JPH0985927A - グラビア印刷版製造装置およびグラビア印刷版製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 任意の大きさおよび形状のグラビア印刷用セ
ルを高精度でかつ高速に彫刻することができるグラビア
印刷版製造装置およびグラビア印刷版製造方法を提供す
ることである。 【解決手段】 マルチビームヘッド５を用いて版材２の
表面に複数のレーザビームを照射するとともに主走査方
向Ｘに走査し、１回の主走査ごとにマルチビームヘッド
５を副走査方向Ｙ２に送る。マルチビームヘッド５によ
り版材２の表面に形成されるビームスポット列における
隣接するビームスポット間の間隔は相互に熱的な影響を
受けないように記録走査ピッチの２倍以上に設定し、複
数回の主走査で両端部を除いて所定の記録走査ピッチで
隙間のない走査が行われるように副走査送りの距離を設
定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、版材にグラビア印
刷用セルを形成するグラビア印刷版製造装置およびグラ
ビア印刷版製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】グラビア印刷では、版材の表面に形成さ
れた凹状のセル内にインキを充填し、版材を紙に押圧し
てセル内のインキを紙に転写する。版材に凹状のセルを
形成するためには、機械的彫刻ヘッドまたはレーザビー
ム等を用いた熱的彫刻ヘッドが用いられる。通常、画像
の濃淡はセルの深さで表現される。そのため、セルの彫
刻時には、画像の濃淡に応じてセルの深さを制御する必
要がある。なお、網点グラビアと呼ばれる方法では、セ
ルの大きさにより画像の濃淡が表現される。

【０００３】例えば、特開昭５１−３４００６号公報、
特開昭５１−７２５０１号公報および特開昭５１−７２
５０２号公報には、絵柄の濃淡に応じた階調表現を行う
ためのセルの彫刻方法が開示されている。この方法は、
金属ローラの表面に最高濃度の表現に必要な深さよりも
深い複数のセル部を均一に配列形成し、それらのセル部
にレーザ光の照射により昇華または破壊する性質を有す
るプラスチック等の材料を充填し、各セル部内の材料に
絵柄の濃淡に応じて強度変調されたレーザ光を照射する
ことにより、セル部に所望の深さのセルを彫刻するもの
である。この方法では、金属ローラの表面に予め一定の
セル部を均一に配列形成し、かつそれらのセル部内にプ
ラスチック等の材料を充填する必要があるので、製造工
程が複雑となり、かつ製造コストが高くなる。

【０００４】一方、特開昭５５−６２４５６号公報に
は、一様な版材の表面にレーザ光を連続的に照射して個
々のセルの代わりに連続溝を彫刻する方法が開示されて
いる。この方法は、個々のセルを彫刻する方法に比べて
製造工程が比較的簡単となるが、連続溝にインキが充填
されるので、インキの転移量の安定性が低い。また、４
色に対応する４種類の版を用いるカラー印刷の場合に
は、版によって連続溝の蛇行軌跡に多少の違いを設けて
いるが、どの色の版における連続溝もほぼ主走査方向を
向いている。そのため、４色の刷り重ねによりモアレが
生じるおそれがある。

【０００５】そこで、一様な版材の表面にレーザ光の照
射によりそれぞれ独立した任意の形状および大きさのセ
ルを任意のパターンで形成することが望まれる。これに
より、４色以上の刷り重ねにおいてもモアレの発生のな
い滑らかで美しい印刷仕上がりが実現される。

【０００６】この際に、単に絵柄だけでなく、文字や罫
線が混在した図柄の印刷版を高品質に作製するために
は、グラビア印刷用セルの大きさに比べてよりきめ細か
い記録走査密度（彫刻点の密度）でレーザ光を照射する
ことが好ましい。

【０００７】このように、よりきめ細かい記録走査密度
でレーザ光を照射することは、文字や罫線だけでなく連
続階調の絵柄においてもディテール（細部描写）の再現
性が向上するという利点がある。しかしながら、単一の
レーザビームを用いてきめ細かい記録走査密度でセルを
彫刻する場合には、記録速度（彫刻速度）が遅くなると
いう問題が生じる。そこで、本発明者は、オフセット印
刷版用の記録装置で用いられているマルチビーム独立制
御方式により記録速度を改善することを検討した。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】図１２にオフセット印
刷版用のマルチビームヘッドによるビームスポット列を
示す。図１２に示すように、ビームスポット列は複数の
ビームスポットＳからなり、副走査方向Ｙに沿って配置
され、主走査方向Ｘに走査される。このようなマルチビ
ームヘッドをグラビア印刷版の作製に用いると、複数の
主走査ラインを同時に走査することができるので、きめ
細かい記録走査密度で任意の形状および大きさのセルを
高速に彫刻することができるものと考えられる。

