JP4396979B2 - レーザ露光装置 - Google Patents
レーザ露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4396979B2 JP4396979B2 JP2004241320A JP2004241320A JP4396979B2 JP 4396979 B2 JP4396979 B2 JP 4396979B2 JP 2004241320 A JP2004241320 A JP 2004241320A JP 2004241320 A JP2004241320 A JP 2004241320A JP 4396979 B2 JP4396979 B2 JP 4396979B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- size
- plate making
- exposure
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
〔解像度(dpi)とピクセルサイズ(μm2)の対応関係〕
3200dpi=7.93752μm2
4800dpi=5.29162μm2
6400dpi=3.96872μm2
8000dpi=3.1752μm2
9600dpi=2.64582μm2
12800dpi=1.98432μm2
16000dpi=1.58752μm2
25600dpi=0.99212μm2
レーザグラビア製版システムを次のように構成した。版胴(グラビアシリンダ)は円周600mmで幅1100mmのアルミニウム製グラビアシリンダに80μmの銅メッキを施し、表面を鏡面研磨(表面粗さRy=0.12μm)した。感光液としてはTSER−2104〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、感光膜の膜厚3.5μm、塗布後45分間の風乾(温度23℃)させた。感光液塗布装置としてはコーティング−FX−1300〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用いた。レーザ露光装置として、LaserStream−FX−1300〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、露光パワーを230mJ/cm2とし、露光時シリンダ回転数を200rpmとした。現像液にはTLD現像液〔(株)シンク・ラボラトリー製造販売〕を用い、現像方法は回転浸漬現像80秒(温度25℃)で行った。
実施例1と同様のレーザグラビア製版システムを用い、該システム構成中のレーザ露光装置において、長さ約7.9μm×幅1μmの矩形のレーザスポットをそのまま用いて(図5のようにして)約7.92μm2のピクセル単位(3200dpi)で露光した以外は、実施例1と同様にして、レーザグラビア製版を行った。その結果を図6(b)に示す。図6(b)に示される如く、斜線部分にはピクセル単位の段差によるギザギザが表れており、充分に微細な露光及び製版を行うことはできなかった。
Claims (7)
- 感光膜を露光して感光される部分と感光されない部分とを形成するためのレーザ製版用レーザ露光装置であって、レーザ光を発振するレーザ光源と、該レーザ光を複数の制御信号で空間的に配列分割して光変調する光変調部と、光変調部からの配列された出力光を縮小投影する投影光学部とを備え、投影光学部の結像部に配列される複数のレーザスポットの夫々がX方向のサイズがX方向と直交するY方向のサイズよりも大きい矩形形状を有するレーザ製版用レーザ露光装置において、該レーザスポットのX方向のサイズを少なくとも2以上の領域に等しく分割したサイズのうち、1つの領域のサイズの分だけ前記レーザスポットをX方向に互いに少しずつずれて重なり合うようにオーバーラップさせて前記1つの領域のサイズの分だけ露光領域が増えるようにすることで、複数のレーザスポットをオーバーラップさせることなく並列させた場合と比べて露光領域を小さくするようにしたことを特徴とするレーザ製版用レーザ露光装置。
- 前記レーザスポットをX方向と直交するY方向にスライドせしめ、露光領域のY方向のサイズが、前記1つの領域のX方向のサイズと同じサイズの1辺となるようにしたことを特徴とする請求項1記載のレーザ製版用レーザ露光装置。
- 前記レーザスポットのX方向のサイズを4つの領域に等しく分割したサイズのうち、1つの領域のサイズの分だけ前記レーザスポットをX方向に互いに少しずつずれて重なり合うようにオーバーラップさせて前記1つの領域のサイズの分だけ露光領域が増えるようにすることで、複数のレーザスポットをオーバーラップさせることなく並列させた場合と比べて露光領域を小さくするようにしたことを特徴とする請求項1又は2記載のレーザ製版用レーザ露光装置。
- 前記1つの領域のX方向のサイズが1.9μm以下であり、12800dpi以上の解像度を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のレーザ製版用レーザ露光装置。
- 前記レーザ光源は、複数の発振部を有する半導体レーザアレイであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のレーザ製版用レーザ露光装置。
- 請求項1〜5いずれか1項記載のレーザ製版用レーザ露光装置を用いて、該レーザスポットのX方向のサイズを少なくとも2以上の領域に等しく分割したサイズのうち、1つの領域のサイズの分だけ前記レーザスポットをX方向に互いに少しずつずれて重なり合うようにオーバーラップさせて前記1つの領域のサイズの分だけ露光領域が増えるようにすることで、複数のレーザスポットをオーバーラップさせることなく並列させた場合と比べて露光領域を小さくするようにしたことを特徴とする感光膜の露光方法。
- 請求項6記載の露光方法によって露光されたことを特徴とする製品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004241320A JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004210588 | 2004-07-16 | ||
JP2004241320A JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006053499A JP2006053499A (ja) | 2006-02-23 |
JP4396979B2 true JP4396979B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=36030997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004241320A Active JP4396979B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-08-20 | レーザ露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4396979B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4866002B2 (ja) * | 2004-12-21 | 2012-02-01 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
CN100399194C (zh) * | 2006-06-07 | 2008-07-02 | 哈尔滨工业大学 | 基于微光学阵列多点曝光的极坐标直接写入方法及装置 |
JP5011853B2 (ja) * | 2006-07-06 | 2012-08-29 | 凸版印刷株式会社 | グラビア印刷物の評価方法 |
WO2011152235A1 (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-08 | 株式会社シンク・ラボラトリー | レーザ露光方法及び製品 |
DE102018200524A1 (de) * | 2018-01-15 | 2019-07-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit verbesserter Komponentenjustage und Justageverfahren |
CN114280895B (zh) * | 2021-12-24 | 2024-01-05 | 深圳市先地图像科技有限公司 | 一种激光成像过程中像素行分配方法、系统及相关设备 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0684741A (ja) * | 1992-06-25 | 1994-03-25 | Think Lab Kk | 半導体レーザ露光装置 |
JPH0985927A (ja) * | 1995-09-25 | 1997-03-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | グラビア印刷版製造装置およびグラビア印刷版製造方法 |
JPH10324021A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-12-08 | Toray Ind Inc | イメージング装置およびイメージング方法ならびに印刷装置 |
JP3959833B2 (ja) * | 1997-07-16 | 2007-08-15 | 東レ株式会社 | 光ファイバアレイ装置、イメージングヘッド装置およびイメージング装置 |
US6266080B1 (en) * | 1999-04-30 | 2001-07-24 | Creo Srl | Thermal recording with variable power density |
JP2001109163A (ja) * | 1999-08-03 | 2001-04-20 | Think Laboratory Co Ltd | 製版用露光装置及び露光方法 |
-
2004
- 2004-08-20 JP JP2004241320A patent/JP4396979B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006053499A (ja) | 2006-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8335999B2 (en) | System and method for optical shearing | |
JP4553313B2 (ja) | 画像記録装置 | |
US20060256307A1 (en) | Method and apparatus for maskless photolithography | |
JP2011511951A (ja) | 特にフレキソ印刷分野において使用可能なレリーフ画像構造の作製方法、及び該方法によって作製された構造 | |
JP2004200221A (ja) | レーザマーキング方法及び装置 | |
US6303276B1 (en) | Method and apparatus for making optical master surface diffusers suitable for producing large format optical components | |
JP4396979B2 (ja) | レーザ露光装置 | |
EP1078506B1 (en) | Laser pattern generator | |
CN113168066B (zh) | 减少驱动多通道声光调制器的调制器之间串扰的影响 | |
CN110892334B (zh) | 用于光敏聚合物印刷版的直接固化的系统和过程 | |
JPH0274022A (ja) | 露光装置およびパターン形成方法 | |
JP5773539B2 (ja) | レーザ製版用レーザ露光方法 | |
JP2009086032A (ja) | 画像記録装置 | |
JP2005333414A (ja) | レーザ露光装置 | |
EP0477441A1 (en) | A method for forming plate characters in a half-tone gravure platemaking process | |
KR20040064712A (ko) | 이미지 형성을 위한 방법 및 장치 | |
JP3273139B1 (ja) | 印刷用刷版の画素密度複数段順次露光方法及びその装置 | |
JP2001347669A (ja) | ノズル穴の製造方法およびノズル穴 | |
JP4632103B2 (ja) | フォトマスク | |
JPS61102651A (ja) | プリント基板のパタ−ン焼付装置 | |
JP2010021409A (ja) | 露光方法、露光装置および基板製造方法。 | |
JP2008116976A (ja) | 位相格子マスクの製造方法及びフォトマスクの製造方法 | |
JP2002148814A (ja) | 印刷用刷版の画素密度複数段同時露光方法及びその装置 | |
JP2014060225A (ja) | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 | |
JP2014071350A (ja) | パターン形成方法及び装置、露光装置並びに表示用パネル製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060720 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090312 |
|
RD13 | Notification of appointment of power of sub attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433 Effective date: 20090408 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090408 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090508 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090508 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090622 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090817 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091014 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091016 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4396979 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |