JP2004349721A - レーザ照射源、レーザ照射源による材料加工装置および該材料加工装置の運転法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高いパワー密度とエネルギーを得るためにレーザ照射源(1)は、複数の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子は、1つに束ねて配置されている。前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線は、該レーザ照射源を被加工面(81)上の1つの加工スポット(24)に的中させるように、光学ユニット(8)によって纏められかつ集束される。
【選択図】図1
Description
100W:(0.001cm×0.001cm)=108 W/cm2。
円筒管95に代えて、図4cの実施形態では偏心円筒管113が使用される。鏡筒96に代えて、凹面ミラー115を有するプレート114及び対物レンズ112と高調質プレート117を有する枠116が使用されている。捕捉ユニット73は、高反射性ミラー97の上位に湾曲(凸面)ミラー121を保持している。偏心円筒管113は一方の側でケーシング93と結合されている。パッキン52は所要の密封性を得るために設けられている。偏心円筒管113内にプレート114が装嵌されており、該プレートはビーム束l0及びl1のための透過孔122を有しかつ凹面ミラー115を保持しており、従って凹面ミラーの損失熱は偏心円筒管に沿って良好に偏向される。偏心円筒管は2本の互いに平行な軸線を有し、つまり第1軸線は、凸面ミラー121に方位づけられた方向l0を有する入射するビーム束の対称軸線であり、かつ第2軸線は、出射するレーザ照射線の光学的対称軸線と見做すことのできる、凹面ミラー115と対物レンズ112との間の軸線である。
Claims (260)
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで互いに並列的に1つの被加工面(81)に的中するように纏められること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で互いに上下に1つの被加工面(81)に的中するように纏められること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、1つの被加工面(81)上の1点に的中するように、纏められていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、1つの被加工面(81)上の1点に的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、複数のトラックに並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで並列的にかつ複数の平面で上下に1つの被加工面(81)に的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、複数のトラックに並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで並列的に1つの被加工面(81)に1平面で的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、複数のトラックに並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で上下に1つの被加工面(81)に的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、複数のトラックに並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、1つの被加工面(81)上の1点に的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、1つに束ねて配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、1つの被加工面(81)上の1点に的中するように纏められて集束されていること(図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで互いに並列的に被加工面(81)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていること(図29,図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で互いに上下に前記被加工面(81)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていること(図29,図41)を特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列配置されており(図29,図41)、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)上の1点(201,図31)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)上の1点(201,図31)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が、複数のトラックに並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで互いに並列的に(図29,図41)かつ複数の平面に上下に被加工面(81)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列にかつ複数の平面に互いに上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラック(図29,図41)で互いに並列的に被加工面(81)に1平面で的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列的にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で被加工面(81)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列にかつ複数の平面に上下に配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)に1点で(201,図31)的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個の直接変調可能なダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が1つに束ねて配置されており、かつ前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)の1点(201,図31)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子には、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、該変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラックで互いに並列的に(図29,図41)被加工面(81)に的中するように、光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面に上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための前記光学ユニット(8)が1つの変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、該変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で互いに上下に被加工面(81)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面(81)上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ光源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)の1点(201,図31)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数の平面で上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)上の1点(201,図31)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列的にかつ複数の平面で上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラック(図29,図41)では並列的にかつ複数の平面では上下に被加工面(81)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列的にかつ複数の平面で上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、複数のトラック(図29,図41)で並列的に被加工面(81)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラックに並列的にかつ複数の平面で上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、複数の平面で上下に被加工面(81)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が複数のトラック(図29,図41)に並列的にかつ複数の平面で上下に配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)上の1点(201,図31)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- 1つの被加工面上に1つのレーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)を備えた形式の、殊に材料加工用のレーザ照射源において、高パワー密度及び高エネルギーのレーザ照射線を発生するために、レーザ照射源(1)が、複数個のダイオードポンピング式のファイバレーザ(2)を有し、該ファイバレーザの出力端子が1つに束ねて配置されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が変調ユニット(図4a,図19,図19a)を有し、該変調ユニットの入力端子に対して、前記ファイバレーザ(2)の出力端子から出射するレーザ照射線(13)が方位づけられていて、前記変調ユニットによって、各レーザ照射線(13)が個々に変調可能であり、かつ前記変調ユニット(図4a,図19,図19a)から出射するレーザ照射線(13)が、被加工面(81)上の1点(201,図31)に的中するように、前記光学ユニット(8)によって纏められて集束されていることを特徴とする、レーザ照射源。