【０００９】なお、オフセット印刷版を作製する場合に
は、レーザビームにより露光記録した履歴がすべて確実
に残る銀塩フィルム等の記録材料が使用される。したが
って、レーザビームによりオフセット印刷版にグラビア
印刷用セルに相当する網点を記録する際には、１つの網
点をマルチビームで一度に記録した場合と、１つの網点
にマルチビームの継ぎ目が掛かって１つの網点を２度に
分けて記録した場合とで記録された網点の状態に相違は
生じない。

【００１０】これに対して、グラビア印刷版を作製する
場合には、レーザビームを版材の表面に照射することに
より照射部分のみの材料を昇華または破壊して凹状のセ
ルを彫刻する作業を行うことになる。その際、隣接する
レーザビーム間に重複がある場合、あるいはレーザビー
ム照射による昇温の影響が残っているうちにその近傍に
別のレーザビームが照射される場合には、独立に単一の
レーザビームが照射される場合と比べて昇温の程度が大
きくなり、セルが深くかつ広く彫刻される。

【００１１】図１３はオフセット印刷版用のマルチビー
ムヘッドを用いて１回の主走査で１つのセルを彫刻する
場合を示す図であり、図１４はオフセット印刷版用のマ
ルチビームヘッドを用いて２回の主走査で１つのセルを
彫刻する場合を示す図である。図１３および図１４にお
いて、（ａ）はビームスポット列を示し、（ｂ）は４×
４の記録点（彫刻点）からなる仮想的なセルパターンを
示し、（ｃ）はビームスポットの光量分布を示し、
（ｄ）は彫刻されたセルの平面図を示し、（ｅ）は彫刻
されたセルの断面図を示す。

【００１２】図１３の例では、第１回の主走査でビーム
スポット列ＢＳが第１番目〜第４番目の主走査ラインＬ
１〜Ｌ４上を走査される。それにより、平面形状がほぼ
正方形でかつ深さがほぼ一定のセルＳＥが形成される。

【００１３】これに対して、図１４の例では、第１回の
主走査でビームスポット列ＢＳが第１番目および第２番
目の主走査ラインＬ１，Ｌ２上を走査され、第２回目の
主走査でビームスポット列ＢＳが第３番目および第４番
目の主走査ラインＬ３，Ｌ４上を走査される。この場
合、最初の主走査におけるレーザビームの照射が終わっ
た後、一旦温度が下がって次の主走査におけるレーザビ
ームの照射が行われるので、２回の主走査におけるビー
ムスポット列ＢＳの継ぎ目付近での彫刻深度や広がりが
同時照射の場合よりも幾分抑制される。その結果、セル
ＳＥの平面形状が完全な正方形にならず、深さも一定に
ならない。

【００１４】このように、同じセルを彫刻する場合で
も、ビームスポット列の継ぎ目に掛かるか掛からないか
によって、実際に彫刻されるセルの大きさや深さに顕著
な差が生じる。セルによってビームスポット列の掛り方
が異なると、一様であるべき図柄部分にセルの大きさお
よび深さのばらつきが生じ、印刷むらが発生することに
なる。

【００１５】そこで、図１５に示すように、マルチビー
ムヘッドにより形成されるビームスポット列ＢＳの副走
査方向Ｙの長さＷとセルＳＥの副走査方向ＹのピッチＰ
Ｃとを等しく設定すると、常にビームスポット列ＢＳの
継ぎ目がセルＳＥに掛からないようにすることができ
る。

【００１６】しかしながら、通常、４色に対応する４種
類の版を用いる網グラビアによるカラー印刷では、モア
レを防止するために各版における網角度（セルの配列方
向）をそれぞれ異ならせるので、マルチビームヘッドに
より形成されるビームスポット列の長さとセルの副走査
方向のピッチとがすべての版において同じであることは
望めない。

【００１７】なお、オフセット印刷版用の記録装置では
２次元配列のマルチビームヘッドも用いられている。図
１６は２次元配列のマルチビームヘッドにおけるビーム
スポット列を示す図である。

【００１８】図１６に示すように、ビームスポット列に
おける隣接するビームスポットＳが主走査方向Ｘに相互
に所定の間隔ずつずらされている。それにより、レーザ
ビーム源の配列に対する機械的な制約やレーザビーム間
の干渉の影響が回避される。

【００１９】このような２次元配列のマルチビームヘッ
ドをグラビア印刷用セルの彫刻に用いた場合には、版材
の表面上で隣接するビームスポットどうしが直接重なり
合うことは回避されるが、先行するレーザビームで形成
された彫刻点の余熱の影響はしばらく残るので、後行の
レーザビームによる彫刻点は先行するレーザビームの熱
的な影響を受けることになる。したがって、上記の場合
と同様に、一様であるべき図柄部分にセルの大きさおよ
び深さのばらつきが生じ、印刷むらが発生することにな
る。

【００２０】そこで、本発明の目的は、任意の大きさお
よび形状のグラビア印刷用セルを高精度でかつ高速に彫
刻することができるグラビア印刷版製造装置およびグラ
ビア印刷版製造方法を提供することである。

【００２１】

【課題を解決するための手段および発明の効果】

（１）第１の発明 第１の発明に係るグラビア印刷版製造装置は、版材表面
に凹状のセルを彫刻するグラビア印刷版製造装置であっ
て、複数ビーム照射手段、走査手段および移動手段を備
える。

【００２２】複数ビーム照射手段は、版材表面に複数の
エネルギービームを照射して彫刻密度に対応する彫刻ピ
ッチの２倍以上の間隔で第１の方向に配列された複数の
ビームスポットを形成する。走査手段は、複数ビーム照
射手段により形成される複数のビームスポットを第１の
方向と交差する第２の方向に走査する。移動手段は、走
査手段による各走査ごとに、前回走査された走査線間の
走査線が走査されるように複数ビーム照射手段を版材に
対して相対的に第１の方向に移動させる。

【００２３】第１の発明に係るグラビア印刷版製造装置
においては、版材表面に複数のビームスポットが同時に
走査されるので、複数のセルを短時間に彫刻することが
できる。しかも、隣接するビームスポット間の間隔が彫
刻密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上に設定されてい
るので、隣接するビームスポット間での光量分布の重な
りが防止され、相互に熱的な影響が排除される。そし
て、各走査ごとに、前回走査された走査線間の走査線が
走査されるように、複数ビーム照射手段が版材に対して
相対的に第１の方向に移動される。この場合、各走査線
は隣接する走査線の走査から少なくとも１回の走査に要
する時間の経過後に走査されるので、隣接する走査線上
のビームスポットが相互に熱的な影響を受けない。

【００２４】したがって、版材表面に任意の形状および
大きさのグラビア印刷用セルを均一にかつ短時間で任意
のパターンに彫刻することができる。その結果、種々の
図柄に対応するグラビア印刷版を高速かつ高精度に作製
することができ、モアレが発生しない滑らかな印刷仕上
がりが実現される。。

【００２５】（２）第２の発明 第２の発明に係るグラビア印刷版製造装置は、第１の発
明に係るグラビア印刷版製造装置の構成において、複数
ビーム照射手段により形成される複数のビームスポット
の数をＡとし、隣接するビームスポット間の間隔を彫刻
ピッチのＢ倍とした場合に、ＡおよびＢが２以上でかつ
互いに素となる整数に設定され、移動手段が、各走査ご
とに、複数ビーム照射手段を版材に対して相対的に第１
の方向に彫刻ピッチのＡ倍ずつ移動させるものである。

【００２６】第２の発明に係るグラビア印刷版製造装置
においては、両端部を除いて所定の彫刻ピッチで隙間の
ない走査を行うことができる。それにより、第１の発明
の効果に加えて、グラビア印刷用セルを効率良く彫刻す
ることが可能となる。

【００２７】（３）第３の発明 第３の発明に係るグラビア印刷版製造装置は、第２の発
明に係るグラビア印刷版製造装置の構成において、Ｂが
５以上の整数に設定され、移動手段が、各走査ごとに、
前回走査された走査線から２本以上離れた走査線が走査
されるように複数ビーム照射手段を版材に対して相対的
に第１の方向に移動させるものである。

【００２８】第３の発明に係るグラビア印刷版製造装置
においては、各走査ごとに、前回走査された走査線から
２本以上離れた走査線が走査されるので、各走査の時間
間隔が短い場合や彫刻ピッチが短い場合であっても、隣
接する走査線上のビームスポットが相互に熱的な影響を
受けない。それにより、第２の発明の効果に加えて、さ
らにきめ細かい彫刻密度でグラビア印刷用セルを彫刻す
ることが可能となる。

【００２９】（４）第４の発明 第４の発明に係るグラビア印刷版製造方法は、版材表面
に凹状のセルを彫刻するグラビア印刷版製造方法におい
て、版材表面に複数のエネルギービームを照射して彫刻
密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上の間隔で第１の方
向に配列された複数のビームスポットを形成し、版材表
面に形成された複数のビームスポットを第１の方向と交
差する第２の方向に走査し、各走査ごとに、前回走査さ
れた走査線間の走査線が走査されるように複数のビーム
スポットを版材に対して相対的に第１の方向に移動させ
るものである。

【００３０】第４の発明に係るグラビア印刷版製造方法
においては、版材表面に複数のビームスポットが同時に
走査されるので、複数のセルを短時間に彫刻することが
できる。しかも、隣接するビームスポット間の間隔が彫
刻密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上に設定されてい
るので、隣接するビームスポット間での光量分布の重な
りが防止され、相互に熱的な影響が排除される。そし
て、各走査ごとに、前回走査された走査線間の走査線が
走査されるようにビームスポット列が版材に対して相対
的に第１の方向に移動される。この場合、各走査線は隣
接する走査線の走査から少なくとも１回の走査に要する
時間の経過後に走査されるので、隣接する走査線上のビ
ームスポットが相互に熱的な影響を受けない。

【００３１】したがって、版材表面に任意の形状および
大きさのグラビア印刷用セルを均一にかつ短時間で任意
のパターンに彫刻することができる。その結果、種々の
図柄に対応するグラビア印刷版を高速かつ高精度に作製
することができ、モアレが発生しない滑らかな印刷仕上
がりが実現される。。

【００３２】（５）第５の発明 第５の発明に係るグラビア印刷版製造方法は、第４の発
明に係るグラビア印刷版製造方法において、複数のビー
ムスポットの数をＡとし、隣接するビームスポット間の
間隔を彫刻ピッチのＢ倍とした場合に、ＡおよびＢを２
以上でかつ互いに素となる整数に設定し、各走査ごと
に、複数のビームスポットを版材に対して相対的に第１
の方向に彫刻ピッチのＡ倍ずつ移動させるものである。

【００３３】第５の発明に係るグラビア印刷版製造方法
においては、両端部を除いて所定の彫刻ピッチで隙間の
ない走査を行うことができる。それにより、第４の発明
の効果に加えて、グラビア印刷用セルを効率良く彫刻す
ることが可能となる。

【００３４】（６）第６の発明 第６の発明に係るグラビア印刷版製造方法は、第５の発
明に係るグラビア印刷版製造方法において、Ｂを５以上
の整数に設定し、各走査ごとに、前回走査された走査線
から２本以上離れた走査線が走査されるようにビームス
ポット列を版材に対して相対的に第１の方向に移動させ
るものである。

【００３５】第６の発明に係るグラビア印刷版製造方法
においては、各走査ごとに、前回走査された走査線から
２本以上離れた走査線が走査されるので、彫刻ピッチが
短い場合であっても、隣接する走査線上のビームスポッ
トが相互に熱的な影響を受けない。それにより、第５の
発明の効果に加えて、さらにきめ細かい彫刻密度でグラ
ビア印刷用セルを彫刻することが可能となる。

【００３６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
グラビア印刷版製造装置の概略平面図である。図１にお
いて、円筒状のシリンダ１の表面に版材２が巻き付けら
れている。版材２の材料としては、レーザ光の照射によ
り昇華または破壊する性質を有するプラスチック等の材
料を用いる。例えば、特開昭５７−１１５３９２号公報
に示されているように、グラファイト、ポリテトラフル
オロエチレン（ＰＴＦＥ）およびモリブデン硫化物から
選択した添加物を加えた重合組成物を用いる。シリンダ
１はモータ３により主走査方向Ｘに回転駆動される。シ
リンダ１の回転軸と平行にボールねじ４が配置され、こ
のボールねじ４にマルチビームヘッド５が取り付けられ
ている。ボールねじ４はモータ６により回転駆動され、
マルチビームヘッド５が副走査方向Ｙに移動する。

【００３７】本実施例では、マルチビームヘッド５が複
数ビーム照射手段を構成し、モータ３およびシリンダ１
が走査手段を構成し、ボールねじ４およびモータ６が移
動手段を構成する。

【００３８】図２はマルチビームヘッド５の構成を示す
概略斜視図である。マルチビームヘッド５は、レーザ光
源５１、ビーム分割器５２、ミラー５３，５９，６０、
複数ビーム分割器５４，５５、多チャンネル型光変調器
５６，５７、ビーム合成器５８およびビーム縮小光学系
６１を含む。

【００３９】ビーム分割器５２は、レーザ光源５１から
出射されたレーザビームＢ１を直進ビームＢ２および方
向変化ビームＢ３に分割する。複数ビーム分割器５４
は、直進ビームＢ２を複数の平行ビームに分割して平行
ビーム列Ｂ４として出射する。また、複数ビーム分割器
５５は、ミラー５３により反射された方向変化ビームＢ
３を複数の平行ビームに分割して平行ビーム列Ｂ５とし
て出射する。

【００４０】多チャンネル型光変調器５６，５７には、
セルの形状および大きさに対応する画像信号が与えられ
る。多チャンネル型光変調器５６は、平行ビーム列Ｂ４
の個々のビームをそれぞれ独立に変調してセル彫刻用の
ビーム列Ｂ６として出射する。また、多チャンネル型光
変調器５７は、平行ビーム列Ｂ５の個々のビームをそれ
ぞれ独立に変調してセル彫刻用のビーム列Ｂ７として出
射する。

【００４１】ビーム合成器５８は、多チャンネル型光変
調器５６から出射されたビーム列Ｂ６および多チャンネ
ル型光変調器５７から出射されてミラー５９により反射
されたビーム列Ｂ７を合成してビーム列Ｂ８として出射
する。この際、ビーム列Ｂ６に含まれる各ビームとビー
ム列Ｂ７に含まれる各ビームとが交互に整列するように
ビーム列Ｂ６，Ｂ７の合成が行われる。ビーム縮小光学
系６１は、ミラー６０により反射されたビーム列Ｂ８を
縮小して版材２の表面に照射し、直列状のビームスポッ
ト列Ｂ９を形成する。

【００４２】このマルチビームヘッド５においては、ビ
ームスポット列Ｂ９における隣接するビーム相互間に可
干渉距離以上の光路差を設けることにより隣接するレー
ザビーム間の干渉が防止される。

【００４３】図３（ａ）は４チャンネルのマルチビーム
ヘッドによるビームスポット列を示す図であり、図３
（ｂ）はその光量分布を示す図である。４チャンネルの
マルチビームヘッドは４本のレーザビームを出射し、版
材の表面に４つのビームスポットＳからなるビームスポ
ット列ＢＳを形成する。ビームスポット列ＢＳは、図３
（ａ）に示すように、副走査方向Ｙに平行に配置され、
主走査方向Ｘに走査される。隣接するビームスポットＳ
間の間隔は版材の表面上で記録走査ピッチｐの３倍に設
定されている。ここで、記録走査ピッチとは、レーザビ
ームの照射により形成される彫刻点の間隔（彫刻ピッ
チ）である。これにより、図３（ｂ）に示すように、隣
接するビームスポット間で光量分布の重なりがなく、相
互に熱的な影響が排除されている。

【００４４】図４は１回の主走査で版材表面に形成され
るレーザビームの軌跡を示す図である。図４に破線で示
すように、主走査方向Ｘに１回の主走査を行うことによ
り版材２の表面に４本のレーザビームが同時に走査され
る。

【００４５】図５は４回の主走査におけるビームスポッ
ト列およびその光量分布を示す図である。図５におい
て、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）はそれぞれ１
回目、２回目、３回目および４回目の主走査におけるビ
ームスポット列を示し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および
（Ｄ）はそれぞれ１回目、２回目、３回目および４回目
の主走査における光量分布を示し、（Ｅ）はそれら４回
の主走査における光量分布を示す。

【００４６】図５に示すように、１回の主走査ごとにビ
ームスポット列ＢＳは副走査方向Ｙに記録走査ピッチｐ
の４倍の距離だけ副走査送りされる。これにより、１回
目の主走査により照射された４本の主走査ライン間の主
走査ラインが２回目および３回目の主走査により照射さ
れる。図５では４回の主走査のみを示しているが、実際
には、多数の連続した主走査により両端部を除いて記録
走査ピッチｐでレーザビームの照射が行われる。このよ
うな走査を飛び越し走査と呼ぶ。

【００４７】なお、この飛び越し走査では、主走査ライ
ンの走査が端から順には行われない。しかしながら、走
査順序には一定の規則性が存在するので、例えば毎回の
主走査開始前にこれから走査される各主走査ラインの画
像信号をラインバッファメモリに予め準備しておくこと
により任意の形状および大きさのセルを任意のパターン
で彫刻することができる。

【００４８】図６および図７は図３の４チャンネルのマ
ルチビームヘッドを用いたセルの彫刻を示す図であり、
（ａ）は第１回目、第２回目、第３回目および第４回目
の主走査におけるビームスポット列を示し、（ｂ）は４
×４の記録点（彫刻点）からなる仮想的なセルパターン
を示し、（ｃ）は４回の主走査における光量分布を示
し、（ｂ）は４回の主走査により彫刻されたセルの平面
図を示し、（ｅ）は４回の主走査により彫刻されたセル
の断面図を示す。

【００４９】図６の例では、第１回目の主走査における
ビームスポット列ＢＳ１により第１番目および第４番目
の主走査ラインＬ１，Ｌ４が走査され、第２回目の主走
査におけるビームスポット列ＢＳ２により第２番目の主
走査ラインＬ２が走査され、第３回目の主走査における
ビームスポット列ＢＳ３により第３番目の主走査ライン
Ｌ３が走査される。

【００５０】第１回目の主走査においては、第１番目の
主走査ラインＬ１および第４番目の主走査Ｌ４にマルチ
ビームヘッドの隣接する２つのレーザビームが同時に照
射されるが、それらの２つのレーザビームは相互に熱的
な影響がないように引き離されているので相互に熱的な
影響を受けない。また、第２回目の主走査および第３回
目の主走査はそれぞれ前回の主走査から版材の１辺（シ
リンダの外周の長さ）だけ主走査を行うための時間の経
過後に行われるので、隣接する主走査ライン上のビーム
スポットが相互に熱的な影響を受けることはない。した
がって、平面形状がほぼ正方形でかつ深さがほぼ一定の
セルＳＥが形成される。

【００５１】図７の例では、第１回目〜第４回目の主走
査におけるビームスポット列ＢＳ１〜ＢＳ４によりそれ
ぞれ第１番目〜第４番目の主走査ラインＬ１〜Ｌ４上が
走査される。このように、各主走査ラインＬ１，Ｌ２，
Ｌ３，Ｌ４上のレーザビームがそれぞれ異なる主走査で
照射されるので、隣接する主走査ライン上のビームスポ
ットが相互に熱的な影響を受けない。したがって、平面
形状がほぼ正方形でかつ深さがほぼ一定のセルＳＥが形
成される。

【００５２】このように、図６および図７のいずれの場
合であっても、同じ大きさおよび同じ深さのセルＳＥを
形成することができる。なお、図６および図７では、４
×４の記録点からなるほぼ正方形のセルＳＥを形成する
例を示したが、レーザビームの変調タイミングを制御す
ることにより任意の形状および大きさのセルを任意の位
置に彫刻することができる。これにより、複数のセルを
任意のパターンに形成することができる。

【００５３】上記の例では、ビームスポット列における
隣接するビームスポット間の間隔が記録走査ピッチｐの
３倍に設定され、１回の主走査ごとの副走査送りの距離
が記録走査ピッチｐの４倍に設定されているが、ビーム
スポット列における隣接するビームスポット間の間隔お
よび１回の主走査ごとのビームスポット列の副走査送り
の距離はこれに限定されない。

【００５４】一般的には、マルチビームヘッドのチャン
ネル数（ビームスポット列におけるビームスポットの
数）をＡとし、ビームスポット列における隣接するビー
ムスポット間の間隔を記録走査ピッチｐのＢ倍とする
と、ＡおよびＢがともに２以上の整数でかつ互いに素で
あれば、両端部を除いて記録走査ピッチｐで隙間のない
走査が可能となる。

【００５５】一例として、次式（１）または（２）の関
係が成立すれば、１回の主走査ごとにマルチビームヘッ
ドを記録走査ピッチｐのＡ倍だけ副走査送りすれば、両
端部を除いて記録走査ピッチｐで隙間のない走査を行う
ことができる。

【００５６】Ａ＝ｎＢ＋１・・・（１） Ａ＝ｎＢ−１・・・（２） 上式において、ｎは整数である。

【００５７】図８は１０チャンネルのマルチビームヘッ
ドを用いた場合のビームスポット列を示す図である。図
８において、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）はそ
れぞれ１回目、２回目、３回目および４回目の主走査に
おけるビームスポット列を示す。

【００５８】図８の例では、上式（１）が成立するよう
に、Ａ＝１０、Ｂ＝３およびｎ＝３に設定されている。
ビームスポット列ＢＳにおける隣接するビームスポット
Ｓ間の間隔は記録走査ピッチｐの３倍に設定され、１回
の主走査ごとの副走査送りの距離は記録走査ピッチｐの
１０倍に設定されている。

【００５９】図９は８チャンネルのマルチビームヘッド
を用いた場合のビームスポット列を示す図である。図９
において、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）はそれ
ぞれ１回目、２回目、３回目および４回目の主走査にお
けるビームスポット列を示す。

【００６０】図９の例では、上式（２）が成立するよう
に、Ａ＝８、Ｂ＝３およびｎ＝３に設定されている。ビ
ームスポット列ＢＳにおける隣接するビームスポット間
Ｓの間隔は記録走査ピッチｐの３倍に設定され、１回の
主走査ごとの副走査送りの距離は記録走査ピッチｐの８
倍に設定されている。

【００６１】他の例として、ＡおよびＢがともに２以上
の整数でかつ互いに素であれば、ＢをＡよりも大きく設
定してもよい。図１０は３チャンネルのマルチビームヘ
ッドを用いた場合のビームスポット列を示す図である。
図１０において、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、
（ｅ）および（ｆ）はそれぞれ１回目、２回目、３回
目、４回目、５回目および６回目の主走査におけるビー
ムスポット列を示し、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）はそれぞれ１回目、２回
目、３回目、４回目、５回目および６回目の主走査にお
ける光量分布を示し、（Ｇ）はそれら６回の主走査にお
ける光量分布を示す。

【００６２】図１０の例では、ＢがＡよりも大きく設定
され、Ａ＝３およびＢ＝５である。ビームスポット列Ｂ
Ｓにおける隣接するビームスポットＳ間の間隔は記録走
査ピッチｐの５倍に設定され、１回の主走査ごとの副走
査送りの距離は記録走査ピッチｐの３倍に設定されてい
る。

【００６３】図８および図９の例では、各回の主走査に
おいて、前回の主走査でレーザビームが照射された主走
査ラインに隣接する主走査ラインにレーザビームが照射
される。これに対して、図１０の例では、各回の主走査
において、前回の主走査でレーザビームが照射された主
走査ラインから２本目の主走査ラインにレーザビームが
照射される。したがって、各走査の時間間隔が短い場合
や主走査ライン間の間隔（記録走査ピッチ）が短い場合
でも、隣接する主走査ライン上のビームスポットが相互
に熱的な影響を受けにくくなる。

【００６４】このように、隣接する主走査ライン上のビ
ームスポットが相互に熱的な影響を受けにくくするため
には、Ｂが５以上の整数であり、これと素の関係にある
２以上の整数からＡを決定すればよい。

【００６５】図１１は２次元配列のマルチビームヘッド
を用いた場合のビームスポット列を示す図である。図１
１において、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）はそ
れぞれ１回目、２回目、３回目および４回目の主走査に
おけるビームスポット列を示す。

【００６６】図１１の例では、ビームスポット列ＢＳに
おける隣接するビームスポットＳが主走査方向Ｘに相互
に一定の間隔ずつずらされている。この場合にも、図５
に示した例と同様に、ビームスポット列ＢＳにおける隣
接するビームスポットＳ間の間隔は記録走査ピッチｐの
３倍に設定され、１回の主走査ごとの副走査送りの距離
は記録走査ピッチｐの４倍に設定されている。

【００６７】２次元配列のマルチビームヘッドにおける
各レーザビームの主走査方向の照射タイミングの違い
は、各主走査ラインごとにメモリからの画像信号の読出
時期を調整することにより制御される。図１１の例にお
いても、図５の例と同様に、飛び越し走査により隣接す
るビームスポット間の相互の熱的な影響が排除される。

【００６８】なお、上記実施例では、エネルギービーム
としてレーザビームを用いているが、レーザビームの代
わりに電子ビーム、イオンビーム等の他のエネルギービ
ームを用いてもよい。

【００６９】また、上記実施例では、円筒状のシリンダ
１に巻き付けられた版材２を用いているが、平面状の版
材を用いてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例におけるグラビア印刷版製造
装置の概略平面図である。

【図２】図１のグラビア印刷版製造装置におけるマルチ
ビームヘッドの構成を示す概略斜視図である。

【図３】４チャンネルのマルチビームヘッドを用いた場
合のビームスポット列およびその光量分布を示す図であ
る。

【図４】１回の主走査で版材表面に形成されるレーザビ
ームの軌跡を示す図である。

【図５】４チャンネルのマルチビームヘッドを用いた場
合の４回の主走査におけるビームスポット列およびその
光量分布を示す図である。

【図６】４回の主走査におけるビームスポット列を示す
図、４×４の記録点からなる仮想的なセルパターンを示
す図、光量分布を示す図、セルの平面図およびセルの断
面図である。

【図７】４回の主走査におけるビームスポット列を示す
図、４×４の記録点からなる仮想的なセルパターンを示
す図、光量分布を示す図、セルの平面図およびセルの断
面図である。

【図８】１０チャンネルのマルチビームヘッドを用いた
場合の４回の主走査におけるビームスポット列を示す図
である。

【図９】８チャンネルのマルチビームヘッドを用いた場
合の４回の主走査におけるビームスポット列を示す図で
ある。

【図１０】３チャンネルのマルチビームヘッドを用いた
場合の６回の主走査におけるビームスポット列を示す図
およびその光量分布を示す図である。

【図１１】２次元配列のマルチビームヘッドを用いた場
合の４回の主走査におけるビームスポット列を示す図で
ある。

【図１２】オフセット印刷版用の記録装置で用いられる
マルチビームヘッドを用いた場合のビームスポット列を
示す図である。

【図１３】図１２のマルチビームヘッドを用いた場合の
１回の主走査におけるビームスポット列を示す図、４×
４の記録点からなる仮想的なセルパターンを示す図、光
量分布を示す図、セルの平面図およびセルの断面図であ
る。

【図１４】図１２のマルチビームヘッドを用いた場合の
２回の主走査におけるビームスポット列を示す図、４×
４の記録点からなる仮想的なセルパターンを示す図、光
量分布を示す図、セルの平面図およびセルの断面図であ
る。

【図１５】マルチビームヘッドによるビームスポット列
の長さとセルの副走査方向のピッチとの関係を示す図で
ある。

【図１６】オフセット印刷版用の記録装置に用いられる
２次元配列のマルチビームヘッドを用いた場合のビーム
スポット列を示す図である。

【符号の説明】

１ シリンダ ２ 版材 ３，６ モータ ４ ボールねじ ５ マルチビームヘッド ５１ レーザ光源 ５２ ビーム分割器 ５４，５５ 複数ビーム分割器 ５６，５７ 多チャンネル型光変調器 ５８ ビーム合成器 ６１ ビーム縮小光学系 Ｓ ビームスポット ＢＳ，ＢＳ１〜ＢＳ４ ビームスポット列 Ｘ 主走査方向 Ｙ 副走査方向

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 版材表面に凹状のセルを彫刻するグラビ
   ア印刷版製造装置であって、 前記版材表面に複数のエネルギービームを照射して彫刻
   密度に対応する彫刻ピッチの２倍以上の間隔で第１の方
   向に配列された複数のビームスポットを形成する複数ビ
   ーム照射手段と、 前記複数ビーム照射手段により形成される前記複数のビ
   ームスポットを前記第１の方向と交差する第２の方向に
   走査する走査手段と、 前記走査手段による各走査ごとに、前回走査された走査
   線間の走査線が走査されるように前記複数ビーム照射手
   段を前記版材に対して相対的に前記第１の方向に移動さ
   せる移動手段とを備えたことを特徴とするグラビア印刷
   版製造装置。
2. 【請求項２】 前記複数ビーム照射手段により形成され
   る前記複数のビームスポットの数をＡとし、隣接するビ
   ームスポット間の間隔を前記彫刻ピッチのＢ倍とした場
   合に、前記Ａおよび前記Ｂが２以上でかつ互いに素とな
   る整数に設定され、 前記移動手段は、各走査ごとに、前記複数ビーム照射手
   段を前記版材に対して相対的に前記第１の方向に前記彫
   刻ピッチのＡ倍ずつ移動させることを特徴とする請求項
   １記載のグラビア印刷版製造装置。
3. 【請求項３】 前記Ｂは５以上の整数に設定され、前記
   移動手段は、各走査ごとに、前回走査された走査線から
   ２本以上離れた走査線が走査されるように前記複数ビー
   ム照射手段を前記版材に対して相対的に前記第１の方向
   に移動させることを特徴とする請求項２記載のグラビア
   印刷版製造装置。
4. 【請求項４】 版材表面に凹状のセルを彫刻するグラビ
   ア印刷版製造方法において、前記版材表面に複数のエネ
   ルギービームを照射して彫刻密度に対応する彫刻ピッチ
   の２倍以上の間隔で第１の方向に配列された複数のビー
   ムスポットを形成し、前記版材表面に形成される前記複
   数のビームスポットを前記第１の方向と交差する第２の
   方向に走査し、各走査ごとに、前回走査された走査線間
   の走査線が走査されるように前記複数のビームスポット
   を前記版材に対して相対的に前記第１の方向に移動させ
   ることを特徴とするグラビア印刷版製造方法。
5. 【請求項５】 前記複数のビームスポットの数をＡと
   し、隣接するビームスポット間の間隔を前記彫刻ピッチ
   のＢ倍とした場合に、前記Ａおよび前記Ｂを２以上でか
   つ互いに素となる整数に設定し、各走査ごとに、前記複
   数のビームスポットを前記版材に対して相対的に前記第
   １の方向に前記彫刻ピッチのＡ倍ずつ移動させることを
   特徴とする請求項４記載のグラビア印刷版製造方法。
6. 【請求項６】 前記Ｂを５以上の整数に設定し、各走査
   ごとに、前回走査された走査線から２本以上離れた走査
   線が走査されるように前記複数のビームスポットを前記
   版材に対して相対的に前記第１の方向に移動させること
   を特徴とする請求項５記載のグラビア印刷版製造方法。