KR101182235B1 - 증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치 - Google Patents

증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 포함하는 증착용 마스크에 있어서, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 직접 용접되어 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면이 형성되는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크, 상기 증착용 마스크를 제조하는 방법 및 제조 장치를 제공한다.
따라서, 본 발명은 보조 프레임을 사용하지 않고, 분할마스크들을 직접 용접하기 때문에 종래와 같은 쉐도우 현상이 발생하지 않고, 또한, 파단강도에 있어서도 매우 양호한 용접 품질을 확보할 수 있는 증착용 마스크를 제공할 수 있다.
마스크, 쉐도우, 용접면

Description

증착용 마스크, 그의 제조 방법 및 제조 장치 {Mask for evaporation, manufacturing method and manufacturing apparatus for the same}
본 발명은 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 포함하는 증착용 마스크, 그의 제조방법 및 제조장치에 관한 것이다.
일반적으로, 유기전계발광소자는 ITO와 같은 투명전극인 제 1 전극(anode)과 일함수가 낮은 금속(Ca, Li, Al 등)을 사용한 제 2 전극(cathode) 사이에 유기막층이 있는 구조로 구성된다. 이러한 유기전계발광소자에 순방향의 전압을 인가하면, 양극과 음극에서 각각 정공(hole)과 전자(electron)는 결합하여 엑시톤(exciton)을 형성하고, 엑시톤이 발광 재결합하여 전기 발광 현상을 일으킨다.
상기 제 1 전극은 반사형 즉, 빛을 반사하도록 형성하고 상기 제 2 전극은 투과형 즉, 빛을 투과하도록 형성함으로써, 상기 유기막층으로부터 방출되는 빛을 상기 제 2 전극방향으로 방출시키는 유기전계발광소자를 제조할 수 있다.
이때 상기 유기막층은 여러 방법으로 형성될 수 있는데, 그 중 한 방법이 증 착이며, 상기 증착 방법을 이용하여 유기전계발광표시장치를 제작하기 위해서는 박막 등이 형성될 면에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 마스크를 밀착시키고 박막 등의 재료를 증착하여 소정 패턴의 박막을 형성한다.
도 6은 증착용 마스크를 구비한 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 6을 참조하면, 마스크(1)를 이용하여 유기전계발광표시장치의 박막, 즉 발광층을 포함하는 유기막층을 증착하기 위해서는, 진공챔버(2)에 설치된 박막 증착 용기(crucible ; 3)와 대응되는 측에 마스크와 결합된 프레임(4)을 설치하고 이의 상부에 박막 등이 형성될 대상물(5)을 장착한다. 그리고 그 상부에는 프레임(4)에 지지된 마스크(1)를 박막 등이 형성될 대상물(5)에 밀착시키기 위한 마그네트 유니트(6)를 구동시켜 상기 마스크(1)가 상기 박막 등이 형성될 대상물(5)에 밀착되도록 한다. 이 상태에서 상기 박막 증착 용기(3)의 작동으로 이에 장착된 물질이 상기 대상물(5)에 증착되게 된다.
한편, 평판 표시 장치가 대형화됨에 따라, 상기와 같은 마스크도 대형화되어야 한다. 하지만, 현 마스크의 제조업체 수준으로는 예를 들면, 5.5G급 기판 사이즈(1320mm×1500mm)에 대응되는 마스크를 제조할 수 없으며, 이로 인하여 분할마스크를 사용할 수 밖에 없는 실정이다.
이러한 분할 마스크는 한국 공개 특허 10-2008-0058602호에서와 같이, 일반적으로 마스크 프레임을 창살형 보조 프레임으로 균등 4분할하고, 각 분할된 개구부에 대응되어 위치하는 마스크를 용접하는 방식을 사용한다.
하지만, 이상과 같이 마스크 프레임을 보조프레임으로 균등 분할하고, 각 분할된 개구부에 마스크를 용접하는 방식은 상기 보조프레임에 의한 쉐도우 현상이 발생하여 균일한 증착이 어려운 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 단점과 문제점을 해결하기 위한 것으로, 마스크를 대형화함에 있어서, 보조프레임에 의한 쉐도우 현상이 발생하지 않는 증착용 마스크를 제공하는데 목적이 있다.
전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 포함하는 증착용 마스크에 있어서, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 직접 용접되어 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면이 형성되는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 상면에 버(burr)를 포함하며, 상기 버(burr)의 높이는 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 증착용 마스크를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크 간의 갭은 상기 분할마스크 두께(t)의 10% 이하인 것을 특징으로 하는 증착용 마스크를 제공한다.
또한, 본 발명은 작업 스테이지 상부에 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 어라인하는 단계; 클램프를 이동시켜 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 고정하는 단계; 용접부위 누름판을 이동시켜 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크의 용접 예정 영역 주변을 밀착하는 단계; 및 레이저 용접부를 구동시켜 상 기 용접 예정 영역을 용접하는 단계를 포함하는 증착용 마스크의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 레이저 용접부의 전, 후로 제1롤러부 및 제2롤러부를 더 포함하며, 상기 제1롤러부 또는 제2롤러부는 용접 작업을 진행하면서 분할마스크와 작업 스테이지를 밀착하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 레이저 용접부에 의해 발생된 레이저 빔 프로파일은 레이저 빔강도가 최고 피크인 위치가 복수개 존재하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 작업 스테이지; 상기 작업 스테이지 상부에 위치하는 제1분할마스크 및 제2분할마스크; 상기 작업 스케이지 상에 위치하고, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 고정하기 위한 클램프; 상기 작업 스케이지 상에 위치하고, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 용접 예정 영역을 밀착하기 위한 용접부위 누름판; 및 상기 작업 스케이지 상부에 위치하는 레이저 용접부를 포함하는 증착용 마스크 제조장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 작업 스테이지 상에 위치하는 마스터 기판을 더 포함하며, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 상기 마스터 기판 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 레이저 용접부의 전, 후로 각각 제1롤러부 및 제2롤러부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치를 제공한다.
따라서, 본 발명은 증착용 마스크는 보조 프레임을 사용하지 않고, 분할마스크들을 직접 용접하기 때문에 종래와 같은 쉐도우 현상이 발생하지 않고, 또한, 파단강도에 있어서도 매우 양호 한 용접 품질을 확보할 수 있는 증착용 마스크를 제공할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용효과에 관한 자세한 사항은 본 발명의 바람직한 실시 예를 도시하고 있는 도면을 참조한 이하 상세한 설명에 의해 보다 명확하게 이해될 것이다. 또한 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 1a는 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치를 나타내는 개략적인 사시도이고, 도 1b는 도 1a의 A-A선에 따른 단면도이다.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치는 작업 스테이지(110) 상에 위치하는 마스터 기판(120)을 포함하고, 또한, 레이저 용접부(160) 및 CCD 카메라(150)를 포함하고 있다.
이때, 상기 마스터 기판(120) 상에 본 발명에 따른 증착용 마스크를 제조하 기 위한 제1분할마스크(170a) 및 제2분할마스크(170b)가 위치한다. 이때, 도면에서는 상기 분할마스크의 개수를 2개로 표현하였지만, 요구되는 마스크의 크기에 따라 다양한 개수가 될 수 있으며, 본 발명에서 상기 분할마스크의 개수를 한정하는 것은 아니다.
한편, 작업 스테이지 상에(110)에 상기 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 고정하기 위한 클램프(130)가 위치하고 있다. 즉, 상기 클램프는 작업 진행중에 상기 분할마스크가 움직이지 않도록 고정하는 수단으로, 도면에서는 1쌍의 클램프만을 도시하고 있으나, 필요에 따라 복수의 클램프를 구비할 수 있으며, 따라서, 본 발명에서 상기 클램프의 개수를 한정하는 것은 아니며, 또한, 클램프가 구비되는 위치도 한정하는 것은 아니다.
또한, 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치는 작업 스테이지 상(110)에 위치하고, 상기 제1분할마스크 및 제2분할마스크가 용접되는 영역의 주변에 위치하는 용접 부위 누름판(140)을 포함하는 것을 특징으로 한다.
즉, 상기 용접부위 누름판은 각각의 분할마스크의 용접 예정 영역을 밀착시켜 정밀한 용접을 하기 위한 것으로, 제1분할마스크 영역 및 제2분할마스크 영역에 각각 위치하고 있다. 한편, 상술한 바와 같이, 분할마스크의 개수가 복수인 경우, 각각의 분할마스크의 용접 예정 영역의 주변에 각각 용접 부위 누름판을 포함할 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치 중 레이저 용접부를 포함하는 지지부를 나타내는 개략적인 사시도이다.
본 발명에 따른 레이저 용접부를 포함하는 지지부(191)는 상술한 바와 같은 레이저 용접부(160) 및 CCD 카메라(150)를 포함하고 있으며, 또한, 상기 레이저 용접부(160)의 전, 후로 제1롤러부(180a) 및 제2롤러부(180b)를 포함하고 있다. 이때, 레이저 용접부의 전, 후라 함은 상기 지지부가 가이드 바(190)을 따라 이동하는 방향을 기준으로 한다.
즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 지지부(191)가 가이드 바(190)을 따라 X방향으로 이동하는 경우에는 제1롤러부(180a)가 레이저 용접부의 전에 위치하는 것이고, 제2롤러부(180b)가 레이저 용접부의 후에 위치하는 것이며, 또한, 지지부(191)가 가이드 바(190)을 따라 Y방향으로 이동하는 경우에는 제2롤러부(180b)가 레이저 용접부의 전에 위치하는 것이고, 제1롤러부(180a)가 레이저 용접부의 후에 위치하는 것이다. 상기 제1롤러부(180a) 및 제2롤러부(180b)의 역할은 후술하기로 한다.
한편, 도면에는 도시하지 않았으나, 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치는 작업 스테이지(110)를 상하 방향으로 구동하는 스테이지 상하 구동수단을 더 구비할 수 있다. 상기 스테이지 상하 구동수단은 작업부재, 즉, 분할마스크의 로딩 및 언로딩 등의 작업을 용이하게 하기 위하여 작업스테이지를 상승 또는 하강 시킬 수 있다. 또한, 상기 레이저 용접부(160)에는 상기 분할마스크의 용접지점에 질소가스 등을 공급하는 가스 공급장치를 더 구비할 수 있다. 다만, 이러한 구동수단 또는 가스 공급장치 등은 당업계에 자명한 사항이므로, 구체적인 설명은 생략하기로 한다.
이하에서는 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치를 사용하여 증착용 마스 크를 제조하는 방법을 설명하기로 한다.
먼저, 작업 스테이지(110) 상부에 용접하고자 하는 분할마스크, 즉, 제1분할마스크(170a) 및 제2분할마스크(170b)를 어라인시킨다. 이때, 상기 CCD 카메라(150)를 통해 정밀한 어라인을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제1분할마스크(170a) 및 제2분할마스크(170b)를 어라인시키기 위하여 상술한 스테이지 구동수단을 이용하여 작업 스테이지를 구동시켜 제1분할마스크(170a) 및 제2분할마스크(170b)를 로딩시킬 수 있다.
이때, 상기 제1분할마스크(170a) 및 제2분할마스크(170b)를 어라인시키는 것은 작업 스테이지(110) 상부의 마스터 기판(120) 상에 위치시킬 수 있다. 이때, 상기 마스터 기판(120)은 상기 분할마스크를 작업 스테이지 상부에 위치시킴에 있어 정밀한 얼라인을 위하여 참조점 또는 기준점을 제시하기 위한 것으로, 본 발명에서 상기 마스터 기판(120)은 구비하지 않을 수 있다. 또한, 상기 마스터 기판은 작업 스테이지(110) 상에 위치하지 않고, 작업 스테이지 내부에 삽입된 구조도 가능하다.
이때, 상기 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 어라인하는 것은 후술할 바와 같이, 분할마스크 두께의 10% 이하의 갭을 유지하면서 어라인시키는 것이 바람직하다.
즉, 제1분할마스크 및 제2분할마스크의 각각의 측면이 서로 맞닿으면서 어라인되는 것이 가장 바람직할 것이나, 제조장비의 한계 및 어라인 기술의 한계로 인하여 일정부분 갭이 발생하게 된다. 따라서, 본 발명에서는 상기 제1분할마스크와 제2분할마스크간의 갭을 분할마스크 두께의 10% 이하로 함으로써, 양호한 용접품질을 확보할 수 있다.
다음으로, 작업 스테이지 상에(110)에 위치하는 클램프(130)을 이동시켜 상기 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 고정시킨다.
다음으로, 용접부위 누름판(140)을 이동시켜 각각의 분할마스크의 용접 예정 영역 주변을 밀착시킴으로써, 각각의 분할마스크의 용접 예정 영역을 보다 정밀하게 용접할 수 있다.
이때, 상기 클램프 및 용접부위 누름판을 이동시키는 것은 모터 등과 같은 구동수단을 통해 이동시킬 수 있으며, 이들의 이동 순서에 제한을 두는 것은 아니다.
다으므로, 레이저 용접부(160)을 구동시켜 용접 작업을 진행한다.
이때, 도 2에서 알 수 있는 바와 같이 용접 작업은 X 방향 또는 Y 방향으로 진행될 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이, 상기 레이저 용접부(160)의 전, 후로 제1롤러부(180a) 및 제2롤러부(180b)를 포함되어 있어, 용접 작업을 진행하면서 분할마스크와 작업 스테이지 간의 밀착성을 향상시키고, 용접에 의해 각각의 분할마스크의 상면에 발생된 버(burr)를 평탄화하여 용접부의 평탄도를 더욱 정밀하게 할 수 있다.
즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 지지부(191)가 가이드 바(190)을 따라 X방향으로 이동하는 경우에는 레이저 용접부의 전에 위치하는 제1롤러부(180a)에 통해 분할마스크와 작업 스테이지 간의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 레이저 용접부의 후에 위치하는 제2롤러부(180b)를 통해 용접에 의해 각각의 분할마스크의 상면에 발생된 버(burr)를 평탄화하여 용접부의 평탄도를 더욱 정밀하게 할 수 있다.
또한, 지지부(191)가 가이드 바(190)을 따라 Y방향으로 이동하는 경우에는 레이저 용접부의 전에 위치하는 제2롤러부(180b)에 통해 분할마스크와 작업 스테이지 간의 밀착성을 향상시킬 수 있으며, 레이저 용접부의 후에 위치하는 제1롤러부(180a)를 통해 용접에 의해 각각의 분할마스크의 상면에 발생된 버(burr)를 평탄화하여 용접부의 평탄도를 더욱 정밀하게 할 수 있다.
이때, 상기 제1롤러부(180a) 및 제2롤러부(180b)는 레이저 용접부(160)가 위치하는 지지부(191)에 함께 형성되어, 레이저 용접부와 함께 가이드 바(190)를 따라 이동하게 된다.
이상과 같이, 레이저 용접부(160)를 구동시켜 용접 작업을 완료한 후, 클램프 및 용접부위 누름판을 해제하고, 제1분할마스크와 제2분할마스크가 용접된 증착용마스크를 작업 스테이지로부터 언로딩함으로써, 본 발명에 따른 증착용 마스크를 제조할 수 있다.
이하에서는 상기 레이저 용접부에서 발생되는 레이저의 빔 프로파일과 버(burr)의 관계를 설명하기로 한다.
도 3a는 일반적인 형태의 레이저 빔 프로파일을 나타내는 도면, 도 3b는 도 3a의 레이저 빔에 따른 용접 사진, 도 3c는 도 3b의 B-B 선에 따른 단면도이다.
한편, 도 4a는 본 발명에 따른 레이저 빔 프로파일을 나타내는 도면, 도 4b 는 도 4a의 레이저 빔에 따른 용접 사진, 도 4c는 도 4b의 C-C 선에 따른 단면도이다.
먼저, 도 3a를 참조하면, 일반적인 형태의 레이저 빔 프로파일은 레이저 빔강도가 최고 피크(I1)인 위치(P1)가 레이저 빔의 중심(R1)과 일치하고 있다.
이경우, 도 3b 및 도 3c에서 알 수 있는 바와 같이, 레이저 빔강도가 최고 피크(I1)인 위치(P1)와 대응되도록 용접 깊이(D1)가 형성되게 되고, 이러한 용접 깊이(D1)에 따라 일정 높이(H1)를 갖는 버(burr)가 형성되게 된다. 즉, 레이저 빔강도가 클수로 용접 깊이(D1)는 깊게 형성되고, 용접 깊이(D1)가 깊을 수록 버(burr)의 높이(H1)는 크게 된다.
다음으로, 도 4a를 참조하면, 본 발명에 따른 레이저 빔 프로파일은 레이저 빔강도가 최고 피크(I2)인 위치(P2)가 레이저 빔의 중심(R2)과 일치하지 않으며, 또한, 레이저 빔강도가 최고 피크(I2)인 위치(P2)가 복수개 존재하게 된다.
이 경우, 동일한 출력의 레이저를 조사했을때, 본 발명에 따른 레이저 빔은 최고 피크(I2)의 레이저 빔 강도가 일반적인 형태의 레이저 빔 프로파일의 최고 피크(I1)의 레이저 빔강도보다 약하게 된다. 즉, 본 발명에서는 레이저 빔강도가 최고 피크(I2)인 위치(P2)가 복수개 존재하도록 하여 최고 피크의 레이저 빔 강도를 약하게 함으로써, 일반적인 경우보다 용접 깊이를 낮게 형성하는 것이다.
따라서, 도 4b 및 도 4c를 참조하면, 본 발명에서는 용접 깊이(D2)가 일반적인 경우보다 낮게 형성되고, 따라서, 버(burr)의 높이(H2)도 낮게 형성된다.
이때, 본 발명에서는 상기 버(burr)의 높이가 10㎛ 이하인 것이 바람직하다. 상기 버(burr)의 높이가 10㎛를 초과하는 경우, 쉐도우 현상이 발생하여 증착 공정시 균일한 증착이 어려운 문제점이 있다. 또한, 버(burr)의 높이가 높을 수록 용접 깊이가 깊게되고, 결국, 용접 깊이가 깊다함은 제1분할마스크와 제2분할마스크가 용접되어 있는 부분이 작다는 의미이므로, 그만큼 용접강도도 저하되게 된다.
한편, 본 발명에서 레이저의 출력을 한정하는 것은 아니며, 상기 레이저의 출력은 용접하고자 하는 분할마스크의 두께 등에 따라 임의로 조절될 수 있는 부분이다. 다만, 본 발명에서는 분할 마스크의 상면에 형성되는 버(burr)의 높이를 10㎛ 이하로 형성하는 것이 중요하며, 이를 위하여 레이저 빔강도가 최고 피크(I2)인 위치(P2)가 복수개 존재하도록 하여 분할마스크에 조사되는 레이저 빔의 강도를 조절하는 것이다.
도 5a는 본 발명에 따른 증착용 마스크를 설명하기 위한 개략적인 평면도이고, 도 5b는 도 5a의 D-D선에 따른 단면도, 도 5c는 도 5a의 E 영역을 확대한 실제 사진이다.
먼저, 도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 본 발명에 따른 증착용 마스크는 2개의 분할마스크가 직접 용접되어 하나의 단일 마스크를 형성하고 있다. 다만, 도면에는 2개의 분할마스크를 도시하고 있으나, 상기 분할마스크는 2 이상의 복수개가 직접 용접될 수 있으며, 본 발명에서 상기 분할마스크의 개수를 한정하는 것은 아니다.
이때, 본 발명에서 분할마스크가 직접 용접되었다 함은 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면이 형성됨을 의미한다.
즉, 한국 공개 특허 10-2008-0058602호에서와 같이, 마스크 프레임을 창살형 보조 프레임으로 균등 4분할하고, 각 분할된 개구부에 대응하도록 분할마스크를 위치시켜 상기 분할마스크를 상기 보조 프레임에 용접하는 방식에서는 보조 프레임의 상면과 분할마스크의 상면이 마주보게 되고, 따라서, 보조 프레임의 상면과 분할마스크의 상면에 용접면이 형성된다.
하지만, 본 발명에서는 상기와 같은 보조 프레임을 통하여 다수개의 분할마스크를 용접하는 방식이 아닌, 복수의 분할마스크를 직접 마주보게 하고, 이들을 직접 용접하기 때문에 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면이 형성된다.
따라서, 종래의 경우, 복수의 분할마스크를 용접하여 대형 사이즈의 증착용 마스크를 제조하더라도, 상기 보조프레임이 두께를 갖기 때문에 증착마스크의 평탄성이 없게 되고, 따라서, 상기 보조프레임에 의한 쉐도우 현상이 발생하여 균일한 증착이 어렵게 된다.
하지만 본 발명에서는 상기와 같은 보조 프레임을 사용하지 않고, 분할마스크들을 직접 용접하기 때문에 종래와 같은 쉐도우 현상이 발생하지 않으며, 다만, 용접공정에서 분할마스크의 상면에 버(burr)가 형성되기는 하나, 상기 버(burr)의 높이를 10㎛ 이하로 조절함으로써, 버(burr)에 의한 쉐도우 현상을 방지할 수 있다.
한편, 상술한 바와 같이, 롤러부를 통해 용접에 의해 발생된 버(burr)를 평탄화하고, 또한, 레이저 빔 프로파일을 레이저 빔강도가 최고 피크(I2)인 위치(P2)가 복수개 존재하도록 조절함으로써, 버(burr)의 높이를 조절할 수 있다.
이때, 본 발명에 따른 제1분할마스크 및 제2분할마스크는 상기 분할마스크 두께(t)의 10% 이하의 갭을 유지하면서 용접되어 있다.
상술한 바와 같이, 제1분할마스크 및 제2분할마스크의 측면이 서로 맞닿으면서 어라인되는 것이 가장 바람직할 것이나, 제조장비의 한계 및 어라인 기술의 한계로 인하여 불가피하게 일정부분 갭이 발생하게 된다. 또한, 분할마스크 간의 갭이 크면 클수록 각 분할마스크를 직접 용접하는 것은 어려우며, 용접강도도 저하되게 된다.
따라서, 본 발명에서는 상기 제1분할마스크와 제2분할마스크간의 갭을 분할마스크 두께의 10% 이하로 함으로써, 양호한 용접품질을 확보할 수 있다.
계속해서, 도 5b를 참조하면, 도 5b의 확대도에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 증착용 마스크는 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면(F)이 형성됨을 알 수 있고, 용접 깊이(D2) 및 상기 용접 깊이(D2)에 따른 버(burr)의 높이(H2)가 형성됨을 알 수 있다.
또한, 도 5c를 참조하면, 도 5c는 도 5a의 E 영역을 확대한 실제 사진으로, 상기 증착용 마스크의 파단강도를 측정해 본 결과 39.6 kgf/㎟으로, 허용 강도인 6.34 kgf/㎟ 보다 훨씬 큰 파단강도를 유지함을 알 수 있다.
따라서, 본 발명에 따른 증착용 마스크는 보조 프레임을 사용하지 않고, 분할마스크들을 직접 용접하기 때문에 종래와 같은 쉐도우 현상이 발생하지 않고, 또한, 파단강도에 있어서도 매우 양호한 용접 품질을 확보할 수 있음을 알 수 있다.
본 발명은 이상에서 살펴본 바와 같이 바람직한 실시 예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능할 것이다.
도 1a는 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치를 나타내는 개략적인 사시도,
도 1b는 도 1a의 A-A선에 따른 단면도,
도 2는 본 발명에 따른 증착용 마스크 제조장치 중 레이저 용접부를 포함하는 지지부를 나타내는 개략적인 사시도,
도 3a는 일반적인 형태의 레이저 빔 프로파일을 나타내는 도면,
도 3b는 도 3a의 레이저 빔에 따른 용접 사진,
도 3c는 도 3b의 B-B 선에 따른 단면도,
도 4a는 본 발명에 따른 레이저 빔 프로파일을 나타내는 도면,
도 4b는 도 4a의 레이저 빔에 따른 용접 사진,
도 4c는 도 4b의 C-C 선에 따른 단면도,
도 5a는 본 발명에 따른 증착용 마스크를 설명하기 위한 개략적인 평면도,
도 5b는 도 5a의 D-D선에 따른 단면도,
도 5c는 도 5a의 E 영역을 확대한 실제 사진,
도 6은 증착용 마스크를 구비한 증착 장치를 개략적으로 도시한 단면도이다.

Claims (16)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 작업 스테이지 상부에 제1분할마스크 및 제2분할마스크를 어라인하는 단계;
    클램프를 이동시켜 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 고정하는 단계;
    용접부위 누름판을 이동시켜 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크의 용접 예정 영역 주변을 밀착하는 단계; 및
    레이저 용접부를 구동시켜 상기 용접 예정 영역을 용접하는 단계를 포함하며,
    상기 레이저 용접부에 의해 발생된 레이저 빔 프로파일은 레이저 빔강도가 최고 피크인 위치가 복수개 존재하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 작업 스테이지 상에 마스터 기판을 더 포함하며, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 상기 마스터 기판 상에 어라인 되는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크 간의 갭은 상기 분할마스크 두께(t)의 10% 이하인 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 레이저 용접부의 전, 후로 제1롤러부 및 제2롤러부를 더 포함하며, 상기 제1롤러부 또는 제2롤러부는 용접 작업을 진행하면서 분할마스크와 작업 스테이지를 밀착하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 레이저 용접부의 전, 후로 제1롤러부 및 제2롤러부를 더 포함하며, 상기 제1롤러부 또는 제2롤러부는 용접에 의해 각각의 분할마스크의 상면에 발생된 버(burr)를 평탄화하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조방법.
  9. 삭제
  10. 작업 스테이지;
    상기 작업 스테이지 상부에 위치하는 제1분할마스크 및 제2분할마스크;
    상기 작업 스케이지 상에 위치하고, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 고정하기 위한 클램프;
    상기 작업 스케이지 상에 위치하고, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크를 용접 예정 영역을 밀착하기 위한 용접부위 누름판; 및
    상기 작업 스케이지 상부에 위치하는 레이저 용접부를 포함하는 증착용 마스크의 제조장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 작업 스테이지 상에 위치하는 마스터 기판을 더 포함하며, 상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 상기 마스터 기판 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 용접부의 전, 후로 각각 제1롤러부 및 제2롤러부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 용접부에 의해 발생된 레이저 빔 프로파일은 레이저 빔강도가 최고 피크인 위치가 복수개 존재하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 레이저 용접부를 포함하는 지지부를 더 포함하며, 상기 제1롤러부 및 상기 제2롤러부는 상기 지지부에 위치하는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크의 제조장치.
  15. 제 4 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조되는 증착용 마스크로서,
    상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 직접 용접되어 각 분할 마스크의 마주보는 측면에 용접면이 형성되는 것을 특징으로 하는 증착용 마스크.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 제1분할마스크 및 상기 제2분할마스크는 상면에 버(burr)를 포함하며, 상기 버(burr)의 높이는 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 증착용 마스크.
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JP2010174407A JP2011122235A (ja) 2009-12-14 2010-08-03 蒸着用マスク、その製造方法及び製造装置
US12/964,706 US9259805B2 (en) 2009-12-14 2010-12-09 Mask for evaporation, and method and apparatus for manufacturing the same
CN201010589194.5A CN102094167B (zh) 2009-12-14 2010-12-10 用于蒸发的掩模以及用于制造该掩模的方法和装置
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101962738B1 (ko) 2018-04-23 2019-03-27 (주)에이디엠 시트분리장치 및 이를 구비한 마스크 제조 시스템
US11616198B2 (en) 2020-07-17 2023-03-28 Samsung Display Co., Ltd. Mask and method of manufacturing the same

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101309864B1 (ko) * 2010-02-02 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리
JP2012017456A (ja) 2010-06-11 2012-01-26 Fujifilm Corp ポリエステルフィルム及びその製造方法、太陽電池用バックシート、並びに太陽電池モジュール
KR20130028165A (ko) * 2011-06-21 2013-03-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 유닛
KR102162790B1 (ko) * 2013-05-02 2020-10-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체용 용접기
JP6108544B2 (ja) * 2013-06-17 2017-04-05 新東エスプレシジョン株式会社 マスク製造装置
CN104916293B (zh) * 2015-06-03 2017-08-08 深圳粤宝电子工业总公司 一种基于激光焊接的磁头制造装置及制造磁头的方法
KR102549358B1 (ko) * 2015-11-02 2023-06-29 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 조립체 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
DE102016101620A1 (de) * 2016-01-29 2017-08-03 Biotronik Se & Co. Kg Batteriebrücke und Verfahren zum Aktivieren einer elektronischen Vorrichtung
JP6904718B2 (ja) * 2017-02-10 2021-07-21 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および蒸着マスクの製造装置
JP6585669B2 (ja) * 2017-07-25 2019-10-02 新東エスプレシジョン株式会社 マスク製造装置
KR102411536B1 (ko) * 2017-10-11 2022-06-22 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 제조방법 및 제조장치
CN108707862B (zh) * 2018-06-26 2020-07-03 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 压板及检测设备
CN114179260B (zh) * 2021-11-18 2023-03-24 扬昕科技(苏州)有限公司 导光板成型模具的制造方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3816696A (en) * 1971-12-20 1974-06-11 Guild Metal Joining Equipment Strip shearing and welding apparatus
JPS59135886U (ja) * 1983-02-28 1984-09-11 川崎製鉄株式会社 レ−ザ−溶接機
JPS6188989A (ja) 1984-10-05 1986-05-07 Dowa Koei Kk レ−ザ−ビ−ムによる突き合わせ溶接法
DE3909620A1 (de) * 1989-03-23 1990-09-27 Bernd Buedenbender Verfahren zum stumpfschweissen von blechen
US4990741A (en) * 1990-02-06 1991-02-05 Rockwell International Corporation Method of laser welding
US5595670A (en) * 1995-04-17 1997-01-21 The Twentyfirst Century Corporation Method of high speed high power welding
US5674420A (en) * 1995-06-12 1997-10-07 Worthington Industries Incorporated Clamping device for welding machine
DE19724986C2 (de) * 1997-06-13 1999-07-29 Jurca Optoelektronik Gmbh Verfahren zum Verschweißen von Werkstücken und Vorrichtung zu dessen Durchführung
US5961859A (en) * 1997-10-23 1999-10-05 Trw Inc. Method and apparatus for monitoring laser weld quality via plasma size measurements
ATE287311T1 (de) * 1998-11-18 2005-02-15 Elpatronic Ag Verfahren und vorrichtung zum schweissen von blechen mit einem laser
KR100315745B1 (ko) * 1999-10-12 2001-12-13 이계안 시임용접용 용접위치 결정장치
AU2003251868A1 (en) * 2002-07-12 2004-02-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company A process for laser welding together articles of polyester resin compositions and related products
JP3785509B2 (ja) * 2002-08-30 2006-06-14 平井精密工業株式会社 金属マスクとその製造方法
JP4688423B2 (ja) * 2004-02-27 2011-05-25 独立行政法人物質・材料研究機構 レーザ溶接方法
JPWO2007007766A1 (ja) * 2005-07-13 2009-01-29 古河電気工業株式会社 光照射装置および溶着方法
KR20070027300A (ko) 2005-09-06 2007-03-09 오리온오엘이디 주식회사 새도우마스크 및 그 제조 방법
KR100830321B1 (ko) 2006-11-22 2008-05-19 삼성에스디아이 주식회사 증착용 메탈 마스크 및 증착용 메탈 마스크를 이용한표시장치용 화소 증착 방법
WO2008070710A1 (en) * 2006-12-05 2008-06-12 Noble Advanced Technologies Method of manufacturing a welded metal panel having a high quality surface finish
KR20080054741A (ko) 2006-12-13 2008-06-19 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광소자용 프레임 마스크 조립체 및 이의제작방법
KR100873551B1 (ko) 2006-12-20 2008-12-11 박근노 레이저 용접장치
KR101322130B1 (ko) 2006-12-22 2013-10-25 엘지디스플레이 주식회사 대면적 증착용 마스크 및 대면적 증착용 마스크의 제조방법
JP2008183604A (ja) 2007-01-31 2008-08-14 Fuji Electric Device Technology Co Ltd レーザ溶接装置およびレーザ溶接方法
KR100930871B1 (ko) 2007-10-04 2009-12-10 주식회사 성우하이텍 알루미늄 블랭크의 전도 레이저 용접장치
US8728719B2 (en) * 2009-08-19 2014-05-20 Lawrence Livermore National Security, Llc Diffractive laser beam homogenizer including a photo-active material and method of fabricating the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101962738B1 (ko) 2018-04-23 2019-03-27 (주)에이디엠 시트분리장치 및 이를 구비한 마스크 제조 시스템
US11616198B2 (en) 2020-07-17 2023-03-28 Samsung Display Co., Ltd. Mask and method of manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110067566A (ko) 2011-06-22
JP2014062327A (ja) 2014-04-10
US9259805B2 (en) 2016-02-16
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