WO2019137746A1

WO2019137746A1 - Projektionsbelichtungsanlage für die halbleiterlithographie mit verbesserter komponentenjustage und justageverfahren

Info

Publication number: WO2019137746A1
Application number: PCT/EP2018/085255
Authority: WO
Inventors: Ralf Zweering
Original assignee: Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority date: 2018-01-15
Filing date: 2018-12-17
Publication date: 2019-07-18
Also published as: CN111602091A; US20200333715A1; DE102018200524A1; JP7288447B2; JP2021510841A; US11048177B2

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, umfassend - mindestens eine Komponente (21) und ein Bauteil (22) der Projektionsbelichtungsanlage (1) - wobei die Komponente auf (21) auf dem Bauteil (22) fixiert ist - wobei die Komponente (21) und/oder das Bauteil (22) mindestens einen Anschlag (28, 40) zur Anlage an eine Referenzfläche (25) an dem Bauteil und/oder der Komponente (21) aufweist. Dabei ist der Anschlag (28,40) derart relativ zu der am Bauteil (22) fixierten Komponente (21) und/oder dem Bauteil (22) bewegbar ausgebildet, dass er von der Referenzfläche (25) wegbewegt werden kann. Weiterhin umfasst die Erfindung ein Verfahren zur Justage einer Komponente (21) auf einem Bauteil (22) einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit folgenden Verfahrensschritten: - Befestigung von mindestens einem Anschlag (28,40) an der Komponente (21) oder dem Bauteil (22) - Positionieren der Komponente (21) derart, dass mindestens ein Anschlag (28, 40) mit einer Referenzfläche (25) an der Komponente (21 ) oder dem Bauteil (22) in mechanischen Kontakt kommt - Fixieren der Komponente (21) an dem Bauteil (22) - Wegbewegen des Anschlages (28,40) von der Referenzfläche (25).

Description

Proiektionsbelichtunqsanlaqe für die Halbleiterl ithoqraphie mit verbesserter Kompo- nenteniustaqe und Justaqeverfahren

Die vorliegende Erfindung nimmt die Priorität der Deutschen Patentanmeldung DE 10 2018 200 524.9 in Anspruch, deren Inhalt hierin durch Bezugnahme vollumfäng- lich aufgenommen wird.

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie und ein Verfahren zur Justage von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage.

Für Projektionsbelichtungsanlagen bestehen extrem hohe Anforderungen an die Abbildungsgenauigkeit, die maßgeblich von der Positionierung der optischen Elemente einer Projektionsbelichtungsanlage abhängt. In der Vergangenheit waren nur wenige optische Elemente manipulierbar, also in ihrer Position einstellbar. Alle optischen Komponenten waren an einem Bauteil oder Rahmen angeordnet und auch andere Komponenten, beispielsweise Aktuatoren und Sensoren für die Manipulation der optischen Elemente, waren an diesem Rahmen befestigt. Von Generation zu Generation steigende Anforderungen an die Projekti- onsbelichtungsanlagen bezüglich der Positionierung der optischen Elemente führten zur Verwendung eines zweiten Rahmens, der als Referenz für die Sensoren dient und das Ziel hat, eine Anregung der Sensoren durch die Aktuatoren und damit eine Verschlechterung der Positionierung der optischen Komponenten zu verringern oder zu vermeiden. Neben der so entkoppelten Anregung wurde auch die Ausrichtung der Aktuatoren und Sensoren bei der Montage auf die Rahmen immer wichtiger. Die äußerst genaue Ausrichtung der Aktuatoren und Sensoren bei der Montage, die häufig auch in bis zu 6-Freiheitsgraden notwendig ist, wird nach dem Stand der Technik durch die Verwendung von austauschbaren Abstandshaltern zwischen Anschraubpunkten und Anschlägen der Aktuatoren und Sensoren realisiert, die solange getauscht werden, bis der Sensor und Aktuator richtig positioniert sind. Die Bauteile weisen dabei eine Referenzfläche auf, bis an die die Anschläge herangeschoben und danach verschraubt werden.

Diese Art der Ausrichtung und Verschraubung der Sensoren und Aktuatoren hat den Nachteil, dass beim Verschrauben der Sensoren und Aktuatoren am Bauteil durch den Kontakt der Anschläge mit der Referenzfläche Spannungen eingefroren werden können, die sich erst über die Zeit wieder entspannen. Eine solche Entspannung führt zu einer Änderung der Position der Komponente, was vermieden werden soll.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Projektionsbelichtungsanlage und ein Verfahren anzugeben, bei welchen eine Positionierung und Verschraubung von Komponenten an einem Bauteil ohne verbleibende Verspannungen realisiert werden kann.

Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des unabhän- gigen Anspruchs 1 und ein Verfahren mit den Merkmalen des unabhängigen Verfah- rensanspruchs. Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen und Varianten der Erfindung.

Eine erfindungsgemäße Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie, umfasst mindestens eine Komponente und ein Bauteil der Projektionsbelichtungsan- lage, wobei die Komponente auf dem Bauteil fixiert beziehungsweise fixierbar ist. Weiterhin weist die Komponente und/oder das Bauteil mindestens einen Anschlag zur Anlage an eine Referenzfläche an dem Bauteil und/oder der Komponente auf. Erfindungsgemäß ist der Anschlag derart relativ zu der am Bauteil fixierten Kompo- nente und/oder dem Bauteil derart bewegbar ausgebildet, dass er von der Referenz- fläche wegbewegt werden kann. Mit anderen Worten ist der Anschlag derart ausgeführt, dass er nach der Justage der Komponente mindestens bis zu einem Grad von den Komponente wegbewegt werden kann, an dem er sich nicht mehr in mechanischem Kontakt mit der Kompo- nente befindet und auch keine Kräfte mehr zwischen dem Anschlag und der Kompo- nente übertragen werden. Dadurch wird insbesondere vermieden, dass es im Falle von Relaxationen der Komponente auf dem Bauteil, also dem Abbau von mechani- schen Spannungen zwischen der Komponente und der Referenzfläche durch mechanisches Kriechen, zu unerwünschten Positionsänderungen der Komponente kommt.

In einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfindung umfasst der Anschlag eine Halterung und eine in der Halterung angeordnete Anschlagschraube, wobei die Anschlagschraube eine Kontaktfläche umfassen kann, die bevorzugt ballig ausge- führt sein kann.

Dadurch, dass der Anschlag eine Anschlagschraube umfasst, kann auf besonders einfache Weise die erwünschte Trennung zwischen Anschlag und Referenzfläche durch einfaches Zurückdrehen der Anschlagschraube bewerkstelligt werden. Wenn die Anschlagschraube in der Länge einstellbar ausgeführt ist, ergeben sich weitere Optionen zur Justage der Komponente.

Die Längenverstellbarkeit der der Anschlagschraube kann insbesondere dadurch erreicht werden, dass die Anschlagschraube eine Justageschraube und eine Kon- taktschraube umfasst; dabei kann die Kontaktschraube in ein Innengewinde im Schaft der Justageschraube eingedreht sein.

Die Änderung der Länge der Anschlagschraube kann dann durch Drehen und Fixieren der Kontaktschraube in der Justageschraube bewerkstelligt werden.

Dadurch, dass die Kontaktschraube in der Justageschraube durch eine Konter- schraube fixierbar ausgebildet sein kann, kann eine Verdrehsicherung der Kontak- schraube gegenüber der Justageschraube erreicht werden. Weiterhin kann auch eine Verdrehsicherung zur Fixierung der Anschlagschraube nach ihrer Wegbewegung von der Referenzfläche vorhanden sein; die Verdrehsi- cherung kann dabei insbesondere ein elastisch bewegbares Element und eine Ausnehmung zur Aufnahme des elastisch bewegbaren Elementes umfassen.

Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Justage einer Komponente auf einem Bauteil einer Projektionsbelichtungsanlage umfasst die folgenden Verfahrensschritte:

- Befestigung von mindestens einem Anschlag an der Komponente oder dem Bauteil

- Positionieren der Komponente derart, dass mindestens ein Anschlag mit einer Referenzfläche an der Komponente oder dem Bauteil in mechanischen Kontakt kommt

- Fixieren der Komponente an dem Bauteil

- Wegbewegen des Anschlages von der Referenzfläche

Dabei kann das Wegbewegen des Anschlages von der Referenzfläche durch ein Zurückdrehen einer Anschlagschraube erfolgen.

Gegebenenfalls nach kann nach der ersten Fixierung der Komponente an dem Bauteil eine Kontrolle der Position der Komponente auf dem Bauteil erfolgen. Falls bei der Kontrolle ein Korrekturbedarf ermittelt wird, könnten zunächst eine Anpas- sung des Anschlags vorgenommen werden, worauf eine erneute Positionierung, Fixierung und Positionskontrolle der Komponente erfolgen könnte.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele und Varianten der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

Figur 1 den prinzipiellen Aufbau einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, in welcher die Erfindung verwirklicht sein kann,

Figur 2 ein Bauteil mit Anschlag und eine Komponente nach dem Stand der

Technik,

Figur 3 eine erste Ausführungsform der Erfindung,

Figur 4 eine zweite Ausführungsform der Erfindung, Figur 5 eine Detailansicht zu der Erfindung, und

Figur 6 ein Flussdiagramm zu einem erfindungsgemäßen Justageverfahren.