- ファイバレーザ(2)の出力端子(13)が成端片(26,94)を備え、該成端片によって前記ファイバレーザ(2)が光学ユニット(8)に接続されており、レーザ照射線を成形するための光学ユニット(8)が入射口(9)に枠(29)を有しており、該枠が、被加工面(81)上に照射線を成形するための光学ユニット(8)の出射口(10)にレーザの出射ビームを的中させるようにレーザの成端片(26,94)を収容している、請求項10から27までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)が1個の細長いケーシング(132)から成り、該ケーシングが、光導波ファイバ(5,28)を収容するために軸方向に一貫して延在する円筒オリフィス(130)と、枠(29)内に収容するための単数又は複数の基準面としての単数又は複数の外側嵌合部(134)とを有しており、光導波ファイバ(5,28)の入り込むケーシング(132)の端部で前記光導波ファイバ(5,28)が受容されて前記ケーシングの内部を導かれており、該ケーシング(132)の他端部には、短焦点距離の収斂レンズ(133)が固着されており、軸方向に一貫して延在する円筒オリフィス(130)内の光導波ファイバ(5,28)の端部並びに収斂レンズ(133)が、互いに相対的に方向修正されて位置決めされており、かつ、前記光導波ファイバ(5,28)からのビーム出射点が、ほぼ前記収斂レンズ(133)の焦点に位置し、かつ、前記収斂レンズから出射するレーザ照射線のビーム束(144)が、前記の単数又は複数の外側嵌合部(134)を基準として規定の方位を有している、請求項28記載のレーザ照射源。
- 単数又は複数の外側嵌合部(134)の対称軸線が、ファイバ(5,28)の対称軸線に合致している、請求項29記載のレーザ照射源。
- 単数又は複数の外側嵌合部(134)の対称軸線が、収斂レンズ(133)の対称軸線に合致している、請求項29又は30記載のレーザ照射源。
- 嵌合面の対称軸線が、収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)の対称軸線に合致している、請求項29から31までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ファイバ(5,28)の端部と収斂レンズ(133)との間隔が、前記収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)を成端片(26,94)の外部で発散させるように選ばれる、請求項29から32までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ファイバ端部と収斂レンズ(133)との間隔が、前記収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)を成端片(26,94)の外部で、前記収斂レンズ(133)から規定の距離を隔てて収斂させるように選ばれる、請求項29から33までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ファイバ端部と収斂レンズ(133)との間隔が、前記収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)を成端片(26,94)の外部で、前記収斂レンズ(133)から規定の距離を隔ててほぼ平行に延在させるように選ばれる、請求項29から34までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ケーシング(132)の内部に、該ケーシング(132)内の光導波ファイバ(5,28)を微調節可能な複数の調節ねじ(135)が、ケーシング円周に分配して配置されている、請求項29から35までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光導波ファイバ(5,28)の侵入する方の側の、成端片(26,94)の端部に、別の調節ねじ(136)が設けられている、請求項29から36までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 金属製又は金属コーティングの施されたガラス製の小さな球体(137)が調節のために使用され、調節後に位置固定される、請求項29から35までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光導波ファイバ(5,28)とケーシング(132)との間の結合部、収斂レンズ(133)とケーシング(132)との間の結合部、並びに調節ねじ(135,136)又は球体(137)とケーシング(132)との間の結合部が気密に封止され、かつケーシング(132)の内部に残留する中空室(143)には殊に保護ガスが充填される、請求項29から38までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ケーシング(132)の封止部位が接着、鑞接又は溶接されている、請求項29から39までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光導波ファイバ(5,28)の端部が、そのジャケット(17)の終端域を除去されかつその外面に粗面化を施されている、請求項29から40までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光導波ファイバ(5,28)の端部が、ポンピング照射線を反射しかつレーザ照射線を部分的に透過させるように、鏡面化されている、請求項29から41までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)の前端部が、収斂レンズ(133)の領域で円錐形に形成されている(図7)、請求項29から42までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(94)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で長方形横断面を有し、かつ、長手方向に延びる2つの外面が、前記嵌合部(134)の領域で互いに台形状に延びている(図10,図10a,図10b)、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で正方形又は長方形の横断面を有し、かつ、長手方向に延びる外面が、前記嵌合部(134)の領域で互いに平行に延びている(図9,図9a)、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で台形横断面を有している(図11)、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で三角形横断面を有している(図11a)、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で六角形横断面を有している(図12)、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)が単数又は複数の嵌合部(134)の領域で円筒形又は円錐形に形成されている、請求項29から43までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 枠(29)が、成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)のための嵌合面を有しており、該嵌合面が、成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を少なくとも1つのトラック及び/又は少なくとも1つの平面内に位置させるように配置されている、請求項28記載のレーザ照射線。
- 個々のトラック及び平面のための成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠(29)の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射する個々のトラック並びに個々の平面のレーザビーム(144)の対称軸線を相互に角度を成して延在させるように配置されている、請求項50記載のレーザ照射源。
- 個々のトラックのための成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠(29)の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を相互に角度を成して延在させるように配置されており、かつ個々の平面のための成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠(29)の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を互いに平行に延在させるように配置されている、請求項50記載のレーザ照射源。
- 個々の平面のための成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠(29)の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)の対称軸線を相互に角度を成して延在させるように配置されおり、かつ、個々のトラックのための成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠(29)の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を互いに平行に延在させるように配置されている、請求項50記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する枠の嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビーム(144)の対称軸線を1つに束ねて(図30)延在させ、かつ前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を互いに角度を成して延在させるように、配置されている、請求項28記載のレーザ照射源。
