JPH09155720A

JPH09155720A - 研磨布の研磨屑除去具

Info

Publication number: JPH09155720A
Application number: JP32156595A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Sakurai; 均桜井; Yasushi Kobayashi; 恭小林
Original assignee: Nippon Light Metal Co Ltd
Current assignee: Nippon Light Metal Co Ltd
Priority date: 1995-12-11
Filing date: 1995-12-11
Publication date: 1997-06-17

Abstract

(57)【要約】【課題】研磨布の研磨屑除去が良好で、研磨布を再使
用しても研磨性能が良好に維持され基板の研磨が均一に
出来る。【解決手段】同芯円状に形成された同じ高さの稜線６
を有する突起３、４、５を備え、この稜線６が研磨布に
加圧、摺動され、研磨布の研磨面全体に渡って研磨屑を
除去する。この研磨屑除去具２を、研磨布に研磨材を含
むスラリーを供給して研磨する磁気ディスク用基板の研
磨装置における基板保持体に代えて装着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク用基
板の表面を研磨する研磨布の研磨目に捕捉された研磨屑
を除去する研磨布の研磨屑除去具及びこれを装着した研
磨布の研磨屑除去装置に関するものである。尚、研磨の
用語は、研磨よりも荒い研削を含み、研削布の研削屑除
去についても本発明の対象とするものである。又、研磨
屑の用語は、研磨屑自体の他に砥粒やその他の目詰り物
も含むものとする。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気ディスクの記録密度は年々高
まりつつある。記録密度の高密度化に伴い、磁性層に対
して情報の記録読取ヘッドの接近距離の微小化が必要に
なり、従来のものに比べ磁気ディスク表面の平滑度が一
層高度に求められている。従来の塗布型からスパッタ型
へと記録方式の変更がなされると共に、小型薄肉ディス
ク基板へと小型化が進行しつつある。

【０００３】アルミニウム合金基板の磁気ディスクにお
いても、表面の平滑度が厳しく要求されている。例え
ば、無電解Ｎｉ−Ｐメッキ付きアルミニウム合金基板
は、アルミニウム合金板を脱脂、洗浄後砥石で研削し平
坦にすると共に機械的に粗面化した後ジンケート処理
し、爾後の無電解Ｎｉ−ＰメッキにおいてＮｉ−Ｐ皮膜
が板表面に強固に固着するようにしている。無電解Ｎｉ
−Ｐ皮膜の設けられた面は、平均粒度の小さい微細な研
磨材を含む研磨液（以下、「スラリー」と云う）を供給
しながら研磨布を加圧、摺動させながら研磨され鏡面状
に平滑にされる。

【０００４】上記研磨によって研磨布の研磨目には研磨
屑が捕捉されるが、時間の経過と共に、研磨布の研磨性
が低下し、能率が悪くなる。従って、ある程度使用した
研磨布は、研磨屑を除去して研磨布の再生を図ることに
なる。従来、研磨布の研磨屑を除去する研磨屑除去具と
しては、例えば、円板に硬い毛を埋め込んだものが使用
されている。この研磨屑除去具を人力によって水を流し
ながら研磨布の表面を叩くようにブラシ掛けすることに
より、研磨布の研磨目に詰まっている研磨屑を排出させ
除去していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、毛ブラ
シの研磨屑除去具を用いた人力による研磨布の研磨屑除
去は、十分に研磨布の底面まで力が及ばず、研磨布の表
面のみの研磨屑の排出しか出来ず、研磨屑の除去が不十
分になり、再度この研磨布を使用した際に研磨布の目詰
りが早く、研磨布の研磨屑除去回数が多くなると云う欠
点があった。

【０００６】更に、毛ブラシを用いた研磨布の研磨屑除
去具は、上下の研磨布の研磨屑の除去に差が生じ、これ
によって基板の研磨時に上下両面の研磨量に差が生じ基
板の平坦度が損なわれると云う欠点があった。

