JP2006245598A - 停止化合物を伴う研磨系及びその使用方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(i)液体キャリア、(ii)少なくとも1種の酸化剤、(iii)系が基体の少なくとも1つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも1種の研磨添加剤、並びに(iv)第1の金属層:第2の層の研磨選択性が少なくとも約30:1の少なくとも1種の停止化合物を含有し、停止化合物が、アミン、イミン、アミド、イミド及びそれらの混合を含む化合物から選択されるカチオン性の窒素含有化合物であり、(v)研磨パッド及び/又は研磨材と共に使用される、第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する組成物とする。
【選択図】なし
Description
この例は、本発明の系によって達成可能な多層基体の研磨選択性が、系の研磨添加剤及び停止化合物の種類及び存在によって影響を受けることを示している。
この例では、本発明の系によって達成可能な多層基体の研磨選択性が、系の研磨添加剤及び停止化合物の存在及び種類に依存していることを示す。
この例では、本発明の系によって達成可能な多層基体の研磨選択性が、系の停止化合物の種類に依存していることを示す。
この例では、本発明の系によって達成可能な多層基体の研磨選択性及び表面欠陥の最少化が、系の停止化合物の種類に依存していることを示す。
Claims (32)
- (i)液体キャリア、(ii)少なくとも1種の酸化剤、(iii)系が基体の少なくとも1つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも1種の研磨添加剤、(iv)第1の金属層:第2の層の研磨選択性が少なくとも約30:1の少なくとも1種の停止化合物、並びに(v)研磨パッド及び/又は研磨材を含み、前記停止化合物が、アミン、イミン、アミド、イミド及びそれらの混合を含む化合物から選択されるカチオン性の窒素含有化合物である、第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する系。
- (i)液体キャリア、(ii)少なくとも1種の酸化剤、(iii)系が基体の少なくとも1つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも1種の研磨添加剤、並びに(iv)第1の金属層:第2の層の研磨選択性が少なくとも約30:1の少なくとも1種の停止化合物を含有し、前記停止化合物が、アミン、イミン、アミド、イミド及びそれらの混合を含む化合物から選択されるカチオン性の窒素含有化合物であり、(v)研磨パッド及び/又は研磨材と共に使用される、第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する組成物。
- 前記液体キャリアが非水性溶媒である、請求項1又は2に記載の系。
- 前記液体キャリアが水である、請求項1又は2に記載の系。
- 前記系が前記液体キャリアに懸濁される研磨材を含有している、請求項1〜4のいずれかに記載の系。
- 前記研磨材が前記研磨パッドに固定されている、請求項1〜4のいずれかに記載の系。
- 研磨材が存在せず、且つ前記研磨パッドが非研磨性のパッドである、請求項1〜4のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が、第1アミン、第2アミン、第3アミン、第4アミン、エーテルアミン、オリゴマーアミン、オリゴマーイミン、オリゴマーアミド、オリゴマーイミド、ポリマーアミン、ポリマーイミン、ポリマーアミド、ポリマーイミド、及びそれらの混合を含む化合物から選択される、請求項1〜7のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が、アミノ酸、アミノアルコール、アミノエーテルアルコール、及びそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜7のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が、ポリエーテルアミン、ポリエチレンイミン、N4−アミン(N,N’−ビス−[3−アミノプロピル]エチレンジアミン)、4,7,10−トリオキサトリデカン−1,13−ジアミン、3,3−ジメチル−4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン、2−フェニルエチルアミン、N,N−ジメチルジプロピレントリアミン、3−[2−メトキシエトキシ]プロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジン、及びそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜8のいずれかに記載の系。
- 前記停止化合物が、イソホロンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、シクロヘキシル−1,3−プロパンジアミン、チオアミン、(アミノプロピル)−1,3−プロパンジアミン、テトラエチレン−ペンタアミン、テトラメチルブタンジアミン、プロピルアミン、ジアミノプロパノール、アミノブタノール、(2−アミノエトキシ)エタノール、又はそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜9のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が、約5wt%又はそれ未満の濃度で前記液体キャリア中に存在する、請求項1〜11のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が、約3wt%又はそれ未満の濃度で前記液体キャリア中に存在する、請求項12に記載の系。
- 前記少なくとも1種の研磨添加剤が、リン含有化合物、窒素含有化合物、硫黄含有化合物、カルボキシル酸、およびそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜13のいずれかに記載の系。
- ポリエチレンイミンを含む少なくとも1種の停止化合物と、ジ−カルボキシル酸、トリ−カルボキシル酸、ポリ−カルボキシル酸、ピロリン酸塩、トリ−リン酸塩、縮合リン酸塩、ジ−ホスホン酸、トリ−ホスホン酸、ポリ−ホスホン酸、及びそれらの混合からなる群より選択される少なくとも1種の研磨添加剤を含有する、請求項1〜14のいずれかに記載の系。
- 2又はそれよりも多くのアミン基を有する少なくとも1種の停止化合物と、ジ−カルボキシル酸、トリ−カルボキシル酸、ポリ−カルボキシル酸、ピロリン酸塩、トリ−リン酸塩、縮合リン酸塩、ジ−ホスホン酸、トリ−ホスホン酸、ポリ−ホスホン酸、及びそれらの混合からなる群より選択される少なくとも1種の研磨添加剤を含有する、請求項1〜15のいずれかに記載の系。
- 2又はそれよりも多くの第1アミン基を有する少なくとも1種の停止化合物と、ジ−カルボキシル酸、トリ−カルボキシル酸、ポリ−カルボキシル酸、ピロリン酸塩、トリ−リン酸塩、縮合リン酸塩、ジ−ホスホン酸、トリ−ホスホン酸、ポリ−ホスホン酸、及びそれらの混合からなる群より選択される少なくとも1種の研磨添加剤を含有する、請求項1〜16のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が2又はそれよりも多くの第1アミン基を有し、且つ前記少なくとも1種の研磨添加剤が、ジ−カルボキシル酸、トリ−カルボキシル酸、ポリ−カルボキシル酸、及びそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜17のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が2又はそれよりも多くの第1アミン基を有し、且つ前記少なくとも1種の研磨添加剤が、ジ−ホスホン酸、トリ−ホスホン酸、ポリ−ホスホン酸、及びそれらの混合からなる群より選択される、請求項1〜18のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物の分子量が約100超である、請求項1〜19のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物がアミノプロピル基を有する、請求項1〜20のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の停止化合物が3又はそれよりも多くの炭素原子を有する、請求項1〜21のいずれかに記載の系。
- 前記少なくとも1種の酸化剤がペルオキシドである、請求項1〜22のいずれかに記載の系。
- ペルオキシド、アミノトリ(メチレンホスホン酸)、及び1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペラジンを含有している、請求項1〜23のいずれかに記載の系。
- ペルオキシド、酒石酸、及びポリエチレンイミンを含有している、請求項1〜23のいずれかに記載の系。
- 前記基体に結合した少なくとも1つの層の研磨速度を低下させる少なくとも1種のポリマー化合物を更に含有している、請求項1〜25のいずれかに記載の系。
- 少なくとも1種の不動態フィルム形成剤を更に含有している、請求項1〜26のいずれかに記載の系。
- 前記研磨材が金属酸化物研磨材である、請求項1〜27のいずれかに記載の系。
- 前記研磨材が、アルミナ、セリア、ゲルマニア、シリカ、チタニア、ジルコニア、及びそれらの共生成物、並びにそれらの混合からなる群より選択される、請求項28に記載の系。
- 前記研磨材がアルミナである、請求項29に記載の系。
- 請求項1〜30のいずれかに記載の系を基体の表面に接触させること、及びこの系によって前記基体の少なくとも一部を研磨することを含む、基体の研磨方法。
- (a)請求項1〜30のいずれかに記載の系を、第1の金属層に接触させること、及び
(b)前記基体から第1の金属層の少なくとも一部が除去れるまで、前記第1の金属層を前記系で研磨すること、
を含む、第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する方法。
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