JPH0416073B2 - - Google Patents

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JPH0416073B2
JPH0416073B2 JP61092981A JP9298186A JPH0416073B2 JP H0416073 B2 JPH0416073 B2 JP H0416073B2 JP 61092981 A JP61092981 A JP 61092981A JP 9298186 A JP9298186 A JP 9298186A JP H0416073 B2 JPH0416073 B2 JP H0416073B2
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    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、木材その他の炭化又は変色可能な成
分を含む板状又は円筒状素材にレーザー焼付画を
高品位に形成する方法に関するものである。
従来の技術 板材又は版木への図柄、文字等の印字、描写を
行うために、切削用の刃物等を用いる従来の接触
方式に対し、最近では、前記接触方式の欠点を改
良すべく、主としてレーザー光のエネルギーを利
用するものがある。例えば、YAGレーザーを用
いて、自動車、エレクトロモーター、バルブ等の
銘板、ベアリング、電子部品などの最終工程の表
面上に国名、型式、名称などを印字したり、ある
いは、超硬質金属やプラスチツク等に所望の数
字、記号、図柄を印字したりするものである。
発明が解決しようとする問題点 これらの方法としては、銅、ステンレス等のマ
スクを作成して、刻印するマスク手法あるいは、
素材へのレーザー走査と同期してレーザー発振電
圧を内部的にon−offさせる内部変調手法又はレ
ーザー走査と同期して、機械的なシヤツターを用
いる手法等がとられている。しかしながら、これ
らの方法は、接触方式の欠点を克服してはいるも
のの、印字、描写の品位において、いわゆる2値
化の表現であり、各画素が階調的に配列されるも
のではない。
これらの方法を個々に見てみると、具体的に
は、内部変調方法、メカニカルシヤツター法にお
いては、X方向とY方向に移動させるための機械
的要素が省けたものの、この方式での製品評価
は、あく迄も二次元の画像としてのみ、評価出来
るものであり、いわゆる彫刻的な画面が得られる
ものではない。
本発明は、レーザービーム照射による彫刻的か
つ階調的な印字・描写方法を提案しようとするも
のである。
問題点を解決するための手段 本発明は上記のような問題点を解決するための
手段として所定フレーム内における画素ごとの階
調的電気信号列からなる静止ビデオ情報を作成
し、熱により変色又は炭化可能な表面を有する作
画素材を用意するとともに、この素材の前記変色
又は炭化を促進させるに十分なエネルギーを有す
るレーザービームを発生し、前記レーザービーム
を前記ビデオ情報に従つて変調するとともに前記
所定のフレームに従つて前記素材における前記フ
レームに対応した表面範囲上に走査的に照射する
ことにより、この表面範囲に階調的に変色又は炭
化された画素配列からなる画像を形成する方法を
構成したものである。
上記の方法において静止ビデオ情報を作成した
後、これを用いて素材表面に作画を行うための装
置としては、本発明者等が先に開発し、かつ特願
昭57−30988号「レーザー感熱プリンター」とし
て出願した感熱紙レーザープリンターの一部に改
良を加え、機能の拡張及び変更を行なつたものが
好ましく用いられる。略述すれば、本発明のレー
ザー作画装置は前記特願のレーザープリンターに
おける感熱ウエブの代りに板状又は円筒状素材を
用い、この素材面上に物理的に接触する加熱ヘツ
ドを用いることなく、レーザービームを作画パタ
ーンに従つて、照射するものであるが、その照射
は前記特願に開示されたドツトごとのon−off照
射ではなく、ドツト(画素)ごとの階調度に応じ
て変調された熱エネルギーのレーザービームとし
て行うものである。
所望の作画パターンに従つて、走査ビーム出力
を、連続的に階調変化させるための変調方法とし
ては、例えばGe単結晶を用いた音響光学変調
(A/O変調)の機構や、Cd−Te単結晶からな
る外部変調素子を用いた電気光学変調(E/O変
調)の機構、又は磁気光学変調の機構によること
ができる。
作 用 一般に、A/O変調系で音響光学変調器を用い
る場合には、偏向の光強度Vは、プラグ回折領域
を用いて、次式により計算される。
V=2・(π/λ)2・(MZ)・(L/H)PA ただし、MZは物理定数、またPAは超音波パワ
ーである。
即ち、光強度は、 超音波パワーの1次関数に比例し、 光の波長の二乗に逆比例し、 超音波付加物質の断面形状L/Hに依存し、 超音波付加物質の物質定数の組合せに比列する。
そこで、具体的には、原画像の情報の多階調化
情報に応じて、超音波パワーを変化させることに
より、多階調変調を実現させるものである。
上記のごときA/O変調器により、偏向された
レーザー光の印字又は作画エネルギーは、ビーム
エキスパンドミラー、反射光路折り曲げ鏡等を設
けることによつて、走査系に導びかれる。走査系
には、ソレノイドへの供給電流に応じて角度変位
する振動反射鏡であるガルバノミラーか、あるい
は、ポリゴンミラー(回転多面鏡)を用いること
が可能であり、又光フアイバーを用いて、ビーム
走査を直接実施することも可能である。
このようにして走査されたレーザービームは、
前記走査系の終端において素材に対置されたF・
θミラーに入射し、ここからスキヤナーの走査角
度に応じて反射され、素材表面上の所定フレーム
範囲内の対応するスポツト位置に入射するもので
ある。
なお前記A/O変調系でCd−Te単結晶を用い
たときの変調度Mは次式のようになる。
M=sin2(πnO 3Y・L・Vapp/λd) ここに、 L:結晶体の長さ(mm) Vapp:結晶体への印加電圧(Volt) d:結晶体のアパーチヤー(mm) λ:レーザー波長(μm) no:Cd−Te単結晶の屈折率/λ(μm) γ:Cd−Te単結晶の一次電気光学係数/λ(μ
m) ただし、λ=10.6(μm)では、 nO 3γ=10×10-11m/V 原画像の情報に応じた多階調A/D変換は、適
当な情報処理ユニツトを装備することにより、高
速度で行われ、これによつて得られた信号レベル
を用いて、変調器への印加電圧(前式中のVapp)
を変化させることにより、変調度Mを変化させ、
これによつてレーザー光の偏向度を変化させ、そ
の結果としてレーザー光の出力を多段階に変化さ
せることにより、多階調印字、又は作画を達成す
ることができる。
以下、本発明の一つの好ましい実施例について
説明する。
実施例 第1図は本発明の方法を実施するための装置構
成の概略を示すブロツク線図である。この第1図
において、1はビデオカメラ又は他の適当な光電
的走査手段からなる画像取込装置であり、所望の
フレーム内における撮影シーン又は原画の画素ご
との階調的電気信号列を発生するものである。2
は前記電気信号列を目的素材に作画するフレーム
に適した走査信号と同期した階調的電気信号列と
して信号処理し、静止画像情報として記憶してお
くためのCPU及びメモリー、3は前記静止画像
情報を読み出して、レーザー変調器4に印加する
変調電圧を発生するための変調信号発生器、5は
レーザー発振器であり、ここから発射されたレー
ザービームは変調器4を通つて変調される。6は
変調器4から出たレーザービームのビーム断面積
を調整するためのレーザー光学系、7はレーザー
光学系6から出たレーザービームを前記CPU及
びメモリー2からの走査信号に従つて走査するレ
ーザー走査系であり、レーザービームはすでに変
調器4において走査信号と同期して変調されてい
るため、この走査系7から出る走査ビームは、走
査線(水平走査線)ごとに原シーン又は原画上の
対応する光電的走査線に従つた階調度(ビーム強
度)分布をもつことになる。8は前記走査ビーム
を作画用素材9上に階調的画素ビームとして集束
照射するためのFθミラー又はFθレンズからなる
レーザー焦点系であり、素材9はレーザービーム
の走査線と直交する方向に連続又は断続的に移動
する素材テーブル10上に載置されており、素材
面上の水平線ごとの垂直ピツチ間隔はこの素材テ
ーブル10の動作により確立される。
上記の構成において、画素に適用される階調度
数は少くとも3段階、好ましくは4段階である。
画像情報の処理を行うためのCPU及びメモリー
2としては適当なコンピユータを用いることがで
き、さらにコンピユータの作図機能を利用して画
像取込装置1の機能を代用させることもできる。
また、レーザービームの走査線を順次垂直方向
にシフトさせることにより、素材9を静止した状
態においてフレーム内の全画素についてビーム照
射することもできる。そして、基本的な素材テー
ブル方式又は素材静止方式のいずれにおいてもフ
レーム内のビーム走査を所望に応じた回数だけ反
復することにより、作画パターンの全体的な炭化
又は焼付濃度レベルを調整することもできる。
次に第2図及び第3図を参照して、本発明の方
法により、レーザー作画を行うための装置につい
て説明する。
第2図において、11はCO2ガスレーザー発振
器、12は発振器11から出射されたレーザービ
ームをアナログ変調するための音響光学変調器で
あり、Ge単結晶素子からなつている。この変調
器から出たレーザービームは折り曲げ鏡13、ビ
ームエキスパンダーミラー14、折り曲げ鏡1
5、ビームエキスパンダーミラー16、及び折り
曲げ鏡17を経てガルバノミラー18に入射する
ようになつている。ガルバノミラーからなるスキ
ヤナー18にはF・θミラー19が対置され、ス
キヤナー18の走査角度に応じた範囲内に入射し
てくるレーザービームを反射し、素材面20の、
対応するスポツト位置に入射させるようになつて
いる。
ミラー13,14,15,16,17とガルバ
ノミラー18、及びF・θミラー19からなる走
査光学系、並びにより詳細な素材送り機構の側面
は第2図に示す通りである。第1図のテーブル1
0に対応する素材送り機構21において、22は
素材送り用ステツピングモータ、そして23はモ
ータドライバーである。
以上の実施例において、CO2レーザー発振器
は、封じ切り方式で出力75Wであり、Ge−A/
O変調器は、音響ビームによる光のブラグ回折を
利用したものである。この変調器に用いるドライ
バーとしては、中心周波数70MHz、入力ビデオ電
圧1V、p−p(±0.5Vグランド対応)の、アナロ
グ型RFパワーソースと最大50WのRFパワーに増
巾する、RFアンプを用いた。
前記のドライバーへの入力ビデオ電圧は、1Vp
−p周波数DC〜1GHz、好ましくは10KHz〜3M
Hzの矩形波を入力することで、モジユレーターで
のアナログ変調(ブラグ回折)を達成した。
A/O変調光(ブラグ回折光)の1次光と、作
画用素材として木材を用い、スポツト径100〜
150μmを得ようとした場合には焼付速度は、少
くとも100m/分を必要とした。
なお、A/O変調光の0次光を用いることも可
能であり、この場合は前記速度の、約1.5倍の線
速度での焼付が可能となつた。
次に、上記のA/O変調器に代えてE/O変調
器を用いる場合には、CO2レーザー発振器は、封
じ切り方式、出力16Wであつた。Cd−Te光変調
器2は結晶体の所定方向に加える電界を制御し、
いわゆるポツケルス効果により光を変調するもの
である。この変調器のためのドライバーとしては
波高値±2.5KV、周波数1KHz〜1GHz、好ましく
は10KHz〜3MHzの矩形波発振器を用いた。次に、
ガルバノミラー18は素材20へのレーザー照射
のスポツト径との関連において十分な走査速度を
得ることができた。すなわち、作画用素材として
木材板を用いた例では、感熱スポツト径100μm
を得ようとすれば、プリント線速度は少くとも約
20m/minを必要とした。
このような構成において、16Wのレーザービー
ムは全体として約20%の減衰をともなつて(素
材)上に照射され、各ドツトについて印字・作画
深さ1μm以上を得ることができた。記録速度は
A−4大の素材で約1000秒であつた。
なお、ガルバノミラー18を含む反射光学系1
3,14………19における各ミラーの反射コー
テイング剤としては、アルミニウム、金等が有効
であることを確認した。
発明の効果 本発明の方法は以上の通り、木材、合成樹脂そ
の他の板状又は円筒状素材に対して効果的に適用
され、階調度及び階調度に応じた深みを有する画
面をレーザーにより無接触で形成する新たな作画
法を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を実施するための装置構
成の概略を示すブロツク線図、第2図は本発明の
方法を実施するためのレーザー作画装置の正面略
図、第3図はその側面図である。 1……画像取込装置、2……CPU及びメモリ
ー、3……変調信号発生器、4,12……変調
器、5,11……レーザー発振器、6……レーザ
ー光学系、7……レーザー走査系、8……レーザ
ー焦点系、9,20……作画用素材、10……素
材テーブル、13,15,17……折り曲げ鏡、
14,16……ビームエキスパンダーミラー、1
8……ガルバ型スキヤナー、19……F・θミラ
ー、21……素材送り機構、22……ステツピン
グモーター、23……モータードライバー。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 所定フレーム内における画素ごとの階調的電
    気信号列からなる静止ビデオ情報を作成し、熱に
    より変色又は炭化可能な表面を有する作画素材を
    用意するとともに、この素材の前記変色又は炭化
    を促進させるに十分なエネルギーを有するレーザ
    ービームを発生し、前記レーザービームを前記ビ
    デオ情報に従つて変調するとともに前記所定のフ
    レームに従つて前記素材における前記フレームに
    対応した表面範囲上に走査的に照射することによ
    り、この表面範囲に階調的に変色又は炭化された
    画素配列からなる画像を形成することを特徴とす
    るレーザー焼付画法。 2 前記レーザービームを波長約10.6μmの炭酸
    ガスレーザーにより発生することを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 3 前記レーザービームを波長約1.06μmのYAG
    レーザーにより発生することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 4 前記レーザービームの変調を、Ge音響光学
    変調器により行うことを特徴とする特許請求の範
    囲第1〜3項のいずれか1項に記載の方法。 5 前記レーザービームの変調をCd−Te電気光
    学変調器により行うことを特徴とする特許請求の
    範囲第1〜3項のいずれか1項に記載の方法。 6 前記ビデオ情報の各画素信号が少くとも3階
    調に区分されることを特徴とする特許請求の範囲
    第1〜5項のいずれか1項に記載の方法。 7 前記作画素材が木材からなることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1〜6項のいずれか1項に記
    載の方法。 8 前記レーザービームのフレーム内走査におけ
    るすべての水平走査線が同一の基準線に沿つて反
    復形成され、前記作画素材を前記基準線と直交す
    る方向に移動させることにより前記表面範囲内に
    前記レーザー焼付画を形成することを特徴とする
    特許請求の範囲第1〜7項のいずれか1項に記載
    の方法。 9 前記レーザービームによる素材面の階調的変
    色又は炭化にともなつて、階調的な深さを有する
    窪みを形成することを特徴とする特許請求の範囲
    第1〜8項のいずれか1項に記載の方法。
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