- 枠(29)が、成端片(26,94)の単数又は複数の嵌合部(134)に対応する嵌合面を有し、該嵌合面が、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するレーザビームの対称軸線を互いに平行に延在させるように配置されている、請求項50又は54記載のレーザ照射源。
- 変調ユニット(図4a,図19,図19a)が、単数又は複数の別々の変調器を有している、請求項16から55までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 変調ユニット(図4a,図19,図19a)が、単数又は複数の多チャンネル型変調器(34)から成っている、請求項16から56までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 電気光学式変調器及び/又は電気光学式偏向器(168)が使用されている、請求項16から57までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 音響光学式変調器及び/又は音響光学式偏向器(34)が使用されている、請求項16から57までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザビームを成形するための光学ユニット(8)が、入射口(9)と出射口(10)との間の領域内に、個々のレーザ照射線(13)を集合させる手段を有している、請求項10から59までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 個々のレーザ照射線を集合させるために、成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束つまりレーザ出射端子のビーム(144)の対称軸線間隔をトラック方向及び/又は平面方向で減少させる手段が設けられている、請求項10から60までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ出射端子のビーム(144)の対称軸線間隔を減少させる手段として、少なくとも1つのレンズが設けられている、請求項10から61までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ出射端子のビーム(144)の対称軸線間隔を減少させる手段として、2つの収斂レンズ(191,192)が設けられている、請求項62記載のレーザ照射源。
- レーザ出射端子のビーム(144)の対称軸線間隔を減少させる手段として、1つの収斂レンズ(202)と1つの発散レンズ(203)が設けられている、請求項63記載のレーザ照射源。
- 球面レンズ(191,192)又は円柱レンズ(202,203)が設けられている、請求項62記載のレーザ照射源。
- 両レンズの間隔が、両レンズの焦点距離の和にほぼ等しい、請求項63から65までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 両レンズの間隔が、変調器(34)内でビーム束を交差させるように設定されている、請求項63から66までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ出射端子(133)のビーム束のビームを集合させる手段として、ミラー及び/又はレンズ及び/又は波長関連性素子及び/又は偏光関連性素子が使用される、請求項10から67までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 少なくとも2つの出射端子からのビームを集合させるために、1つの波長関連性素子が使用される、請求項68記載のレーザ照射源。
- 波長関連性素子として、一方のレーザ出射端子の照射線を透過し、かつ他方のレーザ出射端子の照射線を反射する1つのフィルタ(37)が使用される、請求項69記載のレーザ照射源。
- 偏光照射線を伴う少なくとも2つのレーザ出射端子のビームを集合させるために、1つの偏光関連性素子が使用される、請求項68記載のレーザ照射源。
- 偏光関連性素子として、一方のレーザ出射端子の偏光方向照射線を透過しかつ他方のレーザ出射端子の偏光方向照射線を反射する1つの偏光関連性ミラーが使用される、請求項71記載のレーザ照射源。
- 少なくとも2つのレーザ出射端子のビームを集合させるために、第1方向からのレーザ出射端子のビームを透過しかつ第2方向からのレーザ出射端子のビームを反射する1つのストリップミラー(46)が使用される、請求項68記載のレーザ照射源。
- ビームを集合させる手段が、ビーム方向で見て変調ユニットの前方及び/又は後方(図4a)に配置されている、請求項60から73までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 変調ユニットの内部でビームを集合させる手段として、単数又は複数の単チャンネル形又は多チャンネル形音響光学式偏向器(34)或いは単数又は複数の多チャンネル形電気光学式偏向器が設けられている(図4a,図19,図19a,図36,図36a,図37)、請求項60記載のレーザ照射源。
- 音響光学式偏向器(34)が各チャンネル毎に1つの加工点を発生するために、各チャンネル毎に1つの周波数で運転される、請求項75記載のレーザ照射源。
- 音響光学式偏向器(34)が各チャンネル毎に複数の加工点を発生させるために、各チャンネル毎に複数の周波数から成る混合周波数で運転される、請求項75記載のレーザ照射源。
- 音響光学式偏向器(34)が、複数のレーザ出射端子のビームを集合させるため並びに個々のレーザビームを変調するために、変調ユニットの内部で(図4a,図19,図19a)使用される、請求項75から77までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザビームを成形するための光学ユニット(8)が、成端片から出射するレーザビームを被加工面(81)へ伝播するための伝播ユニットを有し、該伝播ユニットが少なくとも1つのレンズ(165,186,197)を含んでいる、請求項10から78までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが少なくとも1つの収斂レンズと少なくとも1つの発散レンズ(101)を有している、請求項10から79までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが、少なくとも1つの凸面ミラー(121)と1つの凹面ミラー(115)と1つの収斂レンズ(112)を有している、請求項10から78までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが、1つの凹面ミラー(115)と1つの発散レンズと1つの収斂レンズ(112)を有している、請求項10から78までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが、少なくとも1つの凹面ミラー(115)と複数の収斂レンズを有している、請求項10から78までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 凹面ミラー(115)と被加工面(81)との間に1つの透明なプレート(117)が設けられている、請求項79から83までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが少なくとも1つの変向ミラーを有している、請求項79から84までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが2段に構成されており、しかも第1伝播段が、成端片(26,94)の収斂レンズ(133)において形成されたビーム束(144)を縮小して中間像平面(183)へ伝播し、かつ第2伝播段が、中間像平面(183)のビーム束を縮小して被加工面(81)へ伝播する、請求項79から85までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 単数又は複数の平面内及び単数又は複数のトラック1〜n(図29,図32,図33,図41)に配列された成端片(26,94)の収斂レンズ(133)の後方の光路内に、1つの収斂レンズ(55)と、該収斂レンズ(55)よりも小さな焦点距離を有する1つの収斂レンズ(56)とから成る第1伝播ユニットが配置されており、該第1伝播ユニットの収斂レンズ(55)によって、前記成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射する、対称軸線を個々のトラックでは互いにほぼ平行に延在させるビーム束(144)が、1つの部位(184)でクロスオーバーするように偏向され、前記第1伝播ユニットの収斂レンズ(56)によって収斂レンズ(55)の前記偏向が解消され、しかも光路内で後続する中間像平面(183)において、両収斂レンズ(55,56)の焦点距離の比率で縮小される結像、つまり前記成端片(26)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束(144)の結像が発生し、かつ該ビーム束が、焦点距離の比率で拡大する発散角度を有しており、かつ前記中間像平面(183)より後方の光路内には、1つの収斂レンズ(57)と、該収斂レンズ(57)よりも小さな焦点距離を有する1つの収斂レンズ(61)とから成っているところの、ビーム束の縮小結像を前記中間像平面(183)から被加工面(81)へ伝播する第2伝播ユニットが配置されており、該第2伝播ユニットによって、前記成端片(26)の収斂レンズ(133)から出射する各ビーム束が1つの加工点(B1〜Bn)を発生する、請求項79から86までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レンズ(55)とクロスオーバー点(184)との間隔が、レンズ(55)の焦点距離にほぼ等しく、前記クロスオーバー点(184)とレンズ(56)との間隔並びに該レンズ(56)と中間像平面(183)との間隔が、レンズ(56)の焦点距離にほぼ等しく、前記中間像平面(183)とレンズ(57)との間隔並びにクロスオーバー点(187)とレンズ(57)との間隔が、レンズ(57)の焦点距離にほぼ等しく、前記クロスオーバー点(187)とレンズ(61)との間隔並びに被加工面(81)とレンズ(61)との間隔が該レンズ(61)の焦点距離にほぼ等しく、かつ前記の複数のレンズの間隔が、被加工面(81)上に生じるビーム束の対称軸線を互いにほぼ平行に延在させるように選ばれる、請求項87記載のレーザ照射源。
