JPH11260549A - 有機ｅｌ表示装置の製造方法 - Google Patents

有機ｅｌ表示装置の製造方法

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JPH11260549A
JPH11260549A JP10057214A JP5721498A JPH11260549A JP H11260549 A JPH11260549 A JP H11260549A JP 10057214 A JP10057214 A JP 10057214A JP 5721498 A JP5721498 A JP 5721498A JP H11260549 A JPH11260549 A JP H11260549A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の単純マトリックス型有機ＥＬ表示装置に
おいては、陰極の不安定性により、パターニングが難し
かった。 【解決手段】有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レ
ーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと
発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性
能の向上を実現した。本発明では、転写法を用いること
により、陰極４のパターニングと発光層５の形成をレー
ザー９を用いて同時に行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、自発光型単純マト
リクス駆動型中容量または大容量モノクロまたはカラー
ディスプレイあるいはカムコーダやデジタルカメラのビ
ューファンダー等に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、単純マトリックス有機ＥＬ表示装
置においてはその陰極のパターニングが難しいことが指
摘されている。これは陰極の下地になる有機層が溶媒に
侵されやすいことに起因する。そこで今までこのような
問題を解決すべく、陰極パターニング技術が開発されて
いる。例えば、特開平８−２２７２７６に示されている
ようなフィジカルマスクを用いてＲＧＢ３色打ち分ける
方法、またアメリカ特許５２９４８６９に示されている
ように陰極分離隔壁をあらかじめ作っておき、陰極蒸着
時に陰極を同時にパターニングする方法などである。
【０００３】また従来、アプライドフィジックスレター
ズ １９８７年９月２１日号５１巻９１３ページに示さ
れているように、ガラス基板上に透明電極を形成した構
造の有機ＥＬ素子が主流で、発光をガラス基板越しに取
り出していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フィジカルマ
スクを用いる方法では、高精細化するにも限度があり、
位置合わせも困難である。また、陰極分離隔壁を用いる
場合には陰極分離隔壁の形成にエッチングプロセスを用
いるため、プロセスが複雑になる。
【０００５】また、ガラス基板越しでの出射になるた
め、基板面内方向への光漏れが多くなり、全発光の内２
０％しか利用できなかった。
【０００６】そこで本発明の目的は、有機ＥＬ表示装置
の製造方法において、極めて簡便に電極および発光層を
パターニングする方法を提供し、また全発光を無駄無く
視野方向に出射させられる製造方法を提供するところに
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】問題を解決するための手
段の１．本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、単純
マトリックス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法
において、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を
形成し、次に陰極層を形成し、次に発光層を重ねて形成
し、次に正孔注入性接着層を重ねて形成した後、この多
重層を形成したフィルムをストライプパターニングした
ＩＴＯ付き基板上に貼り付け、その後フィルム裏面から
レーザーを陰極形状を形成するように照射することによ
り前記多重層を基板上に転写し、さらにフィルムを取り
除き、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、
封止処理を施したことを特徴とする。この構成によれ
ば、極めて不安定でパターニングしにくい陰極をレーザ
ーで容易に有機ＥＬ層転写と同時にパターニングでき
る。
【０００８】問題を解決するための手段の２．また本発
明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、単純マトリックス
駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法において、フ
ィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成し、次に
陰極層を形成し、次に電界発光性接着層を重ねて形成し
た後、この多重層を形成したフィルムをストライプパタ