【０００７】その上、毛ブラシを用いた研磨布の研磨屑
除去具は、研磨布の研磨屑を除去するのに労力がかかる
と共に時間がかかり生産性の低下を来す欠点があった。

【０００８】本発明の目的は、上記事情に鑑みなされた
もので、磁気ディスク用基板の表面を研磨する研磨布の
研磨屑除去具及びこれを使用した研磨布の研磨屑除去装
置において、研磨布の研磨屑除去が良好で、研磨布を再
使用しても研磨性能が良好に維持されると共に、基板の
研磨が均一に出来る研磨布の研磨屑除去具及びこれを装
着した研磨布の研磨屑除去装置を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気ディスク
用基板を保持する基板保持体に保持された前記磁気ディ
スク用基板であって、該磁気ディスク用基板の表面を研
磨する研磨布の研磨目に捕捉された研磨屑を除去する研
磨布の研磨屑除去具において、前記基板保持体に代えて
装着されると共に、同じ高さの稜線を有する突起を備
え、該稜線が前記研磨布に加圧、摺動され、該研磨布の
研磨面全体に渡って前記研磨屑を除去するものである。

【００１０】基板保持体に代えて装着されると共に、同
じ高さの稜線を有する突起を備え、該稜線が前記研磨布
に加圧、摺動され、該研磨布の研磨面全体に渡って前記
研磨屑を除去するものは、研磨屑除去具の突起が研磨布
の研磨目の底部まで達し、研磨目に詰まった研磨屑を良
好に排出させ除去する。再度研磨布を使用しても研磨性
能が良好に維持されると共に、基板の研磨が均一に出来
る。

【００１１】更に、上記研磨布の研磨屑除去具におい
て、前記突起は、一つ以上の同芯円状に形成されたもの
である。突起が一つ以上の同芯円状に形成されたもの
は、上記研磨布の研磨屑除去具の作用に加え、研磨布の
研磨面全面に渡って加圧、摺動し、研磨屑を排出する。
更に、同芯円状に形成されることにより、研磨屑除去
中、研磨屑除去具にかかる抵抗が研磨屑除去具の向きに
かかわらず常に一定で研磨屑の除去の確実性が増す。
又、その製作が容易となる。

【００１２】又、磁気ディスク用基板の表面を研磨する
研磨布の研磨目に捕捉された研磨屑を除去する研磨布の
研磨屑除去装置において、前記磁気ディスク用基板を保
持する基板保持体と、該基板保持体に保持された磁気デ
ィスク用基板に研磨材を含むスラリーを供給して研磨す
る研磨布とを有する磁気ディスク用基板の研磨装置にお
ける前記基板保持体に代えて、上記いずれかの研磨布の
研磨屑除去具を装着したものである。

【００１３】上記基板保持体に代えて、上記いずれかの
研磨布の研磨屑除去具を装着したものは、磁気ディスク
用基板の研磨装置を利用出来、研磨布の全面に渡って簡
単に研磨屑を除去することが出来ると共に、特別の研磨
屑除去装置を準備する必要がなく経済的である。

【００１４】更に、上記研磨布の研磨屑除去装置におい
て、中心に位置する太陽歯車と、該太陽歯車と同軸芯で
且つ同一平面内にある内歯歯車と、前記太陽歯車と同軸
芯で前記磁気ディスク用基板の表面を研磨する環状の前
記研磨布を固定した上定盤及び下定盤と、該上定盤及び
下定盤の間に介在し前記太陽歯車と前記内歯歯車とに噛
み合い、少なくとも該太陽歯車の回転で回転し、前記研
磨材を含むスラリーを通過させる孔を有する前記基板保
持体とを備えた磁気ディスク用基板の研磨装置における
該基板保持体に代えて、上記いずれかに記載の研磨布の
研磨屑除去具を装着したものである上記磁気ディスク用
基板の研磨装置における基板保持体に代えて、上記いず
れかに記載の研磨布の研磨屑除去具を装着したものは、
上記研磨布の研磨屑除去装置の作用に加え、上下研磨布
の研磨屑を同時に除去することが出来ると共に、同時に
複数枚の研磨屑除去具を装着出来、効率良く確実に研磨
布の研磨屑を除去することが出来る。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の研磨布の研磨屑除
去具及びこれを装着した研磨布の研磨屑除去装置につい
て、図面に基づいて詳細に説明する。本発明は、磁気デ
ィスク用基板の研磨装置を利用する研磨布の研磨屑除去
具及びこれを装着した研磨布の研磨屑除去装置であるの
で、先ず磁気ディスク用基板の研磨装置について説明す
る。

【００１６】磁気ディスクは、その装着されるコンピュ
ータの容量によって種々の寸法のものが使用されてい
る。大容量のものは１０.５インチ、小容量のものは１.
３インチとその幅は大きい。このような種々の寸法に従
い、一般的には、厚さ０.４〜２.５ｍｍのアルミニウム
板をドーナツ状に打ち抜き加工して所望の寸法の基板に
する。打ち抜かれた基板は、内外径の面取り加工を施し
た後、Ｎｉ−Ｐ皮膜が基板面に密着するように上下砥石
面を備えた研削装置で界面活性剤の添加された研削液を
研削面に供給しながら基板の両面を機械的に研削して粗
面化する。通常表面あらさがＲｍａｘ（最大高さ）で
０.２５μｍ程度まで研削して粗面化する。粗面化され
た基板は、弱酸性又は弱アルカリ性溶液で洗浄して研磨
滓を除去し清浄にされる。

【００１７】清浄化された基板は、次にジンケート処理
される。このジンケート処理は粗面化された基板面にＺ
ｎメッキしてＮｉ−Ｐ皮膜が均一に皮膜化されるように
するためのものである。ジンケート処理された基板は、
純水で洗浄した後無電解Ｎｉ−Ｐメッキされる。この無
電解Ｎｉ−Ｐメッキは基板表面を硬化するためのもので
ある。

【００１８】図４、５は、上記Ｎｉ−Ｐ皮膜を設けた基
板の表面を研磨する研磨装置を示すもので、図４は磁気
ディスク用基板の研磨装置を示す断面図、図５は図４の
III−III 線断面図である。本研磨装置は、上下に研磨
布を備えた自公転研磨装置１０で、アルミナ、コロイダ
ルシリカ、カーボランダム等の研磨材を含んだスラリー
を磁気ディスク用基板の研磨面に供給しながら機械的に
研磨して鏡面化するものである。

【００１９】自公転研磨装置１０は、従来の両面研磨装
置と同様、水平方向に回転可能に配設され、且つその上
面に環状の研磨布１５を装着する下定盤１４と、この下
定盤１４の上方位置にこの下定盤１４と対向同軸状に配
設されると共に水平方向に回転可能及び垂直方向に昇降
可能に保持され、且つ下面に環状の研磨布１２を装着し
た上定盤１１と、各研磨布１２、１５間において研磨布
１２、１５の軸心位置に配置される太陽歯車１７の径方
向外方位置に同心状に配置される内歯歯車１８と、この
内歯歯車１８及び太陽歯車１７と両歯車に噛合され下定
盤１４の研磨布１５上に載置された状態で両歯車１７、
１８間に配置される外歯歯車にて形成されると共に基板
２２を保持する基板保持体１９と、上定盤１１から基板
２２の上面に研磨材を含むスラリー３６ａ又は３７ａ
（具体的には研磨材を水又はオイルに分散させたスラリ
ー）を供給するスラリー供給手段２４ａとを具備してな
るものである。

【００２０】この場合、基板保持体１９は、図５に示す
ように、中心に関して対象位置に２つの基板固定用孔２
１が設けられると共に、中心に関して対称位置に少なく
とも１個以上の孔２０が設けられている。このように孔
２０を設けることによって、スラリー供給手段２４ａか
ら基板保持体１９に保持された基板２２の上面に供給さ
れる研磨材を含むスラリー３６ａ又は３７ａの一部を孔
２０を通して基板２２の下面と研磨布１５の間に供給す
ることが出来る。尚、基板固定用孔２１の数は必ずしも
２つである必要はなく、基板保持体１９の大きさと基板
２２の大きさによって任意の数にすることが出来る。
又、孔２０の数及び形状は任意に設定することが出来、
例えば孔２０の形状を三角或いは四角等に形成すること
も出来る。

【００２１】更に、上記スラリー供給手段２４ａは、上
定盤１１と共に水平方向に回転可能及び昇降可能な環状
或いは円弧状のスラリー溜め２５ａに図示しないスラリ
ー供給源から研磨材を含むスラリー３６ａ又は３７ａを
供給し、該スラリー溜め２５ａの周方向に設けられた多
数の吐出孔２６ａ、２７ａに接続する供給チューブ２８
ａ、２９ａを介して上定盤１１に設けられたスラリー供
給孔３０ａ、３１ａから上定盤１１の研磨布１２と基板
２２及び基板２２と研磨布１５との間に研磨材を含むス
ラリー３６ａ又は３７ａを供給し得るように構成されて
いる。そして、図４において符号３２ａ、３３ａはスラ
リー供給バルブ、３４ａ、３５ａはスラリー供給管で、
スラリー供給バルブ３２ａ、３３ａとスラリー供給管３
４ａ、３５ａは、回転しないようになっている。

【００２２】上記のように構成される自公転研磨装置１
０おいて、基板２２を基板保持体１９の基板固定用孔２
１に配置し、そして、基板２２の上下面に上下の研磨布
１２、１５を押し当てた状態にして、先ず、平均粒径及
び最大粒径が大きな研磨材を含むスラリー３６ａを供給
しながら太陽歯車１７を回転駆動すると共に、上下の定
盤１１、１４を相互に逆方向に回転駆動することによ
り、基板保持体１９を自転させながら太陽歯車１７の周
りで公転させて基板２２の両面を研磨加工する。即ち、
当初は平均粒径及び最大粒径の大きな研磨材を含むスラ
リー３６ａがスラリー供給管３４ａを経由してスラリー
溜め２５ａに供給される。このときスラリー供給バルブ
３２ａは開の状態にしておく。スラリー供給手段２４ａ
から基板保持体１９に保持された基板２２の上面に供給
され、その一部が孔２０を通って基板２２の下面と研磨
布１５の間に供給されるので、スラリー３６ａを上下定
盤１１、１４の研磨布１２、１５に均一に供給すること
が出来ると共に、下定盤１４の研磨布１５に蓄積する研
磨屑を孔２０から排出して下定盤１４の研磨布１５に研
磨屑の目詰まりを起こりにくくすることが出来、基板２
２の上下面を均一に速やかに研磨加工することが出来
る。

【００２３】研磨材を含むスラリー３６ａによる所定時
間の研磨後、スラリー供給バルブ３２ａを止め、スラリ
ー供給バルブ３３ａを開けて研磨材の平均粒径及び最大
粒径が小に調整されたスラリー３７ａをスラリー溜め２
５ａに供給し、スラリー供給手段２４ａを使用して所定
時間の研磨を上記と同じ工程で行ない、最終的には基板
２２の上下面を均一に厚さ１〜３μｍ研磨した皮膜鏡面
を得る。

【００２４】本実施のスラリー供給手段は、研磨材の平
均粒径及び最大粒径が大に調整されたスラリー３６ａを
供給するスラリー供給手段と、研磨材の平均粒径及び最
大粒径が小に調整されたスラリー３７ａを供給するスラ
リー供給手段とを兼ねたものであるが、スラリー３６ａ
用のスラリー供給手段及びスラリー３７ａ用のスラリー
供給手段を各々別に具備して二系統としても良い。又、
必要により研磨材の平均粒径及び最大粒径が大、中及び
小の三系統のスラリー供給手段、或いは四系統以上のス
ラリー供給手段を具備しても良い。

【００２５】次に、上記のような磁気ディスク用基板の
自公転研磨装置１０を利用する研磨布の研磨屑除去具及
びこれを装着した研磨布の研磨屑除去装置について説明
する。

【００２６】図１は、本発明に係る研磨布の研磨屑除去
具の一実施の形態を示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の I−I 線断面図である。本実施の形態の研磨布
の研磨屑除去具２は、図４、５に示したような基板保持
体１９に保持された磁気ディスク用基板２２の表面２３
を研磨する研磨布１２、１５の研磨目に捕捉された研磨
屑を除去するものである。そして、研磨布の研磨屑除去
具２は、基板保持体１９に代えて装着されると共に、同
じ高さの稜線６を有する第１の突起３、第２の突起４及
び第３の突起５を両面に備え、稜線６が上下の研磨布１
２、１５に加圧、摺動され、研磨布１２、１５の研磨面
１３、１６全体に渡って研磨屑を除去ものである。

【００２７】研磨屑除去具２の突起の形状は、同芯円状
に三つのものが形成されているが、本発明は、これに限
定されず、半径方向又は斜め方向に１本乃至複数の直線
状又は曲線状突起が形成されていても良く、要するに研
磨布の研磨面全体に渡って加圧、摺動出来る位置に突起
が形成されていれば良い。そして、好ましくは同芯円状
のものが、向きが変わっても抵抗が常に一定しており研
磨屑除去を確実なものと出来る。更に、研磨屑除去具２
の突起は、ある程度硬い方が良く、突起の材質として
は、プラスチック、アルミニウム合金、ステンレス鋼等
を適宜選定して形成される。

【００２８】更に、研磨屑除去具２は、中央部に通過孔
７が設けられると共に、表面の適宜の個所に複数の通過
孔８が設けられている。外周寄りには、先に述べた太陽
歯車１７と内歯歯車１８に噛み合う歯９が設けられる。

【００２９】図２は、本発明に係る研磨布の研磨屑除去
装置の一実施の形態を示す断面図、図３は、図２の II
−II 線断面図である。本実施の形態の研磨布の研磨屑
除去装置１は、磁気ディスク用基板の表面を研磨する研
磨布の研磨目に捕捉された研磨屑を除去するものである
が、先の図４、５に示した自公転研磨装置１０に使用さ
れている基板保持体１９に代えて、図１の研磨屑除去具
２を装着したものである。従って、研磨屑除去装置１
は、中心に位置する太陽歯車１７と、この太陽歯車１７
と同軸芯で且つ同一平面内にある内歯歯車１８と、太陽
歯車１７と同軸芯で磁気ディスク用基板の表面を研磨す
る環状の研磨布１２、１５を固定した上定盤１１及び下
定盤１４と、この上定盤１１及び下定盤１４の間に介在
し太陽歯車１７と内歯歯車１８とに噛み合い、太陽歯車
１７の回転で回転するものである。

【００３０】上記のように構成される研磨屑除去装置１
おいて、研磨布１２、１５の研磨目に捕捉された研磨屑
を除去する時は、研磨布１５の上に置かれた研磨屑除去
具２に、上の研磨布１２を押し当て、加圧した状態で回
転され、突起が研磨布１２、１５の研磨面全体に渡って
摺動し、研磨屑を除去する。この際、水３６を供給しな
がら太陽歯車１７を回転駆動すると共に、上下の定盤１
１、１４を相互に逆方向に回転駆動することにより、研
磨屑除去具２を自転させながら太陽歯車１７の周りで公
転させて研磨布１２、１５の研磨屑を除去する。即ち、
水３６が水供給管３４又は水供給管３５を経由して水溜
め２５に供給される。このとき水供給バルブ３２又は水
供給バルブ３３は開の状態にしておく。水供給手段２４
から研磨屑除去具２の上面に供給され、その一部が通過
孔７、８を通って研磨屑除去具２の下面と研磨布１５の
間に供給されるので、水３６を上下定盤１１、１４の研
磨布１２、１５に均一に供給することが出来ると共に、
研磨屑を水３６と共に速やかに排出する。

【００３１】本実施の形態の水３６は、先に説明した自
公転研磨装置１０のスラリー供給手段２４ａを利用した
ものであるので、水３６はスラリー供給管３４ａ又はス
ラリー供給管３５ａのどちらかから供給されているが、
どちらか一個所から供給されても良いことは勿論であ
る。図２、３におけるその他の部分で、先の自公転研磨
装置１０と同じ構造、作用部分には同じ参照番号を付け
て、その説明を省略する。

【００３２】以上の構造を有する研磨布の研磨屑除去具
２及びこれを装着した研磨屑除去装置１は、次のように
作用する。即ち、研磨屑除去具２は、基板保持体１９に
代えて装着されると共に、同じ高さの稜線６を有する突
起を備え、この稜線６が研磨布１２、１５に加圧、摺動
され、研磨布１２、１５の研磨面１３、１６全体に渡っ
て研磨屑を除去する。研磨屑除去具２の突起が研磨布の
研磨目の底部まで達し、研磨目に詰まった研磨屑を良好
に排出させる。再度研磨布を使用しても研磨性能が良好
に維持されると共に、基板の研磨が均一に出来るもので
ある。

【００３３】更に、研磨屑除去具２は、その突起が三つ
の同芯円状に形成され、研磨布の研磨面全面に渡って確
実に加圧、摺動し、研磨屑を排出する。同芯円状に形成
されることにより、その製作が容易となる。

【００３４】又、基板保持体１９に代えて、上記いずれ
かの研磨布の研磨屑除去具を装着した研磨屑除去装置１
は、磁気ディスク用基板の研磨装置を利用して、上下研
磨布の全面に渡って簡単に研磨屑を除去することが出来
ると共に、特別の研磨屑除去装置を準備する必要がなく
経済的である。その上、同時に複数枚の研磨屑除去具を
装着出来、効率良く確実に研磨布の研磨屑を除去するこ
とが出来る。

【００３５】

【実施例】次に、本実施の形態の研磨屑除去具２を研磨
屑除去装置１に装着して研磨布の研磨屑を除去した実施
例について説明する。

【００３６】（１）研磨屑除去装置の寸法、仕様太陽歯車直径３００ｍｍ内歯歯車直径１０００ｍｍ研磨布環状部半径方向長さ３５０ｍｍ製造会社、品種スピードファム社製１６Ｂ両面研磨機（２）研磨屑除去具の寸法、仕様研磨屑除去具使用枚数４枚セット研磨屑除去具加圧力１．５ｋｇｆ／ｃｍ² 研磨屑除去具板厚７ｍｍ中心開口部直径１００ｍｍ突起位置両面突起同心円数３本、中心から１００、１３０、１６０ｍｍ突起高さ３ｍｍ（３）上記研磨屑除去具を研磨屑除去装置に４枚セット
し、研磨屑除去具が研磨布を３０回／分の割合で回転さ
せ、水を１０リットル／分の割合で供給し、水の濁りが
無くなるまで回転させた。無くなるまでに、５分間を要
した。これを再使用し、研磨されなくなるまでに３．５
インチ基板を１回×５分×２０枚を１ロットとし３０ロ
ットの研磨作業が出来た。

【００３７】（４）効果上記同心円突起付円板型の研磨屑除去具（ドレッサー）
使用により、確実にドレッシングインターバルが長く出
来た。従来の毛ブラシドレッサーでは、１ドレッシング
／２〜３バッチ研磨であったが、上記同心円突起付円板
型の研磨屑除去具では、１ドレッシング／４〜６バッチ
研磨出来た。更に、ドレッシング時間の短縮が出来、従
来の毛ブラシドレッサーでは、１回／５分であったが、
上記同心円突起付円板型の研磨屑除去具では、１回／３
分に短縮した。

