JP2006066852A - 積層型電子部品の製造方法 - Google Patents

積層型電子部品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006066852A
JP2006066852A JP2004287847A JP2004287847A JP2006066852A JP 2006066852 A JP2006066852 A JP 2006066852A JP 2004287847 A JP2004287847 A JP 2004287847A JP 2004287847 A JP2004287847 A JP 2004287847A JP 2006066852 A JP2006066852 A JP 2006066852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
electrode pattern
pattern layer
curable resin
sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004287847A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4483508B2 (ja
Inventor
Toshio Sakurai
俊雄 櫻井
Shigeki Sato
佐藤  茂樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2004287847A priority Critical patent/JP4483508B2/ja
Priority to TW094125115A priority patent/TWI276127B/zh
Priority to US11/188,090 priority patent/US7344612B2/en
Priority to KR1020050068404A priority patent/KR100706684B1/ko
Publication of JP2006066852A publication Critical patent/JP2006066852A/ja
Priority to US12/010,721 priority patent/US20080295949A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4483508B2 publication Critical patent/JP4483508B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/46Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates
    • C04B35/462Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates
    • C04B35/465Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates
    • C04B35/468Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates
    • C04B35/4682Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on titanium oxides or titanates based on titanates based on alkaline earth metal titanates based on barium titanates based on BaTiO3 perovskite phase
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/6261Milling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62625Wet mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/62605Treating the starting powders individually or as mixtures
    • C04B35/62625Wet mixtures
    • C04B35/6264Mixing media, e.g. organic solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • C04B35/63Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B using additives specially adapted for forming the products, e.g.. binder binders
    • C04B35/632Organic additives
    • C04B35/634Polymers
    • C04B35/63404Polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C04B35/63424Polyacrylates; Polymethacrylates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2311/00Metals, their alloys or their compounds
    • B32B2311/22Nickel or cobalt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3206Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3205Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
    • C04B2235/3215Barium oxides or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3225Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3231Refractory metal oxides, their mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof
    • C04B2235/3239Vanadium oxides, vanadates or oxide forming salts thereof, e.g. magnesium vanadate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3262Manganese oxides, manganates, rhenium oxides or oxide-forming salts thereof, e.g. MnO
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3427Silicates other than clay, e.g. water glass
    • C04B2235/3436Alkaline earth metal silicates, e.g. barium silicate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/34Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3427Silicates other than clay, e.g. water glass
    • C04B2235/3436Alkaline earth metal silicates, e.g. barium silicate
    • C04B2235/3454Calcium silicates, e.g. wollastonite
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5445Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6582Hydrogen containing atmosphere
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/658Atmosphere during thermal treatment
    • C04B2235/6588Water vapor containing atmospheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/65Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
    • C04B2235/66Specific sintering techniques, e.g. centrifugal sintering
    • C04B2235/661Multi-step sintering
    • C04B2235/662Annealing after sintering
    • C04B2235/663Oxidative annealing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/32Ceramic
    • C04B2237/34Oxidic
    • C04B2237/345Refractory metal oxides
    • C04B2237/346Titania or titanates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2237/00Aspects relating to ceramic laminates or to joining of ceramic articles with other articles by heating
    • C04B2237/30Composition of layers of ceramic laminates or of ceramic or metallic articles to be joined by heating, e.g. Si substrates
    • C04B2237/40Metallic
    • C04B2237/405Iron metal group, e.g. Co or Ni

Abstract

【課題】 グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、いわゆるシートアタック現象が発生せず、結果として得られる電子部品のショート不良率が少ない積層型電子部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体20上に、セラミック粉を少なくとも含む下側グリーンシート10aを形成する工程と、下側グリーンシートの表面に電極パターン層12aを形成する工程と、下側グリーンシートおよび電極パターン層を少なくとも含む積層体ユニットU1を積層し、グリーンチップを形成する工程と、グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法である。支持体20上に形成される下側グリーンシート10aには、硬化性樹脂のバインダが含まれ、この下側グリーンシートの上に電極パターン層12aを形成する前に、下側グリーンシート10a内の硬化性樹脂を硬化させる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、たとえば積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法に関し、さらに詳しくは、グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、いわゆるシートアタック現象が発生せず、結果として得られる電子部品のショート不良率が少ない積層型電子部品の製造方法に関する。
コンデンサ、圧電素子、PTCサーミスタ、NTCサーミスタ、またはバリスタ等の積層型電子部品を製造する方法としては、たとえば下記の方法が知られている。すなわち、まず、可撓性支持体(例としてPETフィルム)上にドクターブレード法などで、セラミック粉、有機バインダ、可塑剤、溶剤等を含むセラミック塗料をシート状に成形し、グリーンシートとする。そのグリーンシートの上に、パラジウム、銀、ニッケル等の電極材を含むペーストを所定パターンで印刷し、電極パターン層とする。
積層構造を得る場合には、得られたグリーンシートを、所望の積層構造になるように積層し、プレス切断工程を経てセラミックグリーンチップを得る。このようにして得られたセラミックグリーンチップ中のバインダをバーンアウトし、1000℃〜1400℃で焼成し、得られた焼成体に、銀、銀−パラジウム、ニッケル、または銅等の端子電極を形成し、セラミック積層型電子部品を得る。
上述した製造方法において、例えば積層セラミックコンデンサを製造する場合、小型化、大容量化の手法として、1層あたりの誘電体層の厚みを薄くし、積層数を多くすることが考えられる。しかしながら、グリーンシートを可撓性支持体から剥離して積層する方法では、特に薄いグリーンシートの場合、可撓性支持体からグリーンシートがうまく剥離できず、積層歩留りが非常に悪くなる。また、薄いグリーンシートをハンドリングするため、出来上がった製品にショート等の特性不良が多発する。
このような問題点を解決する手段として、可撓性支持体上で、グリーンシートを形成する工程と、グリーンシート上に電極を印刷する工程とを、必要な積層数(シート塗布と印刷)だけ繰り返すことにより積層体を得る方法が考えられる。これによりシートのトータル厚みが増加する分、シートの支持体からの剥離が可能になる(下記の特許文献1等)。
しかしながら、この従来の製造方法では、以下の様な課題があった。第1点目は、乾燥した第1層目のグリーンシートの上に電極パターンを印刷する工程が、Wet−on−Dry方式になることによる不都合である。すなわち、電極印刷時の溶剤によって第1層目のシート部を侵食すること(溶剤によるシートアタック)が起こり、電極印刷部の下面のシート部の厚みが薄くなり、ショート不良を発生し易いことである。
第2点目は、第2層目以降(例として第2層目を想定)をシート塗布(Wet−on−Dry方式)すると、乾燥した第1層目のシート部に第2層目に塗布する塗料が浸透することである。このため、1層目と2層目のシート厚みが一定にならないという不具合や、ピンホール等の不具合も発生し、製品特性に影響を及ぼす不具合が発生する。
第3点目は、第2層目以降のシート(例として第2層目を想定)を塗布後に電極を印刷する工程がWet−on−Dry方式になるため、電極印刷時の溶剤によって第2層目のシート部を侵食する(溶剤によるシートアタック)ことである。このため、電極印刷部の下面のシート部の厚みが薄くなるためにショート不良を発生し易い。
特に1層あたりのシートの厚みが3μm以下、特に1μm以下となる場合、このような不都合が顕著に表れ、小型大容量の積層セラミックコンデンサを製造することが困難になっている。
特許第3190177号公報
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、いわゆるシートアタック現象が発生せず、結果として得られる電子部品のショート不良率が少ない積層型電子部品の製造方法を提供することである。
課題を解決するための手段および発明の効果
上記目的を達成するために、本発明に係る積層型電子部品の製造方法は、
支持体上に、セラミック粉を少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
前記下側グリーンシートおよび電極パターン層を少なくとも含む積層体ユニットを積層し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法であって、
前記支持体上に形成される下側グリーンシートには、硬化性樹脂のバインダが含まれ、この下側グリーンシートの上に前記電極パターン層を形成する前に、前記下側グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする。
本発明に係る方法では、第1層目の下側グリーンシートの表面に、電極パターン層を形成する前に、下側グリーンシートに含まれる硬化性樹脂を、熱、紫外線、あるいは電子線などを加えることにより硬化させる。硬化された樹脂は、あらゆる溶剤に対して不溶な樹脂に変化する。そのため、その下側グリーンシートの表面に電極パターン層を印刷法などで形成したとしても、電極パターン層に含まれる溶剤がグリーンシートを侵食すること(溶剤によるシートアタック)はない。その結果、結果として得られる電子部品のショート不良を低減することができる。
好ましくは、本発明に係る方法は、前記下側グリーンシートの上に電極パターン層を形成した後、前記電極パターン層の上に、硬化性樹脂のバインダを含む中間グリーンシートを形成する工程と、
その後に、前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
その後に、前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、をさらに有し、
前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
最も上側に位置する電極パターン層の上には、上側グリーンシートを形成し、
前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと、一層以上の前記中間グリーンシートと、二層以上の前記電極パターン層と、前記上側シートとで構成し、
前記上側グリーンシートには、熱可塑性樹脂のバインダを含ませる。
積層体ユニットは、後工程において積層(積層プレス工程)されるが、その積層に際して、上側グリーンシートの上に下側グリーンシートが接することになる。下側グリーンシートには、硬化性樹脂が含まれ、下側グリーンシートの樹脂は既に硬化されている。もし、仮に上側グリーンシートにも硬化された硬化性樹脂が含まれているとすると、それらの接着が不十分に成りやすく、積層が良好に行えないおそれがある。本発明では、上側グリーンシートには、熱可塑性樹脂を有するバインダが含まれているので、上側グリーンシートの上に他の積層体ユニットの下側グリーンシートが接触して積層されたとしても、その接着性は良好であり、積層が容易である。
また、上側グリーンシートが熱可塑性樹脂を含む塗料により形成されるとしても、中間グリーンシートは硬化しているため、中間グリーンシートへの塗料の浸透が無い。このため、シート厚みが一定にならないという不具合やピンホール等の不具合が発生しにくくなる。なお、同様な理由から、中間グリーンシートを形成する際にも、下側グリーンシートは硬化しているため、下側グリーンシートへの塗料の浸透が無い。このため、シート厚みが一定にならないという不具合やピンホール等の不具合が発生しにくくなる。
また、好ましくは、本発明に係る方法は、前記下側グリーンシートの上に電極パターン層を形成した後、前記電極パターン層の上に、硬化性樹脂のバインダを含む中間グリーンシートを形成する工程と、
その後に、前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
その後に、前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、をさらに有し、
前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
最も上側に位置する電極パターン層の上には、上側グリーンシートを形成し、
前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと、一層以上の前記中間グリーンシートと、二層以上の前記電極パターン層と、前記上側シートとで構成し、
前記上側グリーンシートには、硬化性樹脂のバインダを含ませ、硬化をさせずにシートに接着性を持たせる。
前記下側グリーンシートには、硬化性樹脂が含まれ、下側グリーンシートの樹脂は既に硬化されている。もし、仮に上側グリーンシートの硬化性樹脂が硬化されているとすると、それらの接着が不十分に成りやすく、積層が良好に行えないおそれがある。本発明では、上側グリーンシートの硬化性樹脂を硬化させないので、上側グリーンシートの上に他の積層体ユニットの下側グリーンシートが接触して積層されたとしても、その接着性は良好であり、積層が容易である。
さらに、好ましくは、前記上側グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダが、前記下側グリーンシートおよび前記中間グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダと同じ種類である。
前記上側グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダを前記下側グリーンシートおよび前記中間グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダと同じ種類にすることで、同一塗料を用いることが可能になりペーストの種類を減少させることができる。
本発明において、好ましくは、前記中間グリーンシートの厚みは、前記下側グリーンシートの厚みと前記上側グリーンシートの厚みとの合計に略等しい。上側グリーンシートの上に他の積層体ユニットの下側グリーンシートが接触して積層される。このため、積層された後に、積層方向の電極パターン層の間に存在するグリーンシートの厚みを均一にするためには、中間グリーンシートの厚みは、前記下側グリーンシートの厚みと前記上側グリーンシートの厚みとの合計に略等しいことが好ましい。
前記下側グリーンシートの厚みが、3μm以下、2μm以下、さらには1μm以下と薄くなった場合においては、特に、シートアタック現象が原因でショート不良が生じやすい。本発明では、下側グリーンシートおよび中間グリーンシートには、硬化性樹脂が含まれており、上述したようにシートアタックが生じにくいことから、グリーンシートが薄い場合においても、ショート不良は生じ難い。
好ましくは、前記電極パターン層の上に前記中間グリーンシートまたは前記上側グリーンシートを形成する前に、前記電極パターン層が形成されていない前記グリーンシート上の余白部分に、余白パターン層を形成する工程をさらに有する。なお、本発明において、余白パターン層とは、電極パターンと相補関係にあるパターンである。余白パターン層を形成することで、電極パターン層の上にグリーンシートを形成したとしても、グリーンシートに段差などが形成されることはなく、積層後のチップ形状も良好なものとなる。
なお、余白パターン層を形成する際には、その下側のグリーンシートに含まれる樹脂は硬化しているので、余白パターン層を形成するための印刷ペーストの溶剤によるシートアタックの影響を受けにくくショート不良対策に効果がある。
本発明に係る好ましい態様の方法は、
支持体上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
前記下側グリーンシートに含まれる前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
前記電極パターン層の上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む中間グリーンシートを形成する工程と、
前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、有し、
前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
最も上側に位置する電極パターン層の上には、セラミック粉と熱可塑性樹脂のバインダとを少なくとも含む上側グリーンシートを形成し、
単一の前記下側グリーンシートと、1層以上50層以下の前記中間グリーンシートと、2層以上51層以下の前記電極パターン層と、単一の前記上側グリーンシートとから成る積層体ユニットを前記支持体上に形成し、
前記支持体を剥がした前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと前記上側グリーンシートとが接触するように、二つ以上積層してグリーンチップを形成し、その後、前記グリーンチップを焼成することを特徴とする。
本発明に係る他の好ましい態様の方法は、
支持体上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
前記下側グリーンシートに含まれる前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
前記電極パターン層の上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む中間グリーンシートを形成する工程と、
前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、有し、
前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
最も上側に位置する電極パターン層の上には、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む上側グリーンシートを形成し、
単一の前記下側グリーンシートと、1層以上50層以下の前記中間グリーンシートと、2層以上51層以下の前記電極パターン層と、単一の前記上側グリーンシートとから成る積層体ユニットを前記支持体上に形成し、
前記上側グリーンシートの硬化性樹脂を硬化させることなく、前記支持体を剥がした前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと前記上側グリーンシートとが接触するように、二つ以上積層してグリーンチップを形成し、その後、前記グリーンチップを焼成することを特徴とする。
前記硬化性樹脂としては、特に限定されず、たとえば熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂のいずれかである。熱硬化性樹脂は、熱を加えることにより硬化し、紫外線硬化樹脂は、紫外線を照射することにより硬化し、電子線硬化性樹脂は、電子線を照射することにより硬化する。本発明では、これらの樹脂の中でも、後工程において、脱バインダ処理し易い樹脂が好ましく、たとえば熱硬化性アクリル樹脂、紫外線硬化性アクリル樹脂、電子線硬化性アクリル樹脂などが好ましい。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図、
図2は図1に示す積層セラミックコンデンサの製造方法の1製造過程を示す要部断面図、
図3は図2の続きの工程を示す要部断面図、
図4および図5はそれぞれ本発明の他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法の1製造過程を示す要部断面図である。
まず、本発明に係る方法により製造される電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、コンデンサ素体4と、第1端子電極6と第2端子電極8とを有する。コンデンサ素体4は、誘電体層10と、内部電極層12とを有し、誘電体層10の間に、これらの内部電極層12が交互に積層してある。交互に積層される一方の内部電極層12は、コンデンサ素体4の第1端部の外側に形成してある第1端子電極6の内側に対して電気的に接続してある。また、交互に積層される他方の内部電極層12は、コンデンサ素体4の第2端部の外側に形成してある第2端子電極8の内側に対して電気的に接続してある。
誘電体層10の材質は、特に限定されず、たとえばチタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウムおよび/またはチタン酸バリウムなどの誘電体材料で構成される。各誘電体層10の厚みは、特に限定されないが、数μm〜数百μmのものが一般的である。特に本実施形態では、好ましくは3μm以下、さらに好ましくは1.5μm以下、特に好ましくは1μm以下に薄層化されている。
端子電極6および8の材質も特に限定されないが、通常、銅や銅合金、ニッケルやニッケル合金などが用いられるが、銀や銀とパラジウムの合金なども使用することができる。端子電極6および8の厚みも特に限定されないが、通常10〜50μm程度である。
積層セラミックコンデンサ2の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。積層セラミックコンデンサ2が直方体形状の場合は、通常、縦(0.6〜5.6mm、好ましくは0.6〜3.2mm)×横(0.3〜5.0mm、好ましくは0.3〜1.6mm)×厚み(0.1〜1.9mm、好ましくは0.3〜1.6mm)程度である。
次に、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造方法の一例を説明する。
まず、図2に示すように、ノズルコート法、ドクターブレード法などにより、支持シート(支持体)としてのキャリアシート20上に、厚さt1で、下側グリーンシート10aを形成する。下側グリーンシート10aは、キャリアシート20に形成された後に乾燥される。下側グリーンシート10aの乾燥温度は、好ましくは50〜100°Cであり、乾燥時間は、好ましくは1〜20分である。乾燥後のグリーンシート10aの厚みは、乾燥前に比較して、5〜25%の厚みに収縮する。乾燥後のグリーンシートの厚みt1は、好ましくは1.5μm以下、さらに好ましくは1.0μm以下、特に好ましくは0.5μm以下である。
キャリアシート20としては、たとえばPETフィルムなどが用いられ、剥離性を改善するために、シリコンなどがコーティングしてあるものが好ましい。これらのキャリアシート20の厚みは、特に限定されないが、好ましくは、5〜100μmである。
本実施形態では、下側グリーンシート10aを形成するための誘電体ペーストは、通常、誘電体原料と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。
誘電体原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。誘電体原料は、通常、平均粒子径が0.3μm以下、好ましくは0.2μm以下の粉末として用いられる。なお、きわめて薄いグリーンシートを形成するためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉末を使用することが望ましい。
有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いられるバインダとしては、本実施形態では、硬化性樹脂が用いられる。硬化性樹脂は、何らかのエネルギーにより硬化する樹脂であり、たとえば熱硬化性樹脂、紫外線(UV)硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、2液重合型などが例示される。
好ましい熱硬化性樹脂としては、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性エポキシ樹脂、熱硬化性ウレタンアクリレート、熱硬化性ポリエステルアクリレート、熱硬化性ウレタン樹脂、熱硬化性ユリア樹脂、熱硬化性メラミン樹脂などが例示される。また、好ましいUV硬化性樹脂としては、UV硬化性アクリル樹脂、UV硬化性ウレタンアクリレート、UV硬化性ポリエステルアクリレート、UV硬化性ウレタン樹脂、UV硬化性エポキシアクリレート、UV硬化性イミドアクリレートなどが例示される。さらに、好ましい電子線硬化性樹脂としては、電子線硬化性アクリル樹脂、電子線硬化性ウレタンアクリレート、電子線硬化性ポリエステルアクリレート、電子線硬化性ウレタン樹脂、電子線硬化性エポキシアクリレート樹脂、カチオン硬化型樹脂などが例示される。
有機ビヒクルに用いられる有機溶剤は、上記のバインダ樹脂を溶解するものであれば特に限定されず、テルピネオール、アルコール、ブチルカルビトール、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ステアリン酸ブチル、イソボニルアセテートなどの有機溶剤が用いられる。誘電体ペースト中の各成分の含有量は特に限定されず、通常の含有量、たとえばバインダは5〜10質量%程度、溶剤は10〜50質量%程度とすればよい。
誘電体ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、ガラスフリット、絶縁体、帯電助剤などから選択される添加物が含有されても良い。ただし、これらの総含有量は、10質量%以下とすることが望ましい。可塑剤としては、フタル酸ジオクチルやフタル酸ベンジルブチルなどのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。
バインダ樹脂として、アクリル系樹脂を用いる場合には、可塑剤は、バインダ樹脂100質量部に対して、25〜100質量部の含有量であることが好ましい。可塑剤が少なすぎると、グリーンシートが脆くなる傾向にあり、多すぎると、可塑剤が滲み出し、取り扱いが困難である。
キャリアシート20の上に下側グリーンシート10aを形成して乾燥した後には、この下側グリーンシート10aに含まれる硬化性樹脂を、その硬化性樹脂の特質に応じたエネルギーを照射して硬化させる。たとえば熱硬化性樹脂であれば、熱を加えて硬化させ、UV硬化性樹脂であれば紫外線を照射して硬化させ、電子線硬化性樹脂であれば、電子線を照射して硬化させる。
次いで、図2に示すように、キャリアシート20上に形成した下側グリーンシート10aの表面に、所定パターンの電極パターン層12aを形成し、その前後に、その電極パターン層12aが形成されていない下側グリーンシート10aの表面に、電極パターン層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。乾燥後の電極パターン層12aの厚みは、特に限定されないが、乾燥後の下側グリーンシート10aの厚みt1の30〜80%程度の厚みである。
電極パターン層12aは、たとえば電極ペーストを用いる印刷法などの厚膜形成方法、あるいは蒸着、スパッタリングなどの薄膜法により、グリーンシート10aの表面に形成することができる。厚膜法の1種であるスクリーン印刷法あるいはグラビア印刷法により、グリーンシート10aの表面に電極パターン層12aを形成する場合には、以下のようにして行う。
まず、電極ペーストを準備する。電極ペーストは、各種導電性金属や合金からなる導電体材料、あるいは焼成後に上記した導電体材料となる各種酸化物、有機金属化合物、またはレジネート等と、有機ビヒクルとを混練して調製する。
電極ペーストを製造する際に用いる導体材料としては、NiやNi合金さらにはこれらの混合物を用いる。このような導体材料は、球状、リン片状等、その形状に特に制限はなく、また、これらの形状のものが混合したものであってもよい。また、導体材料の平均粒子径は、通常、0.1〜2μm、好ましくは0.2〜1μm程度のものを用いればよい。
有機ビヒクルは、バインダおよび溶剤を含有するものである。バインダとしては、例えばエチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体などが例示されるが、なかでも、エチルセルロース、またはポリビニルブチラールなどのブチラール系が好ましい。
バインダは、電極ペースト中に、導体材料(金属粉末)100質量部に対して、好ましくは4〜10質量部含まれる。溶剤としては、例えばテルピネオール、ブチルカルビトール、ケロシン、アセトン、イソボニルアセテート等公知のものはいずれも使用可能である。溶剤含有量は、ペースト全体に対して、好ましくは20〜55質量%程度とする。
接着性の改善のために、電極ペーストには、可塑剤または粘着剤が含まれることが好ましい。可塑剤としては、誘電体ペーストと同じものが使用でき、可塑剤の添加量は、電極ペースト中に、バインダ100質量部に対して、好ましくは10〜300質量部、さらに好ましくは10〜200質量部である。なお、可塑剤または粘着剤の添加量が多すぎると、電極パターン層12aの強度が著しく低下する傾向にある。また、電極ペースト中には、可塑剤および/または粘着剤を添加して、電極ペーストの接着性および/または粘着性を向上させることが好ましい。
グリーンシート10aの表面に、所定パターンの電極ペースト層を印刷法で形成した後、またはその前に、電極パターン層12aが形成されていないグリーンシート10aの表面に、電極パターン層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。余白パターン層24は、下側グリーンシート10aと同様な誘電体ペーストを用いて印刷法により形成されるが、余白パターン層のための誘電体ペーストに含まれるバインダ樹脂としては、必ずしも硬化性樹脂を含まない通常の熱可塑性樹脂を用いることができる。
すなわち、余白パターン層24を形成するための誘電体ペーストは、後述する上側グリーンシート10cを形成するための誘電体ペーストと同様に、熱可塑性樹脂をバインダ樹脂として含むものでも良い。積層時の接着性を向上させるという観点からは、余白パターン層24を形成するための誘電体ペーストは、後述する上側グリーンシート10cを形成するための誘電体ペーストと同様に、熱可塑性樹脂をバインダ樹脂として含むものであることが好ましい。
余白パターン層24は、電極パターン層12aと同様に、印刷法などで形成される。電極パターン層12aおよび余白パターン層24は、必要に応じて乾燥される。乾燥温度は、特に限定されないが、好ましくは70〜120°Cであり、乾燥時間は、好ましくは5〜15分である。
次に、これらの電極パターン層12aおよび余白パターン層24の上に、図2に示すように、中間グリーンシート10bを、ドクターブレード法あるいはノズルコート法などで形成する。中間グリーンシート10bを形成するための誘電体ペーストは、下側グリーンシート10aを形成するための誘電体ペーストと同様に、バインダ樹脂として、硬化性樹脂を含む。
中間グリーンシート10bを形成するための誘電体ペーストと、下側グリーンシート10aを形成するための誘電体ペーストとは、全く同じであることが、ペーストの種類を減少させる点で好ましいが、必ずしも全く同じである必要はない。たとえば硬化性樹脂の種類を、中間グリーンシート10bを形成するための誘電体ペーストと、下側グリーンシート10aを形成するための誘電体ペーストとで異ならせても良い。ただし、その場合には、硬化させるためのエネルギーの種類も異なる可能性がある。
中間グリーンシート10bを形成した後、乾燥させ、その後に、中間グリーンシート10bに含まれる硬化性樹脂にエネルギーを加えて硬化させる。硬化の方法は、下側グリーンシート10aの硬化の方法と同様である。乾燥後の中間グリーンシート10bの厚さt2については後述する。
次に、この中間グリーンシート10bの表面に、二層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24を、一層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24を形成した方法と同様な方法で形成する。
次に、二層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24の上に上側グリーンシート10cを形成する。上側グリーンシート10cは、ドクターブレード法あるいはノズルコート法などで形成される。上側グリーンシート10cのための誘電体ペーストは、バインダ樹脂として、通常の熱可塑性樹脂または硬化前の硬化性樹脂を含むペーストで構成される。
すなわち、この誘電体ペーストは、誘電体原料と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。
誘電体原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。誘電体原料は、通常、平均粒子径が0.3μm以下、好ましくは0.2μm以下の粉末として用いられる。なお、きわめて薄いグリーンシートを形成するためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉末を使用することが望ましい。
有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。本実施形態においては、有機ビヒクルに用いられるバインダとしては、硬化前の硬化性樹脂または熱可塑性樹脂が用いられる。硬化前の硬化性樹脂または熱可塑性樹脂としては、たとえば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール等のブチラール系樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体からなる有機質、またはエマルジョンで構成される。本実施形態では、上記熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂、あるいはポリビニルブチラール等のブチラール系樹脂を用いることが、特に好ましい。
また、有機ビヒクルに用いられる有機溶剤も特に限定されず、テルピネオール、アルコール、ブチルカルビトール、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ステアリン酸ブチル、イソボニルアセテートなどの有機溶剤が用いられる。また、水系ペーストにおけるビヒクルは、水に水溶性バインダを溶解させたものである。水溶性バインダとしては特に限定されず、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、水溶性アクリル樹脂、エマルジョンなどが用いられる。誘電体ペースト中の各成分の含有量は特に限定されず、通常の含有量、たとえばバインダは5〜10質量%程度、溶剤(または水)は10〜50質量%程度とすればよい。
誘電体ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、ガラスフリット、絶縁体、帯電助剤などから選択される添加物が含有されても良い。ただし、これらの総含有量は、10質量%以下とすることが望ましい。可塑剤としては、フタル酸ジオクチルやフタル酸ベンジルブチルなどのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。バインダ樹脂として、ブチラール系樹脂を用いる場合には、可塑剤は、バインダ樹脂100質量部に対して、25〜100質量部の含有量であることが好ましい。可塑剤が少なすぎると、グリーンシートが脆くなる傾向にあり、多すぎると、可塑剤が滲み出し、取り扱いが困難である。
このような誘電体ペーストを用いて形成された上側グリーンシート10cは、その後、乾燥される。上側グリーンシート10cの乾燥条件は、下側グリーンシート10aの乾燥条件と同様である。ただし、上側グリーンシート10cは、下側グリーンシート10aとは異なり、乾燥後に硬化性樹脂の硬化のための処理が成されない。
本実施形態では、下側グリーンシート10a、一層目の電極パターン層12a(余白パターン層24含む)、中間グリーンシート10b、二層目の電極パターン層12a(余白パターン層24含む)、および上側グリーンシート10cが、単一の積層体ユニットU1を構成する。積層体ユニットU1は、後工程で、図3に示すように、多数積層される。
乾燥後の上側グリーンシート10cの厚さt3は、たとえば以下のようにして決定されることが好ましい。すなわち、この厚さt3は、中間グリーンシート10bの厚さt2から下側グリーンシート10aの厚さt1を引き算した値に略等しくなるように決定されることが好ましい。すなわち、t2=t1+t3の関係にあることが好ましい。また、厚さt3は厚さt1と略等しいことが好ましい。たとえばt2=約1μmである場合には、t1=t3=約0.5μmであることが好ましい。