ーニングしたＩＴＯ付き基板上に貼り付け、その後フィ
ルム裏面からレーザーを陰極形状を形成するように照射
することにより前記多重層を基板上に転写し、さらにフ
ィルムを取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動手
段を接続し、封止処理を施したことを特徴とする。この
構成によれば、簡単な構成で極めて不安定でパターニン
グしにくい陰極をレーザーで容易に有機ＥＬ層転写と同
時にパターニングできる。
【０００９】問題を解決するための手段の３．また問題
を解決するための手段の１の発光層と陰極層の間、また
は問題を解決するための手段の２の電界発光性接着層と
前記陰極層の間に電子注入層を形成したことを特徴とす
る。これにより、上記構成において発光効率を改善する
ことができる。
【００１０】問題を解決するための手段の４．単純マト
リックス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法にお
いて、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成
し、次に陽極層を形成し、次に発光層を重ねて形成し、
次に電子注入機能付き接着層を重ねて形成した後、この
多重層を形成したフィルムを、パターニングした陰極付
き基板上に貼り付けて、その後フィルム裏面からレーザ
ーを陽極形状を形成するように照射して、次にフィルム
を取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接
続し、封止処理を施したことを特徴とする。この構成に
よれば、パターニングしにくい陰極をガラス基板上に形
成した後にレーザーなどにより容易にパターニングで
き、さらにその後の有機ＥＬ層転写時に陽極も同時にパ
ターニングできる。またさらにこの構成によれば、有機
発光層からの発光がガラス基板越しではなく、直接外部
に取り出せるので損失が無く、明るさを向上できる。
【００１１】問題を解決するための手段の５．単純マト
リックス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法にお
いて、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成
し、次に陽極層を形成し、次に正孔注入層を形成し、次
に電界発光性接着層を形成した後、この多重層を形成し
たフィルムを、パターニングした陰極付き基板上に貼り
付けて、その後フィルム裏面からレーザーを陽極形状を
形成するように照射して、次にフィルムを取り除き、前
記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処理
を施したことを特徴とする。
【００１２】この構成によれば、パターニングしにくい
陰極をガラス基板上に形成した後にレーザーなどにより
容易にパターニングでき、さらにその後の有機ＥＬ層転
写時に陽極も同時にパターニングできる。また接着層に
発光機能を兼ねさせられるので製造工程が簡略化でき
る。またさらにこの構成によれば、有機発光層からの発
光がガラス基板越しではなく、直接外部に取り出せるの
で損失が無く、明るさを向上できる。
【００１３】問題を解決するための手段の６．さらに前
記発光層または電界発光性接着層を、インクジェットヘ
ッドで異なる色に発光する発光物質をそれぞれ塗布する
ことにより形成したことを特徴とする。この手段によれ
ば、あらかじめ異なる色の発光層をフィルム上に容易に
形成できるため、極めて容易にカラー単純マトリックス
ディスプレイを作製することができる。
【００１４】問題を解決するための手段の７．さらに前
記発光層をインクジェットヘッドを用いて塗布する前
に、各色領域の間にインク分離手段を施したことを特徴
とする。これにより、各色発光層をインクジェットヘッ
ドで製膜するする際、隣り合う画素に染み出すことなく
ストライプ状に発光層を形成することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】(実施例１)本実施例では、単純マ
トリックス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法に
おいて、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形
成し、次に陰極層を形成し、次に発光層を重ねて形成
し、次に正孔注入性接着層を重ねて形成した後、この多
重層を形成したフィルムをストライプパターニングした
ＩＴＯ付き基板上に貼り付け、その後フィルム裏面から
レーザーを陰極形状を形成するように照射することによ
り前記多重層を基板上に転写し、さらにフィルムを取り
除き、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、
封止処理を施した例を示す。本発明の有機ＥＬ表示装置
の製造方法を示す簡単な断面図を図１から図６に示す。
【００１６】まずベースフィルム１として０．１ｍｍ厚
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このフ
ィルムにレーザー光を熱に変換する層２としてカーボン
粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を５ミクロンの厚
みにコーティングして室温硬化した。次に熱伝播および
剥離層３として、ポリαメチルスチレン膜を１ミクロン
の厚みにコーティングして形成し、その表面に、陰極層
４としてアルミニウム：リチウム（１０：１）を２００
ｎｍの厚みに蒸着した（図１）。
【００１７】次に発光層５としてＡｌｑ３
【００１８】
【化１】
【００１９】を７０ｎｍの厚みに蒸着した(図２)。
【００２０】次に正孔注入性接着層６として、ＮＰＤ
【００２１】
【化２】
【００２２】とポリビニルカルバゾールの混合物を溶媒
に溶かしてコーティング乾燥し、６０ｎｍとした(図
３)。
【００２３】こうして作製したフィルムを２５６本のス
トライプをパターニングしたＩＴＯ７付き透明ガラス基
板８に貼り付けた(図４)。
【００２４】次に、フィルム側から１３ＷのＹＡＧレー
ザー９にて、ＩＴＯのストライプパターンに対して交わ
るように６４本のストライプ状にパターニングした(図
５)。
【００２５】次にフィルムを剥がすと、図６に示したよ
うな構造の２５６×６４画素の有機ＥＬ基板が出来上が
った。
【００２６】次に、図７に示したように、この有機ＥＬ
基板１１に駆動用ドライバー１４、１５およびコントロ
ーラ１６を接続して、透明な保護基板を紫外線硬化型封
止剤１３で貼り付けて、保護基板側から紫外線を照射し
て硬化封止した。こうして作製した表示装置に駆動用電
源および信号を入力したところ、動画表示を行うことが
できた。
【００２７】本実施例で用いる転写用フィルムはポリエ
ステルの他、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホ
ン、など、大抵の樹脂を用いることができる。
【００２８】本実施例で用いる光−熱変換層の材料とし
ては、カーボン練り込み樹脂の他、レーザー光を効率よ
く熱に変換できる材料であれば同様に用いることができ
る。
【００２９】本実施例で用いる熱伝播層としては、ここ
に示したものの他、電極形成時の発熱に耐えうる低融点
（１００℃近辺が望ましい）の材料であれば同様に用い
ることができる。
【００３０】本実施例で形成する陰極材料は、アルミニ
ウム、リチウム、マグネシウム、カルシウム、およびこ
れらの合金やハロゲン化物などを用いることができる。
【００３１】本実施例で用いる発光材料は、キノリン等
の金属錯体、アゾメチン類の金属錯体、共役低分子類、
および共役高分子類など、有機ＥＬ材料であれば用いる
ことができる。また製膜方法も蒸着に限らず、溶媒に溶
かして塗布することもできる。
【００３２】本実施例で用いる正孔注入材料はＮＰＤの
他、トリフェニルアミン誘導体、ポルフィン化合物、ポ
リアニリンおよびその誘導体、ポリチオフェンおよびそ
の誘導体等、発光層と陽極を考慮して発光層に正孔注入
できる材料であれば用いることができる。
【００３３】本実施例で接着層に用いる材料としては、
正孔注入を妨げず、レーザー光による熱で溶融し、ＩＴ
Ｏおよびガラスへの接着性の優れる樹脂であれば用いる
ことができる。
【００３４】本実施例で用いる封止剤としては、紫外線
硬化型樹脂の他、熱硬化型樹脂も同様に用いることがで
きる。その際、保護基板は透明でなくてもよい。
【００３５】(実施例２)本実施例では、単純マトリック
ス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成し、次
に陰極層を形成し、次に電界発光性接着層を重ねて形成
した後、この多重層を形成したフィルムをストライプパ
ターニングしたＩＴＯ付き基板上に貼り付け、その後フ
ィルム裏面からレーザーを陰極形状を形成するように照
射することにより前記多重層を基板上に転写し、さらに
フィルムを取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動
手段を接続し、封止処理を施した例を示す。
【００３６】まず実施例1と同様にベースフィルム上に
光―熱変換層および熱伝播層陰極を形成し、次に電界発
光性接着層としてＭＥＨ−ＰＰＶ
【００３７】
【化３】
【００３８】を、クロロホルム溶液状態で製膜して乾燥
し、厚み７０ｎｍとした。
【００３９】こうして作製したフィルムを、以下実施例
１と同様にＩＴＯ付き透明ガラス基板に貼り付け、ドラ
イバー回路を実装して封止して有機ＥＬ表示装置を完成
した。。こうして作製した表示装置に駆動用電源および
信号を入力したところ、動画表示を行うことができた。
【００４０】（実施例３）本実施例では、実施例１にお
いて陰極と発光層の間に電子注入層を形成した例を示し
た。本実施例の有機ＥＬ表示装置の簡単な断面を図８に
示した。実施例１において、陰極形成後に、電子注入層
１０としてＺｎｑ２
【００４１】
【化４】
【００４２】を２０ｎｍの厚みに蒸着した。その後実施
例１に従って発光層以下の形成を行い、有機ＥＬ表示装
置を作製した。
【００４３】実施例１での有機ＥＬ表示装置では発光効
率２ｌｍ／Ｗである一方で本実施例では発光効率２．５
ｌｍ／Ｗであった。
【００４４】本実施例で用いる電子注入材料としてはオ
キサジアゾール誘導体の他、ポリフェニレンビニレン誘
導体、Ａｌｑ３などの有機金属錯体など、陰極および発
光層を考慮して電子注入できる材料であれば用いること
ができる。製膜方法については、陰極を侵さない方法で
あれば用いることができる。
【００４５】本実施例は同様に実施例２にも用いること
ができる。
【００４６】（実施例４）本実施例では、単純マトリッ
クス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法におい
て、フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成
し、次に陽極層を形成し、次に発光層を重ねて形成し、
次に電子注入機能付き接着層を重ねて形成した後、この
多重層を形成したフィルムを、パターニングした陰極付
き基板上に貼り付けて、その後フィルム裏面からレーザ
ーを陽極形状を形成するように照射して、次にフィルム
を取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動手段を接
続し、封止処理を施した例を示す。本発明の有機ＥＬ表
示装置の製造方法を示す簡単な断面図を図９から図１４
に示す。
【００４７】まずベースフィルムとして０．１ｍｍ厚の
ポリカーボネートフィルムを用い、このフィルム１に実
施例１に示した光―熱変換層２および熱伝播層３を形成
し、陽極層７としてインジウムチンオキサイドを２００
ｎｍの厚みにスパッタした（図９）。
【００４８】次に正孔注入層１７としてＭＴＤＡＴＡ
【００４９】
【化５】
【００５０】を１５ｎｍの厚みに蒸着し、次にＮＰＤを
２０ｎｍの厚みに蒸着した。さらに発光層５としてＡｌ
ｑ３を７０ｎｍの厚みに蒸着した(図１０)。
【００５１】次に電子注入機能付き接着層１８として、
ＰＰＶのクロロフィルム溶液を６０ｎｍとした(図１
１)。
【００５２】こうして作製したフィルムを２５６本のス
トライプをレーザーでパターニングしたアルミニウムと
リチウム合金の陰極付き透明ガラス基板に貼り付けた
(図１２)。
【００５３】次に、フィルム側からＹＡＧレーザー９に
て、ＩＴＯのストライプパターンに対して交わるように
６４本のストライプ状にパターニングした(図１３)。
【００５４】次にフィルムを剥がすと、図１４に示した
ような構造の２５６×６４画素の有機ＥＬ基板が出来上
がった。
【００５５】次に、図７に示したように、この有機ＥＬ
基板に駆動用ドライバーおよびコントローラを接続し
て、透明な保護基板をエポキシ系熱硬化型封止剤で貼り
付けて、室温で硬化封止した。こうして作製した表示装
置に駆動用電源および信号を入力したところ、動画表示
を行うことができた。また発光効率は３ｌｍ／Ｗであっ
た。
【００５６】本実施例で用いる材料および方法には実施
例１に示したものを用いることができる。
【００５７】(実施例５)本実施例では、単純マトリック
ス駆動に用いる有機ＥＬ表示装置の製造方法において、
フィルム上に光−熱変換層および熱伝播層を形成し、次
に陽極層を形成し、次に正孔注入層を形成し、次に電界
発光性接着層を形成した後、この多重層を形成したフィ
ルムを、パターニングした陰極付き基板上に貼り付け
て、その後フィルム裏面からレーザーを陽極形状を形成
するように照射して、次にフィルムを取り除き、前記多
重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処理を施
した例を示した。
【００５８】本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示
す簡単な断面図を図１５から図１８に示す。ベースフィ
ルムに陽極および正孔注入層を形成するまでは実施例３
によった。次に電界発光性接着層１９として、ＰＰＶ
【００５９】
【化６】
【００６０】のクロロホルム溶液をコーティング乾燥
し、６０ｎｍとした(図１５)。
【００６１】こうして作製したフィルムを２５６本のス
トライプをレーザーでパターニングしたアルミニウムと
リチウム合金の陰極４付き透明ガラス基板８に貼り付け
た(図１６)。
【００６２】次に、フィルム側から１３ＷのＹＡＧレー
ザー９にて、ＩＴＯのストライプパターンに対して交わ
るように６４本のストライプ状にパターニングした(図
１７)。
【００６３】次にフィルムを剥がすと、図１８に示した
ような構造の２５６×６４画素の有機ＥＬ基板が出来上
がった。
【００６４】次に、図７に示したように、この有機ＥＬ
基板に駆動用ドライバーおよびコントローラを接続し
て、保護基板を紫外線硬化型封止剤で貼り付けて、背面
から紫外線を照射して硬化封止した。こうして作製した
表示装置に駆動用電源および信号を入力したところ、動
画表示を行うことができた。また発光効率は３．５ｌｍ
／Ｗであった。
【００６５】本実施例で用いる材料および方法には実施
例１に示したものを用いることができる。
【００６６】(実施例６)本実施例では、実施例４におい
て発光層を形成する際に、前記発光層を、赤、緑、青に
発光する発光物質を溶媒に溶かしてインクジェットヘッ
ドを用いてそれぞれ塗布して形成した例を示す。本発明
の有機ＥＬ表示装置の製造方法を示す簡単な断面図を図
１９から図２５に示す。
【００６７】まずフィルム上に陰極を形成するまでは実
施例４によった。
【００６８】次に図１９に示すように、赤発光層２１と
してＭＥＨ−ＰＰＶのキシレン溶液をインクジェットヘ
ッド２０でストライプ状に塗布して乾燥し、次に図２０
に示すように、その隣に緑発光層２２としてＰＰＶのキ
シレン溶液をインクジェットヘッドでストライプ状に塗
布して乾燥し、次に図２１に示すように、前記ＭＥＨ−
ＰＰＶとＰＰＶ誘導体の間に青発光層２３としてフルオ
レン化合物
【００６９】
【化７】
【００７０】のキシレン溶液をインクジェットヘッドで
ストライプ状に塗布して乾燥した。
【００７１】次に電子注入性接着層１８として、ＰＰＶ
を溶媒に溶かしてコーティング乾燥し、厚み６０ｎｍと
した(図２２)。
【００７２】こうして作製したフィルムを、レーザーで
２５６本のストライプにパターニングしたアルミニウム
リチウム合金の陰極４付き透明ガラス基板８に発光層の
ストライプ方向を陰極のストライプ方向に合わせて貼り
付けた(図２３)。
【００７３】次に、フィルム側からＹＡＧレーザー７に
て、陰極２のストライプパターンに対して交わるように
６４本のストライプ状にパターニングした(図２４)。
【００７４】次にフィルムを剥がすと、図２５に示した
ような構造の２５６×６４画素の有機ＥＬ基板が出来上
がった。
【００７５】次に、図７に示したように、この有機ＥＬ
基板に駆動用ドライバーおよびコントローラを接続し
て、保護基板をエポキシ系熱硬化型封止剤で陽極上に貼
り付けて、駆動用電源および信号を入力したところ、動
画表示ができた。
【００７６】本実施例で用いる材料、製造条件には実施
例４に示されたものをそのまま用いることができる。
【００７７】本実施例では実施例４の構成に沿って実施
したが、他の実施例の発光層または電界発光性接着層の
製膜にも同様に応用できる。
【００７８】（実施例７）本実施例では、実施例６にお
いて、フィルム上に陰極を形成する前に発光層の分離隔
壁を形成した例を示す。図２６に示すように実施例５で
用いるフィルムに熱硬化性ポリイミドをスクリーン印刷
により、各色発光層の間の幅の隔壁２４を印刷し、加熱
硬化した。その後実施例６に示した方法により、有機Ｅ
Ｌ表示装置を完成した。
【００７９】こうして作製した表示装置を用いてカラー
表示したところ、発色の交じりが無く、極めて色鮮やか
な表示を行うことができた。
【００８０】分離隔壁を形成する材料、方法はここに示
したものに限らず、図２６に示した構造を作製できるな
ら、他の材料および方法を用いることができる。
【００８１】ここでは各色発光層の分子手段として隔壁
構造を用いたが、電極形成後画素間にインクを撥く処理
を施してもよい。
【００８２】
【発明の効果】従来極めて化学的に不安定な陰極をパタ
ーニングすることは難しかったが、本願によれば、この
陰極パターニングを容易に行うことができる。また素子
構造が従来と逆となる構成も可能になり、ガラス基板越
しに発光を取り出す場合に生じる導光効果による光の損
失を押さえることができる。その結果、発光効率の高い
有機ＥＬディスプレイを簡単な方法で安価に作製するこ
とができるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図２】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図３】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図４】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図５】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図６】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図７】実施例１の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図８】実施例３の有機ＥＬ表示装置の断面図である。
【図９】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示す
断面図である。
【図１０】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１１】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１２】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１３】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１４】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１５】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１６】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１７】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１８】実施例４の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図１９】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２０】