Figur 1 zeigt exemplarisch den prinzipiellen Aufbau einer EUV-Projektions- belichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie, in welcher die Erfindung Anwendung finden kann. Ein Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage 1 weist neben einer Lichtquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objekt- feldes 5 in einer Objektebene 6 auf. Eine durch die Lichtquelle 3 erzeugte EUV- Strahlung 14 als optische Nutzstrahlung wird mittels eines in der Lichtquelle 3 integrierten Kollektors derart ausgerichtet, dass sie im Bereich einer Zwischenfokus- ebene 15 einen Zwischenfokus durchläuft, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 2 trifft. Nach dem Feldfacettenspiegel 2 wird die EUV-Strahlung 14 von einem Pupil- lenfacettenspiegel 16 reflektiert. Unter Zuhilfenahme des Pupillenfacettenspiegels 16 und einer optischen Baugruppe 17 mit Spiegeln 18, 19 und 20 werden Feldfacet- ten des Feldfacettenspiegels 2 in das Objektfeld 5 abgebildet.

Beleuchtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Reticle 7, das von einem schema- tisch dargestellten Reticlehalter 8 gehalten wird. Eine lediglich schematisch darge- stellte Projektionsoptik 9 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 10 in eine Bildebene 11. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Reticle 7 auf eine licht- empfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 10 in der Bildebene 11 ange- ordneten Wafers 12, der von einem ebenfalls ausschnittsweise dargestellten Waferhalter 13 gehalten wird. Die Lichtquelle 3 kann Nutzstrahlung insbesondere in einem Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 30 nm emittieren.

Die Erfindung kann ebenso in einer vorliegend nicht explizit gezeigten DUV-Anlage zur Anwendung kommen. Eine DUV-Anlage ist prinzipiell wie die oben beschriebene EUV-Anlage 1 aufgebaut, wobei in einer DUV-Anlage Spiegel und Linsen als optische Elemente verwendet werden können und die Lichtquelle einer DUV-Anlage eine Nutzstrahlung in einem Wellenlängenbereich von 100 nm bis 300 nm emittiert. Figur 2 zeigt einen Sensor 21 , der im gezeigten Beispiel auf einem Sensorframe 22 als Bauteil einer Lithographieanlage nach dem Stand der Technik angeordnet ist.

Der Sensorframe 22 dient als Referenz für die Positionierung der Spiegel aus Figur 1. Der Sensor 21 wird dazu verwendet, die Position und Lage eines Spiegels in

Bezug auf den Sensorframe 22 und damit auch in Bezug zu anderen Spiegeln, deren Position und Lage ebenfalls in Bezug auf denselben Sensorframe 22 bestimmt wird, zu ermitteln. Die Ausrichtung eines solchen Sensors ist mitentscheidend für die Genauigkeit der Bestimmung der Position und Lage des Spiegels und muss daher selbst so genau und reproduzierbar wie möglich sein.

Zu diesem Zweck zeigt der in Figur 2 gezeigte Sensorframe 22 auf derjenigen Ebene, auf welcher der Sensor 21 befestigt ist (im Weiteren als Befestigungsebene 23 bezeichnet), eine über diese Befestigungsebene hinaus gehende, L-förmige Erhebung 24. Die beiden senkrecht zur Befestigungsebene 23 stehenden Seiten der L-förmigen Erhebung 24, die zum Sensor 21 gerichtet sind, und die Befestigungs- ebene 23 des Sensors 21 bilden zusammen eine Würfelecke, die der Sensor 21 mit drei Seiten kontaktiert, also mechanisch berührt. Die drei Seiten der Würfelecke dienen als Referenzflächen 25 zur Ausrichtung des Sensors 21 im Raum. Durch diese drei Ebenen ist die Lage des Sensors 21 auf dem Sensorframe 23 in allen 6 Freiheitsgeraden bestimmt.