- 単数及び複数の平面内及び単数又は複数のトラック1〜n(図21,図24,図32,図33)に配列された成端片(94)の収斂レンズ(133)の後方の光路(図21)内に、1つの発散レンズ(101)と2つの収斂レンズ(102,103)とから成る伝播ユニットが配置されており、該伝播ユニットによって、前記成端片(94)の収斂レンズ(133)から出射する、対称軸線を個々のトラックでは互いに角度を成して延在させるビーム束(144)が、収斂レンズ(102)においてクロスオーバーさせるように、偏向かつ拡張され、しかも発散するビーム束(144)が収斂レンズ(102)によってほぼ平行に方位づけられかつ該収斂レンズ(102)から夫々角度を成して出射し、かつ該収斂レンズ(102)より後方の光路内に、ほぼ平行なビーム束を被加工面(81)上に集束させる収斂レンズ(103)が配置されており、これに伴なって、前記成端片(94)の収斂レンズ(133)から出射する各ビーム束が1つの加工点(B1〜Bn)を発生する、請求項79記載のレーザ照射源。
- 発散レンズ(101)の焦点距離が、収斂レンズ(102)の焦点距離よりも著しく短く、収斂レンズ(103)と収斂レンズ(102)との間隔が、前記収斂レンズ(103)の焦点距離にほぼ等しく、かつ被加工面(81)と前記収斂レンズ(103)との間隔が、該収斂レンズ(103)の焦点距離にほぼ等しく、しかも前記被加工面(81)に的中するビーム束の対称軸線が互いにほぼ平行である、請求項89記載のレーザ照射源。
- 単数及び複数の平面内及び単数又は複数のトラック1〜n(図21,図24,図32,図33)に配列された成端片(94)の収斂レンズ(133)の後方の光路(図22)内に、1つの凸面ミラー(121)と1つの凹面ミラー(115)と1つの収斂レンズ(112)とから成る伝播ユニットが配置されており、該伝播ユニットによって、前記成端片(94)の収斂レンズ(133)から出射する、対称軸線を個々のトラックでは互いに角度を成して延在させるビーム束(144)が、凹面ミラー(115)においてクロスオーバーさせるように、偏向かつ拡張され、しかも発散するビーム束(144)が、前記凹面ミラー(115)によってほぼ並行に方位修正され、かつ該凹面ミラーから夫々角度を成して放射され、かつ、前記凹面ミラー(115)より後方の光路内には、ほぼ平行なビーム束を被加工面(81)上に集束するレンズ(112)が配置されており、これに伴って成端片(94)の収斂レンズ(133)から出射する各ビーム束が1つの加工点(B1〜Bn)を発生する、請求項79記載のレーザ照射源。
- 凸面ミラー(121)の焦点距離が、凹面ミラー(115)の焦点距離よりも著しく小さく、前記の凹面ミラー(115)と凸面ミラー(121)との間隔が、凹面ミラーの焦点距離と凸面ミラーの焦点距離との和に等しく、被加工面(81)と凸レンズ(112)との間隔が、該凸レンズ(112)の焦点距離にほぼ等しく、しかも該凸レンズとミラーとの間隔が、被加工面(81)上に発生するビーム束の対称軸線を互いにほぼ平行に延在させるように選ばれる、請求項91記載のレーザ照射源。
- 個々の平面において成端片(26)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束(144)の対称軸線が、互いにほぼ平行に延在している、請求項86から92までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 個々の平面において成端片(26)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束(144)の対称軸線が、互いに角度を成して延在している、請求項86から92までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 複数のレンズがレンズ系として構成されている、請求項79から83までのいずれか1項又は請求項86から93までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ミラー(115,121)が球面状表面及び/又は非球面状表面を有している、請求項81から85までのいずれか1項或いは請求項91又は92記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが少なくとも1つの変向ミラーを含んでいる、請求項79から96までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 少なくとも1つのミラーが金属製である、請求項81から85までのいずれか1項又は請求項91から97までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 伝播ユニットが交換可能な対物レンズ(61,103,112)を有している、請求項79から98までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 透明なプレート(117)が光学的な補正プレート(117)である、請求項84から99までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束(144)が出射円錐体を有し、該出射円錐体が、前記成端片(26,94)の内部のファイバ端部に対する前記収斂レンズ(133)の距離によわって、被加工面(81)上の加工点B1〜Bnに最適の鮮鋭度を生ぜしめるように調整可能である、請求項28から100までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)上にレーザビームを成形するための光学ユニット(8)が、前記被加工面(81)に加工効果を惹起させてはならないレーザ照射線を無害にする手段を有している、請求項10から101までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)に加工効果を惹起させてはならない不都合なレーザ照射線を無害にするために、この不都合なレーザ照射線の焦点をずらす(デフォーカッシング)手段が光路内に設けられており、焦点をずらされた照射線は、加工効果を惹起することなく被加工面(81)に達する、請求項102記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)に加工効果を惹起させてはならないレーザ照射線を無害にするために捕捉ユニット(73)が設けられており、該捕捉ユニットが、被加工面に加工効果を惹起させてはならない不都合なレーザ照射線を被加工面(81)から遠ざけるために、光路内に配置された変向ミラー(74,97,121)を備えている、請求項10から102までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 変向ミラー(74,97)が金属から製作されている、請求項104記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)に加工効果を惹起させてはならないレーザ照射線を無害にするために捕捉ユニット(73)が設けられており、該捕捉ユニットが、被加工面に加工効果を惹起させてはならない不都合なレーザ照射線を被加工面(81)から遠ざけるために、光路内に配置された偏光関連性ミラーを備えている、請求項10から102までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 不都合な照射線を捕捉するために、不都合な照射線を導き入れるサンプが設けられている、請求項102記載又は請求項104から106までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- サンプが、照射線のエネルギーを熱に変換することによって不都合な照射線を吸収する媒質から成っている、請求項107記載のレーザ照射源。
- サンプが熱交換器として構成されている、請求項107又は108記載のレーザ照射源。
- 凸面ミラー(121)と変向ミラー(97)が一体に製作されている、請求項104又は105記載のレーザ照射源。
- 凸面ミラー(121)が、不都合な照射線のための変向ミラーとしても形成されている、請求項110記載のレーザ照射源。
- 光学面に減反射処理が施されている、請求項10から111までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学素子が枠に接着されている、請求項10から112までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学素子が枠に鑞接されている、請求項10から112までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学素子の少なくとも1つが、ガラスよりも高い熱伝導率を有する材料、特にサファイアから製作されている、請求項10から114までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ファイバレーザ(2)の出力端子(13)が1つの受容部内に纏められており、しかも該受容部が、レーザ照射線を被加工面(81)へ方位づけるように形成されている、請求項1から115までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 受容部が、光学ユニット(8)に適合するために多部分から構成されており、しかも前記受容部の第1部分がケーシング(35,93)として構成されている、請求項116記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)が、個々のレーザビームを集合させる手段(37)を有し、該手段がケーシング(35,93)の内部に配置されている、請求項117記載のレーザ照射源。
- ケーシング(35,93)が成端片(26,94)用の枠(29)を有し、前記成端片が、個々のレーザビームを被加工面(81)に集結させるように配置されかつ方位づけられている、請求項118記載のレーザ照射源。
- 成端片(26,94)の収斂レンズ(133)から出射するビーム束の対称軸線間隔を縮小させる手段(46,191,192,202,203)がケーシング(35,93)内に設けられている、請求項119記載のレーザ照射源。
- ケーシング(35,93)内に、交換可能な変調器ケーシング(172)用の円筒形開口(48)が設けられており、前記変調器ケーシングが前記円筒形開口(48)の内部で回動によって調節・位置決め可能であり、かつ外向き側に電気接続端子(181)を有し、該電気接続端子が、電子制御装置と、変調器及び/又は偏向器(34,168)を電気的に作動制御するためのプリント配線基板(171)とに接続されており、かつ、前記変調器ケーシング(172)が、前記ケーシング(35,93)の内室(44,111)へ向いた方の端面側に、変調器及び/又は偏向器用のホルダーを有しかつケーシング内部にプリント配線基板(171)を内蔵し、しかも該プリント配線基板が、変調器ケーシング(172)の内部から、前記ケーシング(35,93)の内室の方に向いた端面を通って内室(44,111)内へ侵入して変調器と電気接続されている、請求項120記載のレーザ照射源。
- ケーシング(35,93)が、複数の変調器ケーシング(172)用の複数の円筒形開口(48)を有している、請求項121記載のレーザ照射源。
- 光路の方向でケーシング(35,93)には、受容部の第2部分が光学ユニット(8)に適合するために接続しており、前記第2部分が、伝播ユニットを内蔵しかつ管(51,95,113)として形成されており、該管が、前記ケーシング(35,93)の出射側に配置された孔(47)によってセンタリングされ、かつ前記ケーシング(35,93)にフランジ締結されている、請求項116記載のレーザ照射源。
- 管(51,95,113)の側面側に、被加工面(81)に加工効果を惹起させてはならないレーザ照射線を捕捉して無害にするための捕捉ユニット(73,86)がフランジ締結されている、請求項123記載のレーザ照射源。
- 管(51,95,113)の端部における伝播ユニットからの照射線出口と被加工面(81)との間に、該被加工面(81)から削出された材料を除去する装置(82)が設けられている、請求項124記載のレーザ照射源。
- 管(51,95,113)が、対物レンズ(61,103,112)によって特定された軸線を中心として回動可能及び/又はその長手方向にシフト可能に支承されている、請求項125記載のレーザ照射源。
- ケーシング(93)に装着された管(113)の端部に、凹面ミラー(115)を取付けたプレート(114)が設けられかつ前記ケーシングから前記管内へ侵入させる1つの孔(122)を有しており、レーザ照射線を捕捉して無害にするための捕捉ユニット(73,86)をフランジ締結した管の他端部には、前記孔(122)を通って前記管(113)内へ侵入するレーザ照射線を衝突させる凸面ミラー(121)が配置されており、しかも加工効果を惹起させるべきレーザ照射線が凹面ミラー(115)へ反射され、かつ、加工効果を惹起してはならない不都合なレーザ照射線は凸面ミラー(121)又は扁平ミラー(97)によって、該レーザ照射線を捕捉して無害にする捕捉ユニット(73,86)へ変向されるようになっており、かつ、前記管(113)の、被加工面(81)寄りの端部には、加工効果を惹起すべきレーザ照射線が前記凹面ミラー(115)を介して方位づけられる対物レンズ(112)が設けられており、しかも該対物レンズが被加工面(81)上に加工スポット(24)を発生する、請求項123から126までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ照射線を捕捉して無害にする捕捉ユニット(73,86)と、被加工面(81)に対面した方の管(95)の端部との間で該管の内部の光路内に、該管の長手方向に延在して伝播ユニットを有する鏡筒(96)が前記管内部に同心的に保持するように設けられており、しかも前記伝播ユニットが、ケーシング寄りの鏡筒端部に配置されておりかつ加工効果を惹起すべきレーザ照射線を受取って拡張させる発散レンズ(101)を有し、しかも前記伝播ユニットは、拡張されたレーザ照射線をほぼ平行なビーム束に成形する収斂レンズ(102)を有し、かつ被加工面(81)寄りの鏡筒(96)の端部には、加工効果を惹起すべき照射線が方位づけられる対物レンズ(103)が設けられており、しかも該対物レンズが被加工面(81)上に加工スポットを発生させ、かつ加工効果を惹起してはならない不都合なレーザ照射線は、ミラー(97)によって、該レーザ照射線を捕捉して無害にする捕捉ユニット(73,86)内へ変向される、請求項123から126までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ケーシング(35,93)にフランジ締結された管(51)の端部に、2つの収斂レンズ(55,56)を有する第1鏡筒(53)が設けられており、該第1鏡筒が、前記ケーシング寄りの前記管(51)の端部で光軸に対して同心的にかつ前記第1鏡筒の両端部を前記管の内部で固定されて、前記第1鏡筒によって、前記管(51)の内部で1つの中間像(183)を発生さるようになっており、かつ被加工面(81)に面した方の前記管(51)の他端部には、2つの収斂レンズ(57,61)を有する第2鏡筒(54)が設けられており、該第2鏡筒が、前記被加工面(81)に面した方の前記管(51)の端部で光軸に対して同心的にかつ前記第2鏡筒の両端部を前記管の内部に固定されて、前記第2鏡筒によって被加工面(81)上に加工スポット(24)を発生させるようになっており、加工効果を惹起してはならないレーザ光線が、前記の第1鏡筒(53)と第2鏡筒(54)との間に配置されたミラー(74)によって、被加工面(81)上に加工効果を惹起してはならない不都合なレーザ照射線を捕捉して無害にするための捕捉ユニット(73,86)内へ変向される、請求項123から126までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)上に加工効果を惹起してはならない不都合なレーザ照射線を捕捉して無害にするための捕捉ユニットが、変向ミラー(74,97,121)又は偏光関連性ミラー(169)と、不都合なレーザ照射線を捕捉するためのサンプとの間に、管(51,95,113)の内室を前記サンプから仕切る光学素子(75)を有し、該光学素子の直径が、サンプ内へ導かれたレーザ照射線を真直ぐに通過させるが、サンプから逆反射又は逆散乱されるような照射線は該サンプ内に充分抑止するように設計されている、請求項127から129までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学素子(75)がガラスプレート又はレンズである、請求項130記載のレーザ照射源。
- 光学素子(75)に減反射処理が施されている、請求項131記載のレーザ照射源。
- 光学素子(75)がその枠内に接着又は鑞接されている、請求項130から132までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 不都合なレーザ照射線を捕捉する装置(73,86)が、変向ミラー(74,97,121)又は偏光関連性ミラー(169)及び光学素子(75)を有する円筒形に形成された捕捉ユニット(73)と、該捕捉ユニットを管(51,95,113)に固定するためのフランジとから成っている、請求項127から129までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 不都合なレーザ照射線を捕捉するためのサンプが、冷却媒体を通す複数のオリフィス(87)を有するプレート(86)から成っている、請求項107から109までのいずれか1項又は請求項124記載のレーザ照射源。
- プレート(86)が、レーザ照射線に向いた方の側に、衝突させるべきレーザ照射線に対して傾斜した扁平な表面を有している、請求項135記載のレーザ照射源。
- プレートの表面が、凸面状又は凹面状に成形されている、請求項136記載のレーザ照射源。
- 表面が粗面化されている、請求項136又は137記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)から削出された材料を除去するための材料除去装置(82,235,249)が、両端面を貫通してレーザ照射線を透過させる貫通孔(207)を有し、しかもレーザ照射線の出射する方の端面が前記被加工面(81)の近くに接近させられており、かつ、前記材料除去装置の、レーザ照射線の出射する方の端面近傍の側方には、前記貫通孔(207)に向かって開口する少なくとも1つの別の孔(213)が位置し、かつ真空ポンプに接続されている、請求項125又は請求項127から129までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 貫通孔(207)が、入射口と出射口との間で円錐形に成形されており、かつ出射口の方へ向かって差し当たって狭窄するが、次いで出射口の直前でレーザ照射線領域の拡張された加工空間(211)へ移行しており、該加工空間には、出射端面の側方に配設した孔が吸出通路(213)として接続されている、請求項139記載のレーザ照射源。
- 1つの真空ポンプに接続された、側方に配設した複数の吸出通路(213)が設けられている、請求項140記載のレーザ照射源。
- 加工空間(211)には、正圧空気供給部に接続された1つの孔(215)が設けられており、かつ該孔の軸線が、加工スポット(24)に方位づけられている、請求項140又は141記載のレーザ照射源。
- 孔(215)が、加工スポット(24)へ方位づけられた作用方向を有するノズル孔として形成されている、請求項142記載のレーザ照射源。
- 複数のノズル孔(215)が設けられている、請求項143記載のレーザ照射源。
- 複数のノズル孔(215)が、吸出通路(213)を有する側に対向して位置する方の装置側に配設されている、請求項140から144までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 複数のノズル孔(215)が、吸出通路(213)を有する側に対向して位置する方の装置側に配設されており、かつ前記吸出通路に対してずらされている、請求項140から145までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 1つの別の孔が、正圧空気供給部に接続されたバイパス孔(216)として設けられており、該バイパス孔が、貫通孔(207)に沿って被加工面(81)の方向に向かう流れを生ぜしめるように配置されている、請求項140から146までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 正圧空気供給部に接続された複数のバイパス孔(216)が設けられており、該バイパス孔が、貫通孔(207)に沿って被加工面(81)の方向に向かう流れを生ぜしめるように配置されている、請求項147記載のレーザ照射源。
- 正圧空気供給部に接続された少なくとも1つのバイパス孔(216)が、被加工面(81)から入射口の方向に向かう流れを生ぜしめるように配置されており、該流れが、対物レンズ(61,103,112)又はガラス板(218,230,237)によって変向されかつ前記貫通孔(207)に沿って前記被加工面(81)の方に向かって運動する、請求項147又は148記載のレーザ照射源。
- バイパス孔(216)が、ノズル孔(215)よりも小さな直径を有している、請求項147から151までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- バイパス孔(216)が、ノズル孔(215)よりも多数設けられている、請求項147から150までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ノズル孔(215)が、吸出通路(213)よりも多数設けられている、請求項143から151までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 吸出通路(213)が、ノズル孔(215)よりも大きな横断面を有している、請求項142から152までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 真空ポンプ接続用の吸出接続管(221)を取付けるためのカバー(217)を有する吸出溝(212)が設けられている、請求項139から153までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 吸出通路(213)と真空ポンプとの間に、加工時に遊離した材料を受取るフィルタ装置が配置されている、吸出溝内にフィルタ装置が配置されている、請求項139から154までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 吸出溝内にフィルタ装置が配置されている、請求項155記載のレーザ照射源。
- 正圧供給部接続用の給気接続管(222)を取付けるためのカバー(217)を有する給気溝(214)が設けられており、該給気溝を介してノズル孔(215)及びバイパス孔(216)が給気される、請求項139から156までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 正圧空気の代わりに酸化促進ガスが使用される、請求項139から157までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 正圧空気の代わりに酸化抑制ガスが使用される、請求項139から157までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 被加工面(81)から削出された材料を除去するための材料除去装置が、管(51,95,113)からレーザ照射線が出射する方の管端部に継手(204)によって着脱可能に固着された円筒形の口金(82)として構成されており、かつ前記口金への入射口端部に、貫通孔(207)の円筒形拡径部(206)が設けられており、該拡径部内に対物レンズ(61,103,112)の枠が侵入している、請求項139から159までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 円筒形の口金(82)が、円錐形孔として形成された貫通孔(207)を有する円筒形の基体(205)から成り、該円筒形基体が、加工空間(211)、吸出通路(213)、吸出溝(212)、ノズル孔(215)、バイパス孔(216)、給気溝(214)及び円筒形孔(206)を有し、しかも前記基体の外周には、真空ポンプに接続するための単数又は複数の吸出接続管(221)及び正圧空気供給部に接続するための少なくとも1つの給気接続管(222)を有する1つのリング(217)が気密に装嵌されている、請求項160記載のレーザ照射源。
- 貫通孔(207)の円筒形拡径部(206)内に、交換可能なガラス板(218)が設けられている、請求項161記載のレーザ照射源。
- レーザビームを成形するための光学ユニット(8)が、被加工面(81)上にビームウエストを生ぜしめるように構成されている、請求項10から101までのいずれか1項又は請求項116から129までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)がシフト可能な長焦点距離レンズを有し、しかも前記シフトに基づいて、被加工面上における加工スポットの集束が可変である、請求項10から101までのいずれか1項又は請求項116から129までのいずれか1項又は請求項163記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)が、第1の調整によって被加工面(81)上における加工点間の間隔を規定範囲内で可変にしかつ第2の調整によって前記被加工面上における加工スポットの集束を調整可能にするバリオ集束光学素子を有している、請求項10から101までのいずれか1項又は請求項116から129までのいずれか1項又は請求項163記載のレーザ照射源。
- 光学素子の光学的に有効な面が、反射低減層膜を有している、請求項10から165までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学的に有効な面が、レーザ照射線に対して、レーザへの逆反射及び逆散乱を回避するように傾けられて配置されている(図3,図18,図38)、請求項10から166までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 真直ぐに透過する非偏向の照射線(l0)が加工効果を惹起し、偏向した照射線(l1)はいかなる加工効果も惹起しないように、音響光学式変調器が、入射するレーザ照射線に対して配置されている、請求項19から167までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 偏向した照射線(l1)が加工効果を惹起し、真直ぐに透過する非偏向の照射線(l0)はいかなる加工効果も惹起しないように、音響光学式変調器(34)が、入射するレーザ照射線に対して配置されている、請求項19から168までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザビームを成形するための光学ユニット(8)に、光学面の汚染化を防止する手段が設けられている、請求項10から169までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学面の汚染化を防止する手段が、受容部及び/又は光学ユニット(8)をガス放出材料と接触させず気密に密封可能にする点にあり、かつレーザ照射線を出射させる光学窓が設けられている、請求項10から172までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ照射線を出射させる光学窓がガラス板である、請求項10から171までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ照射線を出射させる光学窓がガラス板又はレンズである、請求項10から172までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部(35,93,51,95,113)の構成部分が気密に互いに結合されており、かつ前記受容部に結合された構成素子群(26,94,37,41,46,73,54,96,116,118)が気密に配置されている、請求項117から173までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 封止する手段としてパッキン(36,43,52,76,62,124,125)が設けられている、請求項117から174までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 封止する手段として接着継手が設けられている、請求項117から175までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 封止する手段として鑞接継手が設けられている、請求項117から175までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 対物レンズ(61,103,112)が、加工効果を惹起せねばならないレーザ照射線を透過させるための光学窓として設けられている、請求項117から177までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- プレート(117)が、加工効果を惹起せねばならないレーザ照射線を透過させるための光学窓として設けられている、請求項117から178までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レンズ(75)が、加工効果を惹起させてはならないレーザ照射線を透過させるための光学窓として設けられている、請求項117から179までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部の内室を排気させる弁(77)が、ケーシング(35,93)に設けられている、請求項117から180までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部の内室に弁(77)を介して保護ガスが充填されている、請求項117から181までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 弁(77)を介して、規定の1つのパッキンの開放中に保護ガスが、光学ユニット(8)を適合させるための受容部の内室を通流するようになっている、請求項117から182までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 弁(77)を介して、光学ユニット(8)を適合させるための受容部の内室を保護ガスが常時通流するようになっており、しかも対物レンズ(61,103,112)の近傍に、前記保護ガスを逃がすための少なくとも1つの孔(120)が設けられている(図39a)、請求項117から183までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 保護ガスが主として窒素から成っている、請求項117から184までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部が、成端片(26,94)の領域でケーシング(35,93)に複数の冷却フィンを備えている、請求項117から185までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部が、成端片(26,94)の領域でケーシング(35,93)に、冷却媒体を供給するための複数のオリフィス(87)を備えている、請求項117から186までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)を適合させるための受容部が、捕捉ユニット(73)及び対物レンズ(112)の領域で管(118)に複数の冷却フィンを備えている、請求項117から187までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)が成端片及び/又はレンズの領域に、冷却媒体を供給するための複数のオリフィス(87)を備えている(図8,図39)、請求項117から188までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 変調器ケーシング(172)が変調器(34)の領域に、冷却媒体を供給するための複数のオリフィス(87)を備えている、請求項117から189までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ポンピング源(18)とレーザファイバ(5)と成端片(26,94)とを夫々有する各ファイバレーザ(2)から成るモジュールを設けたことによって、レーザ照射源構造が部分的にモジュール式に構成されている、請求項1から190までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- モジュールがレーザファイバ(5)と成端片(26,94)との間に受動的ファイバ(28)を有している、請求項1から191までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 少なくとも1つのモジュールが、受動的ファイバ(28)を有する複数のレーザ出力端子(13)を備え、各出力端子が成端片(26,94)を有している、請求項1から192までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 成端片を有する少なくとも1つのレーザ出力端子が設けられており、かつ該レーザ出力端子に複数のファイバレーザ−モジュールが接続されている、請求項1から193までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 1本のファイバレーザを含む各モジュールのために、ファイバレーザ−モジュールを作動制御するための電子回路モジュールが設けられている、請求項191記載のレーザ照射源。
- 複数の電子回路モジュールが、共通のバスを介して互いに接続されている、請求項195記載のレーザ照射源。
- レーザファイバ(5)から、測定セルのために、微量のポンピング照射線部分が出力結合可能である、請求項1から196までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ポンピング照射線を目標値と比較するための制御回路が設けられており、偏差が生じた場合には、該偏差が、偏差を除くようにポンピング源の給電部に作用する、請求項197記載のレーザ照射源。
- レーザビームを成形するための光学ユニット(8)がその入射口に、微量のレーザ照射線部分を導出して測定するためのビーム分割器を有している、請求項10から198までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)の入射口(9)で各ビーム束(144)を目標値と比較するための制御回路が設けられており、しかも偏差が生じた場合には、該偏差が、偏差を除くようにポンピング源の給電部に作用する、請求項10から199までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 光学ユニット(8)が、変調器より後方の光路内に、微量のレーザ照射線部分を導出して測定するためのビーム分割器を有している、請求項19から200までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 変調器より後方の照射線を目標値と比較するための制御回路が設けられており、しかも偏差が生じた場合には、該偏差が、偏差を除くように変調器の電気的作動制御部に作用する、請求項19から201までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ共振器の外部に配置された変調器によって変調可能な持続波(CW)レーザが設けられている、請求項1から202までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザ共振器の外部に配置された変調器によって変調可能なQスイッチ−レーザが設けられている、請求項1から202までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ポンピングエネルギーによって変調可能な持続波(CW)レーザが設けられている、請求項1から202までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- ポンピングエネルギーによって変調可能なQスイッチ−レーザが設けられている、請求項1から202までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- Qスイッチによって変調可能なQスイッチ−レーザが設けられている、請求項1から202までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- レーザが、別々の変調入力端子を介して直接変調可能である、請求項1から207までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシング(21)と、該ケーシング内に配置され回転可能に軸支され回転駆動され表面に被加工面(81)を設けてある少なくとも1本のドラム(22)と、複数のファイバレーザ(2)から成りかつ前記被加工面(81)に対して照射線を方位づけた1つのレーザ銃(23)を有するレーザ照射源(1)と、前記ケーシング内に配置されていて案内上を前記ドラムに沿って送り駆動装置によって軸方向にシフト可能でありかつ前記レーザ銃(23)を載置した少なくとも1つのキャリッジと、冷却系と、レーザ用制御装置と、駆動装置用の機械制御装置とから成る、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザによる材料加工装置。
- 各ドラムに複数のレーザ照射源(1)が設けられている、請求項209記載の材料加工装置。
- 各レーザ照射源毎に、被加工面から削出された材料を除去する装置(82)が設けられている、請求項209又は210記載の材料加工装置。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシングと、レーザを行毎に偏向可能にする回転駆動装置を備えた少なくとも1つの回転ミラー(243)と、レーザを集束するための光学装置(242,245)と、被加工面(81)を備えたテーブル(247)であって、該テーブルとレーザ照射源との間に相対的な直線運動を発生させるためにリニアガイド(251)上に配置されていて駆動装置(252,253,254)によって軸方向にシフト可能になっているテーブル(247)と、複数のファイバレーザ(2)から成るレーザ照射源(1)と、冷却系と、レーザ用の制御装置と、駆動装置用の機械制御装置とから成る、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザによる材料加工装置。
- 複数のレーザ照射源(1)が設けられている、請求項212記載の材料加工装置。
- 各レーザ照射源毎に、被加工面から削出された材料を除去する装置(249)が設けられている、請求項212又は213記載の材料加工装置。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシングと、レーザを行毎に偏向可能にする回転駆動装置を備えた少なくとも1つの回転ミラー(243)と、被加工面(81)を備えた凹面ベッド(236)であって、該凹面ベッドとレーザ照射源との間に相対的な直線運動を発生させるために駆動装置を有するリニアガイドを設けてある凹面ベッド(236)と、前記被加工面へレーザを集束するための光学装置(231,232)と、複数のファイバレーザ(2)から成るレーザ照射源(1)と、冷却系と、レーザ用の制御装置と、駆動装置用の機械制御装置とから成る、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザによる材料加工装置。
- 複数のレーザ照射源(1)が設けられている、請求項215記載の材料加工装置。
- 各レーザ照射源毎に、被加工面から削出された材料を除去する装置(235)が設けられている、請求項215又は216記載の材料加工装置。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシングと、被加工材料を受容するテーブル(225)と、レーザを被加工面(81)に対して方位修正可能かつ集束可能にする成端片(26,94)を有しかつ該成端片によって発生された加工トラック(224)の相互間隔が可変になるように該成端片を成形レール(256)上に配置した、複数の加工トラックを発生するための少なくとも2つのファイバレーザ(2)と、前記テーブルを前記成形レールに対して少なくとも1つの座標軸x,y,zに沿って相対運動可能かつ/又は前記被加工面(81)に対してほぼ直交する回転軸線zを中心として角度φだけ回動可能にする調整駆動装置及び/又は前記成形レールを前記テーブルに対して少なくとも1つの座標軸x,y,zに沿って運動可能にする調整駆動装置と、冷却系と、レーザ用の制御装置と、相対運動及び回転運動を発生させる駆動装置のための機械制御装置とから成っている、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザによる材料加工装置。