【００３８】

【発明の効果】本発明の研磨布の研磨屑除去具によれ
ば、研磨屑除去具の突起が研磨布の研磨目の底部まで達
し、研磨目に詰まった研磨屑を良好に排出させ除去す
る。研磨布を再使用しても研磨性能が良好に維持される
と共に、磁気ディスク用基板の研磨が均一に出来る。更
に、突起が一つ以上の同芯円状に形成されたものは、そ
の製作が容易である。

【００３９】又、基板保持体に代えて本発明の研磨布の
研磨屑除去具を装着した研磨屑除去装置は、磁気ディス
ク用基板の研磨装置を利用出来、効率良く確実に研磨布
の全面に渡って研磨屑を除去することが出来ると共に、
特別の研磨屑除去装置を準備する必要がなく経済的であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る研磨布の研磨屑除去具の一実施の
形態を示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は（Ａ）の I−I
線断面図である。

【図２】本発明に係る研磨布の研磨屑除去装置の一実施
の形態を示す断面図である。

【図３】図２の II−II 線断面図である。

【図４】磁気ディスク用基板の研磨装置を示す断面図で
ある。

【図５】図４の III−III 線断面図である。

【符号の説明】

１研磨屑除去装置２研磨屑除去具３第１の突起（突起）４第２の突起（突起）５第３の突起（突起）６稜線１０自公転研磨装置（研磨装置）１１上定盤１２研磨布１３研磨面１４下定盤１５研磨布１６研磨面１７太陽歯車１８内歯歯車１９基板保持体２０孔２２磁気ディスク用基板２３表面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁気ディスク用基板を保持する基板保持
体に保持された前記磁気ディスク用基板であって、該磁
気ディスク用基板の表面を研磨する研磨布の研磨目に捕
捉された研磨屑を除去する研磨布の研磨屑除去具におい
て、前記基板保持体に代えて装着されると共に、同じ高
さの稜線を有する突起を備え、該稜線が前記研磨布に加
圧、摺動され、該研磨布の研磨面全体に渡って前記研磨
屑を除去するものであることを特徴とする研磨布の研磨
屑除去具。
【請求項２】請求項１において、前記突起は、一つ以
上の同芯円状に形成されたものであることを特徴とする
研磨布の研磨屑除去具。
【請求項３】磁気ディスク用基板の表面を研磨する研
磨布の研磨目に捕捉された研磨屑を除去する研磨布の研
磨屑除去装置において、前記磁気ディスク用基板を保持
する基板保持体と、該基板保持体に保持された磁気ディ
スク用基板に研磨材を含むスラリーを供給して研磨する
研磨布とを有する磁気ディスク用基板の研磨装置におけ
る前記基板保持体に代えて、請求項１又は２に記載の研
磨布の研磨屑除去具を装着したものであることを特徴と
する研磨布の研磨屑除去装置。
【請求項４】請求項３において、中心に位置する太陽
歯車と、該太陽歯車と同軸芯で且つ同一平面内にある内
歯歯車と、前記太陽歯車と同軸芯で前記磁気ディスク用
基板の表面を研磨する環状の前記研磨布を固定した上定
盤及び下定盤と、該上定盤及び下定盤の間に介在し前記
太陽歯車と前記内歯歯車とに噛み合い、少なくとも該太
陽歯車の回転で回転し、前記研磨材を含むスラリーを通
過させる孔を有する前記基板保持体とを備えた磁気ディ
スク用基板の研磨装置における該基板保持体に代えて、
請求項１又は２に記載の研磨布の研磨屑除去具を装着し
たものであることを特徴とする研磨布の研磨屑除去装
置。