図3に示すように、キャリアシート20から引き剥がされた積層体ユニットU1は、キャリアシート20の上に積層してある他の積層体ユニットU1の上に、上側グリーンシート10cと下側グリーンシート10aとが接触するように積層される。この積層体ユニットU1の積層を繰り返すことにより、電極パターン層12aが積層方向Zに多数積層してある積層体が得られる。なお、上側グリーンシート10cに硬化前の硬化性樹脂が含まれている場合には、上側グリーンシート10cの硬化処理を行うことなく、積層体U1同士を積層する。
積層方向Zに隣り合う電極パターン層12aの間には、中間グリーンシート10b、あるいは上側グリーンシート10cと下側グリーンシート10aとの積層グリーンシートが位置することになる。本実施形態では、t2=t1+t3とすることにより、積層方向Zに隣り合う電極パターン層12aの間の間隔を、略一定にすることができる。厚さt1と厚さt3とは、必ずしも同じである必要はないが、いずれか一方を厚くしすぎると、いずれか他方が薄くなり、薄い層の形成が困難になる傾向にある。
本実施形態では、積層体ユニットU1が積層方向Zに多数積層され、この積層体を最終加圧後に所定サイズに切断し、グリーンチップを形成する。なお、図示省略してあるが、積層体ユニットU1の積層方向Zにおける積層端部には、それぞれ電極パターン層が形成されていない外装用グリーンシートが積層される。なお、最終加圧時の圧力は、好ましくは10〜200MPaとし、また、加熱温度は、好ましくは、40〜100°Cとする。
本実施形態では、積層体を切断後のグリーンチップにおける電極パターン層12aが、焼成後に内部電極層12となる部分であり、中間グリーンシート10b、または上側グリーンシート10cと下側グリーンシート10aとの積層シートが、焼成後に誘電体層10となる部分である。
グリーンチップは、その後、脱バインダ処理、焼成処理が行われ、そして、誘電体層を再酸化させるため、熱処理が行われる。
脱バインダ処理は、通常の条件で行えばよいが、内部電極層の導電体材料にNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、特に下記の条件で行うことが好ましい。
昇温速度:5〜300℃/時間、特に10〜50℃/時間、
保持温度:200〜400℃、特に250〜350℃、
保持時間:0.5〜20時間、特に1〜10時間、
雰囲気 :加湿したNとHとの混合ガス。
焼成条件は、下記の条件が好ましい。
昇温速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
保持温度:1100〜1300℃、特に1150〜1250℃、
保持時間:0.5〜8時間、特に1〜3時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス等。
ただし、焼成時の空気雰囲気中の酸素分圧は、10−2Pa以下、特に10−2〜10−8 Paにて行うことが好ましい。前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にあり、また、酸素分圧があまり低すぎると、内部電極層の電極材料が異常焼結を起こし、途切れてしまう傾向にある。
このような焼成を行った後の熱処理は、保持温度または最高温度を、好ましくは1000℃以上、さらに好ましくは1000〜1100℃として行うことが好ましい。熱処理の際の酸素分圧は、焼成時の還元雰囲気よりも高い酸素分圧であり、好ましくは10−3Pa〜1Pa、より好ましくは10−2Pa〜1Paである。
そして、そのほかの熱処理条件は下記の条件が好ましい。
保持時間:0〜6時間、特に2〜5時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に100〜300℃/時間、
雰囲気用ガス:加湿したNガス等。
なお、Nガスや混合ガス等を加湿するには、例えば加温した水にガスを通し、バブリングする装置等を使用すればよい。この場合、水温は0〜75℃程度が好ましい。また脱バインダ処理、焼成および熱処理は、それぞれを連続して行っても、独立に行ってもよい。これらを連続して行なう場合、脱バインダ処理後、冷却せずに雰囲気を変更し、続いて焼成の際の保持温度まで昇温して焼成を行ない、次いで冷却し、熱処理の保持温度に達したときに雰囲気を変更して熱処理を行なうことが好ましい。一方、これらを独立して行なう場合、焼成に際しては、脱バインダ処理時の保持温度までNガスあるいは加湿したNガス雰囲気下で昇温した後、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ましく、熱処理時の保持温度まで冷却した後は、再びNガスあるいは加湿したNガス雰囲気に変更して冷却を続けることが好ましい。また、熱処理に際しては、Nガス雰囲気下で保持温度まで昇温した後、雰囲気を変更してもよく、熱処理の全過程を加湿したNガス雰囲気としてもよい。
このようにして得られた焼結体(素子本体4)には、例えばバレル研磨、サンドプラスト等にて端面研磨を施し、端子電極用ペーストを焼きつけて端子電極6,8が形成される。端子電極用ペーストの焼成条件は、例えば、加湿したNとHとの混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、端子電極6,8上にめっき等を行うことによりパッド層を形成する。なお、端子電極用ペーストは、上記した電極ペーストと同様にして調製すればよい。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
本実施形態では、第1層目の下側グリーンシート10aの表面に、電極パターン層12aを形成する前に、下側グリーンシート10aに含まれる硬化性樹脂を、熱、紫外線、あるいは電子線などを加えることにより硬化させる。硬化された樹脂は、あらゆる溶剤に対して不溶な樹脂に変化する。そのため、その下側グリーンシート10aの表面に電極パターン層12aを印刷法などで形成したとしても、電極パターン層12aに含まれる溶剤がグリーンシートを侵食すること(溶剤によるシートアタック)はない。その結果、結果として得られる積層セラミックコンデンサ2のショート不良を低減することができる。
また、本実施形態の方法では、積層体ユニットU1は、図3に示すように積層(積層プレス工程)されるが、その積層に際して、上側グリーンシート10cの上に下側グリーンシート10aが接することになる。下側グリーンシート10aには、硬化性樹脂が含まれ、下側グリーンシート10aの樹脂は既に硬化されている。もし、仮に上側グリーンシート10cにも硬化された硬化性樹脂が含まれているとすると、それらの接着が不十分に成りやすく、積層が良好に行えないおそれがある。本実施形態では、上側グリーンシート10cには、セラミック粉と硬化させていない硬化性樹脂とを少なくとも含む上側グリーンシート、または、熱可塑性樹脂を少なくとも含む上側グリーンシートを形成しているので、上側グリーンシート10cの上に他の積層体ユニットU1の下側グリーンシート10aが接触して積層されたとしても、その接着性は良好であり、積層が容易である。
また、上側グリーンシート10cが硬化させていない硬化性樹脂を含む、または、熱可塑性樹脂を含む塗料により形成されるとしても、中間グリーンシート10bは硬化しているため、中間グリーンシート10bへの塗料の浸透が無い。このため、シート厚みが一定にならないという不具合やピンホール等の不具合が発生しにくくなる。なお、同様な理由から、中間グリーンシート10bを形成する際にも、下側グリーンシート10aは硬化しているため、下側グリーンシート10aへの塗料の浸透が無い。このため、シート厚みが一定にならないという不具合やピンホール等の不具合が発生しにくくなる。
そのため、本実施形態の製造方法によると、グリーンシートを極めて薄くした場合においても、シートアタックを有効に防止することが可能であり、しかも、接着性を高く保ちつつ、積層することが可能である。また、少なくとも二層の電極パターン層12aを有する積層体ユニットU1を積層方向に積層するために、積層工程の短縮による製造工程の簡略化や製造コストの低減が可能となる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、本発明の方法は、積層セラミックコンデンサの製造方法に限らず、その他の積層型電子部品の製造方法としても適用することが可能である。
また、上述した実施形態では、積層体ユニットU1の内部には、単一の中間グリーンシート10bのみを形成してあるが、図4に示すように、単一の積層体ユニットU1の内部には、1層以上50層以下の中間グリーンシート10bと、2層以上51層以下の電極パターン層12a(余白パターン層24も含む)を形成しても良い。この実施形態の場合には、図1〜図3に示す実施形態と同様な作用効果を奏すると共に、積層体ユニットU1自体が、多数の積層数の電極パターン層12aを有するために、積層体ユニットU1を積層する回数を低減して製造工程の簡略化を図ることも可能である。
なお、図4に示す実施形態に係る積層体ユニットU1における構成部材は、図1〜図3に示す実施形態に係る積層体ユニットU1における構成部材と共通し、その共通する部材には、共通する符号を付し、その説明は省略する。また、図4に示す積層体ユニットU1を用いてグリーンチップを製作し、図1に示す積層セラミックコンデンサ2を製造するための方法は、図1〜図3に示す実施形態の場合と同様である。
図5は、本発明のさらにその他の実施形態に係る製造方法を示す。この実施形態の方法は、積層体ユニットU1が、下側グリーンシート10a、電極パターン層12a(余白パターン層24含む)、および上側グリーンシート10cで構成してある以外は、図1〜図3に示す方法と同様である。この実施形態では、積層体ユニットU1中に、中間グリーンシート10bが無いために、積層体ユニットU1の積層回数が増大するおそれがあるが、製造工程が増大する以外は、図1〜図3に示す方法と同様な作用効果を奏する。
また、上述した実施形態では、電極パターン層12aのパターン隙間に、余白パターン層24を形成しているが、本発明では必ずしも余白パターンを形成する必要はなく、余白パターン層を形成しない場合においても、本発明の基本的な作用効果を奏する。ただし、余白パターン層24を形成することで、電極パターン層12aの上にグリーンシート10bまたは10cを形成したとしても、グリーンシートに段差などが形成されることはなく、積層後のチップ形状も良好なものとなる。
なお、余白パターン層24を形成する際には、その下側のグリーンシート10aまたは10bに含まれる樹脂は硬化しているので、余白パターン層24を形成するための印刷ペーストの溶剤によるシートアタックの影響を受けにくくショート不良対策に効果がある。
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
まず、下記の各ペーストを準備した。
熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1
誘電体原料として、主成分:BaTiO(平均粒径0.2μm/堺化学工業社製BT02粉)と、副成分とを準備した。誘電体原料の副成分としては、主成分100モルに対し、2モルのY と、2モルのMgOと、0.4モルのMnOと、0.1モルのV と、3モルの(Ba0.6Ca0.4)SiOとを用いた。
この誘電体原料100重量部と、分散剤(高分子系分散剤/サンノプコ社製 SN5468)1重量部と、エタノール100重量部とを、ジルコニアボール(2mmφ)とともにポリエチレン容器に投入し、16時間混合して誘電体混合溶液を得た。
この誘電体混合溶液を乾燥温度120℃で12時間乾燥し、誘電体粉末を得た。この誘電体粉末100重量部と、溶剤MEK50重量部と、溶剤トルエン20重量部と、ブロック型分散剤1重量部(ユニケマ(株)社製JP4)とをボールミルで4時間混合行って一次分散させた。
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂(メタアクリル酸アルキルエステル共重合体樹脂、日本カーバイド(株)社製)10重量部と、アミン系硬化剤(日本カーバイド(株)社製)1重量部とを添加してボールミルにて16時間混合して、二次分散させて、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を得た。
熱可塑性樹脂含有誘電体ペーストB1
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂を加えないで、熱可塑性アクリル樹脂(MM747樹脂、藤倉化成(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、熱可塑性樹脂含有誘電体ペーストB1を得た。
UV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA2
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、紫外線(UV)硬化性アクリル樹脂(メタアクリル酸アルキルエステル共重合体樹脂、日本カーバイト(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、UV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA2を得た。
電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA3
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、電子線硬化性アクリル樹脂(メタアクリル酸アルキルエステル共重合体樹脂、日本カーバイト(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA3を得た。
熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA4
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、熱硬化性エポキシ樹脂(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、大日本インキ化学工業(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA4を得た。
熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA5
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、熱硬化性ウレタンアクリレート樹脂(第一工業製薬(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA5を得た。
UV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA6
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、UV硬化性ウレタンアクリレート樹脂(東亜合成(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、UV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA6を得た。
電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA7
一次分散後の分散物に、熱硬化性アクリル樹脂の代わりに、電子線硬化性ウレタンアクリレート樹脂(東亜合成(株)社製)10重量部を添加した以外は、熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1と同様にして、電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA7を得た。
電極パターン層用ペースト
まず、添加物(副成分)原料として、(Ba,Ca)SiO:1.48重量部、Y:1.01重量部、MgCO:0.72重量部、MnO:0.13重量部およびV:0.045重量部を準備した。次に、準備したこれらの添加物(副成分)原料を混合し、添加物(副成分)原料混合物を得た。
次いで、添加物原料混合物:100重量部、アセトン:150重量部、ターピネオール:104.3重量部、ポリエチレングリコール系分散剤:1.5重量部を混合して、スラリー化し、得られたスラリーを粉砕機(アシザワ・ファインテック(株) 型式LMZ0.6)により粉砕し、添加物スラリーを得た。
なお、スラリー中の添加物の粉砕は、ローターを周速14m/分の条件で回転させ、スラリーをベッセルとスラリータンクとの間を循環させることにより行った。なお、ベッセルには、直径0.1mmのZrOビーズを、ベッセル容量に対して、80%になるように充填し、また、粉砕は、全スラリーのベッセル内での滞留時間が5分となるように行った。なお、粉砕後の添加物のメジアン径は0.1μmであった。