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２１】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２２】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２３】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２４】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２５】実施例５の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【図２６】実施例６の有機ＥＬ表示装置の製造工程を示
す断面図である。
【符号の説明】
１…フィルム、２…光−熱変換層、３…熱伝播層、４…
陰極、５…発光層、６…正孔注入性接着層、７…陽極、
８…透明基板、９…レーザー、１０…電子注入層、１１
…有機ＥＬ素子、１２…保護基板、１３…封止剤、１４
…走査電極ドライバー、１５…信号電極ドライバー、１
６…コントローラ、１７…正孔注入層、１８…電子注入
性接着層、１９…電界発光性接着層、２０…インクジェ
ットヘッド、２１…赤発光層、２２…緑発光層、２３…
青発光層、２４…隔壁

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】単純マトリックス駆動に用いる有機ＥＬ表
    示装置の製造方法において、フィルム上に光−熱変換層
    および熱伝播層を形成し、次に陰極層を形成し、次に発
    光層を重ねて形成し、次に正孔注入性接着層を重ねて形
    成した後、この多重層を形成したフィルムをストライプ
    パターニングしたＩＴＯ付き基板上に貼り付け、その後
    フィルム裏面からレーザーを陰極形状を形成するように
    照射することにより前記多重層を基板上に転写し、さら
    にフィルムを取り除き、前記多重層を転写した基板に駆
    動手段を接続し、封止処理を施したことを特徴とする有
    機ＥＬ表示装置の製造方法。
  2. 【請求項２】単純マトリックス駆動に用いる有機ＥＬ表
    示装置の製造方法において、フィルム上に光−熱変換層
    および熱伝播層を形成し、次に陰極層を形成し、次に電
    界発光性接着層を重ねて形成した後、この多重層を形成
    したフィルムをストライプパターニングしたＩＴＯ付き
    基板上に貼り付け、その後フィルム裏面からレーザーを
    陰極形状を形成するように照射することにより前記多重
    層を基板上に転写し、さらにフィルムを取り除き、前記
    多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処理を
    施したことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
  3. 【請求項３】前記陰極層または前記電界発光性接着層
    と、前記発光層の間に電子注入層を形成したことを特徴
    とする請求項１または２記載の有機ＥＬ表示装置の製造
    方法。
  4. 【請求項４】単純マトリックス駆動に用いる有機ＥＬ表
    示装置の製造方法において、フィルム上に光−熱変換層
    および熱伝播層を形成し、次に陽極層を形成し、次に正
    孔注入層を形成し、次に発光層を重ねて形成し、次に電
    子注入性接着層を重ねて形成した後、この多重層を形成
    したフィルムを、パターニングした陰極付き基板上に貼
    り付けて、その後フィルム裏面からレーザーを陽極形状
    を形成するように照射して、次にフィルムを取り除き、
    前記多重層を転写した基板に駆動手段を接続し、封止処
    理を施したことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方
    法。
  5. 【請求項５】単純マトリックス駆動に用いる有機ＥＬ表
    示装置の製造方法において、フィルム上に光−熱変換層
    および熱伝播層を形成し、次に陽極層を形成し、次に正
    孔注入層を形成し、次に電界発光性接着層を形成した
    後、この多重層を形成したフィルムを、パターニングし
    た陰極付き基板上に貼り付けて、その後フィルム裏面か
    らレーザーを陽極形状を形成するように照射して、次に
    フィルムを取り除き、前記多重層を転写した基板に駆動
    手段を接続し、封止処理を施したことを特徴とする有機
    ＥＬ表示装置の製造方法。
  6. 【請求項６】前記発光層または電界発光性接着層を、イ
    ンクジェットヘッドで異なる色に発光する発光物質をそ
    れぞれ塗布することにより形成したことを特徴とする請
    求項１、２、４または５記載の有機ＥＬ表示装置の製造
    方法。
  7. 【請求項７】前記発光層または電界発光性接着層をイン
    クジェットヘッドで塗布する前に、各色領域の間にイン
    ク分離手段を施したことを特徴とする請求項６記載の有
    機ＥＬ表示装置の製造方法。
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