- 各加工トラック毎に、被加工面から削出された材料を除去する装置(249)が設けられている、請求項218記載の材料加工装置。
- 複数の加工トラック毎に、被加工面から削出された材料を除去する共通の装置(249)が設けられている、請求項218記載の材料加工装置。
- 成形レールが、加工トラック間の相互間隔を変化するために軸線z′を中心として回動可能に配置されている、請求項209から220までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 回動によって記録すべき図柄に生じる像歪みを補償する手段が設けられており、該手段が、記録すべき図柄にバイアス歪みをかけることから成り、かつ/又はデータ流の時間的な制御に影響を及ぼす、請求項209から221までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 加工トラック間の間隔及び/又は加工工程中のレーザ出力を変化させるための制御入力端子を有する音響光学式偏向器又は変調器が設けられている、請求項209から217までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 加工工程中に加工トラックの位置とその目標位置との偏差を測定する手段が設けられており、しかも偏差発生に基づいて、加工工程中に前記偏差を除くようにレーザビームの音響光学的な偏向に作用する制御信号が発生される、請求項209から217までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- レーザ照射源の出力端子(図40)が材料表面上を直接滑動する、請求項1から27までのいずれか1項又は請求項209又は請求項218(図3,図42)記載の材料加工装置。
- レーザとして、複数のファイバレーザ(2)から成るレーザ照射源(1)が設けられており、該レーザ照射源によって被加工面(81)に凹みもしくは微小セルが刻設可能である、請求項209から217までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 材料加工時に生じる材料削出ダストを掻き出しかつ/又は払い出すためのスクレーパ装置及び/又はブラッシ装置が設けられている、請求項226記載の材料加工装置。
- 刻設された凹みもしくは微小セルの容積を決定するための測定装置が設けられており、かつ測定された微小セル容積を目標値と比較するための制御回路が設けられており、偏差発生時には、該偏差を除くようにレーザに作用する制御信号が発生される、請求項209から227までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 微小セルの容積が、該微小セルの刻設により被加工面の表面から材料を除去することによって被加工面の表面に生じる面積に比例して変化される、請求項209から228までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 微小セルの容積が夫々その面積と深さとに関して、変調器の制御入力端子における制御電圧の振幅制御を介してレーザ出力を変化することによって変化される、請求項229記載の材料加工装置。
- 微小セルの容積が、面積が一定である場合、その都度微小セルの深さに関して変化される、請求項229記載の材料加工装置。
- 微小セルの深さが少なくとも2段階でデジタル式に変化される、請求項230又は231記載の材料加工装置。
- 微小セルの深さが無段階に変化される、請求項230又は231記載の材料加工装置。
- 可変のラスター角度及び可変のラスター幅を有する、印刷技術において公知の印刷ラスター(正規のラスター)を被加工面に生ぜしめるように、微小セルの形状及び位置を被加工面(81)に成形かつ配置する、請求項209から233までのいずれか1項記載の材料加工装置の運転法。
- 印刷技術において公知の推計学的ラスター又は正規のラスターを有する推計学的ラスターの組合せを生ぜしめるように、微小セルの形状及び位置を被加工面(81)に成形かつ配置する、請求項209から234までのいずれか1項記載の材料加工装置の運転法。
- オフセット印刷、凹版印刷、凸版印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷及び転写印刷のためのラスターを発生する、請求項235記載の材料加工装置の運転法。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシングと、レーザを偏向可能にする少なくとも1つの振動ミラーと、レーザを照準に集束させるための光学装置(242,245)と、複数のファイバレーザ(2)から成るレーザ照射源(1)と、被加工面(81)を備えたテーブル(247)であって、該テーブルと前記レーザ照射源(1)との間に相対的な直線運動を生ぜしめるためにリニアガイド(251)に沿って配置されておりかつ駆動装置(252,253,254)によって、或いは被加工材料をガイドするカセットによって、軸方向に摺動可能な前記テーブル(247)と、冷却系と、レーザ用の制御装置と、駆動装置用の機械制御装置とから成る、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザを用いた材料加工装置。
- 複数のレーザ照射源(1)が設けられている、請求項237記載の材料加工装置。
- 各レーザ照射源(1)毎に、被加工面から削出された材料を除去するための材料除去装置(249)が設けられている、請求項237又は238記載の材料加工装置。
- 光起電力型セルを接点接続するためのパターンを製作する、請求項209から239までのいずれか1項記載の材料加工装置の運転法。
- 1つの加工ステップにおいて、加工トラックの間隔を変化すること無く、トラック幅に対比して遠く離隔して位置する接点トラックを生ぜしめ、かつ次の加工ステップにおいて、前記トラック幅に対比して近く並んで位置する導体レールトラックを生ぜしめるように、光起電力型セルの接点接続用のパターンを製作する、請求項240記載の材料加工装置の運転法。
- 真直ぐ透過するレーザ照射線によって加工効果を惹起させ、かつ変調信号に応じて前記レーザ照射線を変調するために、複数の異なった周波数の電力を音響光学式変調器に印加して、前記の真直ぐに透過する照射線の一部分を前記変調信号に相応して偏向させ、かつ前記周波数に所属する部分照射線を被加工面に方位づけ、しかも前記部分照射線のパワー密度を、加工効果を惹起させないほど小さくすることを特徴とする、材料加工用の音響光学式変調器の運転法。
- 種々の周波数が、直進するビーム束の特に高い照射線部分を変調信号に相応して偏向させるように、直進するビーム束の発散に適合されている、請求項242記載の材料加工用の音響光学式変調器の運転法。
- 個々の装置構成要素を収容するためのケーシングと、変向ミラー、該変向ミラーに接続されたレーザ集束用対物レンズ及びレーザを行毎に偏向可能にするリニア駆動装置を有する少なくとも1つの偏向ユニットと、複数のファイバレーザ(2)から成るレーザ照射源(1)と、被加工面(81)を備えたテーブル(247)であって、該テーブル(247)と前記レーザ照射源(1)との間に相対的な直線運動を発生させるためにリニアガイド(251)上に配置されていて駆動装置によって軸方向に摺動可能な前記テーブル(247)と、冷却系と、レーザ用の制御装置と、駆動装置用の機械制御装置とから成る、請求項1から208までのいずれか1項記載のレーザによる材料加工装置。
- 複数のレーザ照射源(1)が設けられている、請求項244記載の材料加工装置。
- 複数のレーザ照射源(1)と、レーザを行毎に偏向可能にする複数の偏向ユニットが設けられている、請求項244又は245記載の材料加工装置。
- 各偏向ユニット毎に、被加工面(81)から削出された材料を除去するための材料除去装置(249)が設けられている、請求項244から246までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 偏向ユニットの駆動が、相応方向での揺動によって行われる、請求項244から247までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 揺動が無接触式に行われる、請求項248記載の材料加工装置。
- 揺動が電磁式に発動される、請求項248又は249記載の材料加工装置。
- ガイドレールが低摩擦係数の支承体(空気軸受、磁気軸受)である、請求項244から250までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 可動の偏向ユニットの制動から得られるエネルギーが部分的に駆動のために利用される、請求項244から251までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 基準ユニットを介して、可動ユニットのその都度の実際位置が求められる、請求項244から252までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- データ流を制御するために基準信号が使用される、請求項244から253までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 偏向ユニット用の単数又は複数の駆動装置が、リニアガイド上にシフト可能に配置されている、請求項244から254までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- 各被加工面(81)毎に、少なくとも1つのレーザ照射源及び少なくとも1つの別のレーザが設けられている、請求項212から255までのいずれか1項記載の材料加工装置。
- レーザ照射源(1)が主として微細輪郭を加工するために使用され、かつ別のレーザが主として粗大輪郭を加工するために使用される、請求項256記載の材料加工装置。
- 別のレーザ毎に夫々、被加工面(81)から削出された材料を除去するための材料除去装置(82)が設けられている、請求項256又は257記載の材料加工装置。
- 成端片が枠内部で調節可能である、請求項28,29,50〜55,119のいずれか1項記載のレーザ照射源。
- 加工工程中に被加工面(81)の運動方向に加工スポット(24)を連行することによって、前記被加工面(81)に対して静止した加工スポット(24)が生じる、請求項1から259までのいずれか1項記載のレーザ照射源。
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