次いで、粉砕後の添加物スラリーについて、エバポレータを用い、スラリー中からアセトンを蒸発させることにより除去し、添加物原料がターピネオールに分散された添加物スラリーを調製した。なお、アセトンを除去した後の添加物スラリー中の添加物原料濃度は49.3重量%であった。
次いで、ニッケル粉末(粒径0.2μm/川鉄工業(株)):100重量部、添加物スラリー:1.77重量部、BaTiO粉末(粒径0.05μm/堺化学工業(株)):19.14重量部、有機ビヒクル:56.25重量部、ポリエチレングリコール系分散剤:1.19重量部、フタル酸ジオクチル(可塑剤):2.25重量部、イソボニルアセテート:32.19重量部およびアセトン56重量部を、ボールミルを使用して混合してペースト化した。次いで、得られたペーストを、エバポレータおよび加熱機構を備えた攪拌装置を使用して、アセトンを蒸発させることにより、除去し、電極パターン層用ペーストを得た。
なお、ボールミルによる混合は、ボールミル中に2mmφのZrOメディアを30容積%、上記各原料の混合物を60容積%充填し、周速45m/分および16時間の条件で行った。また、上記の有機ビヒクルは、70°Cの温度で、分子量13万のエチルセルロース樹脂:4重量部と分子量23万のエチルセルロース樹脂:4重量部とをイソボニルアセテート:92重量部に撹拌溶解することにより作製した。すなわち、有機ビヒクル中の樹脂含有量(エチルセルロース樹脂の量)は、8重量%とした。
次いで、得られた内部電極用ペーストの粘度を、円錐円盤粘度計(HAAKE社製)を用いて、25℃、剪断速度8sec−1における粘度V、および50sec−1における粘度V50を、それぞれ測定した。測定の結果、V=15.5cps、V50=8.5cps、V/V50=1.72であり、印刷法に良好に用いることができる粘度となっていることが確認できた。
余白パターン用ペースト
まず、内部電極用ペーストと同様にして、添加物原料がターピネオールに分散された添加物スラリーを調製した。
次いで、添加物スラリー:8.87重量部、BaTiO粉末(BT−02/堺化学工業(株)):95.70重量部、有機ビヒクル:104.36重量部、ポリエチレングリコール系分散剤:1.0重量部、フタル酸ジオクチル(可塑剤):2.61重量部、イソボニルアセテート:19.60重量部、アセトン57.20重量部、およびイミダゾリン系界面活性剤(帯電助剤):0.4重量部を、ボールミルを使用して混合してペースト化した。次いで、得られたペーストを、エバポレータおよび加熱機構を備えた攪拌装置を使用して、アセトンを蒸発させることにより、除去し、余白パターン用ペーストを得た。なお、上記有機ビヒクルとしては、内部電極用ペーストと同じ有機ビヒクルを使用した。すなわち、エチルセルロース樹脂の8重量%イソボニルアセテート溶液とした。
次いで、内部電極用ペーストと同様にして、得られた余白パターン用ペーストの粘度を測定した。測定の結果、V=19.9cps、V50=10.6cps、V/V50=1.88であり、印刷法に良好に用いることができる粘度となっていることが確認できた。
実施例1
まず、表面にシリコーン系樹脂により剥離処理を施したPETフィルム(第1支持シート)上に、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を、ダイコーターにより塗布し、次いで、乾燥することにより、図2に示す下側グリーンシート10aを形成した。乾燥炉内にシートを連続して送り込み乾燥を行い、乾燥炉内の温度を80℃とし、乾燥時間は2分間であった。グリーンシートは、乾燥時の膜厚t1が0.5μmとなるように形成した。
次いで、得られたグリーンシートを、熱処理乾燥炉に通し、グリーンシートに含まれる熱硬化性樹脂を硬化させるために、100°Cおよび15分の条件で熱硬化処理を行った。
次に、そのグリーンシート10a上に、上記の内部電極用ペーストを用いて、スクリーン印刷機により印刷し、次いで、90℃および10分の条件で乾燥することにより、所定パターンを有する電極パターン層12aを形成した。内部電極層は、乾燥時の膜厚が1μmとなるように形成した。
次いで、電極パターン層12aを形成したグリーンシート10aの電極パターン層12aが形成されていない部分に、上記の余白パターン用ペーストを、スクリーン印刷機により印刷し、次いで、90℃および10分の条件で乾燥することにより、余白パターン層24を形成した。
次に、第1層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24の上に、ノズルコート塗布により、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を用いてシート化し、中間グリーンシート10bを得た。そのシートを、80°Cの乾燥炉内に連続的に送り込んで溶剤を乾燥させた。乾燥時間は2分で行った。乾燥後のグリーンシート10bの厚さt2は1μmであった。
次いで、得られた中間グリーンシート10bを、熱処理乾燥炉に通し、グリーンシートに含まれる熱硬化性樹脂を硬化させるために、100°Cおよび15分の条件で熱硬化処理を行った。
次に、この中間グリーンシート10bの表面に、第1層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24と同様にして、第2層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24を形成した。
次に、乾燥後の第2層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24の表面に、上記の熱可塑性樹脂含有誘電体ペーストBを用いて、ノズルコート塗布により、上側グリーンシート10cを形成した。このシートを80°Cの乾燥炉内に連続的にシートを送り込んで溶剤を乾燥させた。乾燥時間は2分で行った。乾燥後の上側グリーンシート10cの厚さt3は0.5μmであった。
このようにしてキャリアシート20の上に、下側グリーンシート10a、第1層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24、中間グリーンシート10b、第2層目の電極パターン層12aおよび余白パターン層24、および上側グリーンシート10cから成る積層体ユニットU1を形成した。
キャリアシート20から剥がした積層体ユニットU1を、多数準備し、電極パターン層の積層数が合計で100層となるように熱圧着して積層して積層体を得た。熱圧着時の条件は、100MPaおよび70℃の条件であった。次に、得られた積層体を、ダイシング加工機によって、切断することにより、焼成前のグリーンチップを得た。なお、本実施例では、焼成前のグリーンチップについて、後に説明する方法により、シートアタックの有無について観察した。
次いで、このようにして得られたグリーンチップを、脱バインダ処理、焼成およびアニール(熱処理)を行って、チップ形状の焼結体を作製した。
脱バインダは、
昇温速度:50℃/時間、
保持温度:240℃、
保持時間:8時間、
雰囲気ガス:空気中、
で行った。
焼成は、
昇温速度:300℃/時間、
保持温度:1200℃、
保持時間:2時間、
冷却速度:300℃/時間、
雰囲気ガス:露点20℃に制御されたNガスとH(5%)との混合ガス、
で行った。
アニール(再酸化)は、
保持時間:3時間、
冷却速度:300℃/時間、
雰囲気用ガス:露点20℃に制御されたNガス、
で行った。なお、雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用い、水温0〜75℃にて行った。
次いで、チップ形状の焼結体の端面をサンドブラストにて研磨したのち、In−Ga合金ペーストを端部に塗布し、その後、焼成を行うことにより外部電極を形成し、図1に示す構成の積層セラミックコンデンサのサンプルを得た。焼成後のサンプルの幅0.8mmで、長さ1.6mmであった。
シートアタックの有無の測定
上記にて得られた焼成前のグリーンチップのサンプルについて、シートアタックの発生度合いを測定した。測定は、まず、50個のグリーンチップサンプルを、誘電体層および内部電極層の側面が露出するように、2液硬化性エポキシ樹脂中に埋め込み、その後、2液硬化性エポキシ樹脂を硬化させた。次いで、エポキシ樹脂中に埋め込んだグリーンチップサンプルを、サンドペーパーを使用して、深さ1.6mmまで研磨した。なお、サンドペーパーによる研磨は、#400のサンドペーパー、#800のサンドペーパー、#1000のサンドペーパーおよび#2000のサンドペーパーを、この順に使用することにより行った。次いで、サンドペーパーによる研磨面を、ダイヤモンドペーストを使用して、鏡面研磨処理を施した。そして、光学顕微鏡を使用し、鏡面研磨処理を行った研磨面を、拡大倍率400倍にて、観察し、シートアタックの有無を調べた。光学顕微鏡による観察の結果、全測定サンプルに対する、シートアタックが発生していたサンプルの比率を、シートアタック比率とした。結果を表1に示す。
なお、シートアタックが生じているか否かについては、グリーンシートの厚みが、他の部分に比較して、50%以下に極端に薄くなっている部分があるか否かで判断した。
ショート不良率の測定
ショート不良率は、50個のコンデンササンプルを準備し、ショート不良が発生した個数を調べて測定した。
具体的には、絶縁抵抗計(HEWLETT PACKARD社製E2377Aマルチメーター)を使用して、抵抗値を測定し、抵抗値が100kΩ以下となったサンプルをショート不良サンプルとし、全測定サンプルに対する、ショート不良サンプルの比率をショート不良率とした。結果を表1に示す。
Figure 2006066852
実施例2
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記のUV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA2を用い、硬化処理として紫外線照射を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例3
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA3を用い、硬化処理として電子線照射を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例4
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA4を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例5
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA5を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例6
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記のUV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA6を用い、硬化処理として紫外線照射を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例7
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA7を用い、硬化処理として電子線照射を用いた以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例8
下側グリーンシートと、中間グリーンシートと、上側グリーンシートとを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を用い、下側グリーンシートと中間グリーンシートの硬化処理として熱処理乾燥炉を用い、上側グリーンシートは硬化処理を行わないという以外は、実施例1と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例9
下側グリーンシートと、中間グリーンシートと、上側グリーンシートとを形成するための誘電体ペーストとして、上記のUV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA2を用い、下側グリーンシートと中間グリーンシートの硬化処理として紫外線照射を用い、上側グリーンシートは硬化処理を行わないという以外は、実施例1と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
実施例10
下側グリーンシートと、中間グリーンシートと、上側グリーンシートとを形成するための誘電体ペーストとして、上記の電子線硬化性樹脂含有誘電体ペーストA3を用い、下側グリーンシートと中間グリーンシートの硬化処理として電子線照射を用い、上側グリーンシートは硬化処理を行わないという以外は、実施例1と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
比較例1
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱可塑性樹脂含有誘電体ペーストB1を用い、硬化処理を行わなかった以外は、実施例1と同様にして、グリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
比較例2
上側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を用い、硬化処理を行った以外は、比較例1と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
比較例3
中間グリーンシートおよび上側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を用い、硬化処理を行った以外は、比較例1と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルとを作製し、同様な測定を行った。結果を表1に示す。
比較例4
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートおよび上側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして上記の熱硬化性樹脂含有誘電体ペーストA1を用い、硬化処理として熱処理乾燥炉を用いた以外は各実施例と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルを作製しようと試みた。
しかし、シートが硬化した硬化性樹脂同士は接着しないので、チップを得ることができず、シートアタック、ショート不良の評価は不可能であった。
比較例5
下側グリーンシートおよび中間グリーンシートおよび上側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして上記のUV硬化性樹脂含有誘電体ペーストA2を用い、硬化処理として紫外線照射を用いた以外は各実施例と同様にしてグリーンチップサンプルとコンデンササンプルを作製しようと試みた。
しかし、シートが硬化した硬化性樹脂同士は接着しないので、チップを得ることができず、シートアタック、ショート不良の評価は不可能であった。
評価
表1に示すように、下側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、硬化性樹脂含有誘電体ペーストを用いることで、シートアタックを防止でき、ショート不良率を低減できることが確認できた。また、表1に示すように、上側グリーンシートを形成するための誘電体ペーストとして、硬化をさせない硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を有する誘電体ペーストを用いることで、接着性が良好になって、積層が容易であることが確認できた。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図である。 図2は図1に示す積層セラミックコンデンサの製造方法の1製造過程を示す要部断面図である。 図3は図2の続きの工程を示す要部断面図である。 図4は本発明の他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法の1製造過程を示す要部断面図である。 図5は本発明のさらに他の実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法の1製造過程を示す要部断面図である。
符号の説明
2… 積層セラミックコンデンサ
4… コンデンサ素体
6,8… 端子電極
10… 誘電体層
10a… 下側グリーンシート
10b… 中間グリーンシート
10c… 上側グリーンシート
12… 内部電極層
12a… 電極パターン層
20… キャリアシート(支持体)
24… 余白パターン層
U1… 積層体ユニット