Die erste Seite des Sensors 21 , welches die Seite ist, mit welcher der Sensor 21 die Befestigungsebene 23 berührt, weist drei Anschraubpunkte 26 auf, mit welchen der Sensor 21 auf der Befestigungsebene 23 befestigt ist. Die zweite Seite des Sensors 21 , die zur kurzen Seite der L-förmigen Erhebung 24 gerichtet ist, hat im Unter- schied zur ersten Seite einen in der Figur nicht dargestellte Anschlag, mit dem der Sensor 21 die Referenzfläche 25 berührt. Die dritte anliegende Seite, die zur langen Seite der L-förmigen Erhebung 24 gerichtet ist, weist zwei in der Figur ebenfalls nicht dargestellte Anschläge auf, die beide die Referenzfläche 25 an den Anschlag- punkten 27 berühren. Der Sensor 21 hat in diesem Ausführungsbeispiel 6 Kontakt- steilen mit dem Sensorframe 22. Die oben beschriebenen Referenzflächen 25 und die Befestigungsebene 23 des Sensorframes 22 wie auch die Anschläge des Sensors 21 unterliegen Fertigungs- Schwankungen, die dazu führen können, das nach Befestigung des Sensors 21 , wobei alle Anschläge des Sensors 21 die Referenzflächen 25 und auch die drei Anschraubpunkte 26 die Befestigungsebene 23 berühren, also alle sechs Kontakt- steilen des Sensors 21 am Sensorframe 22 anliegen, die Position und Ausrichtung des Sensors 21 nicht ausreichend genau ist. Zum Ausgleich der Fertigungstoleran- zen müssen daher alle sechs Kontaktpunkte des Sensors 21 einstellbar sein. Die Einstellung der Kontaktpunkte wird üblicherweise durch Abstandshalter realisiert. Diese Abstandshalter sind sehr genau gefertigte Unterlegscheiben, die auch Spacer genannt werden. Die Dicke der Spacer für die 6 Kontaktstellen wird für jede Paarung von Sensor 21 und Sensorframe 22 individuell berechnet. Durch den Kontakt des Sensors 21 mit dem Sensorframe 22 an sechs Stellen kann es bei der Verschraubung des Sensors 21 zu Verspannungen kommen. Diese Spannungen können sich über die Zeit verändern, wobei sich ihrerseits die Position des Sensors 21 gegenüber dem Sensorframe 22 verändert. Diese Änderung über die Zeit, die auch als Drift bezeichnet wird, ist insofern nachteilig, da mit ihr die steigenden Anforderungen an die Driftstabilität der Sensoren 21 für Systeme der neuesten Generation nicht mehr erfüllt werden können.

In Lithographieanlagen können beispielsweise Linearmaßstäbe, kapazitive Senso- ren oder Interferometer als Sensoren verwendet werden. Im Falle der Verwendung eines Interferometers, welches häufig einen großen Abstand zwischen der Referenz- fläche des Sensors 21 und der Referenzfläche des zu messenden Objektes vermes- sen muss, führt dies deswegen bereits zu sehr hohen Anforderungen an die

Genauigkeit der Ausrichtung des Interferometers zum Messobjekt, insbesondere aber auch an die zeitliche Stabilität der Lage des Interferometers auf dem Sensor- frame 22. Jede Veränderung der Lage des Interferometers auf dem Sensorframe 22 über die Zeit in Lichtrichtung führt daher zu einer Verfälschung des Messwertes und damit der gemessenen Position der gemessenen Komponente. Ein Nachteil der in Figur 2 gezeigten Anordnung ist es vor diesem Hintergrund, dass durch das Ver- schrauben des Interferometers mit dem Sensorframe 22 zunächst mechanische Spannungen entstehen, die im Laufe der Zeit relaxieren und damit die steigenden Anforderungen an die zeitliche Stabilität der Abstandsmessung über die Zeit nicht mehr erfüllt werden können.

Figur 3 zeigt eine erste Ausführungsform der Erfindung. In der gezeigten Ausfüh- rungsform werden die Verspannungen, die durch den Kontakt des Sensors mit dem Sensorframe an allen 6 Kontaktstellen auch nach der Verschraubung des Sensors im Sensor verbleiben, dadurch gelöst, dass die 3 Anschläge 28, die wie in Figur 2 gezeigt zur Positionierung des Sensors in der Würfelecke dienen, nach dem Ver- schrauben des Sensors auf der Befestigungsebene 23 des Sensorframes so verstellt werden, dass sie nicht mehr im Kontakt mit den Referenzflächen 25 der L-förmigen Erhebung 24 des Sensorframes stehen, also die Referenzfläche 25 nicht mehr berühren. Dadurch werden die möglicherweise durch die Verschraubung in den Sensor eingebrachten Verspannungen gelöst. Die durch das Lösen der Verspan- nungen entstehende Änderung der Position des Sensors und/oder seiner Ausrich- tung gegenüber dem Sensorframe kann durch eine Kalibrierung des Systems kompensiert werden. Die Kalibrierung kann insbesondere außerhalb des Produkti- onsbetriebes der Halbleiterlithographieanlage erfolgen.

