JP2007128844A - レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】磁気力を利用してドナーフィルムとアクセプト基板をラミネーティングする工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子を提供する。
【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、ドナーフィルムの転写される発光層に対応するパターンの開口部を具備し、アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。
【選択図】図1
【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、ドナーフィルムの転写される発光層に対応するパターンの開口部を具備し、アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。
【選択図】図1
Description
本発明は、レーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子で、より詳細には、磁気力を利用してドナーフィルムとアクセプト基板をラミネーティングする工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子に関する。
本発明の適用分野は特定産業分野に限定されるのではなく、多様に適用することができるが、有機発光素子製作の時有機発光層等を形成するのに有用であると予想される。有機発光素子は、第1電極と第2電極間に発光層を形成し、電極の間に電圧を印加することで、発光層で正孔と電子が合わせられることで自体発光する素子である。
以下では有機発光素子に用いられるレーザ熱転写装置を基準として本発明の従来の技術及び本発明の構成等が説明されるが、本発明がこれに限定されるのではない。
レーザ熱転写法は、基材基板、光熱変換層、及び転写層を含むドナー基板にレーザを照射させて基材基板を通過したレーザを光熱変換層から熱に変化させて光熱変換層を変形膨脹させることで、隣接した転写層を変形膨脹させてアクセプタ基板に転写層が接着されて転写されるようにする方法である。
レーザ熱転写法を施す場合、発光層の転写が行われるチャンバ内部は、発光素子形成の時の他の蒸着工程と同調されるようにするために真空状態が行われることが好ましいが、従来の真空状態で主に行われる場合、ドナー基板とアクセプタ基板の間に異物や空間が生ずるようになって転写層の転写がよく行われないという問題点がある。よって、レーザ熱転写法において、ドナー基板とアクセプタ基板をラミネーティングさせる方法は重要な意 味を持ち、これを解決するためのさまざまな方案が研究されている。
図7は、上述した問題点を解決するための従来の技術によるレーザ熱転写装置の部分断面図である。これによれば、レーザ熱転写装置10は、チャンバ11内部に位置する基板ステージ12及びチャンバ11上部に位置したレーザ照射装置13を含んで構成される。基板ステージ12は、チャンバ11に導入されるアクセプタ基板14とドナーフィルム15をそれぞれ順次位置させるためのステージである。
この時、アクセプタ基板14とドナーフィルム15の間に異物1や空間なしにラミネーティングされるために、レーザ熱転写が行われるチャンバ11内部を真空で維持せず、基板ステージ12下部にホース16を連結して真空ポンプPで吸いこみ、アクセプタ基板14とドナーフィルム15を合着させる。
しかし、このような従来の技術においてもアクセプタ基板14とドナーフィルム15の間の異物1と空間が発生することを完全に防止することができず、かつ、チャンバ11内部の真空状態を維持することができなくなるため、製品の寿命および信頼性に良くない影響を及ぼすことが知られている。
一方、従来のレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法、そしてこれを利用した有機発光表示素子に関する技術を記載した文献としては、下記特許文献1ないし3がある。
特開2004−355949号公報
特開2004−296224号公報
米国特許第4,377,339号明細書
本発明は、前記従来の技術の問題点を解決し、本出願人によって提案された技術的思想をより完全にするために案出されたもので、本発明の目的は、磁気力を利用して真空条件においてもアクセプト基板とドナーフィルムを完全にラミネーティングすることが可能なレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明の有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置は、有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、ドナーフィルムの転写される発光層に対応するパターンの開口部を具備し、アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含むことを要旨とする。
また、本発明の有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置は、有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含むことを要旨とする。
さらに、本発明の有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置は、有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁性体を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含むことを要旨とする。
本発明の他の有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置は、有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁性体を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含むことを要旨とする。
また、本発明の有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写方法は、有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムを順次移送し、第2磁石を具備した密着フレームと基板ステージの間に積層する段階と、アクセプト基板と密着フレームの間に形成された磁力によって、アクセプト基板とドナーフィルムが密着される段階と、発光層に対応するドナーフィルムにレーザを照射して、アクセプト基板にドナーフィルムの発光層が転写されるようにする段階とを含むことを要旨とする。
一方、本発明の有機発光表示素子は、少なくとも一面に第1磁石が形成されたアクセプト基板と、アクセプト基板上に形成されるバッファー層と、バッファー層上に形成される第1電極層と、第1電極層の少なくともいずれか一領域を露出する開口部を具備する画素定義膜と、第1電極層と画素定義膜上にレーザ熱転写方法によって形成される発光層と、発光層と画素定義膜上に形成される第2電極層とを含むことを要旨とする。
本発明によるレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子によれば、真空下で磁力を利用してドナー基板とアクセプタ基板をラミネーティングできるようになって、真空状態を維持することができ、ドナー基板とアクセプト基板の間に異物や空間が生じないようにしながらラミネーティングして有機発光ダイオードの発光層転写がより效率的に行われるようにする效果がある。
以下では本発明の好ましい実施例を添付図面を参照しながらより詳しく説明する。図1は、本発明の第1実施例ないし第4実施例によるレーザ熱転写装置の分解斜視図である。これによれば、レーザ熱転写装置100は、基板ステージ110、レーザ発信器120、密着フレーム130、密着フレーム移動手段140、及びチャンバ150を含んで構成される。
(第1実施例)
本発明の第1実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と所定パターンの開口部が形成され第2磁石を具備した密着フレーム130との間の磁力による、ドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明の第1実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と所定パターンの開口部が形成され第2磁石を具備した密着フレーム130との間の磁力による、ドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
まず、チャンバ150は、通常のレーザ熱転写装置100で用いられるチャンバ150を使うことができ、チャンバ150内部には少なくとも基板ステージ110及び密着フレーム130などが装着される。チャンバ150内にはドナーフィルム200及びアクセプト基板300が移送される。このためにチャンバ150外部にはドナーフィルム200及びアクセプト基板300をチャンバ150内部に移送するための移送手段(図示せず)が具備される。チャンバ150内部は、真空状態を維持するのが有機発光ダイオード製造工程上有利であるが、これに制限されるのではない。
基板ステージ110は、アクセプト基板300とドナーフィルム200が順次積層される支持台である。本発明によるアクセプト基板300は、有機発光素子の画素定義領域が形成され、第1磁石320を含む。第1磁石320は、後述する密着フレーム130と磁気力を形成するために具備される。第1磁石320は永久磁石または電磁石である。
アクセプト基板300上には、第1磁石320が多様な方式で具備される。一番簡単には、アクセプト基板300の上部面または下部面に具備することができる。
