JP2021510841A - コンポーネント調整を改良した半導体リソグラフィ用の投影露光装置及び調整方法 - Google Patents
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Abstract
Description
少なくとも1つのストッパをコンポーネント又は構造部品に締結するステップと、
少なくとも1つのストッパがコンポーネント又は構造部品における基準面と機械的に接触するようにコンポーネントを位置決めするステップと、
コンポーネントを構造部品に固定するステップと、
ストッパを基準面から離すステップと
を含む。
2 視野ファセットミラー
3 光源
4 照明光学ユニット
5 物体視野
6 物体面
7 レチクル
8 レチクルホルダ
9 投影光学ユニット
10 像視野
11 像面
12 ウェハ
13 ウェハホルダ
14 EUV放射線
15 中間焦点面
16 瞳ファセットミラー
17 アセンブリ
18 ミラー
19 ミラー
20 ミラー
21 コンポーネント、センサ
22 構造部品、センサフレーム
23 締結平面
24 隆起部
25 基準面
26 螺着点
27 停止点
28 ストッパ
29 マウント
30 止めねじ
31 ねじ頭
32 接触面
33 六角形
34 凹部
35 ベースプレート
36 センサ側界面
37 ストッパ側界面
40 ストッパ
41 マウント
42 止めねじ
43 調整ねじ
44 接触ねじ
45 マウントの界面
46 接触面
47 ロックねじ
48 座金
49 座金
50 弾性移動可能要素
51 切欠き
52 弾性移動可能要素
53 切欠き
60 ねじ
Claims (9)
- 半導体リソグラフィ用の投影露光装置(1)であって、
該投影露光装置(1)の少なくとも1つのコンポーネント(21)及び構造部品(22)を備え、
前記コンポーネント(21)は、前記構造部品(22)に固定され、
前記コンポーネント(21)及び/又は前記構造部品(22)は、該構造部品及び/又は前記コンポーネント(21)における基準面(25)に当接する少なくとも1つのストッパ(28、40)を有する投影露光装置(1)において、
前記ストッパ(28、40)は、前記基準面(25)から離れることができるように前記構造部品(22)に固定された前記コンポーネント(21)及び/又は前記構造部品(22)に対して可動であるように具現され、且つ前記ストッパ(28、40)は、マウント(29、41)及び該マウント(29、41)に配置された止めねじ(30、42)を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1に記載の投影露光装置(1)において、
前記止めねじ(30、42)は、凸状に具現されることが好ましい接触面(32、46)を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1又は2に記載の投影露光装置(1)において、
前記止めねじ(42)は、長さに関して調整可能であるように具現されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項3に記載の投影露光装置(1)において、
前記止めねじ(42)は、調整ねじ(43)及び接触ねじ(44)を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項4に記載の投影露光装置(1)において、
前記止めねじ(42)の長さの変化が、前記調整ねじ(43)内で前記接触ねじ(44)を回し固定することにより達成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項4又は5に記載の投影露光装置(1)において、
前記接触ねじ(44)は、ロックねじ(47)により前記調整ねじ(43)に固定可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の投影露光装置(1)において、
前記止めねじ(42)が前記基準面(25)から離れた後に前記止めねじ(42)を固定する回り止め機構があることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項7に記載の投影露光装置(1)において、
前記回り止め機構は、弾性移動可能要素(50、52)と、該弾性移動可能要素(50、52)を収容する切欠き(51、53)とを含むことを特徴とする投影露光装置。 - 投影露光装置(1)の構造部品(22)上のコンポーネント(21)を調整する方法であって、
少なくとも1つのストッパ(28、40)を前記コンポーネント(21)又は前記構造部品(22)に締結するステップと、
前記少なくとも1つのストッパ(28、40)が前記コンポーネント(21)又は前記構造部品(22)における基準面(25)と機械的に接触するように前記コンポーネント(21)を位置決めするステップと、
前記コンポーネント(21)を前記構造部品(22)に固定するステップと、
止めねじ(30、42)を逆に回すことにより前記ストッパ(28、40)を前記基準面(25)から離すステップと
を含む方法。
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