JP2001109163A - 製版用露光装置及び露光方法 - Google Patents
製版用露光装置及び露光方法Info
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- JP2001109163A JP2001109163A JP2000068573A JP2000068573A JP2001109163A JP 2001109163 A JP2001109163 A JP 2001109163A JP 2000068573 A JP2000068573 A JP 2000068573A JP 2000068573 A JP2000068573 A JP 2000068573A JP 2001109163 A JP2001109163 A JP 2001109163A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 多数の半導体レーザを用いて多数本のレーザ
光を一列に次々にずれて重ねることができ該レーザ光の
配列方向と直交方向に照射移動して多数本レーザビーム
露光ができ、露光作業にかかる時間を大幅に短縮できる
半導体レーザ露光装置。 【構成】 半導体レーザ２，２，・・放射するレーザ光
を光ファイバー３，３，・・に導入して光軸間隔を平行
に近接させ、第一の集光レンズ４においてオーバーラッ
プ配列とし、第二の集光レンズ５とオートフォーカスレ
ンズ６でオーバーラップ配列のまま絞りこんで被製版ロ
ールＷに照射する。光ファイバー３を数組に分けて各組
の光ファイバーの前記先端面の配列を所要角度の斜め配
列とし、かつ、被製版ロールの移動方向に対して直角方
向に投影したときに連鎖状の配列とし、各半導体レーザ
２をそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の配列位置
に対応して必要な遅延を図りつつ画像データに対応した
レーザ光の点滅発振を行なう。
光を一列に次々にずれて重ねることができ該レーザ光の
配列方向と直交方向に照射移動して多数本レーザビーム
露光ができ、露光作業にかかる時間を大幅に短縮できる
半導体レーザ露光装置。 【構成】 半導体レーザ２，２，・・放射するレーザ光
を光ファイバー３，３，・・に導入して光軸間隔を平行
に近接させ、第一の集光レンズ４においてオーバーラッ
プ配列とし、第二の集光レンズ５とオートフォーカスレ
ンズ６でオーバーラップ配列のまま絞りこんで被製版ロ
ールＷに照射する。光ファイバー３を数組に分けて各組
の光ファイバーの前記先端面の配列を所要角度の斜め配
列とし、かつ、被製版ロールの移動方向に対して直角方
向に投影したときに連鎖状の配列とし、各半導体レーザ
２をそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の配列位置
に対応して必要な遅延を図りつつ画像データに対応した
レーザ光の点滅発振を行なう。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、半導体レーザを用
い多数本のレーザ光を一列に次々にオーバーラップする
ように配列して多数本ビーム露光が行なえる製版用露光
装置及び方法に関する。
い多数本のレーザ光を一列に次々にオーバーラップする
ように配列して多数本ビーム露光が行なえる製版用露光
装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】本願出願人の出願にかかる特願平４−１
９６４９９号は半導体レーザを多数用い多数本のレーザ
光を一列に次々にオーバーラップするように配列して多
数本ビーム露光が行なえる。
９６４９９号は半導体レーザを多数用い多数本のレーザ
光を一列に次々にオーバーラップするように配列して多
数本ビーム露光が行なえる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光ファ
イバーの先端面から放射して広がる光を同一光径で一列
に次々にオーバーラップするように配列してレンズへ照
射させることが難しかった。光ファイバーの先端面から
放射するレーザ光は作図ほどの広がりを持たないので、
連鎖状にオーバーラップさせることができなかった。
又、レーザ光を一列に次々にオーバーラップするように
配列してレンズへ照射させる構成では、レーザ光の本数
をあまり多くすることができなかった。
イバーの先端面から放射して広がる光を同一光径で一列
に次々にオーバーラップするように配列してレンズへ照
射させることが難しかった。光ファイバーの先端面から
放射するレーザ光は作図ほどの広がりを持たないので、
連鎖状にオーバーラップさせることができなかった。
