JP2006053499A - レーザ露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 投影光学部の結像部に配列されるレーザスポットの夫々が矩形であるレーザ露光装置において、該レーザスポットの夫々を長手方向で少なくとも2以上の領域に等しく分割し、隣接するレーザスポット同士がその少なくとも1つの分割領域で互いに重なり合うようにオーバーラップ配列にすることにより、該レーザスポットの長手方向のサイズよりも4辺いずれもが小さい四角形のピクセルを露光するようにした。
【選択図】 図2
Description
〔解像度(dpi)とピクセルサイズ(μm2)の対応関係〕
3200dpi=7.93752μm2
4800dpi=5.29162μm2
6400dpi=3.96872μm2
8000dpi=3.1752μm2
9600dpi=2.64582μm2
12800dpi=1.98432μm2
16000dpi=1.58752μm2
25600dpi=0.99212μm2
レーザグラビア製版システムを次のように構成した。版胴(グラビアシリンダ)は円周600mmで幅1100mmのアルミニウム製グラビアシリンダに80μmの銅メッキを施し、表面を鏡面研磨(表面粗さRy=0.12μm)した。感光液としてはTSER−2104〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、感光膜の膜厚3.5μm、塗布後45分間の風乾(温度23℃)させた。感光液塗布装置としてはコーティング−FX−1300〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用いた。レーザ露光装置として、LaserStream−FX−1300〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、露光パワーを230mJ/cm2とし、露光時シリンダ回転数を200rpmとした。現像液にはTLD現像液〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、現像方法は回転浸漬現像80秒(温度25℃)で行った。
実施例1と同様のレーザグラビア製版システムを用い、該システム構成中のレーザ露光装置において、長さ約7.9μm×幅1μmの矩形のレーザスポットをそのまま用いて(図5のようにして)約7.92μm2のピクセル単位(3200dpi)で露光した以外は、実施例1と同様にして、レーザグラビア製版を行った。その結果を図6(b)に示す。図6(b)に示される如く、斜線部分にはピクセル単位の段差によるギザギザが表れており、充分に微細な露光及び製版を行うことはできなかった。
Claims (5)
- レーザ光を発振するレーザ光源と、該レーザ光を複数の制御信号で空間的に配列分割して光変調する光変調部と、光変調部からの配列された出力光を縮小投影する投影光学部とを備え、投影光学部の結像部に配列されるレーザスポットの夫々が矩形であるレーザ露光装置において、該レーザスポットの夫々を長手方向で少なくとも2以上の領域に等しく分割し、隣接するレーザスポット同士がその少なくとも1つの分割領域で互いに重なり合うようにオーバーラップ配列にすることにより、該レーザスポットの長手方向のサイズよりも4辺いずれもが小さい四角形のピクセルを露光するようにしたことを特徴とするレーザ露光装置。
- 前記分割領域の長手方向のサイズと同じサイズ分だけ前記レーザスポットを該長手方向と直交する幅方向にスライドせしめ、該レーザスポットの長手方向のサイズよりも4辺いずれもが小さい正方形のピクセルを露光するようにしたことを特徴とする請求項1記載のレーザ露光装置。
- 前記レーザスポットを4つの領域に等しく分割し、隣接するレーザスポット同士がその4分の3の分割領域で重なり合うようにオーバーラップ配列とすることを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ露光装置。
- 前記1ピクセルが1.92μm2以下であり、12800dpi以上の解像度を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のレーザ露光装置。
- 前記レーザ光源は、複数の発振部を有する半導体レーザアレイであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のレーザ露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004241320A JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004210588 | 2004-07-16 | ||
JP2004241320A JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006053499A true JP2006053499A (ja) | 2006-02-23 |
JP4396979B2 JP4396979B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=36030997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004241320A Active JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4396979B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006178057A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-07-06 | Integrated Solutions:Kk | 露光装置 |
JP2008012791A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Toppan Printing Co Ltd | グラビア印刷物 |
CN100399194C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-02 | 哈尔滨工业大学 | 基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置 |
WO2011152235A1 (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-08 | 株式会社シンク・ラボラトリー | レーザ露光方法及び製品 |
CN111602091A (zh) * | 2018-01-15 | 2020-08-28 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 半导体光刻的具有改进的部件调节的投射曝光设备、以及调节方法 |
CN114280895A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-05 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中像素行分配方法、系统及相关设备 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0684741A (ja) * | 1992-06-25 | 1994-03-25 | Think Lab Kk | 半導体レーザ露光装置 |
JPH0985927A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | グラビア印刷版製造装置およびグラビア印刷版製造方法 |
JPH10324021A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-12-08 | Toray Ind Inc | イメージング装置およびイメージング方法ならびに印刷装置 |
JPH1184149A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-03-26 | Toray Ind Inc | 光ファイバアレイ装置、イメージングヘッド装置およびイメージング装置 |
JP2000318195A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Creo Prod Inc | 可変性出力密度を用いる感熱記録方法 |
JP2001109163A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-04-20 | Think Laboratory Co Ltd | 製版用露光装置及び露光方法 |
-
2004
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0684741A (ja) * | 1992-06-25 | 1994-03-25 | Think Lab Kk | 半導体レーザ露光装置 |
JPH0985927A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | グラビア印刷版製造装置およびグラビア印刷版製造方法 |
JPH10324021A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-12-08 | Toray Ind Inc | イメージング装置およびイメージング方法ならびに印刷装置 |
JPH1184149A (ja) * | 1997-07-16 | 1999-03-26 | Toray Ind Inc | 光ファイバアレイ装置、イメージングヘッド装置およびイメージング装置 |
JP2000318195A (ja) * | 1999-04-30 | 2000-11-21 | Creo Prod Inc | 可変性出力密度を用いる感熱記録方法 |
JP2001109163A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-04-20 | Think Laboratory Co Ltd | 製版用露光装置及び露光方法 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006178057A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-07-06 | Integrated Solutions:Kk | 露光装置 |
CN100399194C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-02 | 哈尔滨工业大学 | 基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置 |
JP2008012791A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Toppan Printing Co Ltd | グラビア印刷物 |
US8963971B2 (en) | 2010-06-04 | 2015-02-24 | Think Laboratory Co., Ltd | Laser exposure method and product |
CN102822748A (zh) * | 2010-06-04 | 2012-12-12 | 株式会社新克 | 激光曝光方法及制品 |
EP2579099A1 (en) * | 2010-06-04 | 2013-04-10 | Think Laboratory Co., Ltd. | Laser exposure method and product |
KR20130083823A (ko) * | 2010-06-04 | 2013-07-23 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 레이저 노광 방법 및 제품 |
EP2579099A4 (en) * | 2010-06-04 | 2014-08-06 | Think Labs Kk | LASER EXPOSURE METHOD AND PRODUCT |
WO2011152235A1 (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-08 | 株式会社シンク・ラボラトリー | レーザ露光方法及び製品 |
JP5773539B2 (ja) * | 2010-06-04 | 2015-09-02 | 株式会社シンク・ラボラトリー | レーザ製版用レーザ露光方法 |
KR101648542B1 (ko) | 2010-06-04 | 2016-08-16 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 레이저 노광 방법 및 제품 |
CN111602091A (zh) * | 2018-01-15 | 2020-08-28 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 半导体光刻的具有改进的部件调节的投射曝光设备、以及调节方法 |
JP2021510841A (ja) * | 2018-01-15 | 2021-04-30 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | コンポーネント調整を改良した半導体リソグラフィ用の投影露光装置及び調整方法 |
JP7288447B2 (ja) | 2018-01-15 | 2023-06-07 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | コンポーネント調整を改良した半導体リソグラフィ用の投影露光装置及び調整方法 |
CN114280895A (zh) * | 2021-12-24 | 2022-04-05 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中像素行分配方法、系统及相关设备 |
CN114280895B (zh) * | 2021-12-24 | 2024-01-05 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中像素行分配方法、系统及相关设备 |
Also Published As
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