KR100700836B1 - 레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를이용한 유기 발광소자의 제조방법 - Google Patents

레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를이용한 유기 발광소자의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 레이저 열 전사법에 의해 억셉터기판과 밀착프레임을 자성력에 의해 효과적으로 밀착시킬 수 있도록 한 레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 유기 발광소자의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치는 도너필름 및 억셉터기판을 구비하여, 상기 도너필름의 전사층을 상기 억셉터기판에 전사하는 공정을 실시하는 공정챔버; 상기 공정챔버 내에 위치하며, 자석층을 구비한 상기 억셉터기판을 지지하는 기판스테이지; 상기 공정챔버 내에 상기 도너필름 및 상기 억셉터기판을 사이에 두고 상기 기판스테이지보다 상부에 위치하며, 자성체를 포함하는 밀착프레임; 및 상기 공정챔버의 외부 또는 내부에 형성되는 레이저 발진기를 포함한다. 이러한 구성에 의하여, 도너필름과 밀착프레임 사이의 밀착성이 향상될 뿐만 아니라 유기 발광소자의 수명, 수율 및 신뢰도를 향상시킬 수 있다.
레이저 열 전사 장치, 밀착프레임, 억셉터기판, 자석층, 자성체

Description

레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법 {Laser induced thermal imaging apparatus and laser induced thermal imaging method and fabricating method of organic light emitting diode using the same}
도 1은 종래기술에 따른 레이저 열 전사 장치의 부분단면도.
도 2는 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치의 일례를 나타낸 사시도.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 레이저 열 전사법을 나타낸 단면도.
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 유기 발광소자의 일례를 나타낸 단면도.
♣ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ♣
100: 챔버 200: 기판 스테이지
210 : 자성체 300: 밀착프레임
310: 자석층 400: 레이저 발진기
500a, 500b: 승강부
본 발명은 레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를 이용한 유 기 발광소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 레이저 열 전사법을 이용하여 억셉터기판 상에 유기막층을 형성할 시 자석층이 구비된 기판과, 자성체를 포함하는 밀착 프레임을 구비함으로써, 자기력에 의해 억셉터기판과 도너필름의 전사층 사이의 밀착특성을 향상시킬 수 있는 레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법이다.
유기 발광소자의 유기막층을 형성하는 방법 중, 증착법은 섀도우 마스크를 이용하여 유기 발광물질을 진공증착하여 유기막층을 형성하는 방법으로, 마스크의 변형 등에 의해 고정세의 미세패턴을 형성하기 어렵고, 대면적 표시장치에 적용하기 어렵다.
증착법의 문제점을 해결하기 위하여, 직접 유기막층을 패터닝하는 잉크젯 방식이 제안되었다. 잉크젯 방식은 발광재료를 용매에 용해 또는 분산시켜 토출액으로써 잉크젯 프린트 장치의 헤드로부터 토출시켜 유기막층을 형성하는 방법이다. 잉크젯 방식은 공정이 비교적 간단하지만, 수율저하나 막두께의 불균일성이 발생되고, 대면적의 표시장치에 적용하기 어려운 문제점이 있다.
한편, 레이저 열 전사법을 이용하여 유기막층을 형성하는 방법이 제안되었다. 레이저 열 전사법은 기재기판, 광-열 변환층 및 전사층을 포함하는 도너필름에 레이저를 조사시켜 기재기판을 통과한 레이저를 광-열 변환층에서 열로 변환시켜 광-열 변환층을 팽창시킴으로써, 인접한 전사층을 팽창시켜, 억셉터기판에 전사층이 접착되어 전사되게 하는 방법이다. 레이저 열 전사법은 레이저로 유도된 이미징 프로세스로 고해상도의 패턴 형성, 필름 두께의 균일성, 멀티레이어 적층 능 력, 대형 마더글래스로의 확장성과 같은 고유한 이점을 가지고 있다.
종래에 레이저 열 전사법을 실시할 경우, 전사가 이루어지는 챔버 내부는 발광표시소자 형성시의 증착 공정과 동조되도록 하기 위하여 진공상태에서 이루어지는 것이 바람직하다. 그러나, 종래의 진공상태에서 레이저 열 전사를 행하는 경우, 도너필름과 억셉터기판 사이에 이물질이나 공간이 생기게 되어 전사층의 전사 특성이 좋지 않게 되는 문제점이 있다. 따라서, 레이저 열 전사법에 있어서, 도너필름과 억셉터기판을 라미네이션시키는 방법은 중요한 의미를 가지며, 이를 해결하기 위한 여러가지 방안이 연구되고 있다.
이하에서는 도면을 참조하여 종래기술에 따른 레이저 열 전사법 및 레이저 열 전사 장치를 구체적으로 설명한다.
도 1은 종래기술에 따른 레이저 열 전사 장치의 부분단면도이다.
도 1을 참조하면, 레이저 열 전사 장치(100)는 챔버(110) 내부에 위치하는 기판스테이지(120) 및 챔버(110) 상부에 위치한 레이저 조사장치(130)를 포함하여 구성된다.
기판스테이지(120)는 챔버(110)로 도입되는 억셉터기판(140)과 도너필름(150)을 각각 순차적으로 위치시키기 위한 것으로서, 기판스테이지(120)에는 억셉터기판(140)과 도너필름(150)을 각각 정렬되게 하기 위한 제1 장착홈(121) 및 제2 장착홈(123)이 형성되어 있다. 제1 장착홈(121)이 억셉터기판(140)의 둘레방향을 따라 형성되고, 제2 장착홈(123)은 도너필름(150)의 둘레방향을 따라 형성된다. 통상적으로, 억셉터기판(140)은 도너필름(150)보다 면적이 작으므로, 제2 장착홈 (123)보다 제1 장착홈(121)을 작게 형성한다.
이 때, 억셉터기판(140)과 도너필름(150)의 사이에 이물질이나 공간없이 라미네이션시키기 위하여, 레이저 열 전사가 이루어지는 챔버(110) 내부를 진공으로 유지하지 않고, 제1 장착홈(121) 및 제2 장착홈(123)의 하부 일구간에 파이프(161, 163)를 연결하고, 진공펌프(P)로 흡입하여 억셉터기판(140)과 도너필름(150)을 합착시킨다.
그러나, 진공펌프에 의해서 억셉터기판과 도너필름을 밀착시키는 방법은 유기 발광소자를 제작하는 다른 공정이 진공상태를 유지하는 것과 달리 챔버내부의 진공상태를 유지하지 못하게 됨으로써, 제품의 신뢰성과 수명에 좋지 못한 영향을 미치는 문제점이 있다.
따라서, 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 밀착 프레임과 억셉터기판 간의 자기력을 이용하여 도너필름의 전사층을 억셉터기판에 전사하는 공정을 통해 유기 발광층을 형성하는 레이저 열 전사 장치 및 레이저 열 전사법 그리고 이를 이용한 유기 발광소자의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위한 기술적 수단으로 본 발명의 일 측면에 따른 레이저 열 전사 장치는 도너필름 및 억셉터기판을 구비하여, 상기 도너필름의 전사층을 상기 억셉터기판에 전사하는 공정을 실시하는 공정챔버와, 상기 공정챔버 내에 위치하며, 자석층을 구비한 상기 억셉터기판을 지지하는 기판스테이지와, 상기 공 정챔버 내에 상기 도너필름 및 상기 억셉터기판을 사이에 두고 상기 기판스테이지보다 상부에 위치하며, 자성체를 포함하는 밀착프레임 및 상기 공정챔버의 외부 또는 내부에 형성되는 레이저 발진기를 포함한다.
본 발명의 다른 측면에 따른 레이저 열 전사법은 공정챔버 내의 기판 스테이지와 자성체가 형성된 밀착 프레임 사이에 적어도 일면에 자석층이 형성된 억셉터기판을 위치시키는 단계와, 상기 억셉터기판 상에 도너필름을 위치시키는 단계와, 상기 밀착프레임에 형성된 자성체와 상기 억셉터기판의 자석층 사이에 작용하는 자기력에 의해 상기 도너필름과 상기 억셉터기판을 라미네이션하는 단계 및 상기 도너필름 상에 레이저를 조사하여 전사층의 적어도 일영역을 억셉터기판 상에 전사시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 측면에 따른 레이저 열 전사법을 이용한 유기 발광소자의 제조방법은 레이저 열 전사법에 의해 제1 전극층과 제2 전극층 사이에 발광층이 형성되는 유기 발광소자의 제조방법에 있어서, 기판스테이지 상에 화소 영역이 형성되고, 자석층을 포함하는 억셉터기판을 자성체를 포함한 밀착프레임 하부에 위치시키는 억셉터기판 이송단계와, 상기 억셉터기판 상에 발광층을 구비한 도너필름을 이송시키는 도너필름 이송단계와, 상기 억셉터기판에 형성된 상기 자석층과 상기 밀착프레임에 형성된 상기 자성체 사이의 자기력에 의해 상기 억셉터기판과 상기 도너필름을 접합하는 라미네이션 단계 및 상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 억셉터기판의 상기 화소 영역에 상기 발광층을 전사하는 전사단계를 포함한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하 면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치의 일례를 나타낸 사시도이다.
도 2를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치는 챔버(230), 기판 스테이지(200), 밀착프레임(300), 레이저 발진기(400) 및 승강부(500a, 500b)를 포함한다.
공정챔버(230)에서는 기판(250) 상에 소정의 유기물을 전사하기 위한 증착원인 도너필름(350)을 전사하는 공정을 실시한다. 따라서, 공정챔버(230) 내부에는 기판(250)과 도너필름(350)의 합착 공정을 실시하기 위한 수단으로 적어도 기판 스테이지(200)와 밀착프레임(300)이 구비된다. 이때, 공정챔버(230)는 진공 상태이다.
기판 스테이지(200)는 억셉터기판(250)과 도너필름(350)을 각각 정렬하는 제 1 정렬홈(202a)과 제 2 정렬홈(202b)으로 구성된다. 일반적으로, 도너필름(350)은 억셉터기판(250)보다 그 면적이 넓으므로, 제 2 정렬홈(202b)은 제 1 정렬홈(202a)의 외주에 도너필름(350)의 형상을 따라 형성된다. 이때, 제 1 정렬홈(202a)과 제 2 정렬홈(202b)은 소정의 단차를 가지고 형성되며, 제 2 정렬홈(202b)이 제 1 정렬홈(202a)보다 소정의 높이만큼 높게 형성된다.
밀착프레임(300)은 자성체(310)를 구비하며, 공정챔버(230) 내에 억셉터기판(250) 및 도너필름(350)을 사이에 두고 기판 스테이지(200)보다 상부에 위치한다. 그리고, 밀착프레임(300)에는 도너필름(350)의 전사될 부분에 대응하는 패턴의 개구부(311)가 형성된다. 즉, 억셉터기판(250)상에 유기물을 전사하기 위한 전사원 으로 도너필름(350)을 사용하기 때문에 기판(250)상에 전사될 유기물에 대응하는 도너필름(350)이 전사되어야 한다. 따라서, 밀착프레임(300)에 소정 패턴의 개구부(311)를 형성하여 원하는 만큼의 도너필름(350)을 억셉터기판(250)상에 전사한다. 한편, 밀착프레임(300)은 그 자체가 자성체(310)로 형성될 수 있으며, 밀착프레임(300)의 상부 면 또는 하부 면에 자성체(310)가 형성될 수도 있다. 그리고, 밀착프레임(300)은 밀착프레임 트레이(301)에 의해 고정되어 상하로 구동된다.
한편, 억셉터기판(250)의 상부 면 또는 하부 면에 자석층(210)이 부착되며, 바람직하게는 억셉터기판(250)의 하부 면이나 또는 기판(250)과 버퍼층(미도시) 사이에 형성된다. 전술한 밀착프레임(300)은 억셉터기판(250)과의 자기력에 의해 억셉터기판(250)과 도너필름(350)을 밀착시킨다. 따라서, 밀착프레임(300)과 억셉터기판(250)은 각각 자성체 및 자석층을 구비하여야 한다. 바람직하게는, 억셉터기판(250)은 영구자석층을 포함하고, 밀착프레임(300)이 자성체로 형성되거나, 또는 억셉터기판(250)이 전자석층을 포함하고, 밀착프레임(300)이 자성체로 형성된다. 이때, 영구자석층 및 전자석층은 적어도 하나의 막대 또는 원통 형상으로 형성된다. 또한, 영구자석층은 영구 자석 나노입자로 구성된다.
레이저 발진기(400)는 챔버(230)의 외부 또는 내부에 형성될 수 있으며, 바람직하게는 밀착프레임(300)의 상부에 위치하여 밀착프레임(300) 상에 레이저를 전사한다.
승강부(500a, 500b)는 제 1 승강부(500a)와 제 2 승강부(500b)로 구분한다. 그리고, 제 1 승강부(500a)는 제 1 핀(550a)을 구비하여 억셉터기판(250)을 상, 하 구동하고, 제 2 승강부(500b)는 제 2 핀(550b)을 구비하여 도너필름(350)을 상, 하 구동한다. 일례로, 먼저 제 1 승강부(500a)를 상승시켜 이동 수단(미도시)로부터 억셉터기판(250)을 전달받아 다시 하강하여 제 1 정렬홈(202a)에 정렬한다. 그 다음 제 2 승강부(500b)를 상승시켜 이동 수단(미도시)로부터 도너필름(350)을 전달받아 다시 하강하여 제 2 정렬홈(202b)에 정렬한다. 이와 같은 동작으로 억셉터기판(250)과 도너필름(350)을 합착시킨다. 이때, 도너필름(350)은 필름 트레이(301)에 의해 고정되어 승강한다.
상술한 본 발명에 따른 레이저 열 전사 장치는, 승강 구동부(미도시)를 더욱 구비하여 밀착프레임(300)과 연결하고, 승강 구동부에 의해 밀착프레임(300)이 상, 하 구동된다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명에 따른 레이저 열 전사법을 나타낸 도이다.
도 3a 내지 도 3e를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 레이저 열 전사법은 먼저, 소정의 공정챔버(230)를 구비하고, 엔드 이펙터(700)를 이용하여 기판 스테이지(200)의 제 1 정렬홈(202a) 상에 기판(250)을 정렬한다. 이때, 제 1 승강부(500a)를 상승시켜 제 1 승강부(500a)에 구비된 제 1 핀(550a)을 이용하여 엔드 이펙터(700)로부터 기판(250)을 전달받아 지지한다. (도 3a) 그리고 나서, 엔드 이펙터(700)를 공정챔버(230)의 외부로 빼낸다.(도 3b)
그 다음 공정으로 엔드 이펙터(700)를 이용하여 기판 스테이지(200)의 제 2 정렬홈(202b) 상에 도너필름(350)을 정렬한다. 이때, 제 2 승강부(500b)를 상승시켜 제 2 승강부(500b)에 구비된 제 2 핀(550b)을 이용하여 엔드 이펙터(700)로부터 도너필름(350)을 전달받아 지지한다.(도 3c) 그리고 나서, 미리 배치되어 있는 억셉터기판(250)상에 도너필름(350)을 밀착한다. 이때, 도너필름(350)은 필름 트레이(351)에 의해 고정되어 있는 형태로 제 2 정렬홈(202b) 상에 정렬된다. (도 3d)
그 다음, 밀착되어 있는 억셉터기판(250)과 도너필름(350) 사이에 미세한 공극이 생기지 않도록 밀착 강도를 조절하여 밀착프레임(300)을 도너필름(350) 상에 밀착한다. 이때, 밀착프레임(300)은 밀착프레임 트레이(301)에 의해 고정된 상태로 하강한다. 그리고, 억셉터기판(250)의 상부 또는 하부에 자석층(210)이 구비되어 있기 때문에 밀착프레임(300)과 억셉터기판(250)의 밀착 강도를 조절하여 억셉터기판(250)과 도너필름(350)의 접착 특성을 향상시킬 수 있다. 후속 공정으로 레이저 발진기(400)를 이용하여 소정 패턴의 개구부(미도시)가 구비된 밀착프레임(300) 상에 레이저 전사 공정을 실시한다. 이때, 도너필름(350)은 억셉터기판(250)에 유기물을 전사할 전사원이므로 소정의 패턴으로 기판(250) 상에 전사된다. 따라서, 밀착프레임(300)에 소정 패턴의 개구부를 구비하고, 밀착프레임(300) 상에 레이저를 조사함으로써 소정 패턴의 유기물을 억셉터기판(250)상에 전사한다. 즉, 밀착프레임(300)은 레이저가 소정의 영역에만 조사될 수 있는 마스크로서의 역할을 할 수 있다.(도 3e)
상술한 본 발명에 따른 레이저 열 전사법에 의하면, 억셉터기판(250)과 도너필름(350)을 밀착시킨 후 밀착프레임(300)으로 하중을 가하는 공정에서 억셉터기판(250)은 고정하고, 밀착프레임(300)을 하강하여 상술한 공정을 진행한다. 그리고, 도 2e에 도시된 공정이 완료되면, 승강 구동부(미도시)를 이용하여 밀착프레임 (300)을 다시 상승하여 원위치시킨다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 유기 발광소자의 일례를 나타낸 도이다.
도 4a 및 도 4b를 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 유기 발광소자는 기판(800)상에 버퍼층(802), 반도체층(803), 게이트 절연층(804), 게이트 전극(805), 층간 절연층(806), 소스 및 드레인 전극(807a, 807b) 및 평탄화층(808) 등이 형성된다.
기판(800) 상에는 먼저, 버퍼층(802)이 형성되며, 상기 버퍼층(802)의 일 영역상에는 액티브층(803a) 및 오믹 콘택층(803b)을 포함하는 반도체층(803)이 형성된다. 그리고, 도 3a에 도시된 바와 같이 상기 기판(800)의 하부 면에 자석층(801)이 형성될 수 있고, 도 3b에 도시된 바와 같이 상기 기판(800)과 상기 버퍼층(802) 사이에 자석층(801)이 형성될 수도 있다. 이때 상기 자석층(801)은 영구자석층 또는 전자석층이며, 하나의 평면 형태로 배치될 수 있으나, 바람직하게는 복수의 자석(801)을 구비하여 동심 원형 또는 가로 및 세로의 복수 열로 형성한다.
상기 반도체층(803)을 포함하여 상기 버퍼층(802) 상에는 게이트 절연층(804)이 형성되고, 상기 게이트 절연층(804)의 일 영역 상에는 액티브층(803a)의 폭에 대응하는 크기의 게이트 전극(805)이 형성된다.
상기 게이트 전극(805)을 포함하여 상기 게이트 절연층(804) 상에는 층간 절연층(806)이 형성되며, 상기 층간 절연층(806)의 소정의 영역 상에는 소스 및 드레인 전극(807a,807b)이 형성된다.
상기 소스 및 드레인 전극(807a,807b)은 상기 오믹 콘택층(803b)의 노출된 일 영역과 각각 접속되도록 형성되며, 상기 소스 및 드레인 전극(807a,807b)을 포함하여 상기 층간 절연층(806)상에는 평탄화층(808)이 형성된다.
상기 평탄화층(808)의 일 영역 상에는 제 1 전극층(809)이 형성되며, 이때 상기 제 1 전극(809)은 상기 소스 및 드레인 전극(807a,807b)중 어느 하나의 노출된 일 영역과 접속되도록 한다.
상기 제 1 전극층(809)을 포함하여 상기 평탄화층(808) 상에는 상기 제 1 전극층(809)의 적어도 일 영역을 노출하는 개구부(미도시)가 구비된 화소정의막(810)이 형성된다.
상기 화소정의막(810)의 개구부 상에는 발광층(811)이 형성되며, 상기 발광층(811)을 포함하여 상기 화소정의막(810)상에는 제 2 전극층(812)이 형성된다.
본 발명의 기술 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명의 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 변형 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 레이저 열 전사법에 의해 도너필름과 억셉터기판을 라미네이션할 시에, 레이저 열 전사가 진공상태에서 이루어지면서도 도너필름과 억셉터기판 사이에 이물질 및 공간이 생기지 않게 함과 동시에, 억셉터기판에 형성된 자석층과, 밀착프레임에 형성된 자성체 사이에 발생하는 자기력에 의해 도너필름과 억셉터기판을 라미네이션함으로써, 밀착성 및 유기 발광 소자의 수명, 수율 및 신뢰도를 향상시킬 수 있다.

Claims (17)

  1. 도너필름 및 억셉터기판을 구비하여, 상기 도너필름의 전사층을 상기 억셉터기판에 전사하는 공정을 실시하는 공정챔버;
    상기 공정챔버 내에 위치하며, 자석층을 구비한 상기 억셉터기판을 지지하는 기판스테이지;
    상기 공정챔버 내에 상기 도너필름 및 상기 억셉터기판을 사이에 두고 상기 기판스테이지보다 상부에 위치하며, 자성체를 포함하는 밀착 프레임; 및
    상기 공정챔버의 외부 또는 내부에 형성되는 레이저 발진기를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 밀착 프레임의 상부 면 또는 하부 면에 상기 자성체가 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 밀착 프레임 자체가 상기 자성체로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 억셉터기판의 상부 면 또는 하부 면에 상기 자석층이 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 자석층은 영구자석층인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 영구자석층은 적어도 하나의 막대 또는 원통 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 영구자석층은 영구 자석 나노입자로 구성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 자석층은 전자석층인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 전자석층은 적어도 하나의 막대 또는 원통 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  10. 제1항에 있어서, 상기 밀착프레임은 상기 도너필름의 전사될 부분에 대응하는 패턴의 개구부가 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 밀착 프레임과 연결되어 상기 밀착 프레임의 상, 하 구동을 조절하는 승강 구동부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 승강 구동부는 상기 도너필름과 상기 억셉터기판의 밀착 강도를 조절하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  13. 제1항에 있어서, 상기 레이저 발진기는 상기 밀착 프레임보다 상부에 위치하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  14. 제1항에 있어서, 상기 공정챔버는 진공챔버인 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사 장치.
  15. 공정챔버 내의 기판 스테이지와 자성체가 형성된 밀착 프레임 사이에 적어도 일면에 자석층이 형성된 억셉터기판을 위치시키는 단계;
    상기 억셉터기판 상에 도너필름을 위치시키는 단계;
    상기 밀착 프레임에 형성된 자성체와 상기 억셉터기판의 자석층 사이에 작용하는 자기력에 의해 상기 도너필름과 상기 억셉터기판을 라미네이션하는 단계; 및
    상기 도너필름 상에 레이저를 조사하여 전사층의 적어도 일영역을 억셉터기판 상에 전사시키는 단계를 포함하는 레이저 열 전사법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 억셉터기판 상에 상기 도너필름을 위치시키는 단계를 진행한 후에, 상기 밀착 프레임을 하강하여 상기 억셉터기판과 상기 도너필름을 밀착하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 열 전사법.
  17. 레이저 열 전사법에 의해 제1 전극층과 제2 전극층 사이에 발광층이 형성되는 유기 발광소자의 제조방법에 있어서,
    기판스테이지 상에 화소 영역이 형성되고, 자석층을 포함하는 억셉터기판을 자성체를 포함한 밀착프레임 하부에 위치시키는 억셉터기판 이송단계;
    상기 억셉터기판 상에 발광층을 구비한 도너필름을 이송시키는 도너필름 이송단계;
    상기 억셉터기판에 형성된 상기 자석층과 상기 밀착프레임에 형성된 상기 자성체 사이의 자기력에 의해 상기 억셉터기판과 상기 도너필름을 접합하는 라미네이션 단계; 및
    상기 도너필름에 레이저를 조사하여 상기 억셉터기판의 상기 화소 영역에 상기 발광층을 전사하는 전사단계를 포함하는 레이저 열 전사법을 이용한 유기 발광소자의 제조방법.
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