Die in der Figur 3 abgebildete erste Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Anschlags 28 umfasst eine Anschlagshalterung 29 oder Halterung und eine An- schlagschraube 30. Der Anschlag 28 ist dabei in einer Aussparung 34 in einer Grundplatte 35 eines in der Figur nicht vollständig dargestellten Sensors 21 ange- ordnet. Sensor 21 und Anschlag 28 stehen über die sensorseitige Interfacefläche 36 und die anschlagseitige Interfacefläche 37 mit einander in mechanischem Kontakt. Die Anschlagschraube 30 besitzt an dem ersten Ende ihres Schaftes einen Schrau- benkopf 31 und an dem zweiten Ende des Schaftes eine Kontaktfläche 32, die im gezeigten Beispiel ballig ausgeführt ist. Die ballige Ausführung der Kontaktfläche 32 führt zu einer vorteilhaften Punktberührung zwischen der Kontaktfläche 32 und der Referenzfläche 25 des Sensorframes. Die durchgezogenen Linien zeigen die Position der Anschlagschraube 30 in der Halterung 29, bevor der Sensor mit dem Sensorframe verschraubt ist, also die Kontaktfläche 32 an der Referenzfläche 25 anliegt. Die Anschlagschraube 30 ist so weit in die Halterung 29 geschraubt, dass die Unterseite des Schraubenkopfes 31 auf der ihm zugewandten Seite der Halte- rung 29 aufliegt und dort angepresst wird, diese also flächig berührt. Diese Seite der Halterung 29 ist damit die Referenzfläche für den Kopf 31 der Anschlagschraube 30 in komplett eingedrehter Position.

Die gestrichelten Linien in Figur 3, sofern diese nicht durch die durchgezogenen Linien überdeckt sind, zeigen die Position der Anschlagschraube 30, nachdem der Sensor 21 mit dem Sensorframe verschraubt wurde und die Anschlagschraube 30 soweit aus der Halterung 29 herausgeschraubt wurde, dass die Kontaktfläche 32 der Anschlagschraube die Referenzfläche 25 des Sensorframes nicht mehr berührt. Die Anschlagschraube 30 in dem in Figur 3 gezeigten Ausführungsbeispiel umfasst einen an einem an die ballige Kontaktfläche anschließenden Bereich des Schaftes am Umfang ausgebildeten Sechskant 33. Es können auch andere Formelemente am Schaft der Anschlagschraube angebracht werden, die wie der Sechskant 33 als Angriffsbereich eines passenden Schlüssels dienen können.

Die möglicherweise durch die Verschraubung des Sensors 21 auf dem Sensorframe eingefrorenen Spannungen können durch die in der Figur gezeigte Anordnung unmittelbar nach dem Verschrauben gelöst werden. Ein Relaxieren der Spannungen über die Zeit, welches die Referenz des Sensors 21 verändern würde, wird somit vorteilhafterweise vermieden und die Notwendigkeit einer erneuten Kalibrierung des Sensors 21 ist nahezu ausgeschlossen.

Sollte nach der erstmaligen Verschraubung die Position und Lage des Sensors 21 zum Sensorframe noch nicht optimal sein und eine Anschlagschraube mit einer anderen Länge benötigt werden, kann die in Figur 3 dargestellte Anschlagschraube 30 aus der Halterung geschraubt und durch eine andere Anschlagschraube mit der benötigten Länge ersetzt werden. ln Figur 4 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung im Detail dargestellt. Der in Figur 4 gezeigte Anschlag 40 umfasst eine Anschlaghalterung 41 und eine Anschlagschraube 42, die wiederum eine Justageschraube 43 und eine Kontakt- schraube 44 umfasst. Die Anschlagshalterung ist im gezeigten Beispiel mittels der Schrauben 60 am Sensor 21 befestigt.

In der in Figur 4 gezeigten Flalterung ist die Anschlagschraube 42 im eingeschraub- ten Zustand dargestellt, also mit der Unterseite ihres Kopfes fest auf die Interfaceflä- che 45 der Flalterung gepresst. Die Anschlagschraube 42 umfasst wie bereits erwähnt im gezeigten Beispiel einen ersten Teil, die Justageschraube 43 und einen zweiten Teil, die Kontaktschraube 44, die in einem im Schaft der Justageschraube 43 ausgebildeten Innengewinde verschraubt ist. Die Justageschraube 43 ist mit ihrem am Schaft ausgebildeten Außengewinde ihrerseits in einem in der Flalterung 41 ausgebildeten Innengewinde verschraubt.