又、レーザ光を一列に次々にオーバーラップするように
配列してレンズへ照射させる構成では、レーザ光の本数
をあまり多くすることができなかった。
【０００４】本発明は、上述した点に鑑み案出したもの
で、多数の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一
列に次々にずれて重ねることができ該レーザ光の配列方
向と直交方向に照射移動して多数本レーザビーム露光が
でき、露光作業にかかる時間を大幅に短縮できる製版用
レーザ露光装置及び露光方法を提供することを目的とし
ている。
で、多数の半導体レーザを用いて多数本のレーザ光を一
列に次々にずれて重ねることができ該レーザ光の配列方
向と直交方向に照射移動して多数本レーザビーム露光が
でき、露光作業にかかる時間を大幅に短縮できる製版用
レーザ露光装置及び露光方法を提供することを目的とし
ている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願発明は、被製版ロー
ルを支持して回転する手段と、被製版ロールに対して所
要位置まで接近し付いて面長方向に移動する走査テーブ
ルと、走査テーブルに設置された被製版ロールにコート
された感光膜又は黒色膜にレーザ光を画像データに対応
して点滅照射して潜像するか又はアブレーションする露
光装置とからなり、露光装置は、走査テーブルに並設す
る所要数の半導体レーザと、各半導体レーザから放射す
るレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光ファイバーと、
光ファイバーの先端面から放射するレーザ光の光径を縮
小する一つ又は複数の光径縮小レンズと、被製版ロール
の被製版面との距離が焦点距離となるように位置され光
径縮小レンズで縮径されたレーザ光を被製版ロールの被
製版面へ照射するオートフォーカスレンズとを含み、前
記光ファイバーを数組に分けて各組の光ファイバーの前
記先端面の配列を所要角度の斜め配列とし、かつ、被製
版ロールの移動方向に対して直角方向に投影したときに
連鎖状の配列とし、各半導体レーザをそれぞれ対応する
光ファイバーの先端面の配列位置に対応して必要な遅延
を図りつつ画像データに対応したレーザ光の点滅発振を
行なうようになっていることを特徴とする製版用露光装
置を提供するものである。本願発明は、表面に感光膜又
は黒色膜がコートされ両端支持され回転される被製版ロ
ールに対して、所要数の半導体レーザと該半導体レーザ
と同数の光ファイバーとを数組毎に分けて各半導体レー
ザから放射するレーザ光を対応する光ファイバーの基端
より光ファイバーの内部に導入して、光ファイバー先端
面の配列を所要角度の斜め配列とし、かつ、被製版ロー
ルの周方向に対して直角方向に投影したときに連鎖状の
配列となる光ファイバーの先端面からレーザ光を放射
し、該放射するレーザ光を光学系により絞り、レーザ光
の照射位置を被製版ロールの面長方向に走査して、各半
導体レーザをそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の
配列位置に対応して必要な遅延を図りつつ画像データに
対応したレーザ光の点滅照射することを特徴とする露光
方法を提供するものである。
ルを支持して回転する手段と、被製版ロールに対して所
要位置まで接近し付いて面長方向に移動する走査テーブ
ルと、走査テーブルに設置された被製版ロールにコート
された感光膜又は黒色膜にレーザ光を画像データに対応
して点滅照射して潜像するか又はアブレーションする露
光装置とからなり、露光装置は、走査テーブルに並設す
る所要数の半導体レーザと、各半導体レーザから放射す
るレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光ファイバーと、
光ファイバーの先端面から放射するレーザ光の光径を縮
小する一つ又は複数の光径縮小レンズと、被製版ロール
の被製版面との距離が焦点距離となるように位置され光
径縮小レンズで縮径されたレーザ光を被製版ロールの被
製版面へ照射するオートフォーカスレンズとを含み、前
記光ファイバーを数組に分けて各組の光ファイバーの前
記先端面の配列を所要角度の斜め配列とし、かつ、被製
版ロールの移動方向に対して直角方向に投影したときに
連鎖状の配列とし、各半導体レーザをそれぞれ対応する
光ファイバーの先端面の配列位置に対応して必要な遅延
を図りつつ画像データに対応したレーザ光の点滅発振を
行なうようになっていることを特徴とする製版用露光装
置を提供するものである。本願発明は、表面に感光膜又
は黒色膜がコートされ両端支持され回転される被製版ロ
ールに対して、所要数の半導体レーザと該半導体レーザ
と同数の光ファイバーとを数組毎に分けて各半導体レー
ザから放射するレーザ光を対応する光ファイバーの基端
より光ファイバーの内部に導入して、光ファイバー先端
面の配列を所要角度の斜め配列とし、かつ、被製版ロー
ルの周方向に対して直角方向に投影したときに連鎖状の
配列となる光ファイバーの先端面からレーザ光を放射
し、該放射するレーザ光を光学系により絞り、レーザ光
の照射位置を被製版ロールの面長方向に走査して、各半
導体レーザをそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の
配列位置に対応して必要な遅延を図りつつ画像データに
対応したレーザ光の点滅照射することを特徴とする露光
方法を提供するものである。
【０００６】
【実施例】本発明の製版用レーザ露光装置の実施例を図
１を参照して説明する。併せて、本発明の露光方法を説
明する。図において、被製版ロールＷは、黒色膜がコー
トされた製版シートが巻かれた回転ドラムまたは感光膜
がコートされた被製版ロールを示している。該被製版ロ
ールＷは、図示しないチャック手段によって両端チャッ
クされサーボモータによって走査回転される。走査テー
ブル１は、被製版ロールＷに対して接近離隔するＸ軸方
向に移動自在かつ被製版ロールＷの被露光面に平行する
Ｙ軸方向に往復移動自在である。走査テーブル１のＹ軸
方向に移動は、副走査であって、被製版ロールＷの一回
転当たりレーザービームの列幅だけシフトするようにな
っている。なお、被製版ロールＷが例えばオフセット平
版であるときは、走査テーブル１は、三次元テーブルと
して構成されるのが好ましい。
１を参照して説明する。併せて、本発明の露光方法を説
明する。図において、被製版ロールＷは、黒色膜がコー
トされた製版シートが巻かれた回転ドラムまたは感光膜
がコートされた被製版ロールを示している。該被製版ロ
ールＷは、図示しないチャック手段によって両端チャッ
クされサーボモータによって走査回転される。走査テー
ブル１は、被製版ロールＷに対して接近離隔するＸ軸方
向に移動自在かつ被製版ロールＷの被露光面に平行する
Ｙ軸方向に往復移動自在である。走査テーブル１のＹ軸
方向に移動は、副走査であって、被製版ロールＷの一回
転当たりレーザービームの列幅だけシフトするようにな
っている。なお、被製版ロールＷが例えばオフセット平
版であるときは、走査テーブル１は、三次元テーブルと
して構成されるのが好ましい。
【０００７】走査テーブル１に半導体レーザ２，２，・
・と光ファイバー３，３，・・と第一の集光レンズ４と
第二の集光レンズ５とオートフォーカスレンズ６が配設
されてなる。半導体レーザ２，２，・・は、五個ずつ積
み重なって四列設けられ、いずれもレーザ光を平行に放
射するように取付け具７で固定されている。
・と光ファイバー３，３，・・と第一の集光レンズ４と
第二の集光レンズ５とオートフォーカスレンズ６が配設
されてなる。半導体レーザ２，２，・・は、五個ずつ積
み重なって四列設けられ、いずれもレーザ光を平行に放
射するように取付け具７で固定されている。
【０００８】光ファイバー３，３，・・は、半導体レー
ザ２，２，・・と同数備えられそれぞれの基端部をファ
イバー固定具８の孔に差込み固定されていることによ
り、それぞれの基端面を半導体レーザ２に精密に対向近
接されていてレーザ光を導入するようになっているとと
もに、先端部をファイバー固定具９の孔に差込み固定さ
れていることにより、光ファイバー３，３，・・が半導
体レーザ２，２，・・の五個ずつ積み重なりに対応した
組に分けられて、図２に示す如く各組の光ファイバー
３，３，・・の前記先端面の配列を所要角度の斜め配列
としてある。
ザ２，２，・・と同数備えられそれぞれの基端部をファ
イバー固定具８の孔に差込み固定されていることによ
り、それぞれの基端面を半導体レーザ２に精密に対向近
接されていてレーザ光を導入するようになっているとと
もに、先端部をファイバー固定具９の孔に差込み固定さ
れていることにより、光ファイバー３，３，・・が半導
体レーザ２，２，・・の五個ずつ積み重なりに対応した
組に分けられて、図２に示す如く各組の光ファイバー
３，３，・・の前記先端面の配列を所要角度の斜め配列
としてある。
【０００９】第一の集光レンズ４は、光ファイバー３，
３，・・の他端部から距離Ａだけ離れて微調整自在な支
持器１０に支持されている。光ファイバー３，３，・・
から第一の集光レンズ４に放射するレーザ光は平行光線
である。第二の集光レンズ５は、第一の集光レンズ４か
ら距離Ａだけ離れて微調整自在な支持器１１に支持され
ている。第一の集光レンズ４と第二の集光レンズ５との
距離Ａは、第一の集光レンズ４の焦点距離ｆ１と第二の
集光レンズ５の焦点距離ｆ２を加算した距離に設定され
ている。
３，・・の他端部から距離Ａだけ離れて微調整自在な支
持器１０に支持されている。光ファイバー３，３，・・
から第一の集光レンズ４に放射するレーザ光は平行光線
である。第二の集光レンズ５は、第一の集光レンズ４か
ら距離Ａだけ離れて微調整自在な支持器１１に支持され
ている。第一の集光レンズ４と第二の集光レンズ５との
距離Ａは、第一の集光レンズ４の焦点距離ｆ１と第二の
集光レンズ５の焦点距離ｆ２を加算した距離に設定され
ている。
【００１０】オートフォーカスレンズ６は、第二の集光
レンズ５から距離Ｂだけ離れて微調整自在な支持器１２
に支持されている。第二の集光レンズ５とオートフォー
カスレンズ６との距離Ｃは、第二の集光レンズ５の焦点
距離ｆ２とオートフォーカスレンズ６の焦点距離ｆ３を
加算した距離に設定されている。オートフォーカスレン
ズ６と被製版ロールＷとの距離は、露光に先立って前記
走査テーブル１をＸ軸方向に移動調整してオートフォー
カスレンズ６の焦点距離ｆ３に一致するようになってい
る。オートフォーカスレンズ６は、ボイスコイルまたは
電歪アクチュエータによって光軸方向に位置制御される
ように保持されることにより、露光中はこのオートフォ
ーカス機能により焦点距離ｆ３に一致するようになって
いる。
レンズ５から距離Ｂだけ離れて微調整自在な支持器１２
に支持されている。第二の集光レンズ５とオートフォー
カスレンズ６との距離Ｃは、第二の集光レンズ５の焦点
距離ｆ２とオートフォーカスレンズ６の焦点距離ｆ３を
加算した距離に設定されている。オートフォーカスレン
ズ６と被製版ロールＷとの距離は、露光に先立って前記
走査テーブル１をＸ軸方向に移動調整してオートフォー
カスレンズ６の焦点距離ｆ３に一致するようになってい
る。オートフォーカスレンズ６は、ボイスコイルまたは
電歪アクチュエータによって光軸方向に位置制御される
ように保持されることにより、露光中はこのオートフォ
ーカス機能により焦点距離ｆ３に一致するようになって
いる。
【００１１】露光に先立って走査テーブル１をＸ軸方向
に移動調整してオートフォーカスレンズ６と被製版ロー
ルＷとの距離を、オートフォーカスレンズ６の焦点距離
ｆ３に一致させる。そして、被製版ロールＷを走査回転
するとともに、走査テーブル１をＹ軸方向に走査移動
し、半導体レーザ２，２，・・を画像データに基づいて
点滅ドライブし、半導体レーザ２，２，・・から放射す
るレーザ光を光ファイバー３，３，・・に導入し レー
ザ光が光ファイバー３，３，・・を通る過程でレーザ光
の径を一定の大きさに円形化し第一の集光レンズ４に向
かって放射し、第二の集光レンズ５とオートフォーカス
レンズ６によって、十数分の一ないし数十分の一に絞り
込んで被製版ロールＷに照射する。半導体レーザ２から
放射するレーザ光は、光ファイバー３，３，・・より放
射するときに、所要角度の斜め配列となりかつ被製版ロ
ール１の移動方向に対して直角方向に投影したときに連
鎖状の配列となり、第一の集光レンズ４と第二の集光レ
ンズ５で光径を５μｍ位に縮径されてオートフォーカス
レンズ６を透過して被製版ロールＷに焦点を合わせて照
射する。従って、各半導体レーザ２をそれぞれ対応する
光ファイバーの先端面の配列位置に対応して必要な遅延
を図りつつ全部の半導体レーザ２，２，・・にレーザ光
の発振をそれぞれ１回行なうと、多数本のレーザ光を一
列に次々にオーバーラップするように配列して多数本ビ
ーム露光が行なえることになるから、各半導体レーザ２
をそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の配列位置に
対応して必要な遅延を図りつつ画像データに対応したレ
ーザ光の点滅発振を行なうと、画像データに対応した露
光が行なえる。
に移動調整してオートフォーカスレンズ６と被製版ロー
ルＷとの距離を、オートフォーカスレンズ６の焦点距離
ｆ３に一致させる。そして、被製版ロールＷを走査回転
するとともに、走査テーブル１をＹ軸方向に走査移動
し、半導体レーザ２，２，・・を画像データに基づいて
点滅ドライブし、半導体レーザ２，２，・・から放射す
るレーザ光を光ファイバー３，３，・・に導入し レー
ザ光が光ファイバー３，３，・・を通る過程でレーザ光
の径を一定の大きさに円形化し第一の集光レンズ４に向
かって放射し、第二の集光レンズ５とオートフォーカス
レンズ６によって、十数分の一ないし数十分の一に絞り
込んで被製版ロールＷに照射する。半導体レーザ２から
放射するレーザ光は、光ファイバー３，３，・・より放
射するときに、所要角度の斜め配列となりかつ被製版ロ
ール１の移動方向に対して直角方向に投影したときに連
鎖状の配列となり、第一の集光レンズ４と第二の集光レ
ンズ５で光径を５μｍ位に縮径されてオートフォーカス
レンズ６を透過して被製版ロールＷに焦点を合わせて照
射する。従って、各半導体レーザ２をそれぞれ対応する
光ファイバーの先端面の配列位置に対応して必要な遅延
を図りつつ全部の半導体レーザ２，２，・・にレーザ光
の発振をそれぞれ１回行なうと、多数本のレーザ光を一
列に次々にオーバーラップするように配列して多数本ビ
ーム露光が行なえることになるから、各半導体レーザ２
をそれぞれ対応する光ファイバーの先端面の配列位置に
対応して必要な遅延を図りつつ画像データに対応したレ
ーザ光の点滅発振を行なうと、画像データに対応した露
光が行なえる。
【００１２】本願発明は、被製版ロールを支持して回転
する手段と、被製版ロールに対して所要位置まで接近し
付いて面長方向に移動する走査テーブルと、走査テーブ
ルに設置された被製版ロールにコートされた黒色膜にレ
ーザ光を画像データに対応して点滅照射してアブレーシ
ョンする露光装置とからなり、露光装置は、走査テーブ
ルに並設する所要数の半導体レーザと、各半導体レーザ
から放射するレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光ファ
イバーと、光ファイバーの先端面から放射するレーザ光
の光径を縮小する一つ又は複数の光径縮小レンズと、被
製版ロールの被製版面との距離が焦点距離となるように
位置され光径縮小レンズで縮径されたレーザ光を被製版
ロールの被製版面へ照射するオートフォーカスレンズと
を含み、前記光ファイバーを数組に分けて各組の光ファ
イバーの前記先端面の配列を所要角度の斜め配列とし、
かつ、被製版ロールの移動方向に対して直角方向に投影
したときに連鎖状の配列とし、各半導体レーザをそれぞ
れ対応する光ファイバーの先端面の配列位置に対応して
必要な遅延を図りつつ画像データに対応したレーザ光の
点滅発振を行なってアブレーションする場合も含むもの
である。すなわち、本願発明の製版用露光装置及び露光
方法は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥
石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ
砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッ
ケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブ
レーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画
像形成−腐食−クロムメッキ−搬出を行う、グラビア製
版工程に適用できる。
する手段と、被製版ロールに対して所要位置まで接近し
付いて面長方向に移動する走査テーブルと、走査テーブ
ルに設置された被製版ロールにコートされた黒色膜にレ
ーザ光を画像データに対応して点滅照射してアブレーシ
ョンする露光装置とからなり、露光装置は、走査テーブ
ルに並設する所要数の半導体レーザと、各半導体レーザ
から放射するレーザ光をそれぞれ所定位置に導く光ファ
イバーと、光ファイバーの先端面から放射するレーザ光
の光径を縮小する一つ又は複数の光径縮小レンズと、被
製版ロールの被製版面との距離が焦点距離となるように
位置され光径縮小レンズで縮径されたレーザ光を被製版
ロールの被製版面へ照射するオートフォーカスレンズと
を含み、前記光ファイバーを数組に分けて各組の光ファ
イバーの前記先端面の配列を所要角度の斜め配列とし、
かつ、被製版ロールの移動方向に対して直角方向に投影
したときに連鎖状の配列とし、各半導体レーザをそれぞ
れ対応する光ファイバーの先端面の配列位置に対応して
必要な遅延を図りつつ画像データに対応したレーザ光の
点滅発振を行なってアブレーションする場合も含むもの
である。すなわち、本願発明の製版用露光装置及び露光
方法は、搬入−ロール計測−脱クロム処理−粗仕上げ砥
石による補正研磨−粗仕上げ研磨による落版−粗仕上げ
砥石による表面粗さ微少化研磨−表面活性化処理−ニッ
ケルメッキ−銅メッキ−中仕上げ砥石による表面粗さ微
少化研磨−精密仕上げ砥石による鏡面研磨−レーザアブ
レーション膜塗布−レーザアブレーション・レジスト画
像形成−腐食−クロムメッキ−搬出を行う、グラビア製
版工程に適用できる。
【００１３】又、本願発明は、フレキソ印刷用版材に塗
布された黒色膜に対し画線部に対応するようにレーザア
ブレーションして非画線部に対応する黒色膜ネガ画像を
形成するアブレーション用レーザ装置に適用できる。す
なわち、本願発明の製版用露光装置及び露光方法は、フ
レキソ印刷用版材に塗布された黒色膜に対し画線部に対
応するようにレーザアブレーションして非画線部に対応
する黒色膜ネガ画像を形成し、次いで、紫外線を全面照
射して黒色膜ネガ画像で覆われていない画線部に対応す
る部分の樹脂を露光硬化し、続いて、フレキソ印刷用版
材の未露光で非画線部の樹脂部分を現像液で浸食し、次
いで全面に所要波長の光を照射して全面的に露光硬化す
るフレキソ製版工程に適用される。
布された黒色膜に対し画線部に対応するようにレーザア
ブレーションして非画線部に対応する黒色膜ネガ画像を
形成するアブレーション用レーザ装置に適用できる。す
なわち、本願発明の製版用露光装置及び露光方法は、フ
レキソ印刷用版材に塗布された黒色膜に対し画線部に対
応するようにレーザアブレーションして非画線部に対応
する黒色膜ネガ画像を形成し、次いで、紫外線を全面照
射して黒色膜ネガ画像で覆われていない画線部に対応す
る部分の樹脂を露光硬化し、続いて、フレキソ印刷用版
材の未露光で非画線部の樹脂部分を現像液で浸食し、次
いで全面に所要波長の光を照射して全面的に露光硬化す
るフレキソ製版工程に適用される。
【００１４】レーザアブレーション可能な黒色膜の材料
は、例えば、可燃性物質（ニトロセルロース、やエチレ
ン酢酸ビニル強重合体、不飽和ポリエステル樹脂、エポ
キシ樹脂、アリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアセタール、
天然ゴム等の何れか一種又は複数種：75重量％）と酸化
剤（硝酸アンモニウムや塩素酸化合物：10重量％）と光
吸収体（カーボンブラック：15重量％）からなるレーザ
アブレーションが可能な耐エッチング性を有する材料を
数μｍの膜厚となるようにロール面に塗布する。
は、例えば、可燃性物質（ニトロセルロース、やエチレ
ン酢酸ビニル強重合体、不飽和ポリエステル樹脂、エポ
キシ樹脂、アリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアセタール、
天然ゴム等の何れか一種又は複数種：75重量％）と酸化
剤（硝酸アンモニウムや塩素酸化合物：10重量％）と光
吸収体（カーボンブラック：15重量％）からなるレーザ
アブレーションが可能な耐エッチング性を有する材料を
数μｍの膜厚となるようにロール面に塗布する。
【００１５】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の製版
用露光装置によれば、多数の半導体レーザを用いて多数
本のレーザ光を一列に次々にずれて重ねることができ該
レーザ光の配列方向と直交方向に照射移動して多数本レ
ーザビーム露光ができ、露光作業にかかる時間を大幅に
短縮できる。
用露光装置によれば、多数の半導体レーザを用いて多数
本のレーザ光を一列に次々にずれて重ねることができ該
レーザ光の配列方向と直交方向に照射移動して多数本レ
ーザビーム露光ができ、露光作業にかかる時間を大幅に
短縮できる。
【図１】本発明の半導体レーザ露光装置の概略正面図。
【図２】光ファイバーの先端面の配列を示す図。
Ｗ ・・・被製版ロール、 １ ・・・走査テーブル、 ２ ・・・半導体レーザ， ３ ・・・光ファイバー、 ４ ・・・第一の集光レンズ、 ５ ・・・第二の集光レンズ、 ６ ・・・オートフォーカスレンズ、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ４１Ｊ 2/455 // Ｈ０１Ｓ 5/40 Ｆターム(参考） 2C162 AE04 AE23 AE28 AE48 AE52 AF07 FA04 FA18 FA44 FA48 FA67 2H084 AA14 AA26 AA30 AE05 BB16 CC01 CC03 2H097 AA03 AB08 CA03 CA17 GB04 LA03 5F073 AB04 AB27 AB28 BA09
Claims (2)
- 【請求項１】 被製版ロールを支持して回転する手段
と、被製版ロールに対して所要位置まで接近し付いて面
長方向に移動する走査テーブルと、走査テーブルに設置
された被製版ロールにコートされた感光膜又は黒色膜に
レーザ光を画像データに対応して点滅照射して潜像する
か又はアブレーションする露光装置とからなり、 露光装置は、走査テーブルに並設する所要数の半導体レ
ーザと、各半導体レーザから放射するレーザ光をそれぞ
れ所定位置に導く光ファイバーと、光ファイバーの先端
面から放射するレーザ光の光径を縮小する一つ又は複数
の光径縮小レンズと、被製版ロールの被製版面との距離
が焦点距離となるように位置され光径縮小レンズで縮径
されたレーザ光を被製版ロールの被製版面へ照射するオ
ートフォーカスレンズとを含み、前記光ファイバーを数
組に分けて各組の光ファイバーの前記先端面の配列を所
要角度の斜め配列とし、かつ、被製版ロールの移動方向
に対して直角方向に投影したときに連鎖状の配列とし、
各半導体レーザをそれぞれ対応する光ファイバーの先端
面の配列位置に対応して必要な遅延を図りつつ画像デー
タに対応したレーザ光の点滅発振を行なうようになって
いることを特徴とする製版用露光装置。 - 【請求項２】 表面に感光膜又は黒色膜がコートされ両
端支持され回転される被製版ロールに対して、所要数の
半導体レーザと該半導体レーザと同数の光ファイバーと
を数組毎に分けて各半導体レーザから放射するレーザ光
を対応する光ファイバーの基端より光ファイバーの内部
に導入して、光ファイバー先端面の配列を所要角度の斜
め配列とし、かつ、被製版ロールの周方向に対して直角
方向に投影したときに連鎖状の配列となる光ファイバー
の先端面からレーザ光を放射し、該放射するレーザ光を
光学系により絞り、レーザ光の照射位置を被製版ロール
の面長方向に走査して、各半導体レーザをそれぞれ対応
する光ファイバーの先端面の配列位置に対応して必要な
遅延を図りつつ画像データに対応したレーザ光の点滅照
射することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000068573A JP2001109163A (ja) | 1999-08-03 | 2000-03-13 | 製版用露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-220487 | 1999-08-03 | ||
| JP22048799 | 1999-08-03 | ||
| JP2000068573A JP2001109163A (ja) | 1999-08-03 | 2000-03-13 | 製版用露光装置及び露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001109163A true JP2001109163A (ja) | 2001-04-20 |
Family
ID=26523732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000068573A Pending JP2001109163A (ja) | 1999-08-03 | 2000-03-13 | 製版用露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001109163A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006053499A (ja) * | 2004-07-16 | 2006-02-23 | Think Laboratory Co Ltd | レーザ露光装置 |
| JP2011500370A (ja) * | 2007-10-17 | 2011-01-06 | イーストマン コダック カンパニー | 均一な撮像面を生成する装置及び方法 |
| JP2013527810A (ja) * | 2010-03-30 | 2013-07-04 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 多数プリントヘッドユニットを使うプリントマスターのデジタル創生システムと方法 |
| JP2013541436A (ja) * | 2010-08-20 | 2013-11-14 | アグフア・グラフイクス・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | 多数印刷ヘッドユニットを使う印刷マスターデジタル創生システムとその方法 |
| KR101461226B1 (ko) | 2012-12-11 | 2014-11-18 | 한국광기술원 | 자외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치 |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068573A patent/JP2001109163A/ja active Pending
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| KR101461226B1 (ko) | 2012-12-11 | 2014-11-18 | 한국광기술원 | 자외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치 |
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