Claims (10)

  1. 支持体上に、セラミック粉を少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
    前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
    前記下側グリーンシートおよび電極パターン層を少なくとも含む積層体ユニットを積層し、グリーンチップを形成する工程と、
    前記グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法であって、
    前記支持体上に形成される下側グリーンシートには、硬化性樹脂のバインダが含まれ、この下側グリーンシートの上に前記電極パターン層を形成する前に、前記下側グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させることを特徴とする積層型電子部品の製造方法。
  2. 前記下側グリーンシートの上に電極パターン層を形成した後、前記電極パターン層の上に、硬化性樹脂のバインダを含む中間グリーンシートを形成する工程と、
    その後に、前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    その後に、前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、をさらに有し、
    前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
    最も上側に位置する電極パターン層の上には、上側グリーンシートを形成し、
    前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと、一層以上の前記中間グリーンシートと、二層以上の前記電極パターン層と、前記上側シートとで構成し、
    前記上側グリーンシートには、熱可塑性樹脂のバインダを含ませることを特徴とする請求項1に記載の積層型電子部品の製造方法。
  3. 前記下側グリーンシートの上に電極パターン層を形成した後、前記電極パターン層の上に、硬化性樹脂のバインダを含む中間グリーンシートを形成する工程と、
    その後に、前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    その後に、前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、をさらに有し、
    前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
    最も上側に位置する電極パターン層の上には、上側グリーンシートを形成し、
    前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと、一層以上の前記中間グリーンシートと、二層以上の前記電極パターン層と、前記上側シートとで構成し、
    前記上側グリーンシートには、硬化性樹脂のバインダを含ませ、硬化をさせずにシートに接着性を持たせることを特徴とする請求項1に記載の積層型電子部品の製造方法。
  4. 前記上側グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダが、前記下側グリーンシートおよび前記中間グリーンシートに含まれる硬化性樹脂のバインダと同じ種類である請求項3に記載の積層型電子部品の製造方法。
  5. 前記中間グリーンシートの厚みは、前記下側グリーンシートの厚みと前記上側グリーンシートの厚みとの合計に略等しい請求項2〜4のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。
  6. 前記下側グリーンシートの厚みは、3μm以下である請求項1〜5のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。
  7. 前記電極パターン層の上に前記中間グリーンシートまたは前記上側グリーンシートを形成する前に、前記電極パターン層が形成されていない前記グリーンシート上の余白部分に、余白パターン層を形成する工程をさらに有する請求項2〜6のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。
  8. 支持体上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
    前記下側グリーンシートに含まれる前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
    前記電極パターン層の上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む中間グリーンシートを形成する工程と、
    前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、有し、
    前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
    最も上側に位置する電極パターン層の上には、セラミック粉と熱可塑性樹脂のバインダとを少なくとも含む上側グリーンシートを形成し、
    単一の前記下側グリーンシートと、1層以上50層以下の前記中間グリーンシートと、2層以上51層以下の前記電極パターン層と、単一の前記上側グリーンシートとから成る積層体ユニットを前記支持体上に形成し、
    前記支持体を剥がした前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと前記上側グリーンシートとが接触するように、二つ以上積層してグリーンチップを形成し、その後、前記グリーンチップを焼成することを特徴とする積層型電子部品の製造方法。
  9. 支持体上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む下側グリーンシートを形成する工程と、
    前記下側グリーンシートに含まれる前記硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    前記下側グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する工程と、
    前記電極パターン層の上に、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む中間グリーンシートを形成する工程と、
    前記中間グリーンシート内の硬化性樹脂を硬化させる工程と、
    前記中間グリーンシートの上に電極パターン層を形成する工程と、有し、
    前記支持シートの上に、1層以上の前記中間グリーンシートを介して2層以上の前記電極パターン層を形成し、
    最も上側に位置する電極パターン層の上には、セラミック粉と硬化性樹脂のバインダとを少なくとも含む上側グリーンシートを形成し、
    単一の前記下側グリーンシートと、1層以上50層以下の前記中間グリーンシートと、2層以上51層以下の前記電極パターン層と、単一の前記上側グリーンシートとから成る積層体ユニットを前記支持体上に形成し、
    前記上側グリーンシートの硬化性樹脂を硬化させることなく、前記支持体を剥がした前記積層体ユニットを、前記下側グリーンシートと前記上側グリーンシートとが接触するように、二つ以上積層してグリーンチップを形成し、その後、前記グリーンチップを焼成することを特徴とする積層型電子部品の製造方法。
  10. 前記硬化性樹脂は、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂のいずれかである請求項1〜9のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。
JP2004287847A 2004-07-27 2004-09-30 積層型電子部品の製造方法 Expired - Fee Related JP4483508B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004287847A JP4483508B2 (ja) 2004-07-27 2004-09-30 積層型電子部品の製造方法
TW094125115A TWI276127B (en) 2004-07-27 2005-07-25 Method of manufacturing stacked electronic components
US11/188,090 US7344612B2 (en) 2004-07-27 2005-07-25 Production method of multilayer electronic device
KR1020050068404A KR100706684B1 (ko) 2004-07-27 2005-07-27 적층형 전자부품의 제조방법
US12/010,721 US20080295949A1 (en) 2004-07-27 2008-01-29 Production method of multilayer electronic device

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004218642 2004-07-27
JP2004287847A JP4483508B2 (ja) 2004-07-27 2004-09-30 積層型電子部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006066852A true JP2006066852A (ja) 2006-03-09
JP4483508B2 JP4483508B2 (ja) 2010-06-16

Family

ID=35730804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004287847A Expired - Fee Related JP4483508B2 (ja) 2004-07-27 2004-09-30 積層型電子部品の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (2) US7344612B2 (ja)
JP (1) JP4483508B2 (ja)
KR (1) KR100706684B1 (ja)
TW (1) TWI276127B (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007266282A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Tdk Corp 積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2007281098A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Tdk Corp グリーンシート積層体及びその製造方法並びに積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2009029134A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Ngk Insulators Ltd セラミック積層成形体、セラミック焼成体、セラミック積層成形体の製造方法及びセラミック焼成体の製造方法
JP2009208459A (ja) * 2007-07-27 2009-09-17 Ngk Insulators Ltd セラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法
JP2009266831A (ja) * 2007-07-27 2009-11-12 Ngk Insulators Ltd セラミック積層体、セラミック部品、セラミック積層体の製造方法及びセラミック部品の製造方法
JP2009286994A (ja) * 2008-04-28 2009-12-10 Sekisui Chem Co Ltd セラミックスラリー組成物及び積層セラミック電子部品の製造方法
JP2010067944A (ja) * 2008-03-31 2010-03-25 Ngk Insulators Ltd セラミック基板及びセラミックチップ部品
WO2010035461A1 (ja) * 2008-09-29 2010-04-01 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2013176992A (ja) * 2013-04-22 2013-09-09 Ngk Insulators Ltd 誘電体基板の製造方法
WO2017183740A1 (ko) * 2016-04-18 2017-10-26 (주)창성 Uv 경화를 이용한 내압착용 전극 페이스트 조성물 및 이를 이용한 칩부품 제조 방법

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8613547B2 (en) * 2004-11-05 2013-12-24 Mark Steele Packages having bubble-shaped closures
US20070193675A1 (en) * 2006-02-22 2007-08-23 Abhijit Gurav Process of manufacturing a multilayer device and device manufactured thereby
JP2007234829A (ja) * 2006-02-28 2007-09-13 Tdk Corp 積層型セラミック電子部品の製造方法
EP1993228B1 (en) * 2007-05-18 2012-05-23 Huawei Technologies Co., Ltd. Message sending method, message sending device and message transmission system
US8034402B2 (en) * 2007-07-27 2011-10-11 Ngk Insulators, Ltd. Method for producing ceramic compact and ceramic part
US20090036303A1 (en) * 2007-07-30 2009-02-05 Motorola, Inc. Method of forming a co-fired ceramic apparatus including a micro-reader
KR100983125B1 (ko) * 2008-10-28 2010-09-17 삼성전기주식회사 다층 세라믹 기판의 제조방법
JP4760899B2 (ja) 2008-12-12 2011-08-31 株式会社村田製作所 チップ状電子部品の製造方法
US20100295900A1 (en) * 2009-05-21 2010-11-25 Eestor, Inc. Mini-extrusion multilayering technique for the fabrication of ceramic/plastic capacitors with composition-modified barium titanate powders
KR101141441B1 (ko) * 2010-08-31 2012-05-04 삼성전기주식회사 적층 세라믹 전자부품용 세라믹 페이스트의 제조방법 및 이를 포함하는 적층 세라믹 전자부품의 제조방법
CN103155053B (zh) * 2010-10-05 2016-04-20 音羽电机工业株式会社 非线性电阻元件及其制造方法
JP5998328B2 (ja) * 2012-04-04 2016-09-28 音羽電機工業株式会社 非線形抵抗素子
CN102709407B (zh) * 2012-05-25 2015-01-07 瑞声声学科技(深圳)有限公司 Led封装挡墙的制造方法
DE102012110849A1 (de) * 2012-11-12 2014-05-15 Epcos Ag Temperaturfühler und Verfahren zur Herstellung eines Temperaturfühlers
JP6547762B2 (ja) * 2015-01-30 2019-07-24 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法および電子部品

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1282119B (de) * 1966-05-18 1968-11-07 Siemens Ag Verfahren zum Herstellen von elektrischen Bauelementen unter Anwendung der Duennfolienmethode
US3998917A (en) * 1973-05-03 1976-12-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ceramic compositions and articles made therefrom
JPS5740913A (en) * 1980-08-25 1982-03-06 Nippon Electric Co Method of producing laminated ceramic part
US4587068A (en) * 1983-06-24 1986-05-06 Materials Research Corporation Method of making ceramic tapes
JPS62223056A (ja) * 1986-03-24 1987-10-01 日東電工株式会社 セラミツクスグリ−ンシ−ト
JPS6325260A (ja) * 1986-03-24 1988-02-02 日東電工株式会社 セラミツクスグリ−ンシ−ト
JPS63100051A (ja) * 1986-06-10 1988-05-02 ティーディーケイ株式会社 磁器シ−トの製造方法
JPS6364953A (ja) * 1986-09-05 1988-03-23 工業技術院長 セラミツクスシ−ト用組成物、及びセラミツクスシ−トの製造法
JPS63242603A (ja) * 1987-03-31 1988-10-07 富士通株式会社 セラミツク・グリンシ−トの製造方法
WO1988007505A1 (en) * 1987-04-01 1988-10-06 Ceramics Process Systems Polymerizable binder solution for low viscosity, highly loaded particulate slurries and methods for making green articles therefrom
JPH03296205A (ja) * 1990-04-16 1991-12-26 Hitachi Aic Inc セラミックコンデンサ
JPH04270164A (ja) * 1991-01-23 1992-09-25 Fujitsu Ltd セラミック・グリーンシートの製造方法
JP3185250B2 (ja) * 1991-06-26 2001-07-09 株式会社村田製作所 セラミックグリーンブロックのカット方法
JP3398971B2 (ja) * 1992-06-19 2003-04-21 松下電器産業株式会社 電気二重層キャパシタおよびその製造方法
JPH08250370A (ja) * 1995-03-14 1996-09-27 Toshiba Corp 積層セラミックコンデンサの製造方法
JPH09221508A (ja) * 1996-02-15 1997-08-26 Mitsubishi Chem Corp 熱硬化性樹脂組成物
JPH11135378A (ja) 1997-10-30 1999-05-21 Daido Steel Co Ltd 固体活性炭電極の製造方法
US5935358A (en) * 1998-04-17 1999-08-10 New Create Corporation Method of producing a laminate ceramic capacitor
JP3758442B2 (ja) * 1999-02-23 2006-03-22 株式会社村田製作所 積層セラミックコンデンサの製造方法
GB2355947B (en) * 1999-07-23 2002-02-20 Murata Manufacturing Co Method of producing ceramic slurry, ceramic slurry composition, ceramic green sheet and multilayer ceramic electronic part
JP2001114569A (ja) * 1999-10-20 2001-04-24 Murata Mfg Co Ltd セラミックスラリー組成物、セラミックグリーンシート及び積層セラミック電子部品の製造方法
JP3767362B2 (ja) * 1999-12-13 2006-04-19 株式会社村田製作所 積層型セラミック電子部品の製造方法
JP2002121075A (ja) * 2000-10-06 2002-04-23 Murata Mfg Co Ltd セラミックグリーンシート及び積層セラミック電子部品の製造方法
JP3785966B2 (ja) * 2001-08-23 2006-06-14 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法および積層セラミック電子部品
US20030111158A1 (en) * 2001-12-14 2003-06-19 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method for manufacturing multilayer ceramic electronic element
KR100544908B1 (ko) * 2002-04-01 2006-01-24 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 세라믹 전자부품 및 그 제조방법
US7491283B2 (en) * 2002-12-27 2009-02-17 Tdk Corporation Production method of multilayer electronic device
JP4789400B2 (ja) * 2003-02-24 2011-10-12 株式会社村田製作所 セラミック電子部品の製造方法及びグラビア印刷方法
JP2004291455A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Taiyo Yuden Co Ltd セラミックグリーンシート及びその製造方法、並びに、積層型電子部品及びその製造方法
JP4151846B2 (ja) * 2004-03-03 2008-09-17 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品、回路基板等、および当該部品、基板等の製造に供せられるセラミックグリーンシートの製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007266282A (ja) * 2006-03-28 2007-10-11 Tdk Corp 積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2007281098A (ja) * 2006-04-04 2007-10-25 Tdk Corp グリーンシート積層体及びその製造方法並びに積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP2009029134A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Ngk Insulators Ltd セラミック積層成形体、セラミック焼成体、セラミック積層成形体の製造方法及びセラミック焼成体の製造方法
JP2009208459A (ja) * 2007-07-27 2009-09-17 Ngk Insulators Ltd セラミック成形体、セラミック部品、セラミック成形体の製造方法及びセラミック部品の製造方法
JP2009266831A (ja) * 2007-07-27 2009-11-12 Ngk Insulators Ltd セラミック積層体、セラミック部品、セラミック積層体の製造方法及びセラミック部品の製造方法
JP2010067944A (ja) * 2008-03-31 2010-03-25 Ngk Insulators Ltd セラミック基板及びセラミックチップ部品
JP2009286994A (ja) * 2008-04-28 2009-12-10 Sekisui Chem Co Ltd セラミックスラリー組成物及び積層セラミック電子部品の製造方法
WO2010035461A1 (ja) * 2008-09-29 2010-04-01 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法
JP5083409B2 (ja) * 2008-09-29 2012-11-28 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品の製造方法
JP2013176992A (ja) * 2013-04-22 2013-09-09 Ngk Insulators Ltd 誘電体基板の製造方法
WO2017183740A1 (ko) * 2016-04-18 2017-10-26 (주)창성 Uv 경화를 이용한 내압착용 전극 페이스트 조성물 및 이를 이용한 칩부품 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP4483508B2 (ja) 2010-06-16
TW200614296A (en) 2006-05-01
US7344612B2 (en) 2008-03-18
US20080295949A1 (en) 2008-12-04
KR20060048814A (ko) 2006-05-18
TWI276127B (en) 2007-03-11
US20060021691A1 (en) 2006-02-02
KR100706684B1 (ko) 2007-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4483508B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP4299833B2 (ja) 電極段差吸収用印刷ペーストおよび電子部品の製造方法
US7485244B2 (en) Internal electrode paste and production method of electronic device
JP4354993B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP4275074B2 (ja) 内部電極を持つ電子部品の製造方法
JP2007273677A (ja) 内部電極用ペースト、積層型セラミック型電子部品、およびその製造方法。
JP4357531B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP2007234829A (ja) 積層型セラミック電子部品の製造方法
JP5018154B2 (ja) 内部電極形成ペースト、積層型セラミック型電子部品、およびその製造方法
JP4268967B2 (ja) グリーンシート用塗料、グリーンシート、グリーンシートの製造方法および電子部品の製造方法
JP4720245B2 (ja) 積層セラミック電子部品の製造方法
JP4784264B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP2007294886A (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP4626455B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP2006073743A (ja) 積層型電子部品の製造方法
KR100863398B1 (ko) 적층형 전자부품의 제조방법
JP2006013246A (ja) 積層型電子部品の製造方法
KR100816787B1 (ko) 적층 세라믹 전자 부품의 전극층용 도전체 페이스트 및적층 세라믹 전자 부품용 적층체 유닛의 제조 방법
JP2006135168A (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP2006156493A (ja) 積層型電子部品の製造方法
KR100863399B1 (ko) 적층형 전자 부품의 제조 방법
JP2006013247A (ja) 積層型電子部品の製造方法
JP2006135122A (ja) 積層型電子部品の製造方法及び塗布装置
JP2006135121A (ja) 積層型電子部品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091030

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100108

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100302

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100315

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130402

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140402

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees