた有機ELの製造法を実現することができる。特
に熱に弱い高分子材料を有機EL材料として用いる場合
であっても、寿命および発光効率の劣化のない高品質の
有機EL素子が簡易に得られる有機EL素子の製造方
法、その製造に用いる有機EL転写体、被転写体を提供
することができる。特に、剥離層と光熱変換層を有する
有機EL転写体を用いてレーザー転写を行う場合、有機
EL転写層のみが剥離する条件領域が発現しもしくは広
がり、レーザー転写での素子作成を容易、可能にする。
図である。
Claims (7)
- 【請求項1】支持体と前記支持体上に剥離可能に形成さ
れている発光層とを少なくとも有する転写体と、 基体と前記基体上に形成されている電極とを少なくとも
有する被転写体、とを用いて、前記転写体の前記発光層
側と、前記被転写体の前記電極側とを重ね合わせ、前記
転写体から少なくとも前記発光層を前記被転写体上に部
分的に転写する工程を有する有機EL素子の製造方法で
あって、 前記転写体の前記被転写体に接する層、または、前記被
転写体の前記転写体に接する層の少なくとも一方に、接
着性向上物質が含まれてなることを特徴とする、有機E
L素子の製造方法。 - 【請求項2】前記接着性向上物質が含まれている層が、
前記転写体または前記被転写体の少なくとも一方に形成
された正孔輸送層、電子輸送層または発光層である、請
求項1に記載の有機EL素子の製造方法。 - 【請求項3】前記支持体と前記発光層との間に、電子輸
送層または正孔輸送層が形成されている、請求項1に記
載の有機EL素子の製造方法。 - 【請求項4】支持体と前記支持体上に剥離可能に形成さ
れている発光層とを少なくとも有する転写体であって、
前記転写体の被転写体に接する層に、接着性向上物質が
含まれていることを特徴とする、転写体。 - 【請求項5】前記接着性向上物質が含まれている層が、
正孔輸送層、電子輸送層または発光層である、請求項4
に記載の転写体。 - 【請求項6】基体と前記基体上に形成されている電極と
を少なくとも有する被転写体であって、前記被転写体の
転写体に接する層に、接着性向上物質が含まれているこ
とを特徴とする、被転写体。 - 【請求項7】前記接着性向上物質が含まれている層が、
電子輸送層または正孔輸送層である、請求項6に記載の
被転写体。
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