JPS62248681A - レ−ザ−焼付画法 - Google Patents
レ−ザ−焼付画法Info
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- JPS62248681A JPS62248681A JP61092981A JP9298186A JPS62248681A JP S62248681 A JPS62248681 A JP S62248681A JP 61092981 A JP61092981 A JP 61092981A JP 9298186 A JP9298186 A JP 9298186A JP S62248681 A JPS62248681 A JP S62248681A
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- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、木材その他の炭化又は変色可能な成分を含む
板状又は円筒状素材にレーザー焼付面を高品位に形成す
る方法に関するものである。
板状又は円筒状素材にレーザー焼付面を高品位に形成す
る方法に関するものである。
従来の技術
板材又は版木への図柄、文字等の印字、描写を行うため
に、切削用の刃物等を用いる従来の接触!方式に対し、
最近では、前記接触方式の欠点を改良すべく、主として
レーザー光のエネルギーを利用するものがある。例えば
、YAGレーザーを用いて、自動車、エレクトロモータ
ー、パルプ等の銘板、ベアリング、電子部品などの最終
工程後の表面上に国名、型式、名称などを印字したり、
あるいは、超硬質金属やプラスチック等に所望の数字、
記号、図柄を印字したシするものである。
に、切削用の刃物等を用いる従来の接触!方式に対し、
最近では、前記接触方式の欠点を改良すべく、主として
レーザー光のエネルギーを利用するものがある。例えば
、YAGレーザーを用いて、自動車、エレクトロモータ
ー、パルプ等の銘板、ベアリング、電子部品などの最終
工程後の表面上に国名、型式、名称などを印字したり、
あるいは、超硬質金属やプラスチック等に所望の数字、
記号、図柄を印字したシするものである。
発明が解決しようとする問題点
これらの方法としては、銅、ステンレス等のマスクを作
成して、刻印するマスク手法あるいは、素材へのレーザ
ー走査と同期してレーザー発振電圧を内部的にon −
offさせる内部変調手法又はレーザー走査と同期して
、機械的なシャッターを用いる手法等がとられている。
成して、刻印するマスク手法あるいは、素材へのレーザ
ー走査と同期してレーザー発振電圧を内部的にon −
offさせる内部変調手法又はレーザー走査と同期して
、機械的なシャッターを用いる手法等がとられている。
しかしながら、これらの方法は、接触方式の欠点を克服
してはいるものの、印字、描写の品位において、いわゆ
る2値化の表現であシ、各画素が階調的に配列されるも
のではない。
してはいるものの、印字、描写の品位において、いわゆ
る2値化の表現であシ、各画素が階調的に配列されるも
のではない。
これらの方法を個々に見てみると、具体的には、内部変
調方法、メカニカルシャッター法においては、X方向と
Y方向に移動させるための機械的要素が省けたものの、
この方式での製品評価は、あく迄も二次元の画像として
のみ、評価出来るものであり、いわゆる彫刻的な画面が
得られるものではない。
調方法、メカニカルシャッター法においては、X方向と
Y方向に移動させるための機械的要素が省けたものの、
この方式での製品評価は、あく迄も二次元の画像として
のみ、評価出来るものであり、いわゆる彫刻的な画面が
得られるものではない。
本発明は、レーザービーム照射による彫刻的かつ階調的
な印字・描写方法を提案しようとするものである。
な印字・描写方法を提案しようとするものである。
問題点を解決するための手段
本発明は上記のような問題点を解決するための手段とし
て所定フレーム内における画素ごとの階調的電気信号列
からなる静止ビデオ情報を作成し、熱により変色又は炭
化可能な表面を有する作画素材を用意するとともに、こ
の素材の前記変色又は炭化を促進させるに十分なエネル
ギーを有するレーザービームを発生し、前記レーザービ
ームを前記ビデオ情報に従って変調するとともに前記所
定のフレームに従って前記素材における前記フレームに
対応した表面範囲上に走査的に照射することにより、こ
の表面範囲に階調的に変色又は炭化された画素配列から
なる画像を形成する方法を構成したものである。
て所定フレーム内における画素ごとの階調的電気信号列
からなる静止ビデオ情報を作成し、熱により変色又は炭
化可能な表面を有する作画素材を用意するとともに、こ
の素材の前記変色又は炭化を促進させるに十分なエネル
ギーを有するレーザービームを発生し、前記レーザービ
ームを前記ビデオ情報に従って変調するとともに前記所
定のフレームに従って前記素材における前記フレームに
対応した表面範囲上に走査的に照射することにより、こ
の表面範囲に階調的に変色又は炭化された画素配列から
なる画像を形成する方法を構成したものである。
上記の方法において静止ビデオ情報を作成した後、これ
を用いて素材表面に作画を行うための装置としては、本
発明者等が先に開発し、かつ特願昭57−30988号
「レーザー感熱プリンター」として出願した感熱紙レー
ザープリンターの一部に改良を加え、機能の拡張及び変
更を行なったものが好ましく用いられる。略述すれば、
本発明のレーザー作画装置は前記特許のし−ザープリン
ターにおける感熱ウェブの代υに板状又は円筒状素材を
用い、この素材面上に物理的に接触する加熱ヘッドを用
いることなく、レーザービームを作画パターンに従って
、照射するものであるが、その照射は前記特許に開示さ
れたドツトごとのon −off照射ではなく、ドツト
(画素)ごとの階調度に応じて変調された熱エネルギー
のレーザービームとして行うものである。
を用いて素材表面に作画を行うための装置としては、本
発明者等が先に開発し、かつ特願昭57−30988号
「レーザー感熱プリンター」として出願した感熱紙レー
ザープリンターの一部に改良を加え、機能の拡張及び変
更を行なったものが好ましく用いられる。略述すれば、
本発明のレーザー作画装置は前記特許のし−ザープリン
ターにおける感熱ウェブの代υに板状又は円筒状素材を
用い、この素材面上に物理的に接触する加熱ヘッドを用
いることなく、レーザービームを作画パターンに従って
、照射するものであるが、その照射は前記特許に開示さ
れたドツトごとのon −off照射ではなく、ドツト
(画素)ごとの階調度に応じて変調された熱エネルギー
のレーザービームとして行うものである。
所望の作画パターンに従って、走査ビーム出力を、連続
的に階調変化させるだめの変調方法としては、例えばG
e単結晶を用いた音響光学変調(A10変調)の機構や
、Cd−Te単結晶からなる外部変調素子を用いた電気
光学変調(騨変調)の機構、又は磁気光学変調の機構に
よることができる。
的に階調変化させるだめの変調方法としては、例えばG
e単結晶を用いた音響光学変調(A10変調)の機構や
、Cd−Te単結晶からなる外部変調素子を用いた電気
光学変調(騨変調)の機構、又は磁気光学変調の機構に
よることができる。
作 用
一般に、A10変調系で音響光学変調器を用いる場合に
は、偏向の光強度Vは、プラグ回折領域を用いて、次式
により計算される。
は、偏向の光強度Vは、プラグ回折領域を用いて、次式
により計算される。
v = 2− (−) −(MZ)−(”)PAλ
H ただし、Mzは物理定数、またPAは超音波パワーであ
る。
H ただし、Mzは物理定数、またPAは超音波パワーであ
る。
、gT/門5孝鵠度は、
超音波パワーの1次関数に比例し、
光の波長の二乗に逆比例し、
超音波付加物質の断面形状L/Hに依存し、’i!hv
′ 超音波付加物質の物質定数の組合せに比列する。
そこで、具体的には、原画像の情報の多階調化情報に応
じて、超音波パワーを変化さ寝ることにより、多階調変
調を実現させるものである。
じて、超音波パワーを変化さ寝ることにより、多階調変
調を実現させるものである。
上記のとときA10変調器により、偏向されたレーザー
光の印字又は作画エネルギーは、ビームエキスパンドミ
ラー、反射光路折り曲げ鏡等を設ける・ことによって、
走査系に導ひかれる。
光の印字又は作画エネルギーは、ビームエキスパンドミ
ラー、反射光路折り曲げ鏡等を設ける・ことによって、
走査系に導ひかれる。
走査系には、ソレノイドへの供給電流に応じて角度変位
する振動反射鏡であるガルパノミラーカ、するいは、ポ
リゴンミラー(回転多面鏡)を用いることが可能であシ
、又光ファイバーを用いて、ビーム走査を直接実施する
ことも可能である。
する振動反射鏡であるガルパノミラーカ、するいは、ポ
リゴンミラー(回転多面鏡)を用いることが可能であシ
、又光ファイバーを用いて、ビーム走査を直接実施する
ことも可能である。
このようにして走査されたレーザービームは、前記走査
系の終端において素材に対置されたF・θミラーに入射
し、ここからスキャナーの走査角度に応じて反射され、
素材表面上の所定フレーム範囲内の対応するスポット位
置に入射するものである。
系の終端において素材に対置されたF・θミラーに入射
し、ここからスキャナーの走査角度に応じて反射され、
素材表面上の所定フレーム範囲内の対応するスポット位
置に入射するものである。
なお前記A10変調系でCd−Te単結晶を用いたとき
の変調度Mは次式のようになる。
の変調度Mは次式のようになる。
ここに、
L:結晶体の長さくII+))
Vapp :結晶体への印加電圧(Volt)d:結晶
体のアパーチャー(ml) λ:レーザー波長(μ#I) no:cd−Te単結晶の屈折率/λ(μm)γ:Cd
−Te単結晶の一次電気光学係数/λ (μIn) ただし、λ= 10.6 (μm)では、n ’r =
10 X 10−”m/V原画像の情報に応じた多階
調A/D変換は、適当な情報処理ユニットを装備するこ
とにより、高速度で行われ、これKよって得られた信号
レベlしを用いて、変調器への印加電圧(前式中のVa
pp) を変化させることにより、変調度Mを変化さ
せ、これによってレーザー光の偏向度を変化させ、その
結果としてレーザー光の出力を多段階に変化させること
により、多階調印字、又は作画を達成することができる
。
体のアパーチャー(ml) λ:レーザー波長(μ#I) no:cd−Te単結晶の屈折率/λ(μm)γ:Cd
−Te単結晶の一次電気光学係数/λ (μIn) ただし、λ= 10.6 (μm)では、n ’r =
10 X 10−”m/V原画像の情報に応じた多階
調A/D変換は、適当な情報処理ユニットを装備するこ
とにより、高速度で行われ、これKよって得られた信号
レベlしを用いて、変調器への印加電圧(前式中のVa
pp) を変化させることにより、変調度Mを変化さ
せ、これによってレーザー光の偏向度を変化させ、その
結果としてレーザー光の出力を多段階に変化させること
により、多階調印字、又は作画を達成することができる
。
以下、本発明の一つの好ましい実施例について説明する
。
。
実施例
第1図は本発明の方法を実施するための装置構成の概略
を示すブロック線図である。この第1図において、(1
)はビデオカメラ又は他の適当な光電的走査手段からな
る画像取込装置であり、所望のフレーム内における撮影
シーン又は原画の画素ごとの階調的電気信号列を発生す
るものである。(2)は前記電気信号列を目的素材に作
画するフレームに適した走査信号と同期した階調的電気
信号列として信号処理し、静止画像情報として記憶して
おくためのCPU及びメモリー、(3)は前記静止画像
情報を読み出して、レーザー変調器(4)に印加する変
調電圧を発生するための変調信号発生器、(5)はレー
ザー発振器であり、ここから発射されたレーザービーム
は変調器(4)を通って変調される。(6)は変調器(
4)から出たレーザービームのビーム断面積を調整する
ためのレーザー光学系、(7)はレーザー光学系(6)
から出たレーザービームを前記CPU及びメモリー(2
)からの走査信号に従って走査するレーザー走査系であ
り、レーザービームはすでに変調器(4)において走査
信号と同期して変調されているため、この走査系(7)
から出る走査ビームは、走査線(水平走査線)ごとに原
シーン又は原画上の対応する光電的走査線に従った階調
度(ビーム強度)分布をもつことになる。(8)は前記
走査ビームを作画用素材(9)上に階調的画素ビームと
して集束照射するためのFθミラー又はFθレンズから
なるレーザー焦点系であり、素材(9)はレーザービー
ムの走査線と直交する方向に連続又は断続的に移動する
素材テーブルα0)上に載置されておシ、素材面上の水
平線ごとの垂直ピッチ間隔はこの素材テープ/L/(l
O)の動作により確立される。
を示すブロック線図である。この第1図において、(1
)はビデオカメラ又は他の適当な光電的走査手段からな
る画像取込装置であり、所望のフレーム内における撮影
シーン又は原画の画素ごとの階調的電気信号列を発生す
るものである。(2)は前記電気信号列を目的素材に作
画するフレームに適した走査信号と同期した階調的電気
信号列として信号処理し、静止画像情報として記憶して
おくためのCPU及びメモリー、(3)は前記静止画像
情報を読み出して、レーザー変調器(4)に印加する変
調電圧を発生するための変調信号発生器、(5)はレー
ザー発振器であり、ここから発射されたレーザービーム
は変調器(4)を通って変調される。(6)は変調器(
4)から出たレーザービームのビーム断面積を調整する
ためのレーザー光学系、(7)はレーザー光学系(6)
から出たレーザービームを前記CPU及びメモリー(2
)からの走査信号に従って走査するレーザー走査系であ
り、レーザービームはすでに変調器(4)において走査
信号と同期して変調されているため、この走査系(7)
から出る走査ビームは、走査線(水平走査線)ごとに原
シーン又は原画上の対応する光電的走査線に従った階調
度(ビーム強度)分布をもつことになる。(8)は前記
走査ビームを作画用素材(9)上に階調的画素ビームと
して集束照射するためのFθミラー又はFθレンズから
なるレーザー焦点系であり、素材(9)はレーザービー
ムの走査線と直交する方向に連続又は断続的に移動する
素材テーブルα0)上に載置されておシ、素材面上の水
平線ごとの垂直ピッチ間隔はこの素材テープ/L/(l
O)の動作により確立される。
上記の構成において、画素に適用される階調度数は少く
とも3段階、好ましくは4段階である。画像情報の処理
を行うだめのCPU及びメモリー(2)としては適当な
コンピュータを用いることができ、さらにコンピュータ
の作図機能を利用して画像取込装置(1)の機能を代用
させることもできる。
とも3段階、好ましくは4段階である。画像情報の処理
を行うだめのCPU及びメモリー(2)としては適当な
コンピュータを用いることができ、さらにコンピュータ
の作図機能を利用して画像取込装置(1)の機能を代用
させることもできる。
また、レーザービームの走査線を順次垂直方向にシフト
させることにより、素材(9)を静止した状態において
フレーム内の全画素についてビーム照射することもでき
る。そして、基本的な素材テーブル方式又は素材静止方
式のいずれにおいてもフレーム内のビーム走査を所望に
応じた回数だけ反復することにより、作画パターンの全
体的な炭化又は焼付濃度レベルを調整することもできる
。
させることにより、素材(9)を静止した状態において
フレーム内の全画素についてビーム照射することもでき
る。そして、基本的な素材テーブル方式又は素材静止方
式のいずれにおいてもフレーム内のビーム走査を所望に
応じた回数だけ反復することにより、作画パターンの全
体的な炭化又は焼付濃度レベルを調整することもできる
。
次に第2図及び第3図を参照して、本発明の方法により
、レーザー作画を行うための装置について説明する。
、レーザー作画を行うための装置について説明する。
第2図において、(11)はC02ガスレーザー発振器
、(ロ)は発振器(11)から出射されたレーザービー
ムをアナログ変調するための音響光学変調器であり、G
e単結晶素子からなっている。この変調器から出たレー
ザービームは折シ曲げ鏡03)、ビームエキスパンダー
ミラーH1折り曲げ鏡に)、ビームエキスパンダーミラ
ー(16)、及び折シ曲ケ鏡07)を経てガルバノミラ
−(ト)に入射するようになっている。ガルバノミラ−
からなるスキャナー(ホ)にはF・0ミラー(19)が
対置され、スキャナー(ホ)の走査角度に応じた範囲内
に入射してくるレーザービームを反射し、素材面(イ)
の、対応するスポット位置に入射させるようになってい
る。
、(ロ)は発振器(11)から出射されたレーザービー
ムをアナログ変調するための音響光学変調器であり、G
e単結晶素子からなっている。この変調器から出たレー
ザービームは折シ曲げ鏡03)、ビームエキスパンダー
ミラーH1折り曲げ鏡に)、ビームエキスパンダーミラ
ー(16)、及び折シ曲ケ鏡07)を経てガルバノミラ
−(ト)に入射するようになっている。ガルバノミラ−
からなるスキャナー(ホ)にはF・0ミラー(19)が
対置され、スキャナー(ホ)の走査角度に応じた範囲内
に入射してくるレーザービームを反射し、素材面(イ)
の、対応するスポット位置に入射させるようになってい
る。
ミラー(+3)、(1→、 (15) 、 (16)
) (iηとガルバノミラ−(至)、及びF・0 ミラ
ー(1g)からなる走査光学系、並びにより詳細な素材
送り機構の側面は第2図に示す通りである。第1図のテ
ーブルα0)に対応する素材送り機構eυにおいて、(
財)は素材送り用ヌテツビングモータ、そして(財)は
モータドライバーである。
) (iηとガルバノミラ−(至)、及びF・0 ミラ
ー(1g)からなる走査光学系、並びにより詳細な素材
送り機構の側面は第2図に示す通りである。第1図のテ
ーブルα0)に対応する素材送り機構eυにおいて、(
財)は素材送り用ヌテツビングモータ、そして(財)は
モータドライバーである。
以上の実施例において、C02レーザー発振器は、封じ
切り方式で出カフ5Wであり、Ge −焔変調器は、音
響ビームによる光のプラグ回折を利用したものである。
切り方式で出カフ5Wであり、Ge −焔変調器は、音
響ビームによる光のプラグ回折を利用したものである。
この変調器に用いるドライバーとしては、中心周波数7
0 MHz 、入力ビデオ電圧IV、p−p(±0.5
vグランド対応)の、アナログ型RFパワーソースと最
大50WのRFパワーに増巾する、RFアンプを用いた
。
0 MHz 、入力ビデオ電圧IV、p−p(±0.5
vグランド対応)の、アナログ型RFパワーソースと最
大50WのRFパワーに増巾する、RFアンプを用いた
。
前記のドライバーへの入力ビデオ電圧は、IV p−
p周波数DC〜IGH2,好ましくは10KHz〜3M
Hzの矩形波を入力することで、モジュレータ−でのア
ナログ変調(プラグ回折)を達成した。
p周波数DC〜IGH2,好ましくは10KHz〜3M
Hzの矩形波を入力することで、モジュレータ−でのア
ナログ変調(プラグ回折)を達成した。
A10 変調光(プラグ回折光)の1次光と、作画用
素材として木材を用い、スポット径100〜150μm
を得ようとした場合には焼付速度は、少くとも100m
7分を必要とした。
素材として木材を用い、スポット径100〜150μm
を得ようとした場合には焼付速度は、少くとも100m
7分を必要とした。
なお、A10 変調光の0次光を用いることも可能で
あり、この場合は前記速度の、約1.5倍の線速度での
焼付が可能となった。
あり、この場合は前記速度の、約1.5倍の線速度での
焼付が可能となった。
次に、上記のA10変調器に代えてE10変調器を用い
る場合には、CO2レーザー発振器は、封じ切υ方式、
出力16Wであった。Cd −Te光変調器(ロ)は結
晶体の所定方向に加える電界を制御し、いわゆるポツケ
ルヌ効果により光を変調するものである。この変調器の
だめのドライバーとしては波高値±2.5KV、周波数
IKHz〜IGH21好ましくは10 KHz 〜3
MHzの矩形波発振器を用いた。次に、ガルバノミラ−
(18)は素材(イ)へのレーザー照射のスポット径と
の関連において十分な走査速度を得ることができた。
る場合には、CO2レーザー発振器は、封じ切υ方式、
出力16Wであった。Cd −Te光変調器(ロ)は結
晶体の所定方向に加える電界を制御し、いわゆるポツケ
ルヌ効果により光を変調するものである。この変調器の
だめのドライバーとしては波高値±2.5KV、周波数
IKHz〜IGH21好ましくは10 KHz 〜3
MHzの矩形波発振器を用いた。次に、ガルバノミラ−
(18)は素材(イ)へのレーザー照射のスポット径と
の関連において十分な走査速度を得ることができた。
すなわち、作画用素材として木材板を用いた例では、感
熱スポット径100μmを得ようとすれば、プリント線
速度は少くとも約20 m、/minを必要とした。
熱スポット径100μmを得ようとすれば、プリント線
速度は少くとも約20 m、/minを必要とした。
このよりな7構成において、16Wのし′−ザービーム
は全体として約20%の減衰をともなって(素材)上に
照射され、各ドツトについて印字・作画深さ1μm以上
を得ることができた。
は全体として約20%の減衰をともなって(素材)上に
照射され、各ドツトについて印字・作画深さ1μm以上
を得ることができた。
記録速度はA−4大の素材で約1000秒であった。
なお、ガルバノミラ−(18)を含む反射光学系α3)
。
。
0→−・−・・・・・−・・・(19)における各ミラ
ーの反射コーティング剤としては、アルミニウム、金等
が有効であることを確認した。
ーの反射コーティング剤としては、アルミニウム、金等
が有効であることを確認した。
発明の効果
本発明の方法は以上の通シ、木材、合成樹脂その他の板
状又は円筒状素材に対して効果的に適用され、階調度及
び階調度に応じた深みを有する画面をレーザーにより無
接触で形成する新たな作画法を提供するものである。
状又は円筒状素材に対して効果的に適用され、階調度及
び階調度に応じた深みを有する画面をレーザーにより無
接触で形成する新たな作画法を提供するものである。
第1図は本発明の方法を実施するための装置構成の概略
を示すブロック線図、第2図は本発明の方法を実施する
ためのレーザー作画装置の正面略図、第3図はその側面
図である。
を示すブロック線図、第2図は本発明の方法を実施する
ためのレーザー作画装置の正面略図、第3図はその側面
図である。
Claims (9)
- (1)所定フレーム内における画素ごとの階調的電気信
号列からなる静止ビデオ情報を作成し、熱により変色又
は炭化可能な表面を有する作画素材を用意するとともに
、この素材の前記変色又は炭化を促進させるに十分なエ
ネルギーを有するレーザービームを発生し、前記レーザ
ービームを前記ビデオ情報に従つて変調するとともに前
記所定のフレームに従つて前記素材における前記フレー
ムに対応した表面範囲上に走査的に照射することにより
、この表面範囲に階調的に変色又は炭化された画素配列
からなる画像を形成することを特徴とするレーザー焼付
画法。 - (2)前記レーザービームを波長約10.6μmの炭酸
ガスレーザーにより発生することを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項記載の方法。 - (3)前記レーザービームを波長約1.06μmのYA
Gレーザーにより発生することを特徴とする特許請求の
範囲第(1)項記載の方法。 - (4)前記レーザービームの変調を、Ge音響光学変調
器により行うことを特徴とする特許請求の範囲第(1)
〜(3)項のいずれか1項に記載の方法。 - (5)前記レーザービームの変調をCd−Te電気光学
変調器により行うことを特徴とする特許請求の範囲第(
1)〜(3)項のいずれか1項に記載の方法。 - (6)前記ビデオ情報の各画素信号が少くとも3階調に
区分されることを特徴とする特許請求の範囲第(1)〜
(5)項のいずれか1項に記載の方法。 - (7)前記作画素材が木材からなることを特徴とする特
許請求の範囲第(1)〜(6)項のいずれか1項に記載
の方法。 - (8)前記レーザービームのフレーム内走査におけるす
べての水平走査線が同一の基準線に沿つて反復形成され
、前記作画素材を前記基準線と直交する方向に移動させ
ることにより前記表面範囲内に前記レーザー焼付画を形
成することを特徴とする特許請求の範囲第(1)〜(7
)項のいずれか1項に記載の方法。 - (9)前記レーザービームによる素材面の階調的変色又
は炭化にともなつて、階調的な深さを有する窪みを形成
することを特徴とする特許請求の範囲第(1)〜(8)
項のいずれか1項に記載の方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092981A JPS62248681A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | レ−ザ−焼付画法 |
US07/010,317 US4847184A (en) | 1986-04-21 | 1987-02-03 | Method for producing a laser-printed picture |
GB8702583A GB2189367B (en) | 1986-04-21 | 1987-02-05 | Method for producing a laser-printed picture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092981A JPS62248681A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | レ−ザ−焼付画法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62248681A true JPS62248681A (ja) | 1987-10-29 |
JPH0416073B2 JPH0416073B2 (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=14069558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61092981A Granted JPS62248681A (ja) | 1986-04-21 | 1986-04-21 | レ−ザ−焼付画法 |
Country Status (3)
Country | Link |
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JP (1) | JPS62248681A (ja) |
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1987
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- 1987-02-05 GB GB8702583A patent/GB2189367B/en not_active Expired - Fee Related
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