Die Justageschraube 43 kann so relativ zur Flalterung 41 bewegt werden, einerseits um in die Flalterung 41 eingeschraubt zu werden, bis die Unterseite des Schrauben- kopfes Kontakt mit der Interfacefläche 45 der Flalterung 41 hat und an diese ange- presst wird, anderseits um die Justageschraube 43 aus der Flalterung 41

herauszuschrauben, um diese zu tauschen oder nach dem Verschrauben des Sensors mit dem Sensorframe die ballige Kontaktfläche 46 von der Referenzfläche des Sensorframes zu lösen, wodurch ein Abstand zwischen der Kontaktfläche 46 und der Referenzfläche geschaffen wird, um mögliche durch das Verschrauben des Sensors mit dem Sensorframe erzeugte Verspannungen abzubauen.

Vorteilhafterweise kann durch den in Figur 4 gezeigten zweiteiligen Aufbau der Anschlagschraube 42 die Länge der Anschlagschraube 42 durch ein Flerausdrehen oder Flineindrehen der Kontaktschraube 44 variiert werden. Bei der möglicherweise notwendigen Anpassung der Länge der Anschlagschraube 42 zur optimalen Positio- nierung des Sensors auf dem Sensorframe kann so ein einziger Typ von Anschlag- schrauben verwendet werden, was die erforderliche Vorratshaltung deutlich redu- ziert.

Zur Fixierung der Kontaktschraube 44 nach Einstellung der gewünschten Länge kann das Gewinde verspannt werden, dies kann durch eine auf den Schaft der

Kontaktschraube 44 wirkende Kraft erreicht werden, die ein Verspannen der Flanken des Außengewindes der Kontaktschraube 44 gegen die Flanken des Innengewindes der Justageschraube 43 bewirkt, wodurch zwischen den beiden Gewindeflanken ein Reibschluss entsteht, welcher wiederum ein ungewolltes Verdrehen verhindert. Zu einem derartigen Verspannen der Kontaktschraube 44 mit der Justageschraube 43 kann wie in Figur 4 dargestellt eine sogenannte Konterschraube 47 verwendet werden. Diese wird durch eine Durchgangsbohrung im Kopf der Justageschraube 43 geführt und in einem im Schaft der Kontaktschraube 44 eingebrachtes Innengewinde verschraubt. Dadurch kann das Außengewinde der Kontaktschraube 44 unabhängig von der Einschraubtiefe mit dem Innengewinde der Justageschraube 43 verspannt werden und somit ein Verdrehen vermieden werden. Die Kraft zur Verspannung des Gewindes kann auch durch eine vorliegend nicht explizit gezeigte Anordnung mit einer Feder, die auf den Schaft der Kontaktschraube 44 drückt, realisiert werden. Alternativ oder zusätzlich kann die Länge der Anschlagschraube 42 auch durch Unterlegscheiben 48 zwischen Kontaktschraube 44 und Justageschraube 43 verän- dert werden, wie in Figur 4 ebenfalls angedeutet. Die Unterlegscheiben 48, die auch Spacer genannt werden, werden je nach den Anforderungen an die Länge der Anschlagschraube 42 auf eine bestimmte Dicke geschliffen und dann zwischen den Kopf der Kontaktschraube 44 und die Justageschraube 43 positioniert.

Alternativ oder zusätzlich ist es, wie in der Figur 4 ebenfalls gezeigt, auch denkbar, zwischen der Justageschraube 43 und der Interfacefläche 45 der Halterung 41 Unterlegscheiben 49 vorzusehen, so dass sich zwar nicht die Länge der Anschlag- schraube 42, wohl aber die Relativposition der Kontaktfläche 46 zur der Interfaceflä- che 45 der Halterung 41 einstellen lässt. Die notwendige Verspannung des Gewindes zwischen Kontaktschraube 44 und Justageschraube 43 wird im ersten Fall dadurch erreicht, dass die Kontaktschraube 44 bis zum Anschlag in die Justageschraube 43 geschraubt wird und der Kopf der Kontaktschraube 44 an den Schaft der Justageschraube 43 beziehungsweise die Unterlegscheibe 48 gepresst wird.

Im vollständig eingeschraubten Zustand der Justageschraube 43 wird diese bis zum Anschlag des Schraubenkopfes an die Unterlegscheibe 49 oder die Halterung 41 geschraubt, wodurch die Verspannung des Gewindes sichergestellt ist. Eine Konter- schraube ist in diesem Fall nicht notwendig.

Nach dem Zurückdrehen der Justageschraube 43 ist diese nicht mehr vor einer ungewollten Verdrehung durch im Betrieb der Anlage auftretende Vibrationen geschützt.

Vorteilhafterweise kann auch eine Verdrehsicherung am Schraubenkopf der Justa- geschraube 43 vorgesehen werden, die, wie in Figur 4 dargestellt, beispielsweise entweder durch einen angefederten Pin 50 als elastisch bewegbares Element durch den Schraubenkopf, der in eine in der Interfacefläche 45 der Halterung 41 vorgese- hene Ausnehmung 51 einrastet, oder eine in der Interfacefläche 45 der Halterung befestigte Feder 52, die wiederum als elastisch bewegbares Element in eine am Umfang des Schraubenkopfes vorgesehene Ausnehmung 53 einrastet, ausgeführt werden kann. Beide gezeigten Varianten verhindern eine weitere Verdrehung der Anschlagschraube 42 und somit einen Kontakt der Kontaktfläche 46 des Anschlags 40 mit der Referenzfläche oder aber ein vollständiges Herausdrehen der Anschlag- schraube 42 aus der Halterung 41. Diese Lösung kann auch für die in Figur 3 gezeigte einstückige Anschlagschraube 30 verwendet werden.

Die in der Figur 4 gezeigten und weiter oben beschriebenen Möglichkeiten sind exemplarisch für weitere Umsetzungen der Erfindung zu sehen, die beispielsweise eine Änderung der Länge der Anschlagschraube 42 ermöglichen, ohne den An- schlag von der Komponente oder dem Bauteil entfernen zu müssen, also von außen. Die Lösung, bei welcher zwischen der Kontaktschraube 44 und der Justageschraube 43 eine Unterlegscheibe 48 bzw. ein Spacer zur Anwendung kommt, kann ohne Abschrauben des Anschlags vom Sensor realisiert werden, wenn neben dem beispielsweise als Sechskant ausgebildeten Kopf der Kontaktschraube auch eine Möglichkeit vorgesehen ist, die Justageschraube zu fixieren, um eine Bewegung, insbesondere eine Verdrehung der Kontaktschraube und der Justageschraube gegeneinander zu realisieren.

Die Figur 5 zeigt eine Draufsicht auf den Sensor 21 und den am Sensor 21 befestig- ten Anschlag 40. Die Halterung ist im gezeigten Beispiel mittels vierer Schrauben 60 am Sensor 21 befestigt. Es ist auch möglich, den Anschlag 40 auf Seiten des

Bauteils wie beispielsweise einem Sensorframe zu befestigen und die korrespondie- renden Referenzflächen am Sensor auszubilden. Diese Anordnung ist funktionell identisch und wird durch andere Kriterien wie Bauraum oder Zugänglichkeit der Komponente beziehungsweise des Bauteils beeinflusst. Die Form der Halterung 41 und die Art der Verschraubung, also Anzahl und Anordnung der Schrauben 60 sind beispielhaft und können auch in jeder anderen Form ausgeführt werden.

Figur 6 beschreibt ein mögliches Verfahren, mit dem die erfindungsgemäße Vorrich- tung der Figuren 3-5 zur Justage und spannungsfreien Montage von Komponenten auf Bauteilen angeordnet wird.

Den in der Figur gezeigten Verfahrensschritten sind die Festlegung der Länge der einzelnen Anschläge und die Montage der Anschlagschrauben in die Halterung des Anschlags bis zum dem Grad, an dem der Schraubenkopf auf der Interfacefläche der Halterung ganzflächig anliegt, vorausgegangen.

In einem ersten Verfahrensschritt werden die so vormontierten Anschläge an der Komponente an den dafür vorgesehen Anschraubpunkten befestigt.

Im zweiten Verfahrensschritt wird die Komponente in die für die Montage vorgese- henen Referenzanschläge, also die Würfelecke, geschoben. In einem dritten Verfahrensschritt wird die Komponente mit dem Bauteil an ihren Verschraubungspunkten verschraubt. In einem vierten Verfahrensschritt wird die Position des Sensors überprüft und gegebenenfalls die Schritte eins bis drei mit einer anderen Anschlagschraube wiederholt

In einem fünften Verfahrensschritt werden die Anschlagschrauben aus der Halterung herausgedreht und damit der bestehende Kontakt zwischen den Anschlägen und den Referenzflächen aufgehoben, wodurch die durch die Verschraubung möglicher- weise eingefrorenen Verspannungen gelöst werden.

Bezugszeichenliste

1 Projektionsbelichtungsanlage

2 Feldfacettenspiegel

3 Lichtquelle

4 Beleuchtungsoptik

5 Objektfeld

6 Objektebene

7 Reticle

8 Reticlehalter

9 Projektionsoptik

10 Bildfeld

11 Bildebene

12 Wafer

13 Waferhalter

14 EUV-Strahlung

15 Zwischenfokusebene

16 Pupillenfacettenspiegel

17 Baugruppe

18 Spiegel

19 Spiegel

20 Spiegel

21 Komponente, Sensor

22 Bauteil, Sensorframe

23 Befestigungsebene

24 Erhebung

25 Referenzfläche

26 Anschraubpunkt

27 Anschlagpunkt

28 Anschlag

29 Halterung Anschlagschraube

Schraubenkopf

Kontaktfläche

Sechskant

Aussparung

Grundplatte

Sensorseitige Interfacefläche Anschlagseitige Interfacefläche Anschlag

Halterung

Anschlagschraube

Justageschraube

Kontaktschraube

Interfacefläche der Halterung Kontaktfläche

Konterschraube

Unterlegscheibe

Elastisch bewegbares Element Ausnehmung

Schraube

Claims

Patentansprüche

1. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) für die Halbleiterlithographie, umfassend

- mindestens eine Komponente (21 ) und ein Bauteil (22) der Projektionsbe- lichtungsanlage (1 )

- wobei die Komponente (21 ) auf dem Bauteil (22) fixiert ist

- wobei die Komponente (21 ) und/oder das Bauteil (22) mindestens einen An- schlag (28,40) zur Anlage an eine Referenzfläche (25) an dem Bauteil und/oder der Komponente (21 ) aufweist,

dadurch gekennzeichnet,

dass der Anschlag (28,40) derart relativ zu der am Bauteil (22) fixierten Kom- ponente (21 ) und/oder dem Bauteil (22) bewegbar ausgebildet ist, dass er von der Referenzfläche (25) wegbewegt werden kann und dass der Anschlag (28,40) eine Halterung (29,41 ) und eine in der Halterung (29,41 ) angeordnete Anschlagschraube (30,42) umfasst.

2. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach Anspruch 1 ,

dadurch gekennzeichnet, dass

die Anschlagschraube (30,42) eine Kontaktfläche (32,46) umfasst, die bevor- zugt ballig ausgeführt ist.

3. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach Anspruch 1 oder 2,

dadurch gekennzeichnet, dass

die Anschlagschraube (42) in der Länge einstellbar ausgeführt ist.

4. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach Anspruch 3,

dadurch gekennzeichnet, dass

die Anschlagschraube (42) eine Justageschraube (43) und eine Kontakt- schraube (44) umfasst.

5. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach Anspruch 4,

dadurch gekennzeichnet, dass

die Änderung der Länge der Anschlagschraube (42) durch Drehen und Fixie- ren der Kontaktschraube (44) in der Justageschraube (43) erreicht wird.

6. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach einem der Ansprüche 4 oder 5,

dadurch gekennzeichnet, dass die Kontaktschraube (44) in der Justageschraube (43) durch eine Konter- schraube (47) fixierbar ist.

7. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass

eine Verdrehsicherung zur Fixierung der Anschlagschraube (42) nach ihrer Wegbewegung von der Referenzfläche (25) vorhanden ist.

8. Projektionsbelichtungsanlage (1 ) nach Anspruch 7,

dadurch gekennzeichnet, dass

die Verdrehsicherung ein elastisch bewegbares Element (50,52) und eine Ausnehmung (51 ,53) zur Aufnahme des elastisch bewegbaren Elementes (50,52) umfasst.

9. Verfahren zur Justage einer Komponente (21 ) auf einem Bauteil (22) einer Projektionsbelichtungsanlage (1 ) mit folgenden Verfahrensschritten:

- Befestigung von mindestens einem Anschlag (28,40) an der Komponente (21 ) oder dem Bauteil (22)

- Positionieren der Komponente (21 ) derart, dass mindestens ein Anschlag (28,40) mit einer Referenzfläche (25) an der Komponente (21 ) oder dem Bau- teil (22) in mechanischen Kontakt kommt

- Fixieren der Komponente (21 ) an dem Bauteil (22)

- Wegbewegen des Anschlages (28,40) von der Referenzfläche (25) durch ein Zurückdrehen einer Anschlagschraube (30,42)