本発明による有機発光ダイオードは、図2(a)及び(b)に示すように、アクセプト基板300上にバッファー層301、半導体層302、ゲート絶縁層303、ゲート電極304、層間絶縁層305、ソース電極及びドレイン電極306a、306b及び平坦化層307などが形成される。
アクセプト基板300上には、まず、バッファー層301が形成され、バッファー層301の一領域上にはアクティブ層302a及びオミックコンタクト層302bを含む半導体層302が形成される。そして、図2(a)に示されたようにアクセプト基板300の下部面に第1磁石320を形成するか、図2(b)に示されたようにアクセプト基板300とバッファー層301の間に第1磁石320を形成することができる。この時、第1磁石320は永久磁石または電磁石であり、一つの平面形態に配置することができるが、好ましくは、複数の第1磁石320を具備して同心円型または横及び縦の複数列に形成する。
半導体層302及びバッファー層301上には、ゲート絶縁層303が形成され、ゲート絶縁層303の一領域上にはアクティブ層302aの幅に対応する大きさのゲート電極304が形成される。
ゲート電極304及びゲート絶縁層303上には、層間絶縁層305が形成され、層間絶縁層305の所定の領域上には、ソース電極及びドレイン電極306a、306bが形成される。
ソース電極及びドレイン電極306a、306bは、オミックコンタクト層302bの露出された一領域とそれぞれ接続されるように形成され、ソース電極及びドレイン電極306a、306bを含む層間絶縁層305上には平坦化層307が形成される。
平坦化層307の一領域上には、第1電極308が形成され、この時、第1電極308はソース電極及びドレイン電極306a、306bの中でいずれか一つの露出された一領域と接続されるようにする。
第1電極層308を含む平坦化層307上には、第1電極層308の少なくとも一領域を露出する開口部312が具備された画素定義膜309が形成される。
画素定義膜309の開口部312上には、発光層310が形成され、発光層310を含む画素定義膜309上には第2電極層311が形成される。
一方、基板ステージ110は移動されるための駆動手段(図示せず)をさらに具備することができる。基板ステージ110が移動される場合、レーザ発信器120は一方向に限定されずレーザを照射するように構成することができる。例えば、レーザが縦方向に照射され、横長方向に基板ステージ110を移動させる駆動手段をさらに具備する場合、ドナーフィルム200全面に対してレーザが照射されうる。
また、基板ステージ110は、アクセプト基板300及びドナーフィルム200を収納して装着させる装着手段を具備することができる。装着手段は、移送手段によってチャンバ150内に移送されて来たアクセプト基板300及びドナーフィルム200が基板ステージ110の決まった位置に正確に配列されるようにする。
本実施例で、装着手段は、貫通ホール410、510、ガイドバー420、520、移動フレーム430、530、支持台440、540、及び装着ホーム450、550を含んで構成される。この時、ガイドバー420は、移動フレーム430及び支持台440に伴って上昇または下降運動するが、ガイドバー420が貫通ホール410を通過して上昇しながらアクセプト基板300を収容し、下降しながらアクセプト基板300を基板ステージ110上に形成された装着ホーム450に安着させるようになる構造である。装着手段は、当業者によって多様に変形実施されうるので、これに対する詳細な説明は略する。
レーザ発信器120は、チャンバ150の外部または内部に設置することができ、レーザを上部から照射できるように設置されることが好ましい。レーザ発信器120の概略的な構成図である図3によれば、本実施例でレーザ発信器120は、CWND:YAGレーザ1604nmを使って、2個のガルバノメートルスキャナ121、123を具備し、スキャンレンズ125及びシリンダレンズ127を具備するが、これに制限されるのではない。
密着フレーム130は、第2磁石137を含んで構成され、アクセプタ基板300の第1磁石320と磁気力を形成して、基板ステージ110と密着フレーム130の間に位置するドナーフィルム200とアクセプタ基板300を力強くラミネーティングする。密着フレーム130自体が第2磁石137に形成されるか、密着フレーム130の上部または下部面に第2磁石137が形成されることが好ましい。
また、密着フレーム130はレーザが通過することができる開口部(図示せず)を具備し、これによって密着フレーム130はレーザが所定位置のみに照射されるマスクの役割をすることがができる。
密着フレーム130は、転写される発光層によって有機発光素子の各サブ画素を形成する少なくとも一つの開口部が形成された密着フレーム130がお互いに交換されながら運転される。
密着フレーム移動手段140は、密着フレーム130を基板ステージ110の方向に往復移動させる手段であり、多様に製作されうるが、図5に図示された実施例によれば、据え置きホーム142を具備した据え置き台141と、チャンバ150上面で据え置き台141に連結される連結バー143及び連結バー143とこれに連結された据え置き台141を上下駆動させる駆動手段(図示せず)を含む。この時、密着フレーム130は、図示されたように、密着フレーム移動手段140によって移動される場合、据え置き突部134を具備したトレイ135に装着されて移動される。
一方、第1密着フレームと第2密着フレームの交換は、ロボット腕等の交換手段が利用されうる。例えば、据え置き台141上に置かれている第1密着フレームで、第1サブ画素及び第2サブ画素を形成した後、ロボット腕が第1密着フレームを据え置き台141から外部に移送させ、第2密着フレームを据え置き台141に位置させることで交換が行われる。
次に、図1及び図6を参照しながら、レーザ熱転写装置によって有機発光ダイオードを形成する方法を説明する。有機発光ダイオードの発光層を形成するにあたり、レーザ熱転写装置を利用する方法は、アクセプタ基板移送段階ST100、ドナーフィルム移送段階ST200、密着フレーム密着段階ST300、有機層転写段階ST400、密着フレーム分離段階ST500を含む。
アクセプト基板移送段階ST100は、基板ステージ110上に発光層が形成されるアクセプト基板300を位置させる段階である。アクセプト基板300にはドナーフィルムから転写される発光層が形成される画素領域が定義されている。
ドナーフィルム移送段階ST200は、アクセプタ基板300上に転写される発光層が具備されているドナーフィルム200を移送する段階である。この時、発光層は、いずれか1色相で構成することができ、例えば、Rである場合がある。
密着フレーム密着段階ST300は、ドナーフィルム200の発光層を転写するためのレーザが通過される開口部が形成されて第2磁石137を含む密着フレーム130を基板ステージ110に向けて磁気的引力で密着する段階である。これで、その間に位置するドナーフィルム200とアクセプト基板300がラミネーティングされる。この時、密着フレーム130は、1次的には密着フレーム移動手段140によって、密着フレーム130をアクセプト基板300に向けて移動させて密着し、2次的にはより力強く磁気的引力で密着することが好ましい。
有機層転写段階ST400は、密着フレーム130の透過部を通じてドナーフィルム200上にレーザを照射し、ドナーフィルム200に具備された有機発光層を膨脹させてアクセプタ基板300の画素領域に転写する段階である。この時、透過部の中で画素領域のみにレーザが照射されるようにレーザ照射範囲が調節される。
密着フレーム分離段階ST500は、密着フレーム130をアクセプト基板300から密着フレーム移動手段140を用いて分離する段階で、1次的に磁気的斥力で分離し、2次的に密着フレーム移動手段140によって、チャンバ150内の上部に密着フレーム130を上昇させることが好ましい。
本発明は、第1実施例を基準として主に説明されたが、発明の要旨と範囲を脱しないで多くの他の可能な修正と変形が可能である。例えば、密着板移動手段の構成変更、透過部の形状変更、開口部の形状変更、含まれる第1磁石320及び第2磁石137の形態(磁性ナノ粒子等の使用)変更などは当業者が容易に導出することができる。
以下、第2実施例ないし第6実施例では図1を参照して、第1実施例の構成と同じ構成に対して説明するが、アクセプト基板300と密着フレーム130がそれぞれ異なるように応用されうる範囲を示した。よって、アクセプト基板300と密着フレーム130を除いた残りの構成要素及び工程方法は、第1実施例で説明した部分と同じく適用されるので、これに関する説明は略する。
なお、第1実施例で第1磁石に用いた符号320及び第2磁石に用いた符号137は、実施例によって、適宜、それぞれ第1磁性体及び第2磁性体に対して用いる。
(第2実施例)
本発明の第2実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と透明な材質の透過部を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明の第2実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と透明な材質の透過部を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
アクセプト基板300上には、第1磁石320が多様な方式で具備される。一番簡単には、アクセプト基板300の上部面または下部面に具備することができる。
本発明の第2実施例における有機発光ダイオード、図2(a)及び(b)に示すように、アクセプト基板300上にバッファー層301、半導体層302、ゲート絶縁層303、ゲート電極304、層間絶縁層305、ソース電極及びドレイン電極306a、306b及び平坦化層307などが形成される。
アクセプト基板300上には、まず、バッファー層301が形成され、バッファー層301の一領域上にはアクティブ層302a及びオミックコンタクト層302bを含む半導体層302が形成される。そして、図2(a)に示されたようにアクセプト基板300の下部面に第1磁石320を形成するか、図2(b)に示されたようにアクセプト基板300とバッファー層301の間に第1磁石320を形成することができる。この時、第1磁石320は永久磁石または電磁石であり、一つの平面形態に配置することができるが、好ましくは、複数の第1磁石320を具備して同心円型または横及び縦の複数列に形成する。
半導体層302及びバッファー層301上には、ゲート絶縁層303が形成され、ゲート絶縁層303の一領域上にはアクティブ層302aの幅に対応する大きさのゲート電極304が形成される。
ゲート電極304及びゲート絶縁層303上には、層間絶縁層305が形成され、層間絶縁層305の所定の領域上には、ソース電極及びドレイン電極306a、306bが形成される。
ソース電極及びドレイン電極306a、306bは、オミックコンタクト層302bの露出された一領域とそれぞれ接続されるように形成され、ソース電極及びドレイン電極306a、306bを含む層間絶縁層305上には平坦化層307が形成される。
平坦化層307の一領域上には、第1電極308が形成され、この時、第1電極308はソース電極及びドレイン電極306a、306bの中でいずれか一つの露出された一領域と接続されるようにする。
第1電極層308を含む平坦化層307上には、第1電極層308の少なくとも一領域を露出する開口部312が具備された画素定義膜309が形成される。
画素定義膜309の開口部312上には、発光層310が形成され、発光層310を含む画素定義膜309上には第2電極層311が形成される。
一方、密着フレーム130は、レーザが通過することができる透明な材質の透過部133を具備する。図4は、透過部133の構成を図示した図1のA−A’の断面図である。透過部133によって密着フレーム130は、レーザが所定の位置のみに照射されうるマスクの役割を同時に遂行することもできる。透過部133の透明材料には制限がないが、硝子またはポリマが用いられることが好ましい。また、透過部133には第2磁石137が含まれないので、透過部133の面積は、密着フレーム130全体面積の1%乃至50%に制限して、密着フレーム130の磁気力がドナーフィルム200とアクセプト基板300をラミネーティングする適正水準に維持させることが好ましい。
そして、転写される有機発光層によって有機発光素子の各サブ画素を形成する少なくとも一つの透過部133が形成された密着フレーム130が交換されながら運転される。
(第3実施例)
本発明の第3実施例では、第1磁性体320を具備したアクセプト基板300と透明な再質の透過部を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明の第3実施例では、第1磁性体320を具備したアクセプト基板300と透明な再質の透過部を具備して第2磁石137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
アクセプト基板300上には、第1磁性体320が多様な方式に具備されうる。一番簡単には、アクセプト基板300の上部面または下部面に第1磁性体320を形成することで具備することができる。この時、第1磁性体320とは、強磁性体と弱磁性体を含む概念であり、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、三酸化二鉄(Fe2O3)、四酸化三鉄(Fe3O4)、コバルト鉄酸化物(CoFe2O4)及びその混合物で構成されたグループから選択された一つに適用されうる。
本発明の第3実施例における有機発光ダイオードは、図2(a)及び(b)に示すように、アクセプト基板300上にバッファー層301、半導体層302、ゲート絶縁層303、ゲート電極304、層間絶縁層305、ソース電極及びドレイン電極306a、306b及び平坦化層307などが形成される。
アクセプト基板300上には、まず、バッファー層301が形成され、バッファー層301の一領域上には、アクティブ層302a及びオミックコンタクト層302bを含む半導体層302が形成される。そして、図2(a)に図示されたようにアクセプト基板300の下部面に第1磁性体320が形成されうるし、図2(b)に図示されたようにアクセプト基板300とバッファー層301の間に第1磁性体320が形成されうる。
半導体層302を含むバッファー層301上には、ゲート絶縁層303が形成され、ゲート絶縁層303の一領域上にはアクティブ層302aの幅に対応する大きさのゲート電極304が形成される。
ゲート電極304及びゲート絶縁層303上には、層間絶縁層305が形成され、層間絶縁層305の所定の領域上には、ソース電極及びドレイン電極306a、306bが形成される。
ソース電極及びドレイン電極306a、306bは、オミックコンタクト層302bの露出された一領域とそれぞれ接続されるように形成され、ソース電極及びドレイン電極306a、306bを含む層間絶縁層305上には平坦化層307が形成される。
平坦化層307の一領域上には、第1電極308が形成され、この時、第1電極308はソース電極及びドレイン電極306a、306bの中でいずれか一つの露出された一領域と接続されるようにする。
第1電極層308を含む平坦化層307上には、第1電極層308の少なくとも一領域を露出する開口部312が具備された画素定義膜309が形成される。
画素定義膜309の開口部312上には、発光層310が形成され、発光層310を含む画素定義膜309上には第2電極層311が形成される。
一方、密着フレーム130は、レーザが通過することができる透明な材質の透過部133を具備する。図4は、透過部133の構成を図示した図1のA−A’の断面図である。透過部133によって密着フレーム130は、レーザが所定の位置のみに照射されうるマスクの役割を同時に遂行することもできる。透過部133の透明材料には制限がないが、硝子またはポリマが用いられることが好ましい。また、透過部133には第2磁石137が含まれないので、透過部133の面積は、密着フレーム130全体面積の1%乃至50%に制限して、密着フレーム130の磁気力がドナーフィルム200とアクセプト基板300をラミネーティングする適正水準に維持させることが好ましい。
そして、転写される有機発光層によって有機発光素子の各サブ画素を形成する少なくとも一つの透過部133が形成された密着フレーム130が交換されながら運転される。
(第4実施例)
本発明の第4実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と透明な材質の透過部を具備して第2磁性体137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
本発明の第4実施例では、第1磁石320を具備したアクセプト基板300と透明な材質の透過部を具備して第2磁性体137を具備した密着フレーム130間の磁力によるドナーフィルム200とアクセプト基板300の密着工程を示す。
アクセプト基板300上には、第1磁石320が多様な方式で具備される。一番簡単には、アクセプト基板300の上部面または下部面に具備することができる。
この時、第1磁石320は永久磁石または電磁石であり、一つの平面形態に配置されうるが、好ましくは、複数の第1磁石320を具備して同心円型または横及び縦の複数列に形成する。
本発明の第4実施例における有機発光ダイオードは、図2(a)及び(b)に示すように、アクセプト基板300上にバッファー層301、半導体層302、ゲート絶縁層303、ゲート電極304、層間絶縁層305、ソース電極及びドレイン電極306a、306b及び平坦化層307などが形成される。
アクセプト基板300上には、まず、バッファー層301が形成され、バッファー層301の一領域上にはアクティブ層302a及びオミックコンタクト層302bを含む半導体層302が形成される。そして、図2(a)に示されたようにアクセプト基板300の下部面に第1磁石320を形成するか、図2(b)に示されたようにアクセプト基板300とバッファー層301の間に第1磁石320を形成することができる。
半導体層302及びバッファー層301上には、ゲート絶縁層303が形成され、ゲート絶縁層303の一領域上にはアクティブ層302aの幅に対応する大きさのゲート電極304が形成される。
ゲート電極304及びゲート絶縁層303上には、層間絶縁層305が形成され、層間絶縁層305の所定の領域上には、ソース電極及びドレイン電極306a、306bが形成される。
ソース電極及びドレイン電極306a、306bは、オミックコンタクト層302bの露出された一領域とそれぞれ接続されるように形成され、ソース電極及びドレイン電極306a、306bを含む層間絶縁層305上には平坦化層307が形成される。
平坦化層307の一領域上には、第1電極308が形成され、この時、第1電極308はソース電極及びドレイン電極306a、306bの中でいずれか一つの露出された一領域と接続されるようにする。
第1電極層308を含む平坦化層307上には、第1電極層308の少なくとも一領域を露出する開口部312が具備された画素定義膜309が形成される。
画素定義膜309の開口部312上には、発光層310が形成され、発光層310を含む画素定義膜309上には第2電極層311が形成される。
一方、密着フレーム130は、レーザが通過することができる透明な材質の透過部133を具備して第2磁性体137を含む。この時、第2磁性体137とは、強磁性体と弱磁性体を含む概念であり、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、三酸化二鉄(Fe2O3)、四酸化三鉄(Fe3O4)、コバルト鉄酸化物(CoFe2O4)及びその混合物で構成されたグループから選択された一つで適用されうる。図4は、透過部133の構成を図示した図1のA−A’の断面図である。透過部133によって密着フレーム130は、レーザが所定の位置のみに照射されうるマスクの役割を同時に遂行することもできる。透過部133の透明材料には制限がないが、硝子またはポリマが用いられることが好ましい。また、透過部133には第2磁石137が含まれないので、透過部133の面積は、密着フレーム130全体面積の1%乃至50%に制限して、密着フレーム130の磁気力がドナーフィルム200とアクセプト基板300をラミネーティングする適正水準に維持させることが好ましい。
そして、転写される有機発光層によって有機発光素子の各サブ画素を形成する少なくとも一つの透過部133が形成された密着フレーム130が交換されながら運転される。
以上添付した図面を参照して本発明について詳細に説明したが、これは例示的なものに過ぎず、当該技術分野における通常の知識を有する者であれば、多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるということを理解することができる。
1 異物
10 レーザ熱転写装置
11 チャンバ
12 基板ステージ
13 レーザ照射装置
14 アクセプタ基板
15 ドナーフィルム
16 ホース
100 レーザ熱転写装置
110 基板ステージ
120 レーザ発信器
121、123 ガルバノメートルスキャナ
125 スキャンレンズ
127 シリンダレンズ
130 密着フレーム
133、133a、133b、133c、133d 透過部
134 据え置き突部
135 トレイ
137 第2磁石、第2磁性体
140 密着フレーム移動手段
141 据え置き台
143 連結バー
150 チャンバ
200 ドナーフィルム
300 アクセプタ基板
301 バッファー層
302 半導体層
302a アクティブ層
302b オミックコンタクト層
303 ゲート絶縁層
304 ゲート電極
305 層間絶縁層
306a、306b ソース電極、ドレイン電極
307 平坦化層
308 第1電極層
309 画素定義膜
310 発光層
311 第2電極層
312 開口部
320 第1磁石、第1磁性体
410、510 貫通ホール
420、520 ガイドバー
430、530 移動フレーム
440、540 支持台
450、550 装着ホーム
10 レーザ熱転写装置
11 チャンバ
12 基板ステージ
13 レーザ照射装置
14 アクセプタ基板
15 ドナーフィルム
16 ホース
100 レーザ熱転写装置
110 基板ステージ
120 レーザ発信器
121、123 ガルバノメートルスキャナ
125 スキャンレンズ
127 シリンダレンズ
130 密着フレーム
133、133a、133b、133c、133d 透過部
134 据え置き突部
135 トレイ
137 第2磁石、第2磁性体
140 密着フレーム移動手段
141 据え置き台
143 連結バー
150 チャンバ
200 ドナーフィルム
300 アクセプタ基板
301 バッファー層
302 半導体層
302a アクティブ層
302b オミックコンタクト層
303 ゲート絶縁層
304 ゲート電極
305 層間絶縁層
306a、306b ソース電極、ドレイン電極
307 平坦化層
308 第1電極層
309 画素定義膜
310 発光層
311 第2電極層
312 開口部
320 第1磁石、第1磁性体
410、510 貫通ホール
420、520 ガイドバー
430、530 移動フレーム
440、540 支持台
450、550 装着ホーム
Claims (34)
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に配置され、前記ドナーフィルムの転写される前記発光層に対応するパターンの開口部を具備し、前記アクセプト基板と磁力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレーム自体が前記第2磁石で形成されるか、前記密着フレームの上部面及び下部面のいずれかに前記第2磁石が形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームに具備される第2磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板の上部面及び下部面のいずれかに前記第1磁石が形成されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板に具備される前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレーム自体が前記第2磁石で形成されるか、前記密着フレームの上部面及び下部面のいずれかに前記第2磁石が形成されることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームに具備される前記第2磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板の上部面または下部面に前記第1磁石が形成されることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板に具備される前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項7に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁性体を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁石を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレーム自体が前記第2磁石で形成されるか、前記密着フレームの上部面及び下部面のいずれかに前記第2磁石が形成されることを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームに具備される前記第2磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記第1磁性体は、鉄、ニッケル、クロム、三酸化二鉄、四酸化三鉄、コバルト鉄酸化物、及びその混合物で構成されるグループから選ばれるひとつであることを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項15に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写装置において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、
前記ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、
前記基板ステージと前記レーザ発信器の間に配置され、レーザを通過させる透明な材質の少なくとも一つの透過部を具備し、前記アクセプト基板と磁気力を形成する第2磁性体を具備する密着フレームと、
前記密着フレームを前記基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写装置。 - 前記基板ステージと前記密着フレームを内部に含むチャンバをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部の全体面積は、前記密着フレーム面積の1%乃至50%であることを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記第2磁性体は、鉄、ニッケル、クロム、三酸化二鉄、四酸化三鉄、コバルト鉄酸化物、及びその混合物で構成されるグループから選ばれるひとつであることを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板の上部面及び下部面のいずれかに前記第1磁石が形成されることを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記アクセプト基板に具備される前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 前記密着フレームの前記透過部は、硝子及び透明ポリマのいずれかであることを特徴とする請求項22に記載のレーザ熱転写装置。
- 有機発光素子の発光層を形成するレーザ熱転写方法において、
前記有機発光素子の画素定義領域が形成されて第1磁石を具備するアクセプト基板及び前記画素定義領域に転写される前記発光層を具備するドナーフィルムを順次移送し、第2磁石を具備した密着フレームと基板ステージの間に積層する段階と、
前記アクセプト基板と前記密着フレームの間に形成された磁力によって、前記アクセプト基板と前記ドナーフィルムが密着される段階と、
前記発光層に対応する前記ドナーフィルムにレーザを照射して、前記アクセプト基板に前記ドナーフィルムの前記発光層が転写されるようにする段階
とを含むことを特徴とするレーザ熱転写方法。 - 前記密着フレームを前記アクセプト基板から分離する段階をさらに含むことを特徴とする請求項29に記載のレーザ熱転写方法。
- 少なくとも一面に第1磁石が形成されたアクセプト基板と、
前記アクセプト基板上に形成されるバッファー層と、
前記バッファー層上に形成される第1電極層と、
前記第1電極層の少なくともいずれか一領域を露出する開口部を具備する画素定義膜と、
前記第1電極層と前記画素定義膜上にレーザ熱転写方法によって形成される発光層と、
前記発光層と前記画素定義膜上に形成される第2電極層
とを含むことを特徴とする有機発光表示素子。 - 前記第1磁石は、前記アクセプト基板の下部面に形成されることを特徴とする請求項31に記載の有機発光表示素子。
- 前記第1磁石は、前記アクセプト基板と前記バッファー層の間に形成されることを特徴とする請求項31に記載の有機発光表示素子。
- 前記第1磁石は、電磁石及び永久磁石のいずれかであることを特徴とする請求項31に記載の有機発光表示素子。
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